JP5422620B2 - Defect detection apparatus and method for patterned retardation film, and manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、パターン化位相差フィルムの欠陥検出装置及び方法、並びに製造方法に関するものである。 The present invention relates to a defect detection apparatus and method for a patterned retardation film, and a manufacturing method.
近年、市場が拡大されてきた3次元(3D)テレビの表示方法の一つに空間分割方式がある。空間分割方式では、右眼には表示画面の例えば奇数列の右眼用の映像光だけが、左眼には偶数列の左眼用の映像光だけが届くようにする。このような空間分割方式による表示手法として、表示パネルの表面にパターン化位相差フィルムを配置するものが知られている。パターン化位相差フィルムの代表的なものとしては、1/4波長板の機能を有するものがある。 One of the display methods of a three-dimensional (3D) television whose market has been expanding in recent years is a space division method. In the space division method, only the image light for the right eye in the odd-numbered column of the display screen, for example, reaches only the image light for the left eye in the even-numbered column to the left eye. As a display method based on such a space division method, one in which a patterned retardation film is arranged on the surface of a display panel is known. A typical patterned retardation film has a function of a quarter wave plate.
上記のパターン化位相差フィルムは、ストライプ状の二種類の位相差領域を一定のピッチで交互に並べて配したものであり、二種類の各位相差領域は光学軸(進相軸もしくは遅相軸)を互いに直交させたλ/4波長板機能を有している。一方の位相差領域には奇数列の、また他方の位相差領域には偶数列のそれぞれ直線偏光の映像光を入射させる。これにより、例えば奇数列の映像光を右回りの円偏光に、また偶数列の映像光を左回りの円偏光に変換して射出する。そして、左右が互いに偏光の回転方向の異なる円偏光メガネを通して観察者が見ることにより、右眼には一方の列の右眼用の映像だけが、左眼には左眼用の映像だけを届け、結果として3D映像が観察される。 The above-mentioned patterned retardation film has two stripe-shaped retardation regions arranged alternately at a fixed pitch, and each of the two retardation regions has an optical axis (fast axis or slow axis). Have a λ / 4 wavelength plate function. Image light of linearly polarized light is incident on one of the phase difference areas, and the even number of lines are incident on the other phase difference area. Thus, for example, odd-numbered image light is converted into clockwise circularly polarized light, and even-numbered image light is converted into counterclockwise circularly polarized light and emitted. When the observer sees through circularly polarized glasses with different polarization rotation directions on the left and right, only the right-eye image in one row is delivered to the right eye, and only the left-eye image is delivered to the left eye. As a result, a 3D image is observed.
パターン化位相差フィルムの製造工程は厳格な管理下におかれているが、製造工程での各種要因によって、欠陥を完全になくすことは困難である。欠陥としては、異物の混入、配光ムラ、キズなどがある。このため、製造ライン上で検査を行ういわゆるオンライン検査を実施し、上記のような欠陥が発生したパターン化位相差の位置を把握し、その欠陥箇所を取り除く必要がある。また、場合によっては欠陥原因を取り除く処置をする必要がある。 Although the manufacturing process of the patterned retardation film is under strict control, it is difficult to eliminate defects completely due to various factors in the manufacturing process. Defects include foreign matter, uneven light distribution, and scratches. For this reason, it is necessary to carry out so-called on-line inspection for performing inspection on the production line, grasp the position of the patterned phase difference where the above-described defect has occurred, and remove the defective portion. In some cases, it is necessary to remove the cause of the defect.
パターン化位相差フィルムを対象とした欠陥検出技術は現在のところ知られていない。なお、透明フィルムや位相差フィルムという観点では、例えば特許文献1及び2のような欠陥検査装置が知られている。特許文献1の検査装置は、透明フィルムを検査対象とし、透明フィルムを第1及び第2の偏光板の間に配した状態にし、第1の偏光板を介して光を照射し、透明フィルムから射出される光を第2の偏光板を介して受光する構成となっている。また、特許文献2の検査装置は、位相差フィルムを検査対象として、特許文献1と同様に位相差フィルムを2枚の偏光板の間に配した状態にして受光器で受光するものである。この特許文献2の検査装置では、各偏光板をクロスニコル配置とするとともに、受光機の垂直受光角度θ1を0°<θ1<90°、かつ、平行受光角度θ2を0°<θ2<90°とすることによって、位相差フィルムの厚み方向のレタデーションに起因した位相差性の欠陥を検出できるようにしている。
There is currently no known defect detection technique for patterned retardation films. In addition, from the viewpoint of a transparent film or a retardation film, for example, defect inspection apparatuses such as
ところで、パターン化位相差フィルムは、上述のように光学軸の方向が互いに異なる位相差領域を交互に多数配してある。このため、特許文献1,2のように偏光板を配しただけでは、各位相差領域により観察される輝度が異なってしまう。そのため、欠陥を精度良く検出することができないという問題があった。
By the way, as described above, the patterned retardation film has a large number of alternately provided retardation regions having different optical axis directions. For this reason, the luminance observed in each phase difference region is different only by arranging the polarizing plates as in
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、パターン化位相差フィルムの欠陥を精度よく検出することができるパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置及び方法、並びに製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and provides a defect detection apparatus and method for a patterned retardation film and a production method capable of accurately detecting defects in the patterned retardation film. With the goal.
上記課題を達成するために、本発明のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置では、それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムを挟むようにクロスニコル配置される第1及び第2偏光板と、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射する光源部と、前記第2偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムを撮影して輝度画像を得る撮影装置と、前記輝度画像から欠陥を検出する欠陥検出部とを備え、前記第1及び第2偏光板は、いずれか一方の偏光透過軸が第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる状態で、正常な第1及び第2位相差領域を撮影装置で撮影した際の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記一方の偏光透過軸の方向を調整したものである。 In order to achieve the above object, in the defect detection apparatus for the patterned retardation film of the present invention, the first and second stripes each functioning as a λ / 4 wavelength plate and whose slow axes are substantially orthogonal to each other. a first and second polarizer retardation region is crossed Nicols so as to sandwich the patterned retardation film in which a plurality aligned alternately arranged, the inspection light on the patterned retardation film through said first polarizer A light source unit that irradiates the image, a photographing device that photographs the patterned retardation film through the second polarizing plate to obtain a luminance image, and a defect detection unit that detects a defect from the luminance image, 1 and the second polarizer, in a state where one of polarization transmission axis is substantially parallel with either one of the optical axes of the first and second retardation region, the first and second retardation regions normal Taken with the camera As each luminance becomes the same level in the extinction state near is obtained by adjusting the direction of the one polarization transmission axis.
前記パターン化位相差フィルムが、位相差層を透明フィルムからなる支持体に積層することにより前記第1及び第2位相差領域が形成されているときに、前記第1偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間、または前記第2偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間に、前記支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板を配することが好ましい。前記位相差補償板としては、前記支持体と同じ透明フィルムとするのが簡便である。 When the first and second retardation regions are formed by laminating a retardation layer on a support made of a transparent film, the patterned retardation film and the patterned position are formed. It is preferable to arrange a retardation compensator that cancels the retardation characteristics of the support between the retardation film or between the second polarizing plate and the patterned retardation film. As the retardation compensator, it is convenient to use the same transparent film as the support.
撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路と、複数個の明画素が繋がった領域を欠陥候補領域とする欠陥候補抽出回路とを有する画像処理部を備え、前記欠陥検出部は、前記欠陥候補領域に対して、隣接する他の前記欠陥候補領域との間の画素数を前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線の並ぶ方向に計数し、計数された画素数が所定値以下の場合に、当該欠陥候補領域を欠陥とすることが好ましい。 A binarizing circuit shadows have been the luminance image is binarized with a predetermined threshold value, for each pixel in the dark pixel is lower than or more bright pixels and the threshold threshold shooting, a plurality of light pixels an image processing unit which have a defect candidate extracting circuit for an area defect candidate regions linked is, the defect detecting section, to the defect candidate region, between the other adjacent the defect candidate regions The number of pixels is counted in the direction in which the boundary line in the luminance image corresponding to the boundary between the first and second phase difference areas is aligned. If the counted number of pixels is equal to or less than a predetermined value, the defect candidate area is determined as a defect. It is preferable that
前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線を消去する画像処理部を備え、前記欠陥検出部は、前記境界線が消去された輝度画像に基づいて欠陥を検出することが好ましい。 An image processing unit that erases a boundary line in the luminance image corresponding to a boundary between the first and second phase difference regions, and the defect detection unit detects a defect based on the luminance image from which the boundary line is erased. It is preferable to detect.
また、前記画像処理部は、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路と、前記境界線が並ぶ方向に明画素の領域を収縮する収縮処理を二値化された輝度画像に対して前記境界線の幅に応じた回数で行い、前記境界線を消去する収縮処理回路とを有することが好ましい。 Further, the image processing unit binarizes the captured luminance image with a predetermined threshold value, and makes each pixel a bright pixel equal to or higher than the threshold value and a dark pixel lower than the threshold value. And a contraction processing circuit for performing contraction processing for contracting bright pixel regions in the direction in which the boundary lines are arranged on the binarized luminance image by the number of times corresponding to the width of the boundary lines, and erasing the boundary lines It is preferable to have.
前記画像処理部は、前記収縮処理と同方向に明画素の領域を膨張する膨張処理を収縮処理された輝度画像に対して行い、収縮処理で残った明画素の領域を収縮処理前のサイズに戻す膨張処理回路を有し、前記欠陥検出部は、前記膨張処理された前記輝度画像に基づいて欠陥を検出することが好ましい。 The image processing unit performs an expansion process for expanding the bright pixel area in the same direction as the contraction process on the contracted luminance image, and sets the bright pixel area remaining in the contraction process to a size before the contraction process. It is preferable that an expansion processing circuit to be returned is included, and the defect detection unit detects a defect based on the luminance image subjected to the expansion processing.
また、前記画像処理部は、前記輝度画像上の画素に対して、少なくとも前記境界線の並ぶ方向に前記境界線間隔に応じた画素数だけ当該画素から離れた画素を相手画素として、当該画素の輝度から相手画素の輝度を減算した値を当該画素の新たな値とする差分処理を前記輝度画像上の各画素について行うことにより、境界線を実質的に消去した差分画像を生成する差分画像生成回路と、前記差分画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路とを有することが好ましい。 In addition, the image processing unit, with respect to a pixel on the luminance image, uses a pixel separated from the pixel by at least the number of pixels according to the boundary line interval in a direction in which the boundary line is arranged as a counterpart pixel. Difference image generation that generates a difference image in which the boundary line is substantially eliminated by performing difference processing for each pixel on the luminance image by subtracting the luminance of the other pixel from the luminance to a new value of the pixel. It is preferable to have a circuit and a binarization circuit that binarizes the difference image with a predetermined threshold value and makes each pixel a bright pixel that is equal to or higher than the threshold value and a dark pixel that is lower than the threshold value.
前記差分画像生成回路は、前記輝度画像上で互いに異なる方向の相手画素との間で差分処理を行うことにより各々の方向の差分画像をそれぞれ生成し、前記二値化回路は、前記複数の差分画像のそれぞれを所定のしきい値で二値化して複数の二値化画像を生成し、前記欠陥検出部は、複数の前記二値化画像に対して欠陥検出を行うことが好ましい。 The difference image generation circuit generates a difference image in each direction by performing difference processing between the other pixels in different directions on the luminance image, and the binarization circuit includes the plurality of differences. Preferably, each of the images is binarized with a predetermined threshold value to generate a plurality of binarized images, and the defect detection unit performs defect detection on the plurality of binarized images.
本発明のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法では、クロスニコル配置にされた第1及び第2偏光板の間に、それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムを配した状態で、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射したときに、前記第2偏光板を介して撮影される正常な第1及び第2位相差領域の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記第1及び第2偏光板のいずれか一方の偏光透過軸の方向を、前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整する調整ステップと、偏光透過軸の方向が調整された前記第1及び第2偏光板との間に前記パターン化位相差フィルムを配し、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射し、前記第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して輝度画像を取得する撮影ステップと、取得した前記輝度画像に基づいて欠陥を検出する検出ステップとを有するものである。 In the defect detection method for a patterned retardation film of the present invention, stripes each functioning as a λ / 4 wavelength plate and whose slow axes are substantially orthogonal to each other between the first and second polarizing plates arranged in crossed Nicols. When the patterned retardation film is irradiated with inspection light through the first polarizing plate in a state in which a patterned retardation film in which a plurality of first and second retardation regions are arranged alternately is arranged. , as the luminance of the first and second retardation regions normal to be photographed through the second polarizing plate is the same level in the light off state near either one of the first and second polarizing plates An adjustment step of adjusting the direction of the polarization transmission axis of the first and second retardation regions in a range substantially parallel to one of the optical axes of the first and second phase difference regions; the path between the second polarizer A patterned retardation film is provided, the patterned retardation film is irradiated with inspection light through the first polarizing plate, and a luminance image is obtained by photographing the retardation film through the second polarizing plate. And a detection step of detecting a defect based on the acquired luminance image.
前記パターン化位相差フィルムが、位相差層を透明フィルムからなる支持体に積層することにより前記第1及び第2位相差領域が形成されているときに、前記調整ステップ及び前記撮影ステップでは、前記第1偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間、または前記第2偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間に前記支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板が配されることが好ましい。前記位相差補償板としては、前記支持体と同じ透明フィルムとするのが簡便である。 When the patterned retardation film has the first and second retardation regions formed by laminating a retardation layer on a support made of a transparent film, in the adjustment step and the photographing step, A retardation compensation plate is disposed between the first polarizing plate and the patterned retardation film or between the second polarizing plate and the patterned retardation film to cancel the retardation characteristics of the support. It is preferable. As the retardation compensator, it is convenient to use the same transparent film as the support.
撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップと、複数個の明画素が繋がった領域を欠陥候補領域とする欠陥候補抽出ステップとを有し、前記検出ステップは、前記欠陥候補領域に対して、隣接する他の前記欠陥候補領域との間の画素数を前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線の並ぶ方向に計数し、計数された画素数が所定値以下の場合に、当該欠陥候補領域を欠陥とすることが好ましい。 A binarization step shadows have been the luminance image is binarized with a predetermined threshold value, for each pixel in the dark pixel is lower than or more bright pixels and the threshold threshold shooting, a plurality of light pixels A defect candidate extraction step in which a region connected to each other is defined as a defect candidate region, and the detection step determines the number of pixels between the defect candidate region and another adjacent defect candidate region as the first. In addition , counting in the direction in which the boundary lines in the luminance image corresponding to the boundary of the second phase difference region are arranged, and when the number of counted pixels is equal to or less than a predetermined value, it is preferable that the defect candidate region is a defect.
前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線を消去する消去ステップを有し、前記検出ステップは、前記境界線が消去された輝度画像に基づいて欠陥を検出するのがよい。 And an erasing step of erasing a boundary line in the luminance image corresponding to a boundary between the first and second phase difference regions, wherein the detecting step detects a defect based on the luminance image from which the boundary line is erased. It is good to do.
前記消去ステップは、撮影された前記輝度画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップと、前記境界線が並ぶ方向に明画素の領域を収縮する収縮処理を二値化された輝度画像に対して前記境界線の幅に応じた回数で行い、前記境界線を消去する収縮ステップとを有することが好ましい。 The erasing step binarizes the captured luminance image with a predetermined threshold value, and makes each pixel a bright pixel equal to or higher than the threshold value and a dark pixel lower than the threshold value; and A shrinking step of shrinking a region of bright pixels in a direction in which the border lines are arranged, performing a shrinking process on the binarized luminance image at a number of times corresponding to the width of the border line, and erasing the border line. Is preferred.
前記消去ステップは、前記収縮処理と同方向に明画素の領域を膨張する膨張処理を収縮処理された輝度画像に対して行い、収縮処理で残った明画素の領域を収縮処理前のサイズに戻す膨張処理ステップを有し、前記検出ステップは、膨張処理された前記輝度画像に基づいて欠陥を検出することが好ましい。 The erasing step performs an expansion process for expanding the bright pixel area in the same direction as the contraction process on the luminance image subjected to the contraction process, and returns the area of the bright pixel remaining in the contraction process to the size before the contraction process. Preferably, the method includes an expansion processing step, and the detection step detects a defect based on the luminance image subjected to the expansion processing.
前記消去ステップは、前記輝度画像上の画素に対して、少なくとも前記境界線の並ぶ方向に前記境界線間隔に応じた画素数だけ当該画素から離れた画素を相手画素として、当該画素の輝度から相手画素の輝度を減算した値を当該画素の新たな値とする差分処理を前記輝度画像上の各画素について行うことにより、境界線を実質的に消去した差分画像を生成する差分画像生成ステップと、前記差分画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップとを有することが好ましい。 In the erasing step, with respect to a pixel on the luminance image, a pixel separated from the pixel by at least the number of pixels corresponding to the boundary line interval in the direction in which the boundary line is arranged is used as a partner pixel from the luminance of the pixel A difference image generation step for generating a difference image in which the boundary line is substantially eliminated by performing a difference process for each pixel on the luminance image by subtracting the luminance of the pixel as a new value of the pixel; It is preferable to have a binarization step that binarizes the difference image with a predetermined threshold value and makes each pixel a bright pixel that is equal to or greater than the threshold value and a dark pixel that is lower than the threshold value.
前記差分画像生成ステップは、前記輝度画像上で互いに異なる方向の相手画素との間で差分処理を行うことにより各々の方向の差分画像をそれぞれ生成し、前記二値化ステップは、前記複数の差分画像のそれぞれを所定のしきい値で二値化して複数の二値化画像を生成し、前記検出ステップは、複数の前記二値化画像に対して欠陥検出を行うことが好ましい。 The difference image generation step generates a difference image in each direction by performing a difference process between the other pixels in different directions on the luminance image, and the binarization step includes the plurality of differences. It is preferable that each of the images is binarized with a predetermined threshold value to generate a plurality of binarized images, and the detection step performs defect detection on the plurality of binarized images.
本発明のパターン化位相差フィルムの製造方法は、それぞれがλ/4波長板として機能し、遅相軸が互いにほぼ直交するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列されたパターン化位相差フィルムを製造する製造ステップと、偏光透過軸の方向が調整された前記第1及び第2偏光板との間に前記パターン化位相差フィルムを配し、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射し、前記第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して輝度画像を取得する取得ステップと、取得した前記輝度画像に基づいて欠陥を検出する検出ステップと、前記取得ステップに先立って実施され、前記第1及び第2偏光板の間に、前記パターン化位相差フィルムを配した状態で、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射したときに、前記第2偏光板を介して撮影される正常な第1及び第2位相差領域の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記第1及び第2偏光板いずれか一方の偏光透過軸の方向を、前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整する調整ステップとを有するものである。 In the method for producing a patterned retardation film of the present invention, a plurality of stripe-shaped first and second retardation regions, each of which functions as a λ / 4 wavelength plate and whose slow axes are substantially perpendicular to each other, are arranged alternately. and a production step of producing a patterned retardation film, arranged said patterned retardation film between the first and second polarizer direction is adjusted in polarization transmission axis, said first polarizer Irradiating inspection light onto the patterned retardation film via the second polarizing plate, obtaining a luminance image by photographing the retardation film via the second polarizing plate, and detecting defects based on the obtained luminance image a detection step of, is performed prior to the acquisition step, wherein the first and second polarizing plates, in a state which arranged the patterned retardation film, the putter through the first polarizer When the inspection retardation film is irradiated with the inspection light, the luminance of the normal first and second retardation regions photographed through the second polarizing plate is the same level in the vicinity of the extinction state. An adjustment step of adjusting the direction of the polarization transmission axis of one of the first and second polarizing plates within a range substantially parallel to the optical axis of one of the first and second retardation regions. is there.
本発明によれば、クロスニコル配置にされた第1及び第2の偏光板の間に、パターン化位相差フィルムを配した状態で、第1偏光板を介してパターン化位相差フィルムに検査光を照射し、第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して得られる輝度画像から欠陥を検出するときに、正常な第1及び第2位相差領域を第2偏光板を介して撮影した際の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、第1及び第2の偏光板いずれか一方の偏光透過軸の方向を、第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整されるから、低い輝度レベルで撮影されるパターン化位相差フィルムの第1位相差領域と第2位相差領域の正常部分に対して、欠陥部分を高い輝度で撮影することができ、しかも正常部分の輝度が第1位相差領域と第2位相差領とで同じになるから、精度よく欠陥を検出することができる。 According to the present invention, the patterned retardation film is irradiated with the inspection light through the first polarizing plate in a state where the patterned retardation film is arranged between the first and second polarizing plates in the crossed Nicols arrangement. When a defect is detected from a luminance image obtained by photographing the retardation film through the second polarizing plate, normal first and second retardation regions are photographed through the second polarizing plate. The direction of the polarization transmission axis of one of the first and second polarizing plates is approximately the same as the optical axis of one of the first and second retardation regions so that each luminance is at the same level in the vicinity of the extinction state. Since the adjustment is performed within the parallel range, the defective portion should be imaged with high brightness with respect to the normal portions of the first retardation region and the second retardation region of the patterned retardation film that are photographed at a low luminance level. And the brightness of the normal part is the first phase difference. Since the same in frequency and a second phase difference territory, it is possible to accurately detect the defect.
[第1実施形態]
図1において、欠陥検出装置10は、パターン化位相差フィルムの製造ライン上に設けられている。この欠陥検出装置10には、位相差フィルム形成工程からの長尺なパターン化位相差フィルム(以下、単に位相差フィルムという)12が連続供給され、その位相差フィルム12に対して欠陥の検出を行う。なお、以下の説明では、位相差フィルム12の長手方向をX方向、このX方向に直交する位相差フィルム12の幅方向をY方向とする。
[First Embodiment]
In FIG. 1, the defect detection apparatus 10 is provided on the production line of a patterned retardation film. The defect detection apparatus 10 is continuously supplied with a long patterned retardation film (hereinafter simply referred to as a retardation film) 12 from the retardation film forming step, and detects defects on the
位相差フィルム12には、位相差層12bの位相差特性が異なる第1位相差領域14と第2位相差領域15とがY方向に交互に配列されている。位相差フィルム12は、位相差フィルム形成工程において、図2に示すように、TAC(トリアセチルセルロース)などの透明フィルムからなる支持体12aの表面に第1,第2位相差領域14,15の位相差を発現させる位相差層12bが形成される。
In the
第1位相差領域14,第2位相差領域15は、位相差フィルム12の長手方向に沿って延びたストライプ状であって、Y方向に一定のピッチで交互に並べて配されている。各位相差領域14,15の幅(Y方向の長さ)は、例えば270μmであり、この幅と同じピッチで各位相差領域14,15がY方向に並んでいる。なお、図1では、各位相差領域14,15の幅を誇張して描いてある。
The
図3に示すように、X方向を基準(0°)として、第1位相差領域14は、その光学軸(遅相軸または進相軸)、例えば遅相軸As1が「−45°(=−θ1)」だけ傾けられたλ/4波長板として機能するように形成され、一方の第2位相差領域15は、その遅相軸As2が「+45°(=+θ1)だけ傾けられたλ/4波長板として機能するように形成されている。したがって、位相差フィルム12は、第1位相差領域14と第2位相差領域15の遅相軸As1,As2が互いに直交するように形成されたパターン化位相差フィルムとなっている。このような位相差フィルム12は、例えば液晶スクリーンに貼り付けられ、立体画像を観察するために用いられる。
As shown in FIG. 3, with the X direction as a reference (0 °), the first
なお、詳細を後述するように、位相差フィルム12の遅相軸As1,As2がX方向に対して厳密に±45°傾けられている必要はなく、また基準とする方向も任意であって、各位相差領域14,15の遅相軸が互いにほぼ直交するパターン化位相差フィルムであれば検査対象になる。また、遅相軸に代えて進相軸が互いに直交するように各位相差領域が形成されたパターン化位相差フィルムも検査対象になる。
As will be described in detail later, the slow axes As1, As2 of the
欠陥検出装置10は、図1に示すように、光源部16、撮影装置17、第1,第2偏光板18,19、欠陥検出ユニット20を有している。位相差フィルム12が用いられる最終製品として、3Dテレビを想定し、これを鑑賞者が通常の観察をするとした場合には、例えば直径が100μm程度の欠陥を検出できればよく、欠陥検出装置10では、各部の諸元がそのように決められている。テレビ鑑賞者には100μm以下のサイズのものは欠陥として識別されることがないので実用上は問題がないからである。また、欠陥としては、異物、汚れ、キズや、配光ムラ(位相差特性の局所的な乱れ)などが挙げられる。
As shown in FIG. 1, the defect detection device 10 includes a
欠陥検出装置10では、位相差フィルム形成工程から供給される位相差フィルム12が搬送機構(図示省略)によってX方向に連続搬送される。この位相差フィルム12の搬送路には、所定の間隔で2本のガイドローラ(図示省略)を配してあり、これらガイドローラに位相差フィルム12が掛けられることにより、各ガイドローラの間の検査ステージで位相差フィルム12が平面状に保持される。
In the defect detection apparatus 10, the
検査ステージには、光源部16と、撮影装置17と、第1,第2偏光板18,19とが配されている。光源部16と撮影装置17とは、搬送路を挟んで互いに反対側に配してある。光源部16は、ハロゲンランプなどの光源を有しており、この例では搬送路の下側から第1偏光板18を介して位相差フィルム12の下面に向けて幅方向に一様に検査光を照射する。なお、光源部16の光源としては、メタルハライドランプ等の他のランプでもよく、LED(発光ダイオード)等であってもよい。
On the inspection stage, a
撮影装置17は、搬送路の上側に、位相差フィルム12の法線方向から第2偏光板19を介して位相差フィルム12の輝度画像を撮影する。この撮影装置17は、撮影レンズ17aと、ライン状に並べた多数の受光素子からなるCCDラインセンサ17b等から構成されたリニアアレイカメラとなっており、1回の撮影で位相差フィルム12の幅方向に平行な1ラインを撮影する。輝度画像の各画素の値は対応する位相差フィルム12の部分から射出されて第2偏光板を透過した光量、すなわち第2偏光板を通して観察される輝度を表している。位相差フィルム12が1ライン分搬送されるごとに撮影装置17による1回の撮影を行うことによって、検査ステージを通過する位相差フィルム12の輝度画像を順次に撮影する。撮影装置17の画素分解能、すなわち輝度画像の1画素に対応する位相差フィルム12上におけるY方向の長さは、例えば10μm/画素となっている。なお、撮影装置17として、リニアアレイカメラではなく、複数のラインを同時に撮影するエリアカメラを用いてもよい。
The photographing
第1偏光板18は、光源部16と位相差フィルム12との間に、また第2偏光板19は、位相差フィルム12と撮影装置17との間に、それぞれ位相差フィルム12と平行な姿勢で配されている。各偏光板18,19は、いずれも直線偏光タイプのものであり、第1偏光板18の偏光透過軸P1と第2偏光板19の偏光透過軸P2が互いに直交する、いわゆるクロスニコル配置とされている。後述するように偏光透過軸P1及び偏光透過軸P2の方向が位相差フィルム12に対して調整されるが、偏光透過軸P2の方向を偏光透過軸P1に連動させることにより偏光透過軸P1,P2が互い直交する状態を維持する。
The first
第1偏光板18と第2偏光板19は、欠陥がない正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15とを撮影装置17で撮影したときに、それら各位相差領域14,15が同じ輝度レベルとなるように、位相差フィルム12に対する偏光透過軸P1の方向が調整される。この調整では、偏光透過軸P1が遅相軸As1とほぼ平行、かつ、偏光透過軸P2が遅相軸As2とほぼ平行、となる範囲で行う。これにより、正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15とを透過した検査光が第2偏光板19を透過しない消光状態に近い状態(消光状態近傍)で、第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるようにしている。
When the first
位相差フィルム12は、遅相軸As1,As2が直交するように第1位相差領域14と第2位相差領域15とが形成されるが、実際には種々の理由により遅相軸As1,As2が互いに直交した状態からずれていることがある。このため、例えば偏光透過軸P1を遅相軸As1と平行に調整した場合に、第1位相差領域14については検査光を通さない消光状態となるが第2位相差領域15については消光状態にはならず、それらに輝度レベルに差が生じることがある。このように各位相差領域14,15に輝度差が生じると、撮影装置17による輝度画像に基づいて欠陥を精度よく検出できない。そこで、消光状態ではないが、上記のように消光状態に近い状態で第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整し、欠陥検出を精度よく行うことができるようにしている。
The
この例では第1位相差領域14の遅相軸As1と第1偏光板18の偏光透過軸P1とをほぼ平行となる状態で、正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整しているが、このようにほぼ平行となる状態としているのは、上記からわかるように消光状態に近い状態とするためである。ここで、消光状態に近い状態で正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとすることは、遅速軸As1,As2のなす角度の90°からのズレをΔθとすると、偏光透過軸P1,P2のなす角度が90°(クロスニコル)を維持した状態で、偏光透過軸P1が遅相軸As1に対して、また偏光透過軸P2が遅相軸As2に対して、それぞれΔθ/2だけずらした状態に調整することを意味する。
In this example, the normal
また、第1偏光板18と第2偏光板19のいずれか一方の偏光透過軸を、第1位相差領域14と第2位相差領域15のいずれか一方の光学軸(遅相軸または進相軸)とほぼ平行となる状態にして、正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整すればよい。したがって、第1偏光板18の偏光透過軸P1が第1位相差領域14の遅相軸As1とほぼ直交する状態で、正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整してもよい。また、偏光透過軸P1が第1位相差領域14の進相軸とほぼ平行となる状態あるいは直交する状態で正常な第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度が同じレベルとなるように調整してもよい。
Further, the polarization transmission axis of either the first
なお、第1偏光板18と第2偏光板19とがクロスニコルとされており、また第1位相差領域14と第2位相差領域15の各光学軸(例えば遅相軸As1,As2)とがほぼ直交している。このため、一方の偏光板の偏光透過軸と一方の位相差領域の光学軸とをほぼ平行な状態とすることは、一方の偏光板の偏光透過軸と他方の位相差領域の光学軸とをほぼ直交する状態にすること、他方の偏光板の偏光透過軸と他方の位相差領域の光学軸とをほぼ平行な状態にすること、及び他方の偏光板の偏光透過軸と一方の位相差領域の光学軸とをほぼ直交する状態にすることと同じ意味である。
The first
撮影装置17からの輝度画像は、欠陥検出ユニット20に送られる。欠陥検出ユニット20は、撮影装置17で得られる輝度画像に基づいて位相差フィルム12の欠陥を検出する。図4に示すように、欠陥検出ユニット20は、画像処理部21と、欠陥検出部22とを有し、画像処理部21は、D/A変換器23,メモリ24,二値化回路25,収縮処理回路26,膨張処理回路27,ノイズ除去回路28を有する。
The luminance image from the
D/A変換器23は、輝度画像の各画素の輝度レベルをデジタルデータ化する。メモリ24は、多数のラインの輝度画像を記憶可能であり、1ラインずつ入力される輝度画像を順次蓄積することにより、二次元の輝度画像を生成する。また、メモリ24は、欠陥検出ユニット20の各部が処理を行うためのワークメモリとしても用いられる。
The D /
メモリ24には、所定ライン数、例えば400ラインからなる二次元の輝度画像が生成され、この二次元の輝度画像を1つの処理単位として以降の画像処理が実施される。400ラインからなる二次元の輝度画像には、前後の輝度画像との間でオーバーラップするように生成され、二次元の輝度画像間の境界付近の欠陥を漏れなく検出できるようにしている。画像処理部21の各部は、メモリ24に所定ライン数の輝度画像が生成されるごとに、これを読み出し、その輝度画像に対して所定の処理を施した上で、再びメモリ24に保存する。
A two-dimensional luminance image having a predetermined number of lines, for example, 400 lines, is generated in the
輝度画像には、識別データが付与される。この識別データは、画像処理部21で実施された処理の履歴を示すものであり、画像処理部21の各部で処理が行われるごとに、その内容が更新される。画像処理部21の各部は、この識別データに基づき、メモリ24に保存された輝度画像に該当処理を行うか否かを識別し、該当処理を行うべき輝度画像があれば、それをメモリ24から読み出して該当処理を実施する。これにより、二次元の輝度画像に対して、画像処理部21による所定の画像処理が順次に施される。
Identification data is given to the luminance image. This identification data indicates the history of processing performed by the
二値化回路25は、メモリ24に記憶されている輝度画像の各画素について、輝度レベルを所定のしきい値と比較して二値化する。この二値化より、輝度レベルがしきい値よりも低い画素を値「0」の暗画素とし、しきい値以上の画素を値「1」の明画素にする。この二値化では、位相差領域14,15の正常部分に対応した画素が暗画素となり、この正常部分よりも輝度が高く欠陥候補となる画素が明画素となるようにすればよいから、第1偏光板18の偏光透過軸P1の方向の調整後に正常部分から得られる輝度に基づいてしきい値を設定する。
The
第1,第2偏光板18,19が調整された状態では、第1,第2位相差領域14,15の正常部分の輝度は消光状態に近い状態で両者が同じ輝度レベルになっている。上記二値化のためのしきい値としては、この正常部分の輝度レベルより高い輝度レベルであれば良いが、どの輝度レベル以上の輝度部分を欠陥候補とするか、に応じて決める。この輝度レベルは、通常、予め模擬的に生成した欠陥サンプルか、実際に生じた欠陥サンプルを、調整済の欠陥検出装置10もしくは同等の光学系の実験機にセットして該当欠陥の輝度測定を行って決めることができる。
In the state where the first and second
収縮処理回路26は、輝度画像に含まれる位相差領域14,15の境界線や、ノイズの消去を行う。第1位相差領域14と第2位相差領域15との境界は、狭い幅ではあるが位相差特性が崩れ、欠陥と同様に輝度が高くなる。このため、二次元の輝度画像上では、Y方向に所定の画素数、例えば2〜3画素で、X方向に沿った直線上の輝度の高くなった境界線となる。
The
収縮処理回路26は、境界線を消去するために収縮処理を二値化された輝度画像に対して行う。また、収縮処理により、Y方向の長さが小さいノイズとなる明画素が同時に消去される。境界線の各画素は、二値化により明画素に変換される。収縮処理は、各位相差領域14,15が並ぶ方向、すなわちY方向に対して明画素の幅を縮小するように行う。この収縮処理は、境界線を消去し得るだけの回数、すなわち境界線の幅(Y方向の画素数)に応じた回数だけ行われる。このように境界線を消去することにより、各位相差領域14,15の境界の影響をなくして欠陥を精度よく検出することができるようになる。
The
1回の収縮処理では、着目する輝度画像上の画素について、同じ1ライン中でそれに隣接した画素の一方、例えば右側が暗画素(値が「0」)であるときに、着目する画素を暗画素(値が「0」)とする処理を各画素について行う。すなわち、同じ1ライン上で明画素領域の右端の画素を暗画素にして取り除く。このため、例えば、境界線の幅が2画素であるときには、2回の収縮処理を行い、境界線の幅が3画素であるときには、3回の収縮処理を行うことで境界線を消去する。収縮処理を何回行うかは、撮影装置17の分解能と位相差フィルム12上での境界線の幅によって決めることができるが、境界線の幅の正常範囲内のばらつきを考慮して、実験により輝度画像上の境界線の幅(画素数)から決めることが望ましい。
In one contraction process, when a pixel on the target luminance image is a dark pixel (value is “0”) on one of the adjacent pixels in the same line, for example, the right side, the target pixel is darkened. Processing for setting a pixel (value is “0”) is performed for each pixel. That is, the pixel at the right end of the bright pixel area on the same line is removed as a dark pixel. For this reason, for example, when the boundary line width is 2 pixels, the contraction process is performed twice, and when the boundary line width is 3 pixels, the boundary line is erased by performing the contraction process three times. The number of times the shrinking process is performed can be determined by the resolution of the photographing
なお、上記の収縮処理では、処理ごとに明画素領域の右端の画素を暗画素にして取り除くようにしているが、明画素領域の左端の画素を暗画素にして取り除いてもよい。 In the above shrinking process, the rightmost pixel in the bright pixel area is removed as a dark pixel for each process, but the leftmost pixel in the bright pixel area may be removed as a dark pixel.
膨張処理回路27は、収縮処理後の輝度画像に対して膨張処理を施す。この膨張処理によって、輝度画像に残った明画素の領域のY方向の長さを復元する。これにより、欠陥判定の際に精度よく欠陥サイズの判定を行うことができるようにする。膨張処理は、Y方向について収縮処理の逆論理で行われ、輝度画像上の着目する画素について、同じ1ライン中でそれに左側に隣接した画素が明画素(値が「1」)であるときに、着目する画素を明画素(値「1」)とする処理を各画素について行う。この膨張処理は、収縮処理と同じの処理回数だけ行われる。
The
なお、この例では、欠陥検出の際に、画素数に基づく欠陥抽出や欠陥判定を容易とするために膨張処理を行って、残った明画素の領域のサイズを元へ戻している。したがって、明画素の領域のサイズによらず欠陥として判断するのであれば、膨張処理を省略することができる。また、この例では、収縮処理及び膨張処理をY方向についてのみ行っているから、輝度画像を二次元化せずに、1ラインずつ収縮処理及び膨張処理を行ってもよい。さらに、この例では、Y方向のみを対象に収縮,膨張処理を行っているが、X方向にも行うことによって、X方向の長さが小さいノイズとなる明画素の消去を同時に行ってもよい。 In this example, when a defect is detected, expansion processing is performed to facilitate defect extraction and defect determination based on the number of pixels, and the size of the remaining bright pixel region is restored. Therefore, if the defect is determined regardless of the size of the bright pixel region, the expansion process can be omitted. In this example, since the contraction process and the expansion process are performed only in the Y direction, the contraction process and the expansion process may be performed line by line without making the luminance image two-dimensional. Furthermore, in this example, the contraction and expansion processing is performed only in the Y direction, but by performing the processing in the X direction as well, it is possible to simultaneously erase bright pixels that cause noise with a small length in the X direction. .
ノイズ除去回路28は、所定画素数以下の明画素の領域をノイズとして輝度画像から除去する。この例では、収縮処理後で膨張処理前の段階で、周囲が全て暗画素となる孤立した1画素の明画素(孤立点)をノイズとして消去する。この消去は、明画素を暗画素に変換することにより行われる。なお、ノイズ除去回路28による、ノイズ除去は、電気的なノイズなども種々の要因で現れたノイズとしての明画素や、欠陥として検出してなくても問題にならない程度に面積(画素数)が小さい明画素の領域を消すものであり、1画素の明画素の領域に限らず、複数の明画素が繋がった明画素の領域をノイズとして除去してもよい。また、収縮処理前の輝度画像や、膨張処理後で欠陥検出の直前にノイズ除去を行ってもよい。
The
欠陥検出部22は、膨張処理後の輝度画像から欠陥を検出する。この欠陥検出部22は、欠陥の検出では、輝度画像上の明画素の領域を抽出して、その抽出した領域を欠陥部分として特定する。また、明画素の領域の画素数を調べることにより、欠陥のX,Y方向の長さ、サイズ、形状を判定することも可能である。もちろん、明画素の領域の長さやサイズに基づいて欠陥部分とするか否かを判定することも可能である。欠陥検出部22は、欠陥を検出したときには、その欠陥の位相差フィルム12上の位置や検出した欠陥のサイズを含む欠陥情報を生成して出力する。この欠陥情報は、欠陥部分を製品として使用しないための制御情報として用いられる。
The
次に上記構成の作用について説明する。図5に示すように、欠陥検出装置10による欠陥検査に先立って、偏光透過軸の方向の調整を行う。まず、検査ステージの第1偏光板18と第2偏光板19との間に、検査対象となる位相差フィルム12の予め特定しておいた正常部分を配した状態にする。次に、第1偏光板18と第2偏光板19の各偏光透過軸P1,P2を直交させて、クロスニコル状態にする。
Next, the operation of the above configuration will be described. As shown in FIG. 5, the direction of the polarization transmission axis is adjusted prior to the defect inspection by the defect detection apparatus 10. First, between the first
クロスニコル状態、及び位相差フィルム12との平行状態を維持しながら粗調整を行い、この粗調整で第1偏光板18の偏光透過軸P1が第1位相差領域14の遅相軸As1と平行となるようにする。このときに、偏光透過軸P1と遅相軸As1とを厳密に平行にする必要はなく、ほぼ平行となる程度でよい。簡単には、光源部16を点灯させた状態で、第1位相差領域14、または第2位相差領域15を第2偏光板19を介して観察したときに、透過する光量が最も少なくなる消光状態となるように調整すればよい。
The coarse adjustment is performed while maintaining the crossed Nicol state and the parallel state with the
粗調整後に、光源部16及び撮影装置17を作動させ、撮影装置17で撮影される輝度画像に基づいて第1位相差領域14と第2位相差領域15の各輝度レベルを参照できるようにする。そして、この後に、各位相差領域14,15の輝度レベルが同じになるように微調整を行う。
After the coarse adjustment, the
微調整では、クロスニコル状態、及び位相差フィルム12との平行状態を維持しながら、各輝度レベルが同一になるように設定する。この微調整では、偏光透過軸P1の方向を大きく変えないようにして、偏光透過軸P1が遅相軸As1とほぼ平行であって消光状態に近い状態を維持しながら偏光透過軸P1の方向を調整する。
In the fine adjustment, the brightness level is set to be the same while maintaining the crossed Nicols state and the parallel state with the
光源部16からの検査光は、第1偏光板18を介して直線偏光となって位相差フィルム12に入射する。ここで偏光透過軸P1が第1位相差領域14の遅相軸As1と正確に平行となっている場合には、第1偏光板18から射出された直線偏光の検査光は、第1位相差領域14を透過しても位相差が生じることない。したがって、その検査光は、直線偏光のまま第2偏光板9に入射する。そして、第2偏光板19に入射する検査光は、その偏光方向が第2偏光板19の偏光透過軸P2と直交しているから、第2偏光板19から射出されない。
The inspection light from the
また、偏光透過軸P1が第1位相差領域14の遅相軸As1とほぼ平行であるが正確に平行となっていない場合には、検査光は、第1位相差領域14を透過する際に位相差を生じ楕円偏光となって第2偏光板19に入射する。したがって、この場合には、楕円偏光となった検査光のうち偏光透過軸P2に直交する偏光成分は第2偏光板19から射出されないが、偏光透過軸P2に平行な偏光成分は第2偏光板19から射出される。そして、偏光透過軸P1と遅相軸As1との方向関係の平行からのずれが大きくなるほど、偏光透過軸P2に平行な偏光成分が大きくなるから、第2偏光板19からの射出光量が大きくなって第1位相差領域の輝度が高くなる。
Further, when the polarization transmission axis P1 is substantially parallel to the slow axis As1 of the first
