JP5405107B2 - 目視可能な表面仕上げ加工による線が存在しない透明材料製の部材の製造方法、およびそれにより製造される部材 - Google Patents
目視可能な表面仕上げ加工による線が存在しない透明材料製の部材の製造方法、およびそれにより製造される部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5405107B2 JP5405107B2 JP2008517562A JP2008517562A JP5405107B2 JP 5405107 B2 JP5405107 B2 JP 5405107B2 JP 2008517562 A JP2008517562 A JP 2008517562A JP 2008517562 A JP2008517562 A JP 2008517562A JP 5405107 B2 JP5405107 B2 JP 5405107B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- coating
- refractive index
- mask
- mask coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00865—Applying coatings; tinting; colouring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
- Y10T428/24364—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.] with transparent or protective coating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
該基板の表面仕上げ加工は、その表面が徹底的に研磨され、所望の曲率(ジオプター)を有する、眼鏡レンズのような光学部材の作成に導く全ての操作を含む。
ファイニングは、基板の処理された面の形状(geometry)を改善するが、その主目的は、可能な限り小波を除去し、該面の粗さを減らすことである。
ファイニングされた面はまだ非常に粗く、機械的加工のこの段階は、半透明の面(まだ透明ではない)に導く。
最後に、研磨は比較的長い機械的加工ステージであり、最終的に透明な光学部材を得るため、基板の処理された面を改変することなく、可能な限り残存する粗さを除去する。
具体的には、CNC(コンピュータ数値制御)マシーン、例えば、シュナイダー(Schneider)により製造されたもの、は、研削ステージ時にかなりの割合の小波タイプの欠陥の除去を可能にし、ファイニングステージを省略し、研磨ステージを直ちに実施できるような面の特性を得ることができる。
この方法では、表面上に約10Raの厚さを有するコーティングをデポジットさせる。ここでRaは機械加工された面の算術平均粗さである。
この方法は、整形の観点(the cosmetic point of view)から完全な満足は与えるものではなく、全ての表面欠陥を除去することができず、アークランプ下で目視可能な欠陥が残る。
ワニスの層は、公差0.01で、レンズの屈折率と実質的に等しい屈折率を与える。
この文献は、レンズの表面にデポジットさせたワニスの層と、該レンズと、が単一のジオプターを形成するとしている。この文献は、一方では、基板とワニスとの界面で目視可能な真珠光沢(iridescence)が存在せず、他方では、アークランプを用いた透過中(in transmission)に観察可能な欠陥が存在しないので、整形の観点からの要件を満たすとしている。
ワニスの層は機械加工された面に直接デポジットさせ、ファイニングステージおよび研磨ステージが省略される。または、ワニスの層はファイニングステージの後にデポジットさせる。
さらに、少なくとも2つの欠点を有する。
第1に、コーティングに関して推奨される厚さが大きく、そのようなデポジットを制御することは常に困難である。
次に、上述したように、この文献に記載された手法は、基板の屈折率と実質的に同一の屈折率を有するワニスの使用が必要となる。
本発明の第2の目的は、マスクコーティングの屈折率をレンズの基板の屈折率と適合させる必要がなく、屈折率が基板の屈折率とは実質的に異なってよい、表面仕上げ加工による線のためのマスクコーティングを用いた方法を提供することである。
本発明の第3の目的は、光学部材、特にレンズ、にとって要求される全ての特性、すなわち、低黄色指数(low yellow index)、衝撃および磨耗に対する高い耐性、デポジットさせた機能コーティングの良好な接着性、および、長期にわたって良好な耐久性を保持する一方で、目視可能な表面仕上げ加工によるスクラッチが存在しない透明部材、特に眼用レンズ、を得ることを可能にするマスクコーティングを用いた新規の方法を提供することである。
該方法は、屈折率nsを有する透明材料製で、少なくとも1つの主面が0.001〜0.01μmのRa値になるよう研削され、かつ研磨されているが、細い独立したスクラッチ状の目視可能な表面欠陥を該主面が有する基板を得る工程;
前記基板の前記研削され、かつ研磨された主面に、0.01<|n s −n c |≦0.15であり、好ましくは0.05≦|n s −n c |≦0.15である屈折率n c を有し、厚さが10μm未満である、マスクコーティングを重合により形成する、液状で重合性のマスクコーティング組成物を、該組成物の該基板との接触角が30°以下の状態で、直接デポジットする工程;
前記マスクコーティング組成物を重合させる工程;および
前記基板の研削され、かつ研磨された主面が前記マスクコーティングにより直接覆われており、該基板の研削され、かつ研磨された主面には目視可能な細い表面仕上げ加工によるスクラッチが存在しない透明部材を回収する工程を含む。
明細書中に記載の例では、ne(水銀546.1nm)およびnd(ナトリウム589.3nm)(25℃)が測定された。
研磨後の表面の算術平均粗さRaは、干渉顕微鏡(an interferometric microscope)を用いて0.6mm×0.8mmの長方形のエリアで測定した。
これらの線は、図2に部分分数分解法(diagonal form)で与える一般形状の断面を有する。
図2に表される細いスクラッチは、全体が三角形状の断面を有する楔形状で、基板の主面のレベルで開放しており、図2中、頂点Sとして示される鋭いエッジへと基板中を延びる2つの先細の側壁(convergent side wall)を有する。
この細いスクラッチの基板の主面での開口部の幅Lは、例えば、0.5〜4μmであり、これらの細いスクラッチは基板の主面から頂点Sまで、例えば、0.5〜2μmの深さHを有する。
図1に示されるように、および、図2に概略的に示されるように、存在しうる基板の細いスクラッチは、基板の主面からの側壁を有し、該側壁は、該スクラッチのエッジ(頂点Sとして示される)への第2の実質的に平坦な部分へと続く湾曲した表面の第1の部分を含む。
これらの細いスクラッチの長さは、一般に2nm〜3cmであり、多くの場合、3nm〜2cmである。
好ましくは、基板材料は、有機レンズ、すなわち、主成分がホモポリマー若しくはコポリマー、或いはこれらホモポリマーおよびコポリマーの混合物の材料である。
本発明に好適な有機ガラス製の基板として、ポリカーボネート(PC)製の基板、アクリル(メタ)アクリレート類、特に、C1〜C4のアクリル(メタ)アクリレート類、ポリエキシレート化されたビスフェノレートジメタクリレート類のようなポリエキトシレート化された芳香族(メタ)アクリレート類、脂肪族若しくは芳香族の、直鎖状または分岐した、ポリオールアリルカーボネート類のような誘導体、チオ(メタ)アクリレート類(すなわち、少なくとも1つ、好ましくは2つの−SC(O)CH(R)=CH2基を含む化合物。ここでR=HまたはCH3である。)、特にアクリルチオ(メタ)アクリレート類、特にC1〜C4のアクリルチオ(メタ)アクリレート類の重合または共重合により得られる基板、ポリチオウレタンポリマーおよびコポリマー、ポリエピスルフィドポリマーおよびコポリマー、ならびにこれらのポリマー、コポリマーのアロイから得られる基板が挙げられる。
これらのポリ(チオ)イソシアネート類、および、ポリオール化合物またはポリチオール化合物は、国際公開03/040205号パンフレットに具体的に記載されているようなモノマーまたはプレポリマーであってよい。
これらのポリチオールモノマーは式R’(SH)n’で表される。
ここでn’は2〜6の整数、好ましくは3〜4の整数である。R’はn’と等しい原子価を有する有機基である。
そのようなポリオールモノマーは、欧州特許第1−394495号明細書、米国特許第4,775,733号明細書、米国特許第5,087,758号明細書、および米国特許第5,191,055号明細書に記載されている。
そのようなポリオールモノマーとしては、ペンタエリスリトールテトラキス(メルカプトプロピオネート)、1−(1’−メルカプトエチルチオ)−2,3−ジメルカプトプロパン、1−(2’−メルカプトプロピルチオ)−2,3−ジメルカプトプロパン、1−(3’−メルカプトプロピル−チオ)−2,3−ジメルカプトプロパン、1−(4’−メルカプトブチルチオ)−2,3−ジメルカプトプロパン、1−(5’−メルカプトペンチルチオ)−2,3−ジメルカプトプロパン、1−(6’−メルカプトヘキシルチオ)−2,3−ジメルカプトプロパン、1,2−ビス−(4’−メルカプトブチルチオ)−3−メルカプトプロパン、1,2−ビス−(5’−メルカプトペンチルチオ)−3−メルカプトプロパン、1,2−ビス−(6’−メルカプトヘキシル)−3−メルカプトプロパン、1,2,3−トリス−(メルカプトメチルチオ)プロパン、1,2,3−トリス−(3’−メルカプト−プロピルチオ)プロパン、1,2,3−トリス−(2’−メルカプトエチルチオ)プロパン、1,2,3−トリス−(4’−メルカプトブチルチオ)プロパン、1,2,3−トリス−(6’−メルカプトヘキシルチオ)プロパン、メタンジチオール、1,2−エタンジチオール、1,1−プロパンジチオール、1,2−プロパンジチオール、1,3−プロパンジチオール、2,2−プロパンジチオール、1,6−ヘキサンチオール−1,2,3−プロパントリチオール、および、1,2−ビス−(2’−メルカプトエチルチオ)−3−メルカプトプロパンが挙げられる。
そのようなホモポリマーおよびコポリマーは、欧州特許第761,665号明細書、欧州特許785,194号明細書、および、米国特許第6,204,311号明細書に記載れている。
好ましいエピスルフィド基は下記式を有するものである。
好ましくは、基板の主面に対するマスクコーティング組成物の接触角は2〜17°であり、より好ましくは5〜15°である。
好ましくは、マスクコーティングは、1.5〜8μm、好ましくは、2〜5μmの厚さを有する。
好ましくは、マスクコーティング組成物は、(メタ)アクリレート化合物を全く含まない。
本発明によるマスクコーティング組成物に好適な溶媒は、アルコール類、エステル類、ケトン類、テトラヒドロピラン、およびこれらの混合物のような従来の有機溶媒から選択することができる。以下が挙げられる。
‐メタノール(CH3OH、カルロエルバ(Carlo Erba)
‐1−プロパノール(CH3CH2CH2OH、VWRインターナショナル)
‐1−メトキシ−2−プロパノール(CH3CH(OH)CH2OCH3、シグマアルドリッチ)
‐2−メチル−2−ブタノール((CH3)2C(OH)CH2CH3、シグマアルドリッチ)
‐ブトキシエタノール(CH3(CH2)3OCH2CH2OH、シグマアルドリッチ)
‐およびこれらの溶媒の混合物。
好ましくは、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン((CH3)2C(OH)CH2COCH3、VWRインターナショナル)、および、エチレングリコールDOWANOLPM(ダウケミカル)が選択される。
好ましくは、本発明によるマスクコーティング組成物は、1または複数の開始剤、特に組成物のカチオン重合を誘導する開始剤、特に、光カチオン重合を誘導する開始剤を含む。カチオン開始剤の具体例は、芳香族類および芳香族炭化水素の鉄塩錯体(iron arene salts complex)である。好適な光開始剤は、米国特許第3,981,897号明細書、第4,058,401号明細書、4,101,513号明細書、4,138,255号明細書、第4,161,471号明細書、および国際公開94/10230号パンフレットに記載されている。
本発明によるマスクコーティング組成物にとって好適な感光性の芳香族オニウム塩として、アリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート類、ヘキサンアンチモン酸類、トリフェニルセレノニウム、および、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨウ化物が挙げられる。カチオン開始剤は、IRGACURE261およびUVI6971の商標名でチバガイギーから販売されている。好ましいカチオン開始剤は下記構造を有する。
好ましいエポキシアルコキシシラン類は、1つのエポキシ基と、3つのアルコキシ基を含み、後者はケイ素原子に直接結合している。
特に好ましいエポキシアルコキシシラン類は、下記式(I)を有する。
R2はメチル基または水素原子である。
aは1〜6の整数である。
bは0、1または2である。
そのようなエポキシシラン類の具体例は、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランまたはγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランである。
好ましいコロイド類は、SiO2、TiO2、およびこれらの混合物である。好ましい粒子は、以下の酸化物ベースの複合粒子である。
SiO2/TiO2、SiO2/ZrO2、およびSiO2/TiO2/ZrO2
好ましくは、TiO2はルチル結晶構造を有する。
特に好ましいコロイド類は、TiO2がルチル結晶構造を有する、TiO2/ZrO2/SiO2/SnO2の複合物のコロイド類から選択される鉱物コロイドである。
そのようなコロイドは、カタリスツアンドケミカルカンパニー(Catalysts and Chemical Company)から入手できる。
特に推奨される複合粒子は、欧州特許730168号明細書、特開平11−310755号公報、特開2002−04301号公報、特開2002−363442号公報に記載されている。
好ましくは、マスクコーティング組成物は、アナターゼ結晶構造のTiO2を含まず、アナターゼ結晶構造のTiO2、および、TiO2がアナターゼ結晶構造のSiO2/TiO2/ZrO2複合物から選択される鉱物コロイドを含むγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランベースのワニスを形成しない。
特に、鉱物酸化物は、サイズが小さい粒子、すなわち、10〜15nmの粒子と、サイズが大きい粒子、すなわち、30〜80nmの粒子の混合物を含んでもよい。
一般に、本発明によるマスクコーティング組成物は、コロイドを5〜50質量%含むことができる。
プライマー層が存在する場合、光学分野、特に眼用分野で従来使用されるいずれかのプライマー層であってよい。
通常、これらのプライマーコーティング、特に、耐衝撃プライマーコーティングは、(メタ)アクリルポリマー、ポリウレタン、またはポリエステルベースのコーティング、または、エポキシ/(メタ)アクリル共重合体ベースのコーティングである。
(メタ)アクリルポリマーベースの耐衝撃コーティングは、米国特許5,015,523号明細書、第5,619,288号明細書に記載されている。一方、熱可塑性で網目状のポリウレタン樹脂ベースのコーティングは、特開昭63−141001号公報、特開昭63−872223号公報、欧州特許第040411号明細書、米国特許第5,316,791号明細書に記載されている。
特に好ましい耐衝撃プライマーコーティング組成物としては、ゼネカ(Zeneca)によりA−639の名称で販売されるアクリルラテックス、バクセンデン(Baxenden)によりX−240およびW−234の名称で販売されるポリウレタンラテックスが挙げられる。
特に好ましいラテックス類はポリウレタンラテックス類である。
磨耗防止コーティングは、定義上、該磨耗防止コーティングを含まない同じ部材と比較した場合に、仕上げ加工された光学部材の耐磨耗性を改善するコーティングである。
好ましい磨耗防止コーティングは、1または複数のエポキシアルコキシシラン類、またはそれらの加水分解物、二酸化ケイ素、および硬化触媒を含む組成物を硬化することにより得られる。そのような組成物の具体例は、国際公開94/10230号パンフレット、米国特許4,211,823号明細書、第5,015,523号明細書および欧州特許第614957号明細書に記載されている。
このカップリング剤は、通常、エポキシアルコキシシラン、および、不飽和アルコキシシラン、好ましくは、末端エチレン二重結合を含む不飽和アルコキシシランの予め濃縮させた溶液である。
好ましいエポキシアルコキシシランは、(γ−グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン)である。
ビニルシランの具体例は、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリスイソブトキシシラン、ビニルトリ−t−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルビス(トリメチルシロキシ)シランおよびビニルジメトキシシランである。
アリルシラン類の具体例は、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシランおよびアリルトリス(トリメチルシロキシ)シランである。
