JP5409315B2 - 表示装置 - Google Patents
表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5409315B2 JP5409315B2 JP2009282284A JP2009282284A JP5409315B2 JP 5409315 B2 JP5409315 B2 JP 5409315B2 JP 2009282284 A JP2009282284 A JP 2009282284A JP 2009282284 A JP2009282284 A JP 2009282284A JP 5409315 B2 JP5409315 B2 JP 5409315B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- organic
- organic protective
- forming
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 141
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 7
- 239000002689 soil Substances 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 202
- 230000008569 process Effects 0.000 description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
- H10K59/8723—Vertical spacers, e.g. arranged between the sealing arrangement and the OLED
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
d≧b+2m+c ・・・(1)
cは、有機保護膜10の周囲で、無機保護膜11と有機発光素子よりも下にある無機材料からなる部材とが接するのに必要な幅を表している。式(1)からわかるように、ウェットプロセスの誤差±mを考慮して、額縁領域に必要な最小幅b+cに加えて余分な幅が2m必要となっていることがわかる。
基板と、
前記基板上に複数の発光素子が配置された表示領域と、
少なくとも前記表示領域を覆う有機保護膜と、
前記有機保護膜を覆う無機保護膜と、
を備える表示装置であって、
前記表示領域の外周に沿って、前記表示領域の外周と交差する方向に、複数の溝が設けられた領域と、
前記溝が設けられた領域の外周に溝の設けられていない領域と、
を有することを特徴とする。
基板に複数の発光素子が配置された表示領域を形成する工程と、
前記表示領域の外周に沿って、前記表示領域の辺と交差する方向に、所定位置まで、複数の溝を設ける工程と、
前記表示領域を覆う有機保護膜を形成する工程と、
前記有機保護膜を覆う無機保護膜を形成する工程と、
を有する表示装置の製造方法であって、
前記有機保護膜を形成する工程は、有機保護膜材料を塗布して形成する工程であって、
前記有機保護膜材料の端部を前記溝の上に配置するように塗布する工程と、
前記有機保護膜材料を前記所定位置まで広げる工程と、
を有していることを特徴とする。
最初に、表示領域と額縁領域とに分けて第1の実施形態にかかる表示装置の構成を説明する。
図1(a)は、第1の実施形態にかかる表示装置の角部の平面図であり、解りやすくするために第2有機絶縁膜6までが設けられた状態を示している。図1(b)は、図1(a)のX−X′断面図であり、図1(c)は、図1(a)のY−Y′断面図の一部である。表示領域Aの支持基板1には、表示素子を駆動するための画素回路2が複数設けられている。画素回路2の表面は、無機絶縁膜3と、回路の凹凸を平坦化する第1有機絶縁膜4とに覆われており、その上には画素回路2に対応して複数の画素電極5が設けられている。複数の画素電極5は、それぞれコンタクトホールを介して対応する画素回路2に接続されている。画素電極5の周縁は、第2有機絶縁膜6で覆われる。画素電極5の上であって第2有機絶縁膜6で覆われていない領域には、発光層を含む有機化合物層7が設けられ、画素電極5と接している。有機化合物層7の上には上部電極8が設けられる。画素電極5と、上部電極8と、これらの電極で挟まれた有機化合物層7とを含む、点線で囲まれた構成が、有機発光素子9である。
次に、表示装置の額縁領域O−Sの構成を説明する。図中、符号Oは表示領域Aの端部を示し、Sは支持基板1の端部を示している。Pは溝領域の表示領域側の端部、Rは基板端側の端部を示し、Qは前記PとRとの間の任意の位置を示している。また、図1では省略しているが、額縁領域O−Sには、画素回路2を駆動するための周辺回路や配線等が設けられている。
図2は、本発明にかかる表示装置の第2の実施形態を示す図である。図2(a)は第2の実施形態にかかる表示装置の角部の平面図であり、解りやすくするために第2有機絶縁膜6までが設けられた状態を示している。図2(b)は、図2(a)のX−X′断面図である。第2の実施形態は、第1の実施形態で説明した溝形成領域P−Rの外周に土留め13を設けた構成となっている。土留め13を設けることにより、溝12の端部まで広がった有機保護膜材料が土留めに沿って広がり、均一な端部形状の有機保護膜10を設けることが可能となる。また、有機保護膜材料を堰き止める効果もあるため、比較的粘度の低い有機保護膜材料を用いる場合に好適である。土留め13は、溝12の端部とは繋げず、5〜50μm程度離して設けるのが好ましい。土留め13と溝12の端部との間隔を広げすぎると、土留め13まで有機保護膜材料が到達しない場合が生じてしまう。図2では、溝12および土留め13を第2有機絶縁膜で形成しているが、これに限られるものではない。例えば第1有機絶縁膜4、無機絶縁膜3、電極等、もしくは、これらの材料を複数組み合わせて、溝12や土留め13を形成しても良い。
図3は、本発明にかかる第3の実施形態を説明する図である。図3(a)は第3の実施形態にかかる表示装置の角部の平面図であり、解りやすくするために第2有機絶縁膜6までが設けられた状態を示している。図3(b)は図3(a)のX−X′断面図、図3(c)は図3(a)のY−Y′断面図の一部である。第3の実施形態では、溝形成領域P−Rにも第1有機絶縁膜4を設け、溝12の底面を平坦化している。この構成によれば、額縁領域O−Sに設けられる周辺回路や配線18などによる凹凸が溝12と交差して、有機保護膜材料が溝12に沿って広がる際の妨げとなるのを防止することができる。これにより、溝形成領域P−Rの下にも周辺回路や配線18を設けることができ、より狭額縁とすることが可能となる。
