JP5350623B2 - シリコンウエハの熱処理方法 - Google Patents
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このことから、上記のような熱処理によって、表面粗さの低減化が図られることが分かる。
例えば、特許文献2には、面方位(100)の単結晶シリコンウエハを(001)面の垂線〈110〉方向に、0.01〜0.2°の角度に傾斜してスライスし、洗浄処理した後、アルゴン雰囲気中、600〜1300℃で熱処理することにより、ステップ・テラス構造を形成することができることが記載されている。
このように、1100℃以上の高温熱処理によって原子レベルで平坦化されたシリコンウエハの表面について、高温熱処理後の降温段階から炉出しまでの炉内雰囲気をアルゴンガスとすることにより、前記ウエハの表面のステップ・テラス構造を保持したまま、ウエハの表面粗さを従来よりも低減化させることができる。
500℃からシリコンウエハが炉出しされるまでの降温時に、シリコンウエハ表面がアルゴンガスで包み込まれるように保持することにより、シリコンウエハ表面のステップ・テラス構造を崩すことなく、高い平坦度を維持することができる。
このようにすることにより、上記のシリコンウエハの表面の平坦度を維持する効果をより高めることができる。
炉出ししたシリコンウエハの表面をアルゴンガスによって保護する観点から、上記範囲内のガス流速とすることが好ましい。
本発明に係るシリコンウエハの熱処理方法においては、まず、シリコンウエハを、不活性ガス雰囲気の熱処理炉内に装填し、炉内を還元性ガス雰囲気へ置換し、昇温し、1100℃以上で熱処理する。前記高温熱処理工程後、降温し、炉内温度が500℃以上の段階で炉内雰囲気をアルゴンガスとする。そして、シリコンウエハを炉出しするまでアルゴンガスを炉内に導入し続ける。
本発明は、このような熱処理工程を経て、シリコンウエハの表面のステップ・テラス構造を保持し、かつ、3μm×3μm当たりのRmsが0.06nm以下となるようにすることを特徴とするものである。
すなわち、本発明は、このような所定の降温段階における炉内雰囲気の置換が、シリコンウエハの表面粗さを低減化し、より平坦化された表面を安定的に形成する上で効率的な手段であることを見出したことに基づくものである。
このような高温熱処理は、シリコンウエハの表層の結晶欠陥の低減、表面粗さの改善等を図り、ステップ・テラス構造を形成することを目的して行われる処理である。
なお、前記高温熱処理前においては、シリコンウエハを清浄に保つ観点から、シリコンウエハは、不活性ガスの雰囲気内に保持しておくことが好ましい。
還元性ガスとしては、水素、アンモニア等が挙げられ、また、不活性ガスとしては、ヘリウム、ネオン、アルゴン等が挙げられる。これらのガスは、1種または2種以上の混合ガスとして用いることができる。通常は、水素ガスまたはアルゴンガスが用いられる。
アルゴンガスにすることにより、従来の降温時に平坦度が悪化するという問題が解決される。
なお、100%アルゴンガス雰囲気であることが最も好ましいが、熱処理時に他の効果を得る目的で、少量のアルゴンガス以外のガス種を導入してもよい。
前記置換時の温度が500℃未満である場合は、表面の平坦化を図ることが困難である。
したがって、500℃以上の温度で雰囲気をアルゴンガスに置換することが好ましく、これにより、前記高温熱処理により原子レベルで平坦化されたウエハの表面粗さの悪化をより低減させることができる。
前記シリコンウエハをウエハボートに載置している場合には、少なくとも前記ウエハボートのウエハ載置部全体が炉外に出るまで、アルゴンガスを炉内に導入し続けることが好ましい。
このように、500℃からシリコンウエハが炉出しされるまでの降温時に、シリコンウエハ表面がアルゴンガスで包み込まれるように保持することにより、前記高温熱処理時に形成されたシリコンウエハ表面のステップ・テラス構造を崩すことなく、高い平坦度を維持することができる。
アルゴンガスは、他のガスと比べてシリコンウエハにまとわりつきやすく、前記ウエハボートが炉の開口部から出るまで、アルゴンガスを炉内に導入し続けることにより、炉出し後、しばらくの間は、シリコンウエハの表面を覆うように残留する。
このため、前記ウエハボートが完全に炉外に出るまで、アルゴンガスを炉内に導入し続けることにより、炉内から流出するアルゴンガスによって、ウエハボート全体を包囲させることができ、上記のシリコンウエハの表面の平坦度を維持する効果を高めることができる。
このような範囲のガス流速が、炉出ししたシリコンウエハの表面をアルゴンガスによって保護する上で好適である。
前記ガス流速が0.0192m/s未満では、アルゴンガスによるシリコンウエハの表面の十分な保護効果が得られない。
一方、前記ガス流速が0.190m/sを超える場合、ガス流速が大きくなっても、それ以上の効果は認められず、また、発塵を招くおそれがある。
[実施例1]
まず、直径8インチのシリコン(100)結晶インゴットを<100>方向へオフ角0.03°でスライスして得られたシリコンウエハに鏡面加工を施した。
このシリコンウエハをウエハボートに載置し、アルゴンガス雰囲気の熱処理炉内に装填した。700℃で炉内をアルゴンガス雰囲気から水素ガス雰囲気へ置換し、昇温し、1100℃で1時間保持し、熱処理を行った。
その後、降温し、700℃で炉内を水素ガス雰囲気からアルゴンガス雰囲気へ置換した後、さらに降温し、シリコンウエハを炉出しするまで、アルゴンガスを炉内に導入し続けた。
そして、シリコンウエハを載置したウエハボートを炉底部の開口部から炉出しするとき、前記開口部とウエハボートの間におけるアルゴンガスの流速が0.1m/sとなるようにして、シリコンウエハを炉出しした。
参考のため、図9に、上記熱処理工程における雰囲気ガスと温度の状態の流れを示す。
熱処理後のシリコンウエハの表面について、AFMにより3μm×3μm領域の表面の凹凸像および表面粗さRmsを測定した。
図1に、AFM観察によるシリコンウエハの表面凹凸像を示す。
熱処理温度1100℃を1200℃に変えて、それ以外については、実施例1と同様の条件にて、シリコンウエハの熱処理を行った。
熱処理後のシリコンウエハの表面について、AFMにより3μm×3μm領域の表面の凹凸像および表面粗さRmsを測定した。
図2に、AFM観察によるシリコンウエハの表面凹凸像を示す。
熱処理温度1100℃を1000℃に変えて、それ以外については、実施例1と同様の条件にて、シリコンウエハの熱処理を行った。
熱処理後のシリコンウエハの表面について、AFMにより3μm×3μm領域の表面の凹凸像および表面粗さRmsを測定した。
図3に、AFM観察によるシリコンウエハの表面凹凸像を示す。
表面粗さRmsは、熱処理温度が1000℃の場合(比較例1)は0.158nmであるのに対して、1100℃の場合(実施例1)は0.047nm、1200℃の場合(実施例2)は0.049nmであり、1100℃以上の場合に表面粗さが低減することが認められた。
実施例2と同様にして熱処理したシリコンウエハの表面について、AFMにより3μm×3μm領域の表面の凹凸像および表面粗さRmsを測定した。
図4に、AFM観察によるシリコンウエハの表面凹凸像を示す。
なお、実施例2と結果に差異があるのは、単なるウエハの個体差によるものと思われる。
雰囲気を常時アルゴンガスとし、それ以外は実施例3と同様の条件にて、熱処理を行った。 熱処理後のシリコンウエハの表面について、AFMにより3μm×3μm領域の表面の凹凸像および表面粗さRmsを測定した。
図5に、AFM観察によるシリコンウエハの表面凹凸像を示す。
昇温前700℃で炉内を窒素ガス雰囲気から水素ガス雰囲気へ置換して熱処理し、降温後700℃で炉内を水素ガス雰囲気から窒素ガス雰囲気へ置換し、それ以外は実施例3と同様の条件にて、熱処理を行った。
熱処理後のシリコンウエハの表面について、AFMにより3μm×3μm領域の表面の凹凸像および表面粗さRmsを測定した。
図6に、AFM観察によるシリコンウエハの表面凹凸像を示す。
昇温前700℃で炉内を窒素ガス雰囲気からアルゴンガス雰囲気へ置換して熱処理し、降温後700℃で炉内をアルゴンガス雰囲気から窒素ガス雰囲気へ置換し、それ以外は実施例3と同様の条件にて、熱処理を行った。
熱処理後のシリコンウエハの表面について、AFMにより3μm×3μm領域の表面の凹凸像および表面粗さRmsを測定した。
図7に、AFM観察によるシリコンウエハの表面凹凸像を示す。
また、アルゴンガス雰囲気下での熱処理において、置換ガスをアルゴン(常時アルゴン)とした場合(参考例1)、ステップラインは波状となり、窒素とした場合(比較例3)、ステップラインがくし歯状と波状の中間の形状を有するステップ・テラス構造が観察された。
表面粗さRmsは、水素ガス雰囲気下での熱処理において、窒素ガス置換の場合(比較例2)は0.071nm、アルゴンガス置換の場合(実施例3)は0.054nmであり、また、アルゴンガス雰囲気下での熱処理において、窒素ガス置換の場合(比較例3)は0.062nm、アルゴンガス置換(常時アルゴンガス)の場合(参考例1)は0.054nmであった。
ステップ・テラスの形状が置換ガスによって異なることから、表面粗さも異なり、所定温度における置換ガスをアルゴンとすることによって、表面粗さRmsを0.06nm以下に低減することができることが認められた。
なお、降温時における炉内雰囲気を置換する際の温度は、上記の実施例および比較例では、いずれも700℃としたが、500℃とした場合においても、同等の効果が得られることが確認された。
実施例3と同様の条件にて、熱処理を行った後、降温し、700℃で炉内を水素ガス雰囲気からアルゴンガス雰囲気に置換した。
置換完了後、ウエハボートの炉出し時に炉底部の開口部における流出ガス流速を変化させ、各ガス速度で炉出ししたシリコンウエハの表面粗さRmsをそれぞれ測定した。
図10に炉底部の開口部における流出ガス流速とシリコンウエハの表面粗さの関係をグラフで示す。
なお、上述の実施例1〜3で示した表面粗さの値との差異は、単なるウエハの個体差によるものと思われる。
実施例3と同様の条件にて、熱処理を行った後、降温し、700℃で炉内を水素ガス雰囲気から窒素ガス雰囲気へ置換した。
置換完了後、ウエハボートの炉出し時に炉底部の開口部における流出ガス流速を変化させ、各ガス速度で炉出ししたシリコンウエハの表面粗さRmsをそれぞれ測定した。
図10に、炉底部の開口部における流出ガス流速とシリコンウエハの表面粗さの関係を実施例4と併せて、グラフで示す。
Claims (4)
- シリコンウエハの表面にステップ・テラス構造を形成するシリコンウエハの熱処理方法において、シリコンウエハを、不活性ガス雰囲気の熱処理炉内に装填し、炉内を還元性ガス雰囲気へ置換し、昇温し、1100℃以上で熱処理した後、降温し、炉内温度が500℃以上の段階で炉内雰囲気をアルゴンガスとし、シリコンウエハを炉出しするまでの降温時にアルゴンガスを炉内に導入し続けることにより、前記シリコンウエハの表面のステップ・テラス構造を保持し、かつ、3μm×3μm当たりの2乗平均粗さRmsが0.06nm以下となるようにすることを特徴とするシリコンウエハの熱処理方法。
- 少なくとも前記シリコンウエハを載置したウエハボートのウエハ載置部全体が炉外に出るまで、アルゴンガスを炉内に導入し続けることを特徴とする請求項1記載のシリコンウエハの熱処理方法。
- 前記ウエハボートの炉出しの際、該ウエハボート全体が炉内から流出するアルゴンガスによって包囲されていることを特徴とする請求項2記載のシリコンウエハの熱処理方法。
- 前記ウエハボートが炉底部から炉出しされる際、炉底部の開口部から流出するアルゴンガスの流速が0.0192m/s以上0.190m/s以下であることを特徴とする請求項3記載のシリコンウエハの熱処理方法。
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