アクリルシラン類の具体例は、3−アクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルビス(トリメチルシロキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、n−(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランである。
メタアクリルシラン類の具体例は、3−メタクリロキシプロピルトリス(ビニルジメトキシシロキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(トリメチルシシロキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(メトキシエトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、3−メタクリロキシプロペニルトリメトキシシランおよび3−メタクリロキシプロピルビス(トリメチルシロキシ)メチルシランである。
好ましいシランは、アクリロキシプロピルトリメトキシシランである。
反射防止コーティングは、光学分野、特に、眼用光学分野、で従来使用される反射防止コーティングであってよい。
例えば、反射防止コーティングは、SiO、SiO2、Si3N4、TiO2、ZrO2、Al2O3、MgF2若しくはTa2O5、またはそれらの混合物のような誘電材料の単層膜または多層膜を含んでもよい。
この方法により、レンズと空気の界面での反射の出現を防止できる。
随意にイオンビームでアシストされた蒸発(evaporation)による。
イオンビームによる噴霧(atomizing)による。
陽極スパッタリングによる。
プラズマでアシストされた気相化学でデポジションによる。
真空デポジションと同様に、ゾル−ゲルルートにより鉱物層のデポジット(例えば、テトラエトキシシランの加水分解物に基づく)も想定することができる。
3層よりなる多層膜の場合、各層の光学厚さがλ/4、λ/2、λ/4の組み合わせ、またはλ/4、λ/4、λ/4の組み合わせを使用できる。
そのような1/4波長板の光学特性および幾何学的特性は下記式により与えられる。
n=(nc×np)1/2
n.e=λ/4
ここで、nは1/4波長板の25℃での波長λ=550nm(眼の最大感度に対応する波長)に対する屈折率である。
ncはマスクコーティングの25℃での波長λ=550nmに対する屈折率である。
npは1/4波長板と直接接する耐衝撃プライマーコーティングの25℃での波長λ=550nmに対する屈折率である。
言い換えると、1/4波長板の屈折率nは周囲の材料の屈折率の幾何学的平均である。
1/4波長板を形成する干渉縞防止コーティングの層は、好ましくは、一般にSiO2、TiO2、ZrO2、SnO2、Sb2O3、Y2O3、Ta2O5およびそれらの混合物から選択される少なくとも1つの鉱物酸化物コロイドを含む。好ましい鉱物酸化物コロイドは、SiO2、TiO2、ZrO2、ならびに、それらの混合物であるSiO2/TiO2、およびSiO2/ZrO2である。
好ましいコロイダルシリカ類は、ストーバー法(Stober method)により調製されるシリカ類である。ストーバー法は、単純で周知の方法であり、アンモニアゴムを触媒とした、エタノール中でのエチルテトラシリケート(Si(OC2H5)4またはTEOS)の加水分解および凝縮からなる。この方法は、エタノール中に実質的に単分散の粒子群で、粒子サイズおよび(SiO-NH4+)粒子面が調整可能なシリカを直接得ることができる。
特に、鉱物酸化物は、サイズが小さい粒子、すなわち10〜15nmの粒子と、サイズが大きい粒子、すなわち30〜80nmの粒子と、の混合物で構成してもよい。
結合剤は、通常、上述した耐衝撃プライマーコーティング組成物に類似の材料である。
好ましい結合剤は、ポリウレタンラテックス類および(メタ)アクリルラテックス類であり、特にポリウレタンラテックス類である。
結合剤は、干渉縞防止コーティングを形成するため、鉱物酸化物コロイドの組成物に、全て、若しくは、一部、添加することができる。また、直後にデポジットされる耐衝撃プライマーコーティングの材料で1または複数の鉱物酸化物層の孔を充填することにより結合剤を誘導することもできる。
ディップコーティングによりデポジットさせる場合、デポジットされる厚さは該ゾル中の乾燥成分の割合、粒子のサイズ、および、ディウェッティング(dewetting)の速度の関数である(ランドー−レビッチ則(Landau−Levich Law))。したがって、該ゾルの組成、該粒子のサイズ、マスクコーティングの屈折率およびプライマーコーティングの屈折率を知ることにより、鉱物酸化物コロイド層の必要な厚さ、および、必要な厚さを得るために好適なディウェッティング速度を決定することができる。
結合剤を含まない層の場合
ポーラスの鉱物酸化物コロイド層の空隙率pは下記式で表される。
層の空隙率pは、ここでは結合剤が存在しない場合の空隙率と等しい。
空隙率の程度は、下記屈折率および下記式から計算される。
‐nm:(楕円偏光法により測定される)ポーラスの鉱物層の空隙率
‐nox:鉱物酸化物粒子の平均屈折率(複数の酸化物を使用する場合、随意に混合される)
nm 2=p+nox 2(1−p)
ここで、pはポアの体積の割合であり、ポアは空気で満たされていると仮定する。1−pは鉱物酸化物の体積の割合である。
屈折率は25℃で632nmの波長について測定した。
結合剤を含む層の場合
層の空隙率pは下記式で計算される。
(1)nm 2=p+xox 2nox 2+xl 2nl 2
ここで、noxはポーラスの鉱物酸化物層の屈折率であり、pは層の空隙率=Vp/Vtotalであり、xoxは層中の鉱物の体積の割合、xox=Vox/Vtotalであり、xlは層中の結合剤の体積による割合、xl=Vl/Vtotalである。
Vp、Vox、Vl、Vtotalは、それぞれポア(空気)の占める体積、鉱物酸化物の占める体積、結合剤の占める体積、層全体の体積を表す。
noxは鉱物酸化物粒子の屈折率であり、nlは結合剤の屈折率である。
(2)p+xl+xox=1
(3)xl/xox=ml/mox×(dox/dl)
dox=鉱物酸化物の密度
dl=結合剤の密度
ml=層中の結合剤の乾燥質量
mox=層中の鉱物酸化物の乾燥質量
pおよびp’は楕円偏光法によりnを測定することよって得られ、屈折率noxおよびnlは公知であり、比率ml/moxは実験的に決定される。
異なる屈折率は25℃で632nmの波長を用いて測定した。
実施例において、別のやり方で記載しない限りパーセントは全て質量パーセントであり、屈折率は25℃で波長λ=550nmを用いて測定したものである。
半製品の球状の眼用レンズに以下に示す表面仕上げ処理を施した。なお、該レンズはベース(ベース=530/R(mm)、ここで、Rはレンズの曲率半径である)が6.75であり、ミツイ(MITSU)により販売されるMR7材料(ポリチオウレタンベース)製であり、屈折率nD 25が1.660であり、倍率が−6.00ジオプターである。
凹面または凸面の表面仕上げ加工は以下のように実施した。
・シュナイダーHSC100マシーンでの機械加工。仕上げ加工は径2mmの単一の結晶ダイヤモンドツールを用いて、回転速度600rpm以下、前方への移動0.04mm/rev以下、切断深さ0.1mmで実施した。
・シュナイダーCCP101マシーンでの研磨。研磨パッドは織物(in flocked fabric)である。研磨剤はPOLILENS+タイプのアルミナである。仕上げ加工のため、ツールを900pmで回転させた。ピストン内部の気圧は1barを示した。
面仕上げ加工後の眼用レンズの最終的な倍率は、+6.00ジオプター、増加分(addition)3.50ジオプターである。
その後、下記表1に示すように、研削され、研磨されたレンズに異なるコーティングをデポジットさせた。
凹面に面仕上げ加工した際には凹面上に、凸面に面仕上げ加工した際は凸面上に、スピンコーティングによりマスクコーティング組成物をデポジットさせた。
マスクコーティング組成物M1のデポジションのためのスピンコーティング速度は2300rpmであり、得られた厚さは2.3μmである。
マスクコーティング組成物M2のデポジションのためのスピンコーティング速度は2500rpmであり、得られた厚さは2μmである。
マスクコーティングは、LH6フュージョンランプ(バルブD、VまたはH)により硬化させた。
マスクコーティング組成物M1(VVRインターナショナル)は、DGEBF(ビスフェノールFのジグリシジルエーテル)58モル%、DEGBA(ビスフェノールAのジグリシジルエーテル)42モル%からなる組成物であり、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン(CH3)2C(OH)CH2COCH3で50質量%に希釈した。
マスクコーティング組成物M2(VVRインターナショナル)は、DEGBA(ビスフェノールAのジグリシジルエーテル)からなる組成物であり、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン(CH3)2C(OH)CH2COCH3(HMP)で50質量%に希釈した。
DGEBA=ビスフェノール−Aのジグリシジルエーテル
カチオン開始剤**:下記式の混合物。
最終的な屈折率が0.580で厚さが87nmの干渉縞防止層を作製した。
そのような層は、欧州特許出願公開第1362246号明細書の実施例8〜13の操作パラメータにしたがって作製することができる。
マスクコーティングおよび随意に干渉縞防止層を堆積させた後、部材をバクセンデン(BAXENDEN)のポリウレタンラテックスW234を含むプライマーコーティングPに5℃で4分間浸漬させた。部材を取り出した後、プライマーコーティングを80℃で20分間乾燥させ、15分間冷却させた。
組成物Pから生じたプライマーコーティングでコートされたレンズを磨耗防止コーティングHC1の組成物に5℃で4分間浸漬させた。
その後、組成物HC1をベークした。
このようにして、両面にプライマーコーティング層と磨耗防止ハードコーティング層を有する部材が得られた。
磨耗防止コーティングHC1は、以下の手順で調製した。
0.1NのHCl 80.5部を、γ−グリシドキシプロピルトリメチロキシシラン(GLYMO)224部およびジメチルジエトキシシラン(DMDES)120部を含む溶液に滴下した。
溶液は室温で24時間攪拌し、その後、30%コロイダルシリカ(メタノール中)718部、アルミニウムアセチルアセトネート15部およびエチルセロソルブ44部を添加した。少量のテンジオアクティブ剤(tensioactive agent)を添加した。
理論上、組成物HC1の乾燥抽出物は、約13%の加水分解されたDMDESからの固形成分を含む。
組成物HC1の硬化させたコーティングの屈折率は1.49である。
磨耗防止コーティングHC2は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解物およびTiO2/ZrO2/SiO2の混合コロイドをベースとするコーティング組成物の硬化により得られる高屈折率(1.60)コーティングである。
得られた眼用レンズ上の光学欠陥の存在は、後述するプロトコルにより評価した。
ポリスピードタイプ(polispeed type Ferroブランドの研磨液
基板MR7に対するプライマーコーティングPの接触角は42.7°
組成物M2からHMP溶媒(4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン((CH3)2C(OH)CH2COCH3)の濃度が異なる2つの組成物、溶液M3(M2をHMP中70質量%に希釈)、および、溶液M4(M2をHMP中30質量%に希釈)を調製した。これにより屈折率1.67を有する基板に対する組成物の接触角を変えることができる。
第1に、モールドされたバイプレーン(biplane)1.67眼用レンズ上のワニスM3およびM4の接触角を測定した。プロトコルは以下の通り。
使用された装置はGBXインストゥルメンテーションサイエンティフィックにより製造されたDIGIROPである。これは、接触角と濡れ性を自動的に測定する装置である。DIGIROPはカメラ、画像解析および処理システム、ならびに測定プログラムからなる。
ドロップマイクロコントローラは、ビデオコントロールモニタを用いて、正確な体積の液体を簡単にデポジットすることを可能にする。基板は、自動的または手動で液体と接触させられ、表面張力による力以外の外力による影響が排除される。そのようにして濡れ性の現象が明確に識別される。カメラおよびマクロカメラレンズからなるDIGIDROP光学システムは、収差なしにドロップ(drop)の拡大された正確な画像を与える。ソフトウェアは、その後、ドロップのデジタル化された画像を解析して、その幾何学的特長を決定する。固体の表面と、液体の表面への接線と、の間の角度に相当する接触角θは、そのようにして決定することができる。
プライマーコーティングPおよび磨耗防止ワニスHC1をデポジットさせた後、後述するプロトコルにしたがって、レンズの表面欠陥(線、表面に存在するスクラッチ)を透過中に観察した。
透過中の測定装置である測定装置、および、測定の説明図が図3に示される。
測定装置は、光源(5)を含む細長い形状の透明な壁面(4)、および、スリット形状で光源(5)を平行に位置する開口部(6)を有する容器(receptacle)(3)よりなる。
光源(5)は開口部(6)に比べて中心からずれた位置にあり、該開口部(6)の反対側の観察位置から見た観察者(7)からは、光源の全体がほとんど隠れている。
表面の欠陥を検査するためのレンズ(8)は、開口部(6)の反対側で、該光源(5)から約200mmの距離の観察ゾーン(observation zone)(9)に位置し、レンズ(8)の光軸(図示しない)は観察者(7)の見る方向と平行となる。
測定を行う観察者は、各々の眼に10/10のビジョン(vision)を有し、観察者の眼の観察されるレンズから約500mmの位置に置いた。
観察者(7)がビジョンの各領域を見る際、観察者(7)とレンズ(8)を図4に示すセットアップに正確に配置した。
レンズ(8)は、開口部(6)の正面に置き、上述したように配置した。
検査ゾーン(10)は、その上部がレンズ(8)を通して見える光源(5)の端部(11)により縁取りされ、その下部がレンズ(8)を通して見える開口部(6)の下端(12)およびレンズ(8)の端部(13)に縁取りされる。
図4に示すように、検査ゾーン(10)は、レンズ(8)の表面の約1/3を示す。
レンズ(8)は、その光学面全体が検査ゾーン内に見えるように再配置される。
測定を実施する室内の環境光は60〜130ルクスである必要がある。
観察ゾーン(9)内の光は、600〜1200ルクスである必要がある。
レンズ(より一般的には、本発明の透明材料の部材)は、レンズの検査を4〜8秒間実施した際に、上述したような測定条件において、上述したように観察者により欠陥が見えない場合、目視可能な表面仕上げによる欠陥が存在しない、または、目視可能な表面仕上げによる線が存在しないと言うことができる。
本発明の態様は以下であってもよい。
〔1〕目視可能な表面仕上げ加工による線が存在しない透明部材を得る方法であって、該方法は、
屈折率n s を有する透明材料製で、少なくとも1つの主面が0.001〜0.01μmのRa値になるよう研削され、かつ研磨されているが、細い独立したスクラッチ状の目視可能な表面欠陥を該主面が有する基板を得る工程;
前記基板の前記研削され、かつ研磨された主面に、0.01<|n s −n c |≦0.15である屈折率n c を有し、厚さが10μm未満であるマスクコーティングを重合により形成する、液状で重合性のマスクコーティング組成物を、該組成物の該基板との接触角が30°以下の状態で、直接デポジットする工程;
前記マスクコーティング組成物を重合させる工程;および
前記基板の研削され、かつ研磨された主面が前記マスクコーティングにより直接覆われており、該基板の研削され、かつ研磨された主面には目視可能な細い表面仕上げ加工によるスクラッチが存在しない透明部材を回収する工程を含む。
〔2〕前記細い独立したスクラッチが、楔形状の断面を有することを特徴とする〔1〕に記載の方法。
〔3〕前記基板の前記研削され、かつ研磨された主面には、研磨処理の前にファイニングステップ(fining step)を実施されていないことを特徴とする〔1〕または〔2〕に記載の方法。
〔4〕前記細い独立したスクラッチの出現が、規則的な特徴を示さないことを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の方法。
〔5〕前記細い独立したスクラッチが、前記基板の前記主面上に同心状に位置することを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の方法。
〔6〕前記基板の前記主面との前記マスクコーティング組成物の接触角が25°以下であることを特徴とする〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の方法。
〔7〕前記基板の前記主面との前記マスクコーティング組成物の接触角が2°〜17°であることを特徴とする〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の方法。
〔8〕前記マスクコーティング組成物が、1.5〜8μmの厚さを有することを特徴とする〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の方法。
〔9〕前記マスクコーティング組成物が、エポキシ化合物を含むことを特徴とする〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の方法。
〔10〕前記エポキシ化合物が1分子当たり少なくとも2つのエポキシ基を含むことを特徴とする〔9〕に記載の方法。