一方、第2位相差領域15についても同様であるが、遅相軸As2に対する偏光透過軸P1,P2の関係が第1位相差領域14とは逆になる。すなわち、偏光透過軸P1が第2位相差領域15の遅相軸As2と正確に直交している場合には、第1偏光板18からの直線偏光の検査光は、偏光方向が遅相軸As2と正確に直交しているから第2位相差領域15を透過しても位相差が生じることなく第2偏光板19に入射する。そして、その検査光は、偏光方向が第2偏光板19の偏光透過軸P2と直交しているから、第2偏光板19から射出されない。
On the other hand, the same applies to the second
また、偏光透過軸P1が第2位相差領域15の遅相軸As1とほぼ直交であるが正確に直交となっていない場合には、検査光は、第2位相差領域15を透過する際に位相差を生じて楕円偏光となる。楕円偏光となった検査光のうち偏光透過軸P2に平行な偏光成分だけが第2偏光板19から射出される。偏光透過軸P1と遅相軸As2との方向関係の直交からのずれが大きくなるほど、偏光透過軸P2に平行な偏光成分が大きくなり、第2偏光板19からの射出光量が大きくなって輝度が高くなる。
In addition, when the polarization transmission axis P1 is substantially orthogonal to the slow axis As1 of the second
遅相軸As1,As2が互いに正確に直交するように第1位相差領域14と第2位相差領域15とが形成された位相差フィルム12が検査対象である場合には、遅相軸As1と偏光透過軸P1との平行に対するずれの増減は、遅相軸As2と偏光透過軸P1との直交に対するずれの増減と同じであり、そのずれの大きさが同じになる。したがって、偏光透過軸P1が遅相軸As1と平行な状態となると同時に、偏光透過軸P1が遅相軸As2と直交した状態になるから、第1,第2位相差領域14,15からの検査光が第2偏光板19から射出されることはなく、いずれの領域の輝度も「0」(消光状態)に調整し得る。
When the
上記のように遅相軸As1,As2が互いに正確に直交した状態であることは位相差フィルム12として理想的ではあるが、支持体12aが僅かながらでも複屈折性を示す、位相差領域の形成時の遅相軸の向きの誤差などの要因により、遅相軸As1と遅相軸As2とが正確に直交せず僅かに直交からずれている場合が多い。この場合には、偏光透過軸P1を遅相軸As1と平行な状態にするのと同時に、偏光透過軸P1を遅相軸As2と直交した状態にすることはできない。すなわち、第1位相差領域14及び第2位相差領域15を同時に輝度レベル「0」として撮影するように微調整することはできない。
Although it is ideal as the
しかしながら、遅相軸As1と偏光透過軸P1との平行に対するずれと、遅相軸As2と偏光透過軸P1との直交に対するずれの大きさを同じにし、第1,第2位相差領域14,15を透過して第2偏光板19から射出される検査光の偏光成分の大きさを同じにすることができる。したがって、第1,第2位相差領域14,15の輝度を「0」ではないが低輝度レベルとした消光状態に近い状態で同時に同じ輝度レベルに微調整することができる。
However, the first and second
上記のように偏光透過軸P1の微調整を行ったのち、第1位相差領域14または第2位相差領域15の正常部分を撮影装置17で撮影した輝度レベルを取得し、その輝度レベルよりも少し高いしきい値を二値化回路25に設定する。この後に、位相差フィルム12の欠陥検査を開始する。
After performing the fine adjustment of the polarization transmission axis P1 as described above, the luminance level obtained by photographing the normal part of the first
欠陥検査が開始されると、位相差フィルム形成工程から位相差フィルム12が欠陥検出装置10に連続供給され、検査ステージを通って、さらに下流へと搬送される。この搬送中には、光源部16からの検査光が第1偏光板18を介して位相差フィルム12に照射され、位相差フィルム12が1ライン分送られるごとに撮影装置17によって1ライン分の輝度画像の撮影が行われる。
When the defect inspection is started, the
撮影を行うごとに撮影装置17から1ライン分の輝度画像が欠陥検出ユニット20に送られ、D/A変換器23で各画素の輝度レベルがデジタルデータ化されてからメモリ24に書き込まれる。これにより、二次元の輝度画像が生成される。所定ライン数の輝度画像がメモリ24に書き込まれると、二値化回路25によって、メモリ24から輝度画像が読み出され、各画素が先に設定したしきい値と比較されて二値化される。
Every time photographing is performed, a luminance image for one line is sent from the photographing
図6(a)に一例を示すように、二値化された輝度画像Iには、第1位相差領域14,第2位相差領域15の正常部分に対応した暗画素領域D1、境界線D2の他に、明画素領域D3〜D7が含まれている。第1位相差領域14,第2位相差領域15の正常部分は、しきい値よりも輝度が低くなるため、暗画素のストライプ状の暗画素領域D1となる。各位相差領域14,15の幅を約270μm、撮影装置17の画素分解能を10μm/画素とすると、各暗画素領域D1は、Y方向に約27個の暗画素が並んでおり、X方向に長いストライプ状になる。境界線D2は、欠陥部分と同様に、隣接した各暗画素領域D1の位相差特性の乱れによって明画素として現れる。各境界線D2は、例えばY方向に約2〜3個の明画素が並び、X方向に延びた直線状になっている。
As shown in an example in FIG. 6A, the binarized luminance image I includes a dark pixel region D1 and a boundary line D2 corresponding to normal portions of the first
第1,第2位相差領域14,15内で異物が混入している部分や、キズのある部分、配光ムラが生じている部分などの欠陥部分は、位相差特性に乱れが生じるため、直線偏光の検査光が透過するときに偏光方向に乱れを生じさせて、第2偏光板19から射出される成分を正常部分よりも多くする。このため、その欠陥部分は、輝度が高くなり、明画素となり、その明画素の領域サイズは欠陥部分のサイズに応じたものとなる。また、電気的なノイズが輝度画像の画素に重畳された場合などでも、その画素が明画素となる。明画素領域D3〜D7は、このような欠陥部分やノイズに対応している。
In the first and second
二値化された輝度画像は、収縮処理回路26によってメモリ24から読み出され、Y方向についての収縮処理が所定回数、例えば3回施される。これにより、図6(b)のように、境界線D2が暗画素とされて消去される。また、Y方向の長さが小さいノイズや微小な欠陥部分に対応した明画素領域D4〜D7も暗画素とされて同時に消去される。収縮処理により、消去される明画素領域は、微小なものであって、実用上で問題にならないものである。なお、境界線が所期の幅よりも太くなっている場合に、所定回数の収縮処理を行っても、その部分の明画素が残るので、欠陥として検出することが可能である。
The binarized luminance image is read from the
所定回数の収縮処理後の輝度画像に対して、ノイズ除去回路28によるノイズ除去が行われる。これにより、収縮処理で消去されなかったノイズとなる小さな明画素の領域が輝度画像から消去される。
Noise removal by the
この後に、膨張処理回路27によって、所定回数、例えば3回の膨張処理が実施され、収縮処理された輝度画像の明画素領域の幅が戻される。これにより、図6(c)のように、収縮処理で残った明画素領域D3の幅は、収縮処理前のものに戻る。
Thereafter, the
膨張処理後、欠陥検出部22によって、輝度画像に残っている明画素領域が抽出され、その明画素領域が欠陥部分として特定される。これにより図6(c)では、明画素領域D3が欠陥部分として検出される。そして、検出された欠陥部分の位置を示す位置情報や欠陥サイズなどを含む欠陥情報が生成され出力される。
After the expansion processing, the
[第2実施形態]
第2実施形態は、輝度画像上で、着目する画素について所定の画像数だけ離れた画素との輝度を比較して差分をとり、その差分を着目した画素の新たな値とすることにより、境界線を消去するようにしたものである。なお、以下に説明する他は、第1実施形態と同様であり、実質的に同じ構成部材には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
[Second Embodiment]
In the second embodiment, a difference is obtained by comparing the luminance of a pixel of interest with a pixel separated by a predetermined number of images on the luminance image, and the difference is set as a new value of the pixel of interest. The line is erased. In addition, except being demonstrated below, it is the same as that of 1st Embodiment, The same code | symbol is attached | subjected to the substantially same structural member, and the detailed description is abbreviate | omitted.
図7に示すように、この例における画像処理部21は、D/A変換器23,メモリ24,差分画像生成回路31,二値化回路25,ノイズ除去回路28から構成される。差分画像生成回路31は、D/A変換器23でデジタル化された1ラインの輝度画像上で着目する画素に対して、所定の画像数だけ離れた画素を相手画素として、その相手画素との輝度の差分をとり、その差分を着目する画素の新たな値とする差分処理を行う。この差分処理を、輝度画像の各画素について行うことにより、差分画像を生成する。差分を求める際には、着目する画素の値から相手画素の値を減算した値を、着目する画素の新たな値とする。
As shown in FIG. 7, the
上記の差分画像の生成は、輝度画像における第1,第2位相差領域14,15の境界線を消去するためのものであって、着目する画素が境界線上の画素であるときに、相手画素が境界線上の画素となるように、差分の際の画素の距離(画素数)が決められている。境界線上の各画素は、ほぼ同等の輝度レベルであるので、境界線上の画素の新たな値をほぼ「0」として実質的に境界線を消去する。
The generation of the difference image is for erasing the boundary line between the first and second
着目する画素から相手画素への方向は、少なくともY方向に離れていればよく、X方向とY方向との両方向であってもよい。図8に示すように、着目する画素Px1に対して相手画素Px2までのX方向の画素数を「x1」画素、Y方向の画素数を「y1」画素とした場合、「y1」は、境界線の間隔、すなわち位相差領域の幅(Y方向の長さ)に対応する画素数のn倍(n=1,2,3・・・)とする。「x1」は、任意の値とすることができる。例えば「x1」を「0」としたときには、着目する画素Px1が境界線上の画素であるときに、相手画素Px2は同じライン上で別の境界線上の画素となる。 The direction from the pixel of interest to the partner pixel need only be at least separated in the Y direction, and may be both the X direction and the Y direction. As shown in FIG. 8, when the number of pixels in the X direction up to the partner pixel Px2 is “x1” pixels and the number of pixels in the Y direction is “y1” pixels with respect to the target pixel Px1, “y1” The line spacing, that is, n times the number of pixels corresponding to the width of the phase difference region (length in the Y direction) (n = 1, 2, 3,...). “X1” can be an arbitrary value. For example, when “x1” is set to “0”, when the target pixel Px1 is a pixel on the boundary line, the counterpart pixel Px2 is a pixel on another boundary line on the same line.
また、「y1」を位相差領域の幅(境界線の間隔)に対応する画素数のn倍として、x1を「1」以上に設定してもよい。この場合には、「x1」ライン離れたライン上の画素との差分が求められるから、着目する画素Px1が境界線上の画素であるときに、相手画素Px2は異なるライン上の別の境界線上の画素となる。 Further, “y1” may be set to “n” times the number of pixels corresponding to the width of the phase difference region (between boundary lines), and x1 may be set to “1” or more. In this case, since the difference from the pixels on the line separated from the “x1” line is obtained, when the pixel of interest Px1 is a pixel on the boundary line, the counterpart pixel Px2 is on another boundary line on a different line. It becomes a pixel.
また、X方向に対して一定の角度方向にスジ状に生じる輝点(以下、スジ欠陥という)の発生が懸念される場合には、その輝点を消去してしまわないように、スジ欠陥の画素同士が比較されないようなx1,y1の値を設定すべきである。 In addition, when there is a concern about the occurrence of bright spots (hereinafter referred to as streak defects) generated in a streak shape in a certain angle direction with respect to the X direction, the streak defect is not to be erased. The values of x1 and y1 should be set so that the pixels are not compared with each other.
例えば、スジ欠陥がX方向に対して45°方向に出やすい場合には、そのスジ欠陥が消去されないようにするため、着目する画素Px1に対して、相手画素Px2が45°の方向にならないように「x1」と「y1」の組み合わせを決定する。このときに、X方向とY方向の各画素分解能を考慮して「x1」と「y1」の組み合わせを決定する必要がある。この例のように、撮影装置17がリニアアレイカメラである場合には、Y方向の画素分解能は、撮影装置17の撮影分解能に応じて決まるが、X方向の画素分解能は、撮影装置17の1ラインの撮影周期と位相差フィルム12の搬送速度とによって決まる。例えばX方向の画素分解能が6μm、Y方向の画素分解能が3μmであるときには、45°方向のスジ欠陥を消去しないために「x1:y1=1:2」を満たさないようにする。
For example, when a streak defect is likely to appear in a 45 ° direction with respect to the X direction, the counterpart pixel Px2 is not in a 45 ° direction with respect to the pixel of interest Px1 in order to prevent the streak defect from being erased. The combination of “x1” and “y1” is determined. At this time, it is necessary to determine the combination of “x1” and “y1” in consideration of the pixel resolution in the X direction and the Y direction. As in this example, when the
二値化回路25は、差分画像を所定のしきい値で2値化し、各画素を明画素と暗画素とにする。ノイズ除去回路28は、二値化された差分画像から微小な明画素の領域をノイズとして消去する。欠陥検出部22は、ノイズ除去回路28の処理後に残った明画素の領域を欠陥部分として特定する。
The
なお、上記のように差分画像を作成した場合、第1実施形態の収縮処理と異なり、差分画像の生成の段階で小さな明画素領域が消去されず、また撮影装置17の分解能からくる誤差、境界線自身のエッジ部分のばらつきなどから、小さな明画素領域が多く残る。このため、差分画像を生成して欠陥検出を行う場合には、ノイズの消去を行うことが好ましい。
When the difference image is generated as described above, unlike the contraction processing of the first embodiment, a small bright pixel region is not erased at the stage of generation of the difference image, and an error or boundary caused by the resolution of the
この例によれば、輝度画像の各画素について、着目する画素と相手画素との差分を求めて差分画像が生成されるが、輝度画像の境界線上の各画素は、同一のあるいは異なる境界線上の相手画素との差分が求められる。そして、各境界線上の画素の輝度がほぼ同じレベルとなるから、着目する画素の新たな値はほぼ「0」となる。したがって、この画素を二値化すれば暗画素となるので、結果的に境界線が消去される。 According to this example, for each pixel of the luminance image, a difference image is generated by obtaining a difference between the pixel of interest and the partner pixel, but each pixel on the boundary line of the luminance image is on the same or different boundary line. The difference from the partner pixel is obtained. Then, since the luminance of the pixels on each boundary line becomes substantially the same level, the new value of the pixel of interest is almost “0”. Therefore, if this pixel is binarized, it becomes a dark pixel, and as a result, the boundary line is erased.
一方、着目する画素が欠陥部分の画素である場合には、ほとんどの場合で輝度レベルがかなり低い正常部分の画素が相手画素となるから、欠陥部分の画素の新たな値はあまり変わらず、二値化によって明画素となる。したがって、欠陥部分は消去されることなく、欠陥として検出することができる。 On the other hand, when the pixel of interest is a defective pixel, the normal pixel having a considerably low luminance level is the counterpart pixel in most cases, so the new value of the defective pixel does not change much. Bright pixels are obtained by the digitization. Therefore, the defective portion can be detected as a defect without being erased.
なお、ランダムな方向に発生するスジ状の欠陥など、あらゆる方向のスジ状の欠陥を検出することができるようにするために、着目する画素を基点として異なる方向の複数の相手画素との差分をそれぞれ求め、同一の輝度画像から各方向についての差分画像をそれぞれ生成し、各差分画像から欠陥を検出してもよい。これには、x1,y1の比(x1/y1)が異なる位置の画素を各相手画素として差分画像をそれぞれ生成することができる。例えば、着目する画素からの相手画素の方向が45°となるようにx1,y1を設定して45°方向の差分画像を作成するとともに、着目する画素からの相手画素の方向が30°となるようにx1,y1を設定して30°方向の差分画像を作成する。そして、各差分画像に対して欠陥検出を行い、45°方向の差分画像で特定される欠陥部分、及び30°方向の差分画像で特定される欠陥部分をあわせて位相フィルム12の欠陥部分とする。なお、この例では45°と30°の2方向であるが、方向(角度)及び方向数は適宜設定できる。
In addition, in order to be able to detect streak-like defects in all directions, such as streak-like defects that occur in random directions, the difference from a plurality of counterpart pixels in different directions with the pixel of interest as a base point is calculated. Alternatively, a difference image in each direction may be generated from the same luminance image, and a defect may be detected from each difference image. For this purpose, a difference image can be generated by using pixels at different positions of x1 and y1 (x1 / y1) as the corresponding pixels. For example, x1 and y1 are set so that the direction of the counterpart pixel from the pixel of interest is 45 ° and a difference image in the 45 ° direction is created, and the direction of the counterpart pixel from the pixel of interest is 30 ° Thus, x1 and y1 are set to create a 30 ° difference image. Then, defect detection is performed on each difference image, and the defect portion specified by the 45 ° difference image and the defect portion specified by the 30 ° difference image are combined as a defect portion of the
[第3実施形態]
第3実施形態では、二次元の輝度画像において輝度の高い画素(明画素)の領域を欠陥候補として抽出し、各々の欠陥候補に対して、Y方向に隣接する欠陥候補までの画素数を隣接距離画素数として計数し、その計数された隣接距離画素数が所定値以下の場合にその欠陥候補を欠陥と判定するものである。なお、以下に説明する他は、第1実施形態と同様であり、実質的に同じ構成部材には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
[Third Embodiment]
In the third embodiment, a pixel (bright pixel) region with high luminance is extracted as a defect candidate in a two-dimensional luminance image, and the number of pixels up to a defect candidate adjacent in the Y direction is adjacent to each defect candidate. The number of distance pixels is counted, and when the counted number of adjacent distance pixels is equal to or smaller than a predetermined value, the defect candidate is determined as a defect. In addition, except being demonstrated below, it is the same as that of 1st Embodiment, The same code | symbol is attached | subjected to the substantially same structural member, and the detailed description is abbreviate | omitted.
この例では、図9に示すように、画像処理部21は、D/A変換器23,メモリ24,二値化回路25、計数回路41から構成される。1ラインの輝度画像の各画素は、D/A変換器23でデジタル化されてメモリ24に書き込まれた後に、二値化回路25によって明画素または暗画素にされる。
In this example, as shown in FIG. 9, the
計数回路41は、輝度画像上の複数の明画素が繋がった明画素領域をそれぞれ欠陥候補とする。計数回路41は、各欠陥候補のそれぞれについて、1ライン中の、すなわちY方向に隣接する欠陥候補までの画素数を隣接距離画素数Cpとして計数する。欠陥検出部22は、計数回路41で計数された隣接距離画素数Cpが所定画素数Cpth以下である場合に、その欠陥候補を欠陥部分として特定する。所定画素数Cpthは、輝度画像上の境界線D2同士の間隔Cyよりも小さな値としてある。
The
なお、1個の明画素から明画素領域を欠陥候補とすることもできるが、この例では、そのような明画素領域は、ノイズや実用上欠陥として検出されなくても問題がないため欠陥候補としていない。 Note that a bright pixel region from one bright pixel can also be used as a defect candidate. However, in this example, such a bright pixel region does not have a problem even if it is not detected as noise or a practical defect, so there is no problem. Not.
図10に一例を示すように、輝度画像I上で欠陥候補とされる明画素領域としては、実際に欠陥となる明画素領域D8の他、各境界線D2も含まれる。このように境界線D2は、欠陥候補とされるが、正常部分においては、境界線D2同士がY方向に所定画素数Cpthよりも大きく離れているため(Cp>Cpth)、これらが欠陥部分として特定されることはない。一方、第1位相差領域14や第2位相差領域15内に欠陥がある場合や、境界線の幅が異常に太くなっている場合には、明画素領域が他の明画素領域に対して境界線同士の間隔Cyより近接することになる。このため、そのような明画素領域については、隣接距離画素数Cpが所定画素数Cpth以下となって欠陥部分として特定される。なお、境界線D2の近傍に境界線D2以外の欠陥候補が近接してある場合には、その境界線D2も欠陥として判定されることになるが、欠陥候補検査の運用上の実害はない。
As shown in FIG. 10, the bright pixel region that is a defect candidate on the luminance image I includes each boundary line D2 in addition to the bright pixel region D8 that actually becomes a defect. As described above, the boundary line D2 is a defect candidate. However, in the normal part, the boundary lines D2 are separated from each other by a predetermined number of pixels Cpth in the Y direction (Cp> Cpth). It is never specified. On the other hand, when there is a defect in the first
この例は、各境界線が一定の間隔(画素数)で離れていることを利用したものであり、極めて簡単なロジックで欠陥抽出を行うことができる。隣接距離画素数Cpを計数する方向は、Y方向であれば欠陥候補からいずれか一方の方向に計数してもよく、両方向に計数してもよい。さらに、他の実施形態と同様に、画素数が所定値(例えば2画素以下)となる明画素領域をノイズとして除去する除去回路を設けてもよい。 This example uses the fact that each boundary line is separated at a constant interval (number of pixels), and defect extraction can be performed with extremely simple logic. The direction in which the number Cp of adjacent distance pixels is counted may be counted in one direction from the defect candidates as long as it is the Y direction, or may be counted in both directions. Further, similarly to the other embodiments, a removal circuit that removes, as noise, a bright pixel region in which the number of pixels has a predetermined value (for example, 2 pixels or less) may be provided.
[第4実施形態]
第4実施形態は、位相差フィルムの支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板を設け、その支持体の有する位相差特性を相殺するものである。なお、位相差補償板を設ける他は、第1ないし第3実施形態と同様にすることができる。
[Fourth Embodiment]
In the fourth embodiment, a retardation compensation plate that cancels the retardation characteristics of the support of the retardation film is provided, and the retardation characteristics of the support are offset. In addition, it can be the same as that of 1st thru | or 3rd Embodiment except providing a phase difference compensating plate.
この第4実施形態では、図11に示すように、位相差フィルム12と第2偏光板19との間に、位相差補償板37を配してある。位相差補償板37は、位相差フィルム12の支持体12aが有する位相差特性を打ち消すものであり、位相差フィルム12と平行な姿勢で配されている。この位相差補償板37としては、支持体12aが有する位相差特性を打ち消すものであれば限定されないが、簡単には検査対象となっている位相差フィルム12の支持体12aと同じで透明フィルムを用いることができ、この例でもそのようになっている。この場合には、位相差補償板37は、その光学軸が支持体12aの光学軸(例えば遅相軸)と直交するように配される。
In the fourth embodiment, as shown in FIG. 11, a
この例によれば、第1,第2位相差領域14,15の輝度レベルを消光状態により近付けて輝度画像のコントラストを向上することできる。これにより、より高い精度で位相差フィルム12の欠陥を検出することができる。なお、この例では位相差フィルム12と第2偏光板19との間に位相差補償板37を配してあるが、第1偏光板18と位相差フィルム12との間に位相差補償板37を配してもよい。
According to this example, it is possible to improve the contrast of the luminance image by bringing the luminance levels of the first and second
[実施例1]
実施例1では、第1実施形態のように構成された欠陥検出装置10を用いて、実際に位相差フィルム12の欠陥検査を行った。この欠陥検査では、TACを支持体12aとした位相差フィルム12を検査対象とした。
[Example 1]
In Example 1, the defect inspection of the
位相差フィルム12に形成されている第1,第2位相差領域14,15の幅は270μmであった。また、撮影装置17により撮影される輝度画像でのY方向の画素分解能は、10μm/画素であった。第1,第2位相差領域14,15の境界は、輝度画像上でY方向の画素数が2〜3個の境界線(明画素)となったので、Y方向に3画素だけ収縮する3回の収縮処理を行い、さらに1画素の明画素領域をノイズとして消去してから、Y方向に3画素だけ膨張させる3回の膨張処理を行ってから、明画素領域を欠陥部分として特定した。この結果、直径が約100μmの欠陥を検出することができた。
The width of the first and
[実施例2]
実施例2では、第4実施形態のように位相差補償板37を設けて、位相差フィルム12の欠陥検出を行った。この欠陥検出に用いた欠陥検出装置10は、位相差補償板37を設けた他は、第2実施形態と同様な構成であり差分画像を作成して欠陥の検出を行った。位相差補償板37は、位相差フィルム12の支持体12aと同じ透明フィルの正常部分を用い、支持体12aの光学軸に位相差補償板37の光学軸が直交するように配した。この実施例2では、第1,第2位相差領域14,15の幅が270μmであり、欠陥サイズをより高精度に検出するために画素分解能を3μm/画素とした。このため輝度画像上では、境界線はY方向に5〜7画素の幅となった。
[Example 2]
In Example 2, the
位相差補償板37を配したことで、前述したように位相差フィルム12の第1,第2位相差領域14,15がともに消光状態により近づき、正常面の輝度レベルは実施例1より低い(暗い)画像となり輝点のコントラストが改善された。コントラストが改善された分だけ、二値化の際のしきい値を低く設定することが可能となり、第2偏光板19を透過する光量が少ない欠陥部分をも明画素に変換して高い精度で欠陥を検出することができるようになった。
By providing the phase
輝度画像の各画素に対して、「y1=90」として、Y方向に90画素だけ離れた相手画素との差分画像を生成した。この結果、境界線上の各画素は、その境界線に隣接する他の境界線上の画素を相手画素として差分がとられたて新たな値はほぼ「0」となった。これにより、二値化によって輝度画像から境界線を消去することができた。二値化後に、2画素以下の明画素領域をノイズとして消去して得られた画像からは、欠陥を十分な精度で検出できた。境界線の幅と同程度しかない微小な欠陥でも検出が可能であった。 For each pixel of the luminance image, “y1 = 90” was set, and a difference image with the counterpart pixel separated by 90 pixels in the Y direction was generated. As a result, each pixel on the boundary line has a new value of almost “0” as a difference is obtained with a pixel on another boundary line adjacent to the boundary line as a counterpart pixel. As a result, the boundary line could be erased from the luminance image by binarization. After binarization, defects could be detected with sufficient accuracy from an image obtained by erasing a bright pixel area of 2 pixels or less as noise. It was possible to detect even a minute defect that was only as large as the width of the boundary line.
10 欠陥検出装置
12 パターン化位相差フィルム
14,15 位相差領域
16 光源部
17 カメラ
18,19 偏光板
20 検出ユニット
21 画像処理部
22 欠陥検出部
25 二値化回路
26 収縮処理回路
27 膨張回路
31 差分画像生成回路
41 計数部
As1,As2 遅相軸
P1,P2 偏光透過軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10
Claims (19)
前記パターン化位相差フィルムを挟むようにクロスニコル配置される第1及び第2偏光板と、
前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射する光源部と、 前記第2偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムを撮影して輝度画像を得る撮影装置と、
前記輝度画像から欠陥を検出する欠陥検出部とを備え、
前記第1及び第2偏光板は、いずれか一方の偏光透過軸が前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる状態で、正常な前記第1及び第2位相差領域を撮影装置で撮影した際の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記一方の偏光透過軸の方向が調整されていることを特徴とするパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。 Patterning for detecting defects in a patterned retardation film in which a plurality of stripe-shaped first and second retardation regions, each of which functions as a λ / 4 wavelength plate and whose slow axes are substantially orthogonal to each other, are arranged alternately. In the phase difference film defect detection device,
First and second polarizing plates are crossed Nicols so as to sandwich the patterned retardation film,
A light source unit that irradiates the patterned retardation film with inspection light through the first polarizing plate; a photographing device that obtains a luminance image by photographing the patterned retardation film through the second polarizing plate;
A defect detection unit for detecting defects from the luminance image,
Said first and second polarizers, either in one polarization transmission axes condition to be substantially parallel to one of the optical axes of said first and second retardation region, a normal first and second Patterned retardation film defect characterized in that the direction of the one polarization transmission axis is adjusted so that each luminance when the phase difference region is photographed with a photographing device is the same level near the extinction state Detection device.
前記第1偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間、または前記第2偏光板と前記パターン化位相差フィルムとの間に配され、前記支持体が有する位相差特性を打ち消す位相差補償板を備えることを特徴とする請求項1記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。 In the patterned retardation film, the first and second retardation regions are formed by laminating a retardation layer on a support made of a transparent film,
A retardation compensator arranged between the first polarizing plate and the patterned retardation film or between the second polarizing plate and the patterned retardation film and cancels the retardation characteristic of the support. The defect detection apparatus of the patterned retardation film of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
前記欠陥検出部は、前記欠陥候補領域に対して、隣接する他の前記欠陥候補領域との間の画素数を前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線の並ぶ方向に計数し、計数された画素数が所定値以下の場合に、当該欠陥候補領域を欠陥とすることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。 A binarizing circuit shadows have been the luminance image is binarized with a predetermined threshold value, for each pixel in the dark pixel is lower than or more bright pixels and the threshold threshold shooting, a plurality of light pixels an image processing unit which have a defect candidate extracting circuit for an area defect candidate regions linked is,
The defect detection unit includes a boundary line in the luminance image in which the number of pixels between the defect candidate area and another adjacent defect candidate area corresponds to a boundary between the first and second phase difference areas. 4. The patterned phase difference according to claim 1, wherein when the number of counted pixels is equal to or smaller than a predetermined value, the defect candidate area is defined as a defect. 5. Film defect detection device.
前記欠陥検出部は、前記境界線が消去された輝度画像に基づいて欠陥を検出することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。 An image processing unit that erases a boundary line in the luminance image corresponding to a boundary between the first and second phase difference regions;
4. The defect detection apparatus for a patterned retardation film according to claim 1, wherein the defect detection unit detects a defect based on a luminance image from which the boundary line is deleted. 5.
前記欠陥検出部は、前記膨張処理された前記輝度画像に基づいて欠陥を検出することを特徴とする請求項6記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。 The image processing unit performs an expansion process for expanding a bright pixel area in the same direction as the contraction process on the luminance image subjected to the contraction process, and sets the bright pixel area remaining in the contraction process to a size before the contraction process. An expansion processing circuit to return to
The defect detection device for a patterned retardation film according to claim 6, wherein the defect detection unit detects a defect based on the brightness image subjected to the expansion process.
前記差分画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化回路とを有することを特徴とする請求項5記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。 The image processing unit determines, based on the luminance of the pixel on the luminance image, a pixel separated from the pixel by at least the number of pixels corresponding to the boundary line interval in the direction in which the boundary line is arranged as a counterpart pixel. A difference image generation circuit that generates a difference image in which the boundary line is substantially eliminated by performing difference processing on each pixel on the luminance image by using a value obtained by subtracting the luminance of the partner pixel as a new value of the pixel; ,
6. The binarization circuit comprising: binarizing the difference image with a predetermined threshold value to make each pixel a bright pixel equal to or higher than the threshold value and a dark pixel lower than the threshold value. The defect detection apparatus of the patterned retardation film of description.
前記二値化回路は、前記複数の差分画像のそれぞれを所定のしきい値で二値化して複数の二値化画像を生成し、
前記欠陥検出部は、複数の前記二値化画像に対して欠陥検出を行うことを特徴とする請求項8記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出装置。 The difference image generation circuit generates a difference image in each direction by performing a difference process between the other pixels in different directions on the luminance image,
The binarization circuit binarizes each of the plurality of difference images with a predetermined threshold value to generate a plurality of binarized images,
9. The defect detection apparatus for a patterned retardation film according to claim 8, wherein the defect detection unit performs defect detection on a plurality of the binarized images.
クロスニコル配置にされた第1及び第2偏光板の間に、前記パターン化位相差フィルムを配した状態で、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射したときに、前記第2偏光板を介して撮影される正常な第1及び第2位相差領域の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記第1及び第2偏光板いずれか一方の偏光透過軸の方向を、前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整する調整ステップと、
偏光透過軸の方向が調整された前記第1及び第2偏光板との間に前記パターン化位相差フィルムを配し、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに前記検査光を照射し、前記第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して輝度画像を取得する撮影ステップと、
取得した前記輝度画像に基づいて欠陥を検出する検出ステップとを有することを特徴とするパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。 Patterning for detecting defects in a patterned retardation film in which a plurality of stripe-shaped first and second retardation regions, each of which functions as a λ / 4 wavelength plate and whose slow axes are substantially orthogonal to each other, are arranged alternately. In the method of detecting a defect in the retardation film,
When the patterned retardation film is irradiated with inspection light through the first polarizing plate in a state where the patterned retardation film is arranged between the first and second polarizing plates arranged in a crossed Nicol arrangement. The polarized light of one of the first and second polarizing plates so that the luminances of the normal first and second phase difference regions photographed through the second polarizing plate are at the same level in the vicinity of the extinction state. An adjustment step of adjusting the direction of the transmission axis within a range substantially parallel to the optical axis of one of the first and second phase difference regions;
Disposing the patterned retardation film between the first and second polarizer direction is adjusted in polarization transmission axis, the inspection light on the patterned retardation film through said first polarizer An imaging step of irradiating and capturing a luminance image by imaging a retardation film through the second polarizing plate;
And a detection step of detecting a defect based on the acquired luminance image. A defect detection method for a patterned retardation film, comprising:
複数個の明画素が繋がった領域を欠陥候補領域とする欠陥候補抽出ステップとを有し、
前記検出ステップは、前記欠陥候補領域に対して、隣接する他の前記欠陥候補領域との間の画素数を前記第1及び第2位相差領域の境界に対応した前記輝度画像内の境界線の並ぶ方向に計数し、計数された画素数が所定値以下の場合に、当該欠陥候補領域を欠陥とすることを特徴とする請求項10ないし12のいずれか1項に記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。 Binarizing the captured luminance image with a predetermined threshold value, and making each pixel a bright pixel equal to or higher than the threshold value and a dark pixel lower than the threshold value;
A defect candidate extraction step in which a region where a plurality of bright pixels are connected is used as a defect candidate region,
In the detection step, the number of pixels between the defect candidate area and another adjacent defect candidate area is determined based on the boundary line in the luminance image corresponding to the boundary between the first and second phase difference areas. 13. The patterned retardation film according to claim 10, wherein the defect candidate region is defined as a defect when the number of pixels counted in a line-up direction is equal to or less than a predetermined value. Defect detection method .
前記検出ステップは、前記境界線が消去された輝度画像に基づいて欠陥を検出することを特徴とする請求項10ないし12のいずれか1項に記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。 An erasing step of erasing a boundary line in the luminance image corresponding to a boundary between the first and second phase difference regions;
The defect detection method for a patterned retardation film according to any one of claims 10 to 12, wherein the detection step detects a defect based on a luminance image from which the boundary line is erased.
前記検出ステップは、膨張処理された前記輝度画像に基づいて欠陥を検出することを特徴とする請求項15記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。 The erasing step performs an expansion process for expanding the bright pixel area in the same direction as the contraction process on the luminance image subjected to the contraction process, and returns the area of the bright pixel remaining in the contraction process to the size before the contraction process. Having an expansion process step;
The defect detection method for a patterned retardation film according to claim 15, wherein the detection step detects a defect based on the brightness image that has been subjected to the expansion process.
前記差分画像を所定のしきい値で二値化し、各画素をしきい値以上の明画素としきい値よりも低い暗画素とにする二値化ステップとを有することを特徴とする請求項14記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。 In the erasing step, with respect to a pixel on the luminance image, a pixel separated from the pixel by at least the number of pixels corresponding to the boundary line interval in the direction in which the boundary line is arranged is used as a partner pixel from the luminance of the pixel. A difference image generation step for generating a difference image in which the boundary line is substantially eliminated by performing a difference process for each pixel on the luminance image by subtracting the luminance of the pixel as a new value of the pixel;
15. The binarizing step of binarizing the difference image with a predetermined threshold value to make each pixel a bright pixel that is equal to or higher than the threshold value and a dark pixel that is lower than the threshold value. The defect detection method of the patterned retardation film of description.
前記二値化ステップは、前記複数の差分画像のそれぞれを所定のしきい値で二値化して複数の二値化画像を生成し、
前記検出ステップは、複数の前記二値化画像に対して欠陥検出を行うことを特徴とする請求項17記載のパターン化位相差フィルムの欠陥検出方法。 The difference image generation step generates a difference image in each direction by performing a difference process between the other pixels in different directions on the luminance image,
The binarization step binarizes each of the plurality of difference images with a predetermined threshold value to generate a plurality of binarized images,
The defect detection method for a patterned retardation film according to claim 17, wherein the detection step performs defect detection on a plurality of the binarized images.
偏光透過軸の方向が調整された前記第1及び第2偏光板との間に前記パターン化位相差フィルムを配し、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射し、前記第2偏光板を介して位相差フィルムを撮影して輝度画像を取得する取得ステップと、
取得した前記輝度画像に基づいて欠陥を検出する検出ステップと、
前記取得ステップに先立って実施され、前記第1及び第2偏光板の間に、前記パターン化位相差フィルムを配した状態で、前記第1偏光板を介して前記パターン化位相差フィルムに検査光を照射したときに、前記第2偏光板を介して撮影される正常な第1及び第2位相差領域の各輝度が消光状態近傍で同レベルとなるように、前記第1及び第2偏光板いずれか一方の偏光透過軸の方向を、前記第1及び第2位相差領域のいずれか一方の光学軸とほぼ平行となる範囲で調整する調整ステップとを有することを特徴とするパターン化位相差フィルムの製造方法。 A manufacturing step of manufacturing a patterned retardation film in which a plurality of stripe-shaped first and second retardation regions, each of which functions as a λ / 4 wavelength plate and whose slow axes are substantially orthogonal to each other, are arranged in an alternating manner;
Disposing the patterned retardation film between the first and second polarizer direction is adjusted in polarization transmission axis, irradiating an inspection light to the patterned retardation film through said first polarizer And acquiring the luminance image by photographing the retardation film through the second polarizing plate;
A detection step of detecting a defect based on the acquired luminance image;
Prior to the obtaining step, inspection light is applied to the patterned retardation film via the first polarizing plate in a state where the patterned retardation film is arranged between the first and second polarizing plates. Either of the first and second polarizing plates is such that when irradiated, the respective luminances of the normal first and second retardation regions photographed through the second polarizing plate are at the same level in the vicinity of the extinction state. A patterned retardation film comprising: an adjusting step for adjusting a direction of one polarization transmission axis within a range substantially parallel to one of the optical axes of the first and second retardation regions. Manufacturing method.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011188674A JP5422620B2 (en) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | Defect detection apparatus and method for patterned retardation film, and manufacturing method |
TW101126060A TWI536003B (en) | 2011-08-31 | 2012-07-19 | Apparatus and method of detecting defect for patterned retardation film and method of manufacturing patterned retardation film |
KR1020120083567A KR101965449B1 (en) | 2011-08-31 | 2012-07-31 | Defect detection device and method of patterned retardation film, and fabrication method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011188674A JP5422620B2 (en) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | Defect detection apparatus and method for patterned retardation film, and manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013050393A JP2013050393A (en) | 2013-03-14 |
JP5422620B2 true JP5422620B2 (en) | 2014-02-19 |
Family
ID=48012536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011188674A Active JP5422620B2 (en) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | Defect detection apparatus and method for patterned retardation film, and manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5422620B2 (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6167608B2 (en) * | 2013-03-28 | 2017-07-26 | 大日本印刷株式会社 | Pattern inspection system, pattern inspection method |
JPWO2015033829A1 (en) * | 2013-09-05 | 2017-03-02 | 株式会社サンエー化研 | Masking film and polarizing 3D image display film inspection method using the same |
JP6924002B2 (en) * | 2016-07-22 | 2021-08-25 | 日東電工株式会社 | Inspection equipment and inspection method |
JP7383559B2 (en) * | 2019-05-15 | 2023-11-20 | 住友化学株式会社 | Optical film inspection method and optical film manufacturing method |
KR102676825B1 (en) | 2019-07-16 | 2024-06-19 | 코니카 미놀타 가부시키가이샤 | Method for detecting non-uniform orientation defects and device for detecting non-uniform orientation defects in retardation film |
JP7361587B2 (en) * | 2019-12-16 | 2023-10-16 | 住友化学株式会社 | Inspection method, inspection device, and inspection system |
JP7361586B2 (en) * | 2019-12-16 | 2023-10-16 | 住友化学株式会社 | Inspection method, inspection device, and inspection system |
JP7369609B2 (en) * | 2019-12-16 | 2023-10-26 | 住友化学株式会社 | Inspection method, inspection device, and inspection system |
JP2023171051A (en) * | 2022-05-20 | 2023-12-01 | 住友化学株式会社 | Inspection method |
CN116818786B (en) * | 2023-06-14 | 2024-06-21 | 成都瑞波科材料科技有限公司 | Foreign matter detection device and method for optical film and optical film coating device |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06148095A (en) * | 1992-10-30 | 1994-05-27 | Nippon Steel Chem Co Ltd | Method for detecting transparent defect of film sheets |
JPH1130591A (en) * | 1997-07-11 | 1999-02-02 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Method and device for inspecting film sheet defect |
JP2004198163A (en) * | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Sumitomo Chem Co Ltd | Defect inspection method for protective film adhered polarizing plate |
JP4538344B2 (en) * | 2005-03-01 | 2010-09-08 | 日本分光株式会社 | Axial bearing measuring apparatus and method |
JP2006250721A (en) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Inspection device and inspection method |
JP2006275843A (en) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Nitto Denko Corp | Method of inspecting contamination in insulating film for wiring circuit board |
JP5024935B2 (en) * | 2007-01-16 | 2012-09-12 | 富士フイルム株式会社 | Device and method for detecting defect of light transmitting member |
JP2008267991A (en) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Phase difference film inspecting device, phase difference film inspecting method, and method of manufacturing phase difference film using same |
JP2008298566A (en) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Fujifilm Corp | Apparatus and method for inspecting defect of film |
JP2008298557A (en) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Nippon Zeon Co Ltd | Method and apparatus for inspecting optical film |
JP2009097915A (en) * | 2007-10-15 | 2009-05-07 | Nippon Oil Corp | Inspection method of optical film |
JP2009193014A (en) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Fujifilm Corp | Patterning elliptical polarizer |
JP2009236826A (en) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | Defect detector and defect detection method |
JP5115928B2 (en) * | 2008-05-20 | 2013-01-09 | 王子計測機器株式会社 | Phase difference distribution measuring device |
-
2011
- 2011-08-31 JP JP2011188674A patent/JP5422620B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013050393A (en) | 2013-03-14 |
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