続いて、第1の実施形態にかかる表示装置の製造方法の例を、図1を参照して説明する。
8 発光素子
9 有機保護膜
10 無機保護膜
A 表示領域
Claims (6)
- 複数の発光素子が配置された表示領域を有する基板と、
前記表示領域の基板を覆う有機保護膜と、
前記有機保護膜を覆う無機保護膜と、
を備える表示装置であって、
前記基板は、土留めによって囲まれており、前記基板の面に沿ってかつ前記表示領域を囲む辺と交差する方向に延びる幅5μm以上100μm以下の溝が複数設けられ、前記有機保護膜が前記表示領域から延在して前記土留めまで設けられている領域と、
前記土留めの外周に、前記無機保護膜が前記表示領域から延在して設けられている領域と、
をさらに有することを特徴とする表示装置。 - 前記表示領域と前記土留めとの距離は、前記有機保護膜の端部の傾斜部の幅以上であって、前記有機保護膜の端部の傾斜部が表示領域にかからないことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記溝の端部と土留めとの間隔が、5μm〜50μmであることを特徴とする請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記土留めの外周の最表面は、無機材料で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 回路を備える基板の上に第1有機絶縁膜を形成する工程と、
前記第1有機絶縁膜の上に複数の第1電極を形成する工程と、
前記複数の第1電極のそれぞれに応じた複数の開口を有する第2有機絶縁膜を形成する工程と、
前記複数の開口を覆う有機化合物膜を形成する工程と、
前記有機化合物膜の上に第2電極を形成する工程と、
前記第2電極の上に有機保護膜を形成する工程と、
前記有機保護膜を覆う無機保護膜を形成する工程と、
を有する表示装置の製造方法であって、
前記第1有機絶縁膜を形成する工程、前記第1電極を形成する工程、第2有機絶縁膜を形成する工程のいずれかの工程が、
前記基板の面に沿って、前記複数の開口の最外周の開口と交差する方向に、所定位置まで複数の溝を設ける工程と前記複数の溝の外周に土留めを形成する工程とを含んでおり、
前記有機保護膜を形成する工程は、有機保護膜材料を塗布して形成する工程であって、前記有機保護膜材料の塗布端部が、前記複数の溝の一部にかかるように配置する工程と、前記有機保護膜材料を前記土留めの位置まで広げる工程と、
を有していることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記複数の溝を設ける工程は、フォトリソグラフィによって設けられることを特徴とする請求項5に記載の表示装置の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009282284A JP5409315B2 (ja) | 2009-12-11 | 2009-12-11 | 表示装置 |
CN201010540145.2A CN102097451B (zh) | 2009-12-11 | 2010-11-11 | 显示装置及其制造方法 |
US12/945,626 US8552643B2 (en) | 2009-12-11 | 2010-11-12 | Display apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009282284A JP5409315B2 (ja) | 2009-12-11 | 2009-12-11 | 表示装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011124160A JP2011124160A (ja) | 2011-06-23 |
JP2011124160A5 JP2011124160A5 (ja) | 2013-01-31 |
JP5409315B2 true JP5409315B2 (ja) | 2014-02-05 |
Family
ID=44130436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009282284A Expired - Fee Related JP5409315B2 (ja) | 2009-12-11 | 2009-12-11 | 表示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8552643B2 (ja) |
JP (1) | JP5409315B2 (ja) |
CN (1) | CN102097451B (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101979369B1 (ko) * | 2011-08-02 | 2019-05-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
KR102103421B1 (ko) | 2013-02-07 | 2020-04-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR102117612B1 (ko) | 2013-08-28 | 2020-06-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
KR20150025994A (ko) * | 2013-08-30 | 2015-03-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | Oled 표시 장치 및 그의 제조 방법 |
KR102089335B1 (ko) * | 2013-11-25 | 2020-03-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치와 이의 제조방법 |
KR102235703B1 (ko) * | 2014-02-12 | 2021-04-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
CN104576972A (zh) * | 2014-12-02 | 2015-04-29 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Oled封装方法及oled封装结构 |
KR102439308B1 (ko) * | 2015-10-06 | 2022-09-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
JP6723742B2 (ja) * | 2015-12-28 | 2020-07-15 | 株式会社デンソーテン | 電子装置および電子装置の製造方法 |
KR102465377B1 (ko) | 2016-02-12 | 2022-11-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
JP2017147165A (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
KR102553910B1 (ko) * | 2016-08-31 | 2023-07-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시장치와 그의 검사방법 |
JP2019012099A (ja) * | 2017-06-29 | 2019-01-24 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置及びその製造方法 |
JP2019029303A (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-21 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置および表示装置の製造方法 |
CN110379933B (zh) * | 2019-05-30 | 2021-12-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及显示基板的制备工艺 |
CN110993817B (zh) * | 2019-11-26 | 2020-12-25 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Oled显示面板 |
KR102198966B1 (ko) * | 2020-04-16 | 2021-01-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR102218650B1 (ko) * | 2020-05-26 | 2021-02-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
KR20210003072A (ko) * | 2020-12-29 | 2021-01-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN114094033A (zh) * | 2021-09-07 | 2022-02-25 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | Oled封装方法和oled封装结构 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6683376B2 (en) * | 1997-09-01 | 2004-01-27 | Fanuc Ltd. | Direct bonding of small parts and module of combined small parts without an intermediate layer inbetween |
JP2001222017A (ja) * | 1999-05-24 | 2001-08-17 | Fujitsu Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US6833668B1 (en) * | 1999-09-29 | 2004-12-21 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Electroluminescence display device having a desiccant |
US7019718B2 (en) * | 2000-07-25 | 2006-03-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
JP3951599B2 (ja) * | 2000-12-22 | 2007-08-01 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法及び液晶装置 |
KR100466627B1 (ko) * | 2001-02-27 | 2005-01-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 멀티 디스플레이장치 |
US6933537B2 (en) * | 2001-09-28 | 2005-08-23 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Sealing for OLED devices |
JP4019690B2 (ja) * | 2001-11-02 | 2007-12-12 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 |
US7109653B2 (en) * | 2002-01-15 | 2006-09-19 | Seiko Epson Corporation | Sealing structure with barrier membrane for electronic element, display device, electronic apparatus, and fabrication method for electronic element |
JP4197233B2 (ja) * | 2002-03-20 | 2008-12-17 | 株式会社日立製作所 | 表示装置 |
US7109654B2 (en) * | 2003-03-14 | 2006-09-19 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Electroluminescence device |
SG142140A1 (en) * | 2003-06-27 | 2008-05-28 | Semiconductor Energy Lab | Display device and method of manufacturing thereof |
JP4479381B2 (ja) | 2003-09-24 | 2010-06-09 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 |
KR100635049B1 (ko) * | 2003-11-29 | 2006-10-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전계 발광 표시 장치 |