〔11〕前記エポキシ化合物が、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、アルカノール類のジグリシジルエーテル類およびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする〔10〕に記載の方法。
〔12〕前記エポキシ化合物が、ビスフェノールA若しくはビスフェノールFのジグリシジルエーテル類、ビスフェノールA若しくはビスフェノールFのジグリシジルエーテル類の臭素化物、ブタンジオールのジグリシジルエーテルおよびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする〔11〕に記載の方法。
〔13〕前記マスクコーティング組成物が、(メタ)アクリレート化合物を含有しないことを特徴とする〔1〕〜〔12〕のいずれかに記載の方法。
〔14〕前記マスクコーティング組成物が、光重合性の組成物であることを特徴とする〔1〕〜〔13〕のいずれかに記載の方法。
〔15〕少なくとも1つのカチオン開始剤を含むことを特徴とする〔1〕〜〔14〕のいずれかに記載の方法。
〔16〕前記マスクコーティング組成物を、スピンコーティングまたはディップコーティングによりデポジットさせることを特徴とする〔1〕〜〔15〕のいずれかに記載の方法。
〔17〕さらに、前記マスクコーティングの上面または上方に耐衝撃性プライマーコーティングを形成する工程を含むことを特徴とする〔1〕〜〔16〕のいずれかに記載の方法。
〔18〕前記耐衝撃性プライマーコーティングを形成する工程が、前記マスクコーティングの上面または上方にラテックスをデポジットさせること、および、該ラテックスを少なくとも部分的に硬化させることを含むことを特徴とする〔17〕に記載の方法。
〔19〕前記ラテックスが、(メタ)アクリルラテックス類およびポリウレタンラテックス類から選択されることを特徴とする〔18〕に記載の方法。
〔20〕前記マスクコーティングと、前記耐衝撃性プライマーコーティングと、の間に干渉縞防止コーティングを形成する工程を含む〔17〕〜〔19〕のいずれかに記載の方法。
〔21〕前記干渉縞防止コーティングが、1/4波長板を構成することを特徴とする〔20〕に記載の方法。
〔22〕さらに、耐衝撃性プライマーコーティング上に磨耗防止コーティングを形成する工程を含むことを特徴とする〔17〕〜〔21〕のいずれかに記載の方法。
〔23〕前記基板材料の屈折率n s が1.60以上であることを特徴とする〔1〕〜〔22〕のいずれかに記載の方法。
〔24〕前記基板材料の屈折率n s が1.65以上であることを特徴とする〔1〕〜〔22〕のいずれかに記載の方法。
〔25〕前記基板材料が、ポリチオウレタンのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリエピスルフィド類のホモポリマー若しくはコポリマー、ポリカーボネートのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリチオ(メタ)アクリレート類のホモポリマー若しくはコポリマー、およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする〔23〕または〔24〕に記載の方法。
〔26〕前記基板材料が、少なくとも1つのジイソシアネートと、少なくとも1つのポリチオールと、の重付加により得られるポリチオウレタンベースの材料であることを特徴とする〔25〕に記載の方法。
〔27〕前記ジイソシアネートが、キシリレンジイソシアネート(C 6 H 4 (CH 2 NCO) 2 )であることを特徴とする〔26〕に記載の方法。
〔28〕前記ポリチオールが、トリチオール類およびテトラチオール類から選択されることを特徴とする〔26〕または〔27〕に記載の方法。
〔29〕前記ポリチオールが、下記式を有する化合物から選択される〔28〕に記載の方法。
〔30〕前記キシリレンジイソシアネートとポリチオールとの重付加から得られる前記基板材料が、下記式を有することを特徴とする〔26〕に記載の方法。
〔31〕前記基板材料が、下記式を有するジエピスルフィドの重合または共重合から得られるポリエピスルフィドのホモポリマーまたはコポリマーであることを特徴とする〔25〕に記載の方法。
〔32〕光学レンズを構成することを特徴とする〔1〕〜〔31〕のいずれかに記載の方法。
〔33〕屈折率n s を有し、少なくとも1つの主面が0.001〜0.01μmのRa値を有し、該主面が細い独立したスクラッチ状の目視可能な表面欠陥を有する基板、および、屈折率n c を有し、厚さ10μm未満で前記基板の前記主面を直接覆う透明マスクコーティングを含み、前記n s およびn c が、0.01<|n s −n c |≦0.15の関係を満たす部材。
〔34〕前記n s およびn c が、0.05≦|n s −n c |≦0.15の関係を満たす〔33〕に記載の部材。
〔35〕前記細い独立したスクラッチが、楔形状の断面を有することを特徴とする〔33〕または〔34〕に記載の方法。
〔36〕前記マスクコーティングが、アナターゼ結晶構造を有するTiO 2 およびTiO 2 がアナターゼ結晶構造を有するTiO 2 /ZrO 2 /SiO 2 混合物から選択される鉱物コロイドを含んだγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランベースのワニスを含まないことを特徴とする〔33〕〜〔35〕のいずれかに記載の部材。
〔37〕前記細い独立したスクラッチの出現が、規則的な特徴を示さないことを特徴とする〔33〕〜〔36〕のいずれかに記載の部材。
〔38〕前記細い独立したスクラッチが、前記基板の前記主面上に同心状に位置することを特徴とする〔33〕〜〔36〕のいずれかに記載の部材。
〔39〕前記マスクコーティングが、1.5〜8μmの厚さを有することを特徴とする〔33〕〜〔38〕のいずれかに記載の部材。
〔40〕前記マスクコーティング組成物が、エポキシ化合物を含むことを特徴とする〔33〕〜〔39〕のいずれかに記載の部材。
〔41〕前記エポキシ化合物が1分子当たり少なくとも2つのエポキシ基を含むことを特徴とする〔40〕に記載の部材。
〔42〕前記エポキシ化合物が、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、アルカノール類のジグリシジルエーテル類およびそれらの混合物から選択されることを特徴とする〔41〕に記載の部材。
〔43〕前記エポキシ化合物が、ビスフェノールA若しくはビスフェノールFのジグリシジルエーテル類、ビスフェノールA若しくはビスフェノールFのジグリシジルエーテル類の臭素化物、ブタンジオールのジグリシジルエーテルおよびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする〔42〕に記載の部材。
〔44〕前記マスクコーティング組成物が、(メタ)アクリレート化合物を含有しないことを特
徴とする〔33〕〜〔43〕のいずれかに記載の部材。
〔45〕さらに、前記マスクコーティングの上に耐衝撃性プライマーコーティングを含むことを特徴とする〔33〕〜〔44〕のいずれかに記載の部材。
〔46〕前記耐衝撃性プライマーコーティングが、(メタ)アクリルラテックス類およびポリウレタンラテックス類から選択される硬化ラテックスからなることを特徴とする〔45〕に記載の部材。
〔47〕前記マスクコーティングと、前記耐衝撃性プライマーコーティングと、の間に干渉縞防止コーティングを含むことを特徴とする〔45〕または〔46〕に記載の部材。
〔48〕前記干渉縞防止コーティングが、1/4波長板を構成することを特徴とする〔47〕に記載の部材。
〔49〕前記耐衝撃性プライマーコーティング上に磨耗防止コーティングを含むことを特徴とする〔45〕〜〔48〕のいずれかに記載の方法。
〔50〕前記基板材料の屈折率n s が1.60以上であることを特徴とする〔33〕〜〔49〕のいずれかに記載の部材。
〔51〕前記基板材料の屈折率n s が1.65以上であることを特徴とする〔33〕〜〔49〕のいずれかに記載の部材。
〔52〕前記基板材料が、ポリチオウレタンのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリエピスルフィド類のホモポリマー若しくはコポリマー、ポリカーボネートのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリチオ(メタ)アクリレート類のホモポリマー若しくはコポリマー、およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする〔33〕〜〔51〕のいずれかに記載の部材。
〔53〕光学レンズを構成することを特徴とする〔33〕〜〔52〕のいずれかに記載の部材。
Claims (30)
- 目視可能な表面仕上げ加工による線が存在しない透明部材を得る方法であって、該方法は、
屈折率nsを有する透明材料製で、少なくとも1つの主面が0.001〜0.01μmのRa値になるよう研削され、かつ研磨されているが、0.5〜2μmの深さを有する細い独立したスクラッチ状の目視可能な表面欠陥を該主面が有する基板を得る工程;
前記基板の前記研削され、かつ研磨された主面に、0.01<|ns−nc|≦0.15である屈折率ncを有し、厚さが10μm未満であるマスクコーティングを重合により形成する、液状で重合性のマスクコーティング組成物を、該組成物の該基板との接触角が30°以下の状態で、直接デポジットする工程;
前記マスクコーティング組成物を重合させる工程;および
前記基板の研削され、かつ研磨された主面が前記マスクコーティングにより直接覆われており、該基板の研削され、かつ研磨された主面には目視可能な細い表面仕上げ加工によるスクラッチが存在しない透明部材を回収する工程を含む。 - 前記細い独立したスクラッチが、楔形状の断面を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記基板の前記研削され、かつ研磨された主面には、研磨処理の前にファイニングステップ(fining step)を実施されていないことを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記基板の前記主面との前記マスクコーティング組成物の接触角が25°以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 前記基板の前記主面との前記マスクコーティング組成物の接触角が2°〜17°であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 前記マスクコーティング組成物が、1.5〜8μmの厚さを有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
- 前記マスクコーティング組成物が、エポキシ化合物を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 前記エポキシ化合物が、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、アルカノール類のジグリシジルエーテル類およびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項7に記載の方法。
- 前記マスクコーティング組成物が、(メタ)アクリレート化合物を含有しないことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の方法。
- さらに、前記マスクコーティングの上面または上方に耐衝撃性プライマーコーティングを形成する工程を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の方法。
- 前記マスクコーティングと、前記耐衝撃性プライマーコーティングと、の間に干渉縞防止コーティングを形成する工程を含む請求項10に記載の方法。
- 前記基板の透明材料の屈折率nsが1.60以上であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の方法。
- 前記基板の透明材料の屈折率nsが1.65以上であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の方法。
- 前記基板の透明材料が、ポリチオウレタンのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリエピスルフィド類のホモポリマー若しくはコポリマー、ポリカーボネートのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリチオ(メタ)アクリレート類のホモポリマー若しくはコポリマー、およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項12または13に記載の方法。
- 光学レンズを構成することを特徴とする請求項1〜14のいずれかに記載の方法。
- 屈折率nsを有し、少なくとも1つの主面が0.001〜0.01μmのRa値を有し、該主面が0.5〜2μmの深さを有する細い独立したスクラッチ状の目視可能な表面欠陥を有する基板、および、屈折率ncを有し、厚さ10μm未満で前記基板の前記主面を直接覆う透明マスクコーティングを含み、前記nsおよびncが、0.01<|ns−nc|≦0.15の関係を満たす部材。
- 前記nsおよびncが、0.05≦|ns−nc|≦0.15の関係を満たす請求項16に記載の部材。
- 前記細い独立したスクラッチが、楔形状の断面を有することを特徴とする請求項16または17に記載の部材。
- 前記透明マスクコーティングが、アナターゼ結晶構造を有するTiO2およびTiO2がアナターゼ結晶構造を有するTiO2/ZrO2/SiO2混合物から選択される鉱物コロイドを含んだγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランベースのワニスを含まないことを特徴とする請求項16〜18のいずれかに記載の部材。
- 前記透明マスクコーティングが、1.5〜8μmの厚さを有することを特徴とする請求項16〜19のいずれかに記載の部材。
- 前記透明マスクコーティングが、エポキシ化合物を含む組成物の重合により形成されることを特徴とする請求項16〜20のいずれかに記載の部材。
- 前記エポキシ化合物が、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、アルカノール類のジグリシジルエーテル類およびそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項21に記載の部材。
- 前記透明マスクコーティングが、(メタ)アクリレート化合物を含有しない組成物の重合により形成されることを特徴とする請求項16〜22のいずれかに記載の部材。
- さらに、前記透明マスクコーティングの上に耐衝撃性プライマーコーティングを含むことを特徴とする請求項16〜23のいずれかに記載の部材。
- 前記透明マスクコーティングと、前記耐衝撃性プライマーコーティングと、の間に干渉縞防止コーティングを含むことを特徴とする請求項24に記載の部材。
- 前記耐衝撃性プライマーコーティング上に磨耗防止コーティングを含むことを特徴とする請求項24または25に記載の部材。
- 前記基板の透明材料の屈折率nsが1.60以上であることを特徴とする請求項16〜26のいずれかに記載の部材。
- 前記基板の透明材料の屈折率nsが1.65以上であることを特徴とする請求項16〜26のいずれかに記載の部材。
- 前記基板の透明材料が、ポリチオウレタンのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリエピスルフィド類のホモポリマー若しくはコポリマー、ポリカーボネートのホモポリマー若しくはコポリマー、ポリチオ(メタ)アクリレート類のホモポリマー若しくはコポリマー、およびこれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項16〜28のいずれかに記載の部材。
- 光学レンズを構成することを特徴とする請求項16〜29のいずれかに記載の部材。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0506350 | 2005-06-22 | ||
FR0506350A FR2887488B1 (fr) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | Procede d'obtention d'un article en materiau transparent exempt de raies de surfacage visibles et article obtenu |
PCT/FR2006/050619 WO2006136757A2 (fr) | 2005-06-22 | 2006-06-22 | Procede d'obtention d'un article en materiau transparent exempt de raies de surfacage visibles et article obtenu |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008547053A JP2008547053A (ja) | 2008-12-25 |
JP2008547053A5 JP2008547053A5 (ja) | 2012-02-16 |
JP5405107B2 true JP5405107B2 (ja) | 2014-02-05 |
Family
ID=35781482
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008517562A Expired - Fee Related JP5405107B2 (ja) | 2005-06-22 | 2006-06-22 | 目視可能な表面仕上げ加工による線が存在しない透明材料製の部材の製造方法、およびそれにより製造される部材 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8153193B2 (ja) |
EP (1) | EP1896878B1 (ja) |
JP (1) | JP5405107B2 (ja) |
CN (1) | CN101243335B (ja) |
AU (1) | AU2006260767B2 (ja) |
BR (1) | BRPI0612101B1 (ja) |
CA (1) | CA2612853C (ja) |
FR (1) | FR2887488B1 (ja) |
WO (1) | WO2006136757A2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5148844B2 (ja) * | 2006-06-05 | 2013-02-20 | Hoya株式会社 | 眼鏡レンズの製造方法および眼鏡レンズ |
ATE518622T1 (de) * | 2008-06-26 | 2011-08-15 | Satisloh Ag | Verfahren zur herstellung von brillenlinsen nach rezept |
EP2599844A1 (en) * | 2011-12-02 | 2013-06-05 | PPG Industries Ohio Inc. | Coating composition for a food or beverage can |
FR3006622B1 (fr) | 2013-06-07 | 2015-07-17 | Essilor Int | Procede de fabrication d'une lentille ophtalmique |
FR3008196B1 (fr) | 2013-07-08 | 2016-12-30 | Essilor Int | Procede de fabrication d'au moins une lentille ophtalmique |
FR3014355B1 (fr) | 2013-12-11 | 2016-02-05 | Essilor Int | Procede de fabrication d'une lentille ophtalmique |
JP6304657B2 (ja) * | 2014-06-27 | 2018-04-04 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 乾式研磨法による生体薄片試料の作製方法及び該試料を用いた観察・分析方法 |
EP2963458B1 (en) | 2014-07-05 | 2022-02-02 | Satisloh AG | Lens blank having a temporary grip coating for a method for manufacturing spectacle lenses according to a prescription |
US10086575B2 (en) * | 2015-10-09 | 2018-10-02 | Indizen Optical Technologies of America, LLC | Smoothing of 3D printed lenses |
CN110627981B (zh) * | 2018-06-22 | 2022-01-07 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种光学树脂组合物、光学树脂材料及其制备方法和用途 |
WO2020016620A1 (en) | 2018-07-18 | 2020-01-23 | Essilor International | Optical article with improved antireflective coating, methods for making the same |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4049861A (en) * | 1975-03-07 | 1977-09-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion resistant coatings |
GB2040785B (en) * | 1978-12-28 | 1983-01-26 | Philips Electronic Associated | Producing polymer glass asherical optical elements |
US4417790A (en) * | 1979-05-10 | 1983-11-29 | American Optical Corporation | Finished ophthalmic lens comprising an optical smooth coating over a rough-surfaced base |
US4332861A (en) * | 1980-11-24 | 1982-06-01 | Ppg Industries, Inc. | Plastic surface treatment |
JPS60189701A (ja) * | 1984-03-12 | 1985-09-27 | Hitachi Ltd | プラスチツク製光学レンズ |
US5638479A (en) * | 1988-07-19 | 1997-06-10 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Optical part |
BR9300027A (pt) * | 1992-02-17 | 1993-08-17 | Corning Inc | Lentes compostas e seu processo de fabricacao |
JP2695599B2 (ja) * | 1993-09-29 | 1997-12-24 | ホーヤ株式会社 | ポリウレタンレンズの製造方法 |
US6268055B1 (en) * | 1997-12-08 | 2001-07-31 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photochromic epoxy resin coating composition and articles having such a coating |
JPH11248906A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-09-17 | Hitachi Koki Co Ltd | レンズ及びこれを用いた光学装置 |
FR2805901B1 (fr) * | 2000-03-06 | 2002-05-31 | Essilor Int | Finissage d'une lentille optalmique |
JP2002182011A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Asahi Optical Co Ltd | レンズ製造方法 |
WO2002075373A1 (fr) * | 2001-03-21 | 2002-09-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Couche mince antireflet et dispositif d'affichage d'images |
US6592801B2 (en) * | 2001-04-30 | 2003-07-15 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Photopolymerization of episulfides using metal complexes and its use for making ophthalmic lenses |
FR2834345B1 (fr) * | 2001-12-27 | 2004-03-26 | Essilor Int | Article d'optique comportant une lame quart d'onde et son procede de fabrication |
JP2003315501A (ja) * | 2002-04-22 | 2003-11-06 | Pentax Corp | プラスチックレンズ |
JP2004009420A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Nakajima Kogyo Kk | 低反射転写箔、成型品の製造方法及び成型品 |
DE602004022405D1 (de) * | 2003-05-13 | 2009-09-17 | Essilor Int | Verfahren zur vernetzbaren beschichtung von linsen |
JP4393831B2 (ja) * | 2003-09-22 | 2010-01-06 | Hoya株式会社 | プラスチックレンズの製造方法 |
JP4377208B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2009-12-02 | 三井化学株式会社 | 高屈折率透明樹脂用組成物 |
US20050140033A1 (en) * | 2003-12-31 | 2005-06-30 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Process for making a coated optical article free of visible fining lines |
-
2005
- 2005-06-22 FR FR0506350A patent/FR2887488B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-06-22 WO PCT/FR2006/050619 patent/WO2006136757A2/fr active Application Filing
- 2006-06-22 JP JP2008517562A patent/JP5405107B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-22 AU AU2006260767A patent/AU2006260767B2/en not_active Ceased
- 2006-06-22 CA CA2612853A patent/CA2612853C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-22 CN CN2006800304462A patent/CN101243335B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-22 US US11/993,796 patent/US8153193B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-06-22 BR BRPI0612101-2A patent/BRPI0612101B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2006-06-22 EP EP06778964.4A patent/EP1896878B1/fr not_active Not-in-force
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006136757A2 (fr) | 2006-12-28 |
US8153193B2 (en) | 2012-04-10 |
FR2887488B1 (fr) | 2007-09-21 |
CN101243335A (zh) | 2008-08-13 |
WO2006136757A3 (fr) | 2007-05-31 |
JP2008547053A (ja) | 2008-12-25 |
US20100136290A1 (en) | 2010-06-03 |
BRPI0612101B1 (pt) | 2018-01-02 |
FR2887488A1 (fr) | 2006-12-29 |
AU2006260767B2 (en) | 2011-09-22 |
EP1896878A2 (fr) | 2008-03-12 |
CA2612853A1 (fr) | 2006-12-28 |
CN101243335B (zh) | 2011-02-23 |
CA2612853C (fr) | 2013-08-13 |
EP1896878B1 (fr) | 2017-11-15 |
AU2006260767A1 (en) | 2006-12-28 |
BRPI0612101A2 (pt) | 2012-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5405107B2 (ja) | 目視可能な表面仕上げ加工による線が存在しない透明材料製の部材の製造方法、およびそれにより製造される部材 | |
CN103597377B (zh) | 用于获得具有超级耐磨损特性的光学物品的方法,以及根据这样的方法制备的涂覆物品 | |
JP5120192B2 (ja) | 光学物品 | |
CN106574034B (zh) | 聚合性组合物、成型体及其用途 | |
JP2010091995A (ja) | 光学物品および光学物品の製造方法 | |
KR20210006439A (ko) | 안경 렌즈 | |
EP3845956A1 (en) | Eyeglass lens, method for manufacturing eyeglass lens, and lens coating | |
EP2177942B1 (en) | Process for producing spectacle lens | |
WO2019189764A1 (ja) | 眼鏡レンズの製造方法 | |
JP5889721B2 (ja) | ダイヤモンド微粒子を含有する膜を有する眼鏡用レンズ、及びその製造方法 | |
EP3665515B1 (en) | Optical article comprising a substrate with embedded particles for abrasion and/or scratch resistance enhancement | |
JPH07316250A (ja) | 眼鏡用プラスチックレンズ | |
US20090202706A1 (en) | Method of manufacturing spectacle lens and spectacle lens | |
JP2021009205A (ja) | 眼鏡レンズ | |
JP2008089759A (ja) | レンズおよびその製造方法 | |
JP5276196B2 (ja) | 眼鏡レンズおよびその製造方法 | |
JP2008203596A (ja) | プラスチックレンズの製造方法 | |
CN115380227A (zh) | 水基抗磨损涂层 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090406 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110621 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110921 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110929 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under section 19 (pct) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20111221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120321 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120620 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120628 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130122 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130522 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130529 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130618 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130918 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131015 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131030 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |