JP5389586B2 - 半導体薄膜の結晶性評価方法及び結晶性評価装置 - Google Patents
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Description
d=λ/4n+N(λ/2n) ・・・・・(1)
の関係が成り立つ。ここで、nはガラス基板の屈折率であり、Nは0又は任意の正の整数である。この式(1)を変形することで、
λ=[4n/(1+2N)]d ・・・・・(2)
となる。
11 ガラス基板(基材)
12 p−Si半導体薄膜(半導体薄膜)
14 ステージ(試料台)
14a 載置面(配置面)
15 励起光照射手段
20 マイクロ波照射手段
21 マイクロ波発振器(光源)
22 アンプ(波長調整部)
30 マイクロ波測定手段
51 制御部
51a 第1記憶部
51b 指示部
53 評価部(評価手段)
60 出力手段
R2 信号強度
λ 波長
Claims (6)
- 基材上に成膜された半導体薄膜の結晶性を評価する方法であって、
試料台の配置面に前記基材を前記半導体薄膜の成膜された面と反対側の面が接するように配置する配置工程と、
前記試料台に配置された前記基材上の半導体薄膜にキャリアを励起させるための励起光を照射する励起光照射工程と、
特定の波長をもつマイクロ波を、前記励起光照射工程において前記励起光が照射された範囲を含む前記半導体薄膜の範囲に照射するマイクロ波照射工程と、
前記半導体薄膜からの前記マイクロ波の反射波の強度を測定する測定工程と、
前記マイクロ波照射工程を行う前に予め波長を所定の範囲で変更させながらマイクロ波を前記半導体薄膜に照射することにより前記マイクロ波の波長とこのマイクロ波における反射波の信号強度との関係についての情報を取得する取得工程と、を備え、
前記マイクロ波照射工程では、前記取得工程での情報に基づいて実際に照射するマイクロ波の波長が決定され、
前記マイクロ波照射工程において照射されるマイクロ波は、前記半導体薄膜の表面から当該半導体薄膜の成膜された基材を配置した前記試料台の配置面までの距離の4n/(1+2N)倍(n:基材の屈折率、N:0又は任意の正の整数)の波長λ、又は、当該波長λに近似する波長であってその近似する波長をもつマイクロ波を前記半導体薄膜に照射したときに実際に得られる反射波の前記励起光に起因する強度変化の大きさである信号強度が前記波長λをもつマイクロ波を前記半導体薄膜に照射したときに得られる信号強度に対して90%以上となる程度まで当該波長λに近似した波長、をもつことを特徴とする半導体薄膜の結晶性評価方法。 - 請求項1記載の半導体薄膜の結晶性評価方法において、
前記マイクロ波照射工程では、前記励起光の照射範囲と前記励起光の照射範囲外とにそれぞれ前記測定用マイクロ波を照射し、
前記測定工程は、前記照射範囲からの反射波から前記照射範囲外からの反射波を差し引いた差動信号を導出する差動信号導出工程と、この差動信号導出工程で導出された差動信号の強度を測定する差動信号測定工程とを有することを特徴とする半導体薄膜の結晶性評価方法。 - 基材上に成膜された半導体薄膜の結晶性を評価するための装置であって、
配置面を有し、この配置面に前記基材が配置される試料台と、
前記試料台に配置された基材上の半導体薄膜にキャリアを励起させるための励起光を照射する励起光照射手段と、
前記励起光が照射された範囲を含む前記半導体薄膜の範囲にマイクロ波を照射するマイクロ波照射手段と、
前記半導体薄膜からの前記マイクロ波の反射波の強度を測定するマイクロ波測定手段と、
前記マイクロ波測定手段での測定値に基づいて前記半導体薄膜の結晶性を評価する評価手段と、
前記評価手段で評価された前記半導体薄膜の結晶性の評価を出力する出力手段とを備え、
前記マイクロ波照射手段は、マイクロ波を放射するマイクロ波放射部と、前記マイクロ波放射部から放射されるマイクロ波の波長を変更する波長調整部と、この波長調整部を制御する制御部とを有し、
前記制御部は、前記波長調整部により前記マイクロ波放射部に波長を変更させながらマイクロ波を放射させる第1の指示部と、この放射により得られた前記マイクロ波の波長とこのマイクロ波における半導体薄膜からの反射波の励起光に起因する強度変化の大きさである信号強度との関係を格納する記憶部と、前記記憶部に格納された前記マイクロ波の波長と前記反射波の信号強度との関係に基づき、前記波長調整部により前記マイクロ波放射部に所定の波長のマイクロ波を放射させる第2の指示部とを有することを特徴とする半導体薄膜の結晶性評価装置。 - 請求項3に記載の半導体薄膜の結晶性評価装置において、
前記励起光照射手段は、前記励起光を放射する励起光放射部と、この励起光放射部から放射される励起光を所定の周期で強度変調する変調部とを有し、
前記マイクロ波測定手段は、前記半導体薄膜からの前記マイクロ波の反射波から前記変調部での励起光の強度変調に同期した周期成分を抽出する第1の抽出部と、この第1の抽出部で抽出された周期信号の強度を測定する周期信号測定部とを有することを特徴とする半導体薄膜の結晶性評価装置。 - 請求項3に記載の半導体薄膜の結晶性評価装置において、
前記マイクロ波照射手段は、前記半導体薄膜のうち、前記励起光の照射範囲と前記励起光の照射範囲外とにそれぞれ前記マイクロ波を照射するように構成され、
前記マイクロ波測定手段は、前記照射範囲からのマイクロ波の反射波から前記照射範囲外からのマイクロ波の反射波を差し引いた差動信号を導出する差動信号導出部と、この差動信号導出部で導出された差動信号の強度を測定する差動信号測定部とを有することを特徴とする半導体薄膜の結晶性評価装置。 - 請求項5に記載の半導体薄膜の結晶性評価装置において、
前記励起光照射手段は、前記励起光を放射する励起光放射部と、この励起光放射部から放射される励起光を所定の周期で強度変調する変調部とを有し、
前記マイクロ波照射手段は、前記差動信号導出部で導出された差動信号から前記変調部での励起光の強度変調に同期した周期成分を抽出する第2の抽出部をさらに有し、
前記差動信号測定部は、前記第2の抽出部で前記差動信号から抽出された周期信号の強度を測定することを特徴とする半導体薄膜の結晶性評価装置。
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