US7538488B2 (en) * | 2004-02-14 | 2009-05-26 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Flat panel display |
ATE541327T1 (de) * | 2004-10-21 | 2012-01-15 | Lg Display Co Ltd | Organische elektrolumineszente vorrichtung und herstellungsverfahren |
JP4329740B2 (ja) * | 2004-10-22 | 2009-09-09 | セイコーエプソン株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、及び有機エレクトロルミネッセンス装置 |
CN101572253B (zh) * | 2005-01-10 | 2011-10-26 | 清华大学 | 湿敏电子器件的封装外壳、基底及其密封结构 |
US7781965B2 (en) * | 2005-11-28 | 2010-08-24 | Lg Display Co., Ltd. | Glass encapsulation cap, organic electroluminescent device having the same, mother glass substrate for producing multiple glass encapsulation caps, and manufacturing method thereof |
KR100683407B1 (ko) * | 2006-03-13 | 2007-02-22 | 삼성전자주식회사 | 표시장치와 이의 제조방법 |
JP5007598B2 (ja) * | 2007-04-12 | 2012-08-22 | ソニー株式会社 | 表示装置およびその製造方法 |
JP4458379B2 (ja) * | 2007-12-14 | 2010-04-28 | キヤノン株式会社 | 有機el表示装置 |
-
2009
- 2009-12-11 JP JP2009282284A patent/JP5409315B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-11-11 CN CN201010540145.2A patent/CN102097451B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-11-12 US US12/945,626 patent/US8552643B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110141717A1 (en) | 2011-06-16 |
JP2011124160A (ja) | 2011-06-23 |
CN102097451A (zh) | 2011-06-15 |
US8552643B2 (en) | 2013-10-08 |
CN102097451B (zh) | 2013-10-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5409315B2 (ja) | 表示装置 | |
JP5424738B2 (ja) | 表示装置 | |
JP4458379B2 (ja) | 有機el表示装置 | |
US10211416B2 (en) | Flexible display panel, fabrication method, and flexible display apparatus | |
US10707429B2 (en) | Flexible display panel and flexible display apparatus | |
JP5007598B2 (ja) | 表示装置およびその製造方法 | |
US7936122B2 (en) | Organic EL display apparatus | |
JP5361394B2 (ja) | 有機el装置及びその製造方法 | |
KR20150043148A (ko) | 표시장치 | |
JP2008177169A (ja) | 有機エレクトロルミネセンスディスプレイデバイス及びその製造方法 | |
JP2014170686A (ja) | 表示素子の製造方法、表示素子及び表示装置 | |
WO2019127203A1 (zh) | 显示屏及其制作方法,以及显示设备 | |
WO2019085080A1 (zh) | 双面oled显示面板及其制造方法 | |
JP2012134173A (ja) | 表示装置およびその製造方法 | |
JP2009283242A (ja) | 有機el表示装置 | |
JP2012038574A (ja) | 表示装置の製造方法 | |
CN113261105A (zh) | 柔性显示面板及其制造方法 | |
CN111883695A (zh) | 一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置 | |
JP4263474B2 (ja) | 表示装置用素子基板の製造方法及び転写体 | |
WO2023119374A1 (ja) | 表示装置 | |
KR100853539B1 (ko) | 유기전계발광표시장치 | |
KR101337188B1 (ko) | 유기발광다이오드 표시장치의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121211 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121211 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130626 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130702 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130830 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131008 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131105 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5409315 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |