JP5344806B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5344806B2 JP5344806B2 JP2007247314A JP2007247314A JP5344806B2 JP 5344806 B2 JP5344806 B2 JP 5344806B2 JP 2007247314 A JP2007247314 A JP 2007247314A JP 2007247314 A JP2007247314 A JP 2007247314A JP 5344806 B2 JP5344806 B2 JP 5344806B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- inner peripheral
- glass substrate
- polished
- magnetic disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Description
図1は、磁気ディスク用ガラス基板の研磨装置10の構成を説明するための縦断面図である。かかるガラス基板の研磨装置10は、被研磨体12と、支持部14と、内周研磨部110と、研磨駆動部18とを含んで構成され、被研磨体12の内周端面を研磨する。
また、上記の研磨方法でガラス基板20内周端面の側壁部(T面)22を研磨した後、面取部(面取面)(C面)24を研磨することもできる。かかる面取部24の研磨は、研磨ブラシ42によるブラシ研磨を用いてもよいし、以下に示す研磨方法を用いてもよい。
上記の説明では、内周研磨部110として、研磨布114、つまり、研磨パッドを用い、遊離砥粒である研磨砥粒を用いてガラス基板の内周端面を研磨する構成について説明している。しかしながら、本実施形態は上記に限定されるものではなく、例えば、内周研磨部110の研磨布114の代わりに固定砥粒である研磨砥石を用い、クーラント(冷却液)を内周端面に供給して上記内周端面を研磨してもよい。
次に、ガラス基板に対して化学強化処理を行った後に、上記内周端面の研磨を行う工程について説明する。
本実施形態の内周研磨を行うことで、ガラス基板の内径の真円度、および内径公差を向上させることができる。これにより、より高記録度化が可能な磁気ディスク用ガラス基板を提供することができる。なお、高記録密度化を実現するためには、ガラス基板の内径に関するパラメータを向上させるだけでなく、主表面の粗さを下げる必要がある。具体的には、例えば、磁気ディスク用ガラス基板の表面粗さとしては、原子間力顕微鏡で測定したときの表面粗さ(Ra)が0.2nm以下であることがより好ましく、0.1nm以下であることがさらに好ましい。
本実施例においては、以下の工程を経て、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを製造した。特に、端面研磨工程では、本実施形態による研磨方法が適用されている。
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状の磁気ディスク用ガラス基板を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO2:58〜75重量%、Al2O3:5〜23重量%、Li2O:3〜10重量%、Na2O:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から、円盤状のガラス基板を切り出した。
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
次に、ガラス基板の端面について、上記説明した本実施形態による研磨装置および研磨方法を用いて鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。
本実施例にかかる研磨方法と、従来の研磨方法を用いて、ガラス基板の内周端面における研磨精度および研磨速度についての評価を行った。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨液としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
次に、前述のラッピング工程及び研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を準備し、この化学強化溶液を400°Cに加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を300°Cに予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダーに収納した状態で行った。
次に、磁気ディスク用ガラス基板の精密洗浄を行った。これはヘッドクラッシュやサーマルアスペリティ障害の原因となる研磨剤残渣や外来の鉄系コンタミなどを除去し、表面が平滑で清浄なガラス基板を得るためのものである。精密洗浄工程としては、アルカリ性水溶液による洗浄の後に、水リンス洗浄、IPA洗浄工程を行った。
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
上述した製造方法のうち、端面研磨工程の前に化学強化工程を行った以外は、実施例1と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を製造した。なお、端面研磨工程における内周端面の取りしろは、4μmであり、端面研磨工程後のガラス基板の内径の真円度は、3μmであった。そして、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて上記実施例と同様にして磁気ディスクを製造した。そして、グライドテストを実施したところ、ヒットやクラッシュは認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティによる再生の誤動作は認められなかった。
12 被研磨体
18 研磨駆動部
20 ガラス基板
40 研磨液供給部
110 内周研磨部
112 研磨本体
114 研磨布
150 滑り面
154 錐棒
Claims (20)
- 中心に内孔が形成された円盤状のガラス基板を複数枚積層した円筒状の被研磨体の内周端面を研磨する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の内孔は、前記内周端面を成す側壁部と、該ガラス基板の主表面と該側壁部との間に位置する面取面とが形成されていて、
回転軸を有する内周研磨部の該回転軸の周囲に配置された複数の研磨布を前記被研磨体の内周端面に面接触させて同圧力で圧接させ、
前記被研磨体の内周端面と前記内周研磨部との間に研磨液を供給し、
前記内周研磨部と被研磨体とを、前記回転軸を中心に相対的に回動または該回転軸方向に相対的に移動させることにより前記被研磨体の側壁部を鏡面研磨し、
研磨加工時に、前記被研磨体の内孔中心と前記内周研磨部の前記回転軸とを一致させ、かつ、前記被研磨体の内周端面の50%以上に同時に前記内周研磨部を接触させることを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 中心に内孔が形成された円盤状のガラス基板を複数枚積層した円筒状の被研磨体の内周端面を研磨する内周研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の内孔は、前記内周端面を成す側壁部と、該ガラス基板の主表面と該側壁部との間に位置する面取面とが形成されていて、
回転軸とこの回転軸の周囲に設けられた研磨部を備えた内周研磨部を被研磨体の内孔に挿入し、
前記研磨部を内周研磨部の回転軸と直交する方向に拡張させることで、当該研磨部を内周端面に面接触させて弾性的に押圧し、
前記ガラス基板の内孔の中心と、棒状の内周研磨部の軸とを一致させた状態で、被研磨体および内周研磨部の少なくとも一方を相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の側壁部を鏡面研磨し、
研磨加工時に、前記被研磨体の内周端面の50%以上に同時に前記内周研磨部を接触させることを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記内周研磨部が有する複数の研磨部のそれぞれが、積層された全ての前記ガラス基板の内周端面を同時に研磨できる長さを有することを特徴とする、請求項2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内周研磨部の前記回転軸は、研磨加工時に両端が支持固定されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨部の外形は、前記被研磨体の内周端面に沿った形状であることを特徴とする、請求項1または2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記複数の研磨布は、偶数配されていることを特徴とする、請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内周研磨部は、前記複数の研磨布を前記回転軸の延伸方向に対して直交する方向に移動させることにより、前記被研磨体の内周端面に圧接することを特徴とする、請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内周研磨部の内周縁には回転軸方向に対して傾斜した滑り面が形成され、該滑り面にスライド可能に接触する錐棒を備え、該錐棒のくさび作用により前記研磨布を前記回転軸の延伸方向に対して直交する方向に移動させることを特徴とする、請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 当該磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。
- 中心に内孔が形成された円盤状のガラス基板を複数枚積層した円筒状の被研磨体の内周端面を研磨する磁気ディスク用ガラス基板研磨装置であって、
前記ガラス基板の内孔は、前記内周端面を成す側壁部と、該ガラス基板の主表面と該側壁部との間に位置する面取面とが形成されていて、
回転軸を有し、該回転軸の周囲に複数の研磨布を配置し、該複数の研磨布を前記被研磨体の内周端面に面接触させて同圧力で圧接する内周研磨部と、
研磨液を前記研磨布と前記被研磨体の内周端面との間に供給する研磨液供給部と、
前記内周研磨部と被研磨体とを、回転軸を中心に相対的に回動または回転軸方向に相対的に移動させることにより前記被研磨体の側壁部を鏡面研磨する研磨駆動部と、
を備え、
前記研磨駆動部は、研磨加工時に、前記被研磨体の内孔中心と前記内周研磨部の前記回転軸とを一致させ、かつ、前記被研磨体の内周端面の50%以上に同時に前記内周研磨部を接触させることを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置。 - 前記内周研磨部が有する複数の研磨部は、互いに背向する位置に設けられていることを特徴とする、請求項2〜5のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨部は、研磨布または砥石であることを特徴とする、請求項2〜5、11のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨部は研磨布であり、当該研磨布と前記内周端面との間に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、
前記被研磨体および内周研磨部の少なくとも一方を相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の内周端面を研磨することを特徴とする、請求項12に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨部は砥石であり、当該砥石と前記内周端面との間に冷却液を供給し、
前記被研磨体および内周研磨部の少なくとも一方を相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の内周端面を研磨することを特徴とする、請求項12記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - さらに、前記ガラス基板を化学強化処理液に接触させることにより、前記ガラス基板に含まれる一部のイオンを該化学強化処理液中のイオンとイオン置換することにより、ガラス基板を化学強化する化学強化処理工程を含み、
前記化学強化処理工程の後で内周研磨工程を行い、
前記内周研磨工程では、化学強化処理工程によってガラス基板の内周端面に形成された圧縮応力層の少なくとも一部を残存させるように、ガラス基板の内周端面を研磨することを特徴とする、請求項1〜8、および、11〜14のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記化学強化工程で形成される圧縮応力層の厚みは、50μm以上であることを特徴とする、請求項15に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内周研磨工程における取代は、5μm未満であることを特徴とする、請求項15または16に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記内周研磨工程では、内孔の真円度が5μm以内となるよう研磨することを特徴とする、請求項1〜8、および、11〜17のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- さらに、前記ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程を含み、
前記主表面研磨工程では、主表面を原子間力顕微鏡で測定したときの表面粗さ(Ra)が0.2nm以下となるよう研磨することを特徴とする、請求項1〜8、および、11〜18のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記面取面の全周に亘って同時に当接しうる研磨布を用い、前記面取面の全周に亘って同時に前記研磨布を押圧しつつ、該研磨布とガラス基板とを相対的に移動させることにより面取面のみを研磨する面取面研磨工程をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜8、および、11〜19のいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007247314A JP5344806B2 (ja) | 2006-09-29 | 2007-09-25 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006269723 | 2006-09-29 | ||
JP2006269723 | 2006-09-29 | ||
JP2007247314A JP5344806B2 (ja) | 2006-09-29 | 2007-09-25 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008105171A JP2008105171A (ja) | 2008-05-08 |
JP5344806B2 true JP5344806B2 (ja) | 2013-11-20 |
Family
ID=39438956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007247314A Expired - Fee Related JP5344806B2 (ja) | 2006-09-29 | 2007-09-25 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5344806B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010001843A1 (ja) | 2008-06-30 | 2010-01-07 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク |
WO2010038595A1 (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-08 | コニカミノルタオプト株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP5664470B2 (ja) * | 2010-06-28 | 2015-02-04 | 信越化学工業株式会社 | ナノインプリント用合成石英ガラス基板の製造方法 |
WO2012042906A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
US9595284B2 (en) * | 2013-02-22 | 2017-03-14 | Hoya Corporation | Glass substrate for magnetic disk and magnetic disk |
WO2021200512A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | Hoya株式会社 | 中間体ガラス板の製造方法、磁気ディスク用ガラス板の製造方法、および中間体ガラス板の積層体 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05269654A (ja) * | 1992-03-24 | 1993-10-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 穴内面研磨方法 |
JPH0740210A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 管状物の内孔の研磨工具 |
JPH09309064A (ja) * | 1996-05-24 | 1997-12-02 | Kao Corp | 研磨装置及び研磨方法 |
JPH11349354A (ja) * | 1998-06-08 | 1999-12-21 | Nikon Corp | 情報記録媒体用基板及びその製造方法 |
JP2000128583A (ja) * | 1998-10-22 | 2000-05-09 | Ishizuka Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2006043842A (ja) * | 2004-08-06 | 2006-02-16 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP4214093B2 (ja) * | 2004-08-24 | 2009-01-28 | 花王株式会社 | 研磨液組成物 |
JP2006068870A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-03-16 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 |
JP2006255857A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ガラス管の内面研磨加工機、これを用いた加工方法 |
-
2007
- 2007-09-25 JP JP2007247314A patent/JP5344806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008105171A (ja) | 2008-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2008041493A1 (fr) | Procédé de fabrication d'un substrat en verre pour disque magnétique, procédé de fabrication d'un disque magnétique, et appareil de polissage d'un substrat en verre pour disque magnétique | |
JP4827755B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システム | |
CN100440326C (zh) | 磁盘用玻璃基板以及磁盘 | |
JP5344806B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法 | |
JP2007118172A (ja) | 研磨装置、研磨方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法 | |
JP5294596B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、および磁気ディスク用ガラス基板の研削装置 | |
JP2008080482A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および製造装置、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法、ならびに磁気ディスク | |
JP2007197235A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法。 | |
JP5361185B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5241108B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システム | |
JP4994213B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクおよび磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2009154232A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2007118173A (ja) | 研磨用ブラシ、ブラシ調整用治具、および研磨用ブラシの調整方法 | |
JP5344839B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク製造方法 | |
JP4612600B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 | |
JP3156265U (ja) | 研磨用ブラシ、ブラシ調整用治具、磁気ディスク用ガラス基板、および磁気ディスク | |
JP2007098484A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006263879A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスク用基板の製造装置及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2007111852A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 | |
JP2007090452A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5019999B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法もしくは製造装置、磁気ディスクの製造方法 | |
JP2005293840A (ja) | ガラスディスク基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラスディスク基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2008059728A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法 | |
JP2008192195A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システム | |
JP5701938B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100909 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130528 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130725 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130813 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130813 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5344806 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |