JP5379461B2 - マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明における基板の公転とは、基板が定盤の研磨面を基準として相対的に定盤の回転軸を中心に公転していることをいう。また、基板の自転回転数と公転回転数とが等しいとは、例えば、それぞれの単位時間あたりの回転数が等しいことである。単位時間あたりの回転数が等しいとは、それぞれの回転数が実質的に等しいことであってよい。回転数が実質的に等しいとは、例えば、一定のマージン、動作の微調整、誤差等を見込んだ範囲で、それぞれの回転数が等しいことである。
これに対して、基板22の定盤上での相対的な公転速度及び自転速度の設定により、基板22の各位置における相対速度をコントロールし、基板22の位置による研磨量の差を抑えることが可能である。具体的には、基板22の定盤上での相対公転速度(相対公転回転数):自転速度(自転回転数)=1:1となるように調整すると、基板22の位置による研磨量を実質的に均一にすることができる。相対公転速度(相対公転回転数)の調整は、例えば、定盤の回転数を最初に定め、太陽歯車の半径、内歯歯車の半径、キャリアの半径との関係から、定盤の回転数を差し引いたキャリアの公転回転数(定盤の回転方向とキャリアの回転方向がともに同じ方向の場合)とキャリアの自転回転数の比が1:1となるように、太陽歯車と内歯歯車の各回転数を選定するとよい。
ArF露光光用等の光透過型マスクの精密研磨工程や超精密研磨工程に本例を適用する場合において、薄膜を形成する側とは反対側の主表面については、薄膜を形成する側の主表面ほどの平坦度を要しないときには、その反対側の主表面側に研磨面を接する定盤の回転数を本例のように特に制御しなくてもよい。もとより、回転数を制御しない従来の製造方法でもある程度の主表面の平坦度は得られるからである。
(実施例1)
以下の工程により基板22を加工して、実施例1に係るマスクブランク用基板を作製した。
合成石英ガラス基板(152.4mm×152.4mm)の端面を面取加工、及び両面ラッピング装置によって研削加工を終えたガラス基板を、両面研磨装置に10枚セットし、以下の研磨条件で粗研磨工程を行った。10枚セットを10回行い合計100枚のガラス基板の粗研磨工程を行った。尚、加工荷重、研磨時間は適宜調整して行った。
研磨液:酸化セリウム(平均粒径2〜3μm)+水
研磨パッド:硬質ポリシャ(ウレタンパッド)
粗研磨工程後、ガラス基板に付着した研磨砥粒を除去するため、ガラス基板を洗浄槽に浸漬(超音波印加)し、洗浄を行った。
両面研磨装置に10枚セットし、以下の研磨条件で精密研磨工程を行った。10枚セットを10回行い合計100枚のガラス基板の精密研磨工程を行った。尚、加工荷重、研磨時間は適宜調整して行った。
研磨液:酸化セリウム(平均粒径1μm)+水
研磨パッド:軟質ポリシャ(スウェードタイプ)
精密研磨工程後、ガラス基板に付着した研磨砥粒を除去するため、ガラス基板を洗浄槽に浸漬(超音波印加)し、洗浄を行った。
両面研磨装置に10枚セットし、以下の研磨条件で超精密研磨工程を行った。10枚セットを10回行い合計100枚のガラス基板の超精密研磨工程を行った。尚、加工荷重、研磨時間は位相シフトマスクブランクに使用するガラス基板として必要な表面粗さ(所望の表面粗さ:二乗平均平方根粗さRMSで0.2nm以下)となるように適宜調整して行った。但し、超精密研磨工程終了直前(即ち所望の表面粗さが得られる研磨時間が経過した後であって研磨定盤の回転停止直前)のガラス基板に対する加工圧力を144g/cm2、この加工圧力のもとでの研磨時間を90秒とした。
研磨液:アルカリ性(pH10.5程度)コロイダルシリカ(平均粒径30〜200nm)+水
研磨パッド:超軟質ポリシャ(スウェードタイプ)
超精密研磨工程後、ガラス基板に付着した研磨砥粒を除去するため、ガラス基板を、アルカリ水溶液を含む洗浄液が入った洗浄槽に浸漬(超音波印加)し、洗浄を行った。
超精密研磨工程における基板22の相対公転回転数と自転回転数との比が1:0.5となるように、上定盤12、下定盤14、太陽歯車16、及び内歯歯車18の回転数を設定し、基板22の自転回転数と相対公転回転数とを異ならせた以外は実施例1と同様にして、比較例1に係るマスクブランク用基板を作製した。
実施例1及び比較例1に係るマスクブランク用基板に対し、公知の欠陥検査装置を用いて、平坦度及び欠陥の検査を行った。この検査では、例えばhp32世代で要求される精度に基づき、平坦度について、例えば、マスクパターン形成用の薄膜が形成される側の主表面の平坦度が0.5μm以下、その裏面の平坦度が1.0μm以下である場合に合格とした。この平坦度は、例えば、主表面における高さが最大の箇所と最小の箇所との間の高低差である。また、欠陥について、0.3μm以上のサイズの欠陥がない場合を合格とした。
Claims (9)
- 両面研磨装置の上下両定盤の研磨面間にキャリアで保持された基板を挟持し、研磨液を供給しつつ基板の両主表面を研磨する研磨工程を備えるマスクブランク用基板の製造方法であって、
前記研磨工程は、
上下両定盤を同心の回転軸で回転させ、
1枚の基板を保持したキャリアを研磨面上の定盤の回転軸からずらした位置に配置して、研磨面上で基板を定盤の回転軸を中心に相対的に公転させ、
基板主表面の中心を回転軸としてキャリアを上下両定盤と同じ方向に回転させて、基板を研磨面上で自転させ、
基板の自転回転数と公転回転数が等しくなる条件で基板の両主表面を研磨するものであり、
前記上定盤の研磨面には、研磨液の供給穴が複数並ぶ列である供給穴列が複数形成されており、
前記供給穴列の供給穴は、前記上定盤の回転軸側から外側に、かつ上定盤の回転方向の進行側に向かって螺旋状に等間隔で配置されており、
各供給穴列の最も回転軸側の供給穴は、回転軸と同心円上に、かつ円周方向に等間隔で配置されている
ことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。 - 上下両定盤を同一方向に回転させることを特徴とする請求項1記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- キャリアには外周に歯車が設けられており、
両面研磨装置には、
定盤中心部に設けられた空洞に、定盤の回転軸と同心の回転軸で回転する太陽歯車を備えられ、
定盤の外周に、リング状で内側に歯車を有し、定盤の回転軸と同心の回転軸で回転する内歯歯車を備えられており、
太陽歯車と内歯歯車がキャリアの歯車と噛み合うことによってキャリアを回転させる
ことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。 - 上下定盤、太陽歯車および内歯歯車の各回転数を調整することで、基板の自転回転数と公転回転数とが等しくなるように制御する
ことを特徴とする請求項3に記載のマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記研磨工程は、前記基板の主表面に対する最終の研磨を行う超精密研磨工程であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 前記上定盤と下定盤の研磨面には、研磨パッドが貼り付けられており、前記研磨液は、コロイダルシリカ砥粒を含んでいることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 供給穴列の最も外側の供給穴は、当該供給穴列に対して前記上定盤の回転方向側に隣接する別の供給穴列の最も内側の供給穴よりも、前記上定盤の回転方向の進行側にあることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 請求項1から7いずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法で製造したマスクブランク用基板の主表面上に、マスクパターン形成用の薄膜を形成することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
- 請求項8に記載のマスクブランクの製造方法で製造したマスクブランクにおける前記薄膜をパターニングしてマスクパターンを形成することを特徴とするマスクの製造方法。
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