JP2006068870A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006068870A JP2006068870A JP2004257628A JP2004257628A JP2006068870A JP 2006068870 A JP2006068870 A JP 2006068870A JP 2004257628 A JP2004257628 A JP 2004257628A JP 2004257628 A JP2004257628 A JP 2004257628A JP 2006068870 A JP2006068870 A JP 2006068870A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- glass
- disk
- magnetic disk
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】 研磨液を供給し研磨布5,6とガラスディスク7とを相対的に摺動させてガラスディスク7の表面を研磨する研磨工程を含み、研磨布5,6としてガラスディスク7に対する摺接面に研磨液の流路となる溝9が形成されたものを用い、研磨工程の全行程において、研磨布5,6とガラスディスク7との相対的摺動方向を、溝9に交差する方向とする。
【選択図】 図10
Description
研磨液を供給し研磨布とガラスディスクとを相対的に摺動させてガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、研磨布としてガラスディスクに対する摺接面に研磨液の流路となる溝が形成されたものを用いるとともに、研磨工程の全行程において、研磨布とガラスディスクとの相対的摺動方向を、溝に交差する方向とすることを特徴とするものである。
構成1を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨布として円形の研磨布を用い、この研磨布を研磨定盤に貼り付け、この研磨定盤を回転駆動することにより、この研磨布とガラスディスクとを相対的に摺動させて、研磨工程を実行することを特徴とするものである。
構成1、または、構成2を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、中心部に太陽歯車が設けられた研磨定盤と、この研磨定盤の外縁に設けられた内歯車と、外周部に太陽歯車及び内歯車に噛合する歯部を有しガラスディスクを保持する円板状のキャリアとを用いて、研磨布を研磨定盤に貼り付けるとともに、キャリアにガラスディスクを保持させ、このキャリアの外周部の歯部を太陽歯車及び内歯車に噛合させ、太陽歯車及び内歯車の少なくともいずれか一方を回転駆動することにより、この研磨布とキャリアに保持されたガラスディスクとを相対的に摺動させて、研磨工程を実行することを特徴とするものである。
構成1乃至構成3のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法における研磨工程を第1研磨工程として実行した後に、ガラスディスクの表面の鏡面研磨を行う第2研磨工程を実行する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、第2研磨工程においては、第1研磨工程において用いる研磨布に比較して軟質であってガラスディスクに対する摺接面が平坦である研磨布を用いることを特徴とするものである。
磁気ディスクの製造方法であって、構成1乃至構成4のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とするものである。
ガラスディスクの表面に摺接されてこの表面を研磨し磁気ディスク用ガラス基板を製造するために、円形に形成され、または、複数の研磨布片が配置されて円形となされた研磨布であって、ガラスディスクの表面に対する摺接面に複数の溝を有し、これら複数の溝は、これら溝の任意の箇所における溝方向が、この研磨布の中心と該任意の箇所とを結ぶ直線の法線に対して交差していることを特徴とするものである。
ガラスディスクの表面に摺接されてこの表面を研磨し磁気ディスク用ガラス基板を製造するために、複数の研磨布片が配置されて円形となされた研磨布であって、各研磨布片は、ガラスディスクの表面に対する摺接面に格子状に形成された溝を有しており、各溝の溝方向を、この研磨布の周方向に対して交差する方向としていることを特徴とするものである。
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、構成7、または、構成8を有する研磨布と、ガラスディスクとを相対的に摺動させ、このガラスディスクの表面を研磨する工程を含むことを特徴とするものである。
磁気ディスクの製造方法であって、構成8を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とするものである。
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、まず、円板状のガラスディスクを形成する。このガラスディスクは、前述したように、アルミノシリケートガラスからなることが好ましい。このガラスディスクは、例えば、溶融させたガラス母材などから、プレス法などにより、製造する磁気ディスク用ガラス基板1の直径よりもやや大きな直径を有するように形成する。
この工程では、ガラスディスクの形状を整えるとともに、主表面をラッピング加工する。ラッピング加工では、両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラスディスクの寸法精度と形状精度を所定のものとする。
次に、ガラスディスクの内外周の端面部分を研磨し、鏡面加工する。この工程における研磨は、研磨剤を用いて、ブラシ等により行う。この工程において使用する研磨剤に含まれる研磨砥粒としては、ガラスディスクに対して研磨能力を奏する研磨砥粒であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、酸化セリウム(CeO2)砥粒、コロイダルシリカ砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒などを挙げることができ、特に、酸化セリウム研磨砥粒が好ましい。研磨砥粒の粒径については、適宜選択することができるが、例えば、0.5μm乃至3μm程度とすることが好ましい。また、研磨剤は、研磨砥粒を含む研磨剤に、水(純水)などの液体を加え、この研磨剤をスラリーとして用いることが好ましい。
次に、主表面研磨工程として、第1研磨工程を施す。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。この工程は、両面研磨装置と、本発明に係る研磨布(硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド)とを用いて行う。
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を施す。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程は、第1研磨工程と同様に、両面研磨装置と、研磨布(軟質発泡樹脂ポリッシャ)とを用いて行うことができ、また、前述のような遊星歯車機構を用いて行うこともできる。
第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。
次に、前述の研削及び研磨工程を終えたガラスディスクに化学強化を施す。化学強化は、例えば、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400°C程度に加熱し、300°Cに予熱された洗浄済みのガラスディスクを約3時間程度浸漬して行う。この浸漬の際に、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行うことが好ましい。
化学強化処理を終えたガラスディスクを、40°C程度に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行い、さらに、硫酸洗浄を終えたガラスディスクを、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。
このようにして作成された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、この磁気ディスク用ガラス基板の主表面部上に少なくとも磁性層を形成することにより、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリティー障害の防止が図られた磁気ディスクを構成することができる。
溶融させたアルミノシリケートガラスをプレス加工によりディスク状に成型し、ガラスディスクを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO2を57乃至74mol%、ZrO2を0乃至2.8mol%、Al2O3を3乃至15mol%、LiO2を7乃至16mol%、Na2Oを4乃至14mol%を主成分として含有する化学強化用ガラスを使用した。
次に、得られたガラスディスクの主表面をラッピング加工した。ラッピング加工では両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラスディスクの寸法精度と形状精度を所定とする。次いで、砥石を用いて研削することによりガラスディスクの中心部に円孔を形成するとともに、外周側端面及ぴ内周側端面に所定の面取り加工を施した。
まず、ガラスディスクの外周側端面について、ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。次に内周側端面についても、ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。そして、端面部分鏡面研磨を終えたガラスディスクを水洗浄した。
次に、主表面研磨工程として、第1研磨工程を施した。この第1研磨工程においては、前述した研磨布(硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド)を用いて、遊星歯車機構により主表面研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程においては、研磨布(軟質発泡樹脂ポリッシャ)を用いて、遊星歯車機構により主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒に比ぺて微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
次に、前述の研削及び研磨工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400°Cに加熱し、300°Cに予熱された洗浄済みのガラス基板を約3時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
化学強化処理を終えたガラス基板を、約40°Cに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
第1研磨工程において、溝方向が周方向となっている部分を有する溝が形成された円形の研磨布を用いて研磨し、他の工程については前述の実施例1と同様として、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。
実施例1により作成された磁気ディスク用ガラス基板と、比較例1により作成された磁気ディスク用ガラス基板とについて、主面部の形状についてのデータを比較した。主面部の形状としては、表面うねり(Wa)を測定し、比較した。表面うねり(Wa)は、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の所定領域(記録領域となる円環状領域)について、非接触レーザ干渉法によって測定した値から、以下の定義によって算出された値を用いた。
ただし、この定義において、Nは、測定ポイント数であり、Xiは、測定ポイント値、すなわち、測定ポイントにおける基準線から主表面までの高さであり、X ̄は、測定ポイント値の平均値である。
前述の比較例1において作成された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、前述の実施例2と同様の工程により、磁気ディスクを作成した。
実施例2により得られた磁気ディスクについて、異物により磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。また、グライドテストを実施したところ、ヒット(ヘッドが磁気ディスク表面の突起にかすること)やクラッシュ(ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること)は認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティ障害による再生の誤動作は認められなかった。
2 中心孔
3,4 研磨定盤
5,6 研磨布
7 ガラスディスク
8 摺接面
9 溝
10,16 研磨定盤
11 太陽ギヤ
12 内歯ギヤ
13 キャリア
14 歯部
15 透孔部
Claims (9)
- 研磨液を供給し研磨布とガラスディスクとを相対的に摺動させて、前記ガラスディスクの表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨布として、前記ガラスディスクに対する摺接面に、前記研磨液の流路となる溝が形成されたものを用いるとともに、
前記研磨工程の全行程において、前記研磨布とガラスディスクとの相対的摺動方向を、前記溝に交差する方向とすることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨布として、円形の研磨布を用い、この研磨布を研磨定盤に貼り付け、この研磨定盤を回転駆動することにより、この研磨布と前記ガラスディスクとを相対的に摺動させて、前記研磨工程を実行することを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 中心部に太陽歯車が設けられた研磨定盤と、この研磨定盤の外縁に設けられた内歯車と、外周部に前記太陽歯車及び前記内歯車に噛合する歯部を有し前記ガラスディスクを保持する円板状のキャリアとを用いて、
前記研磨布を前記研磨定盤に貼り付けるとともに、前記キャリアに前記ガラスディスクを保持させ、このキャリアの外周部の歯部を前記太陽歯車及び前記内歯車に噛合させ、
前記太陽歯車及び前記内歯車の少なくともいずれか一方を回転駆動することにより、この研磨布と前記キャリアに保持されたガラスディスクとを相対的に摺動させて、前記研磨工程を実行することを特徴とする請求項1、または、請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法における研磨工程を第1研磨工程として実行した後に、前記ガラスディスクの表面の鏡面研磨を行う第2研磨工程を実行する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記第2研磨工程においては、前記第1研磨工程において用いる研磨布に比較して軟質であって前記ガラスディスクに対する摺接面が平坦である研磨布を用いることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
- ガラスディスクの表面に摺接されてこの表面を研磨し磁気ディスク用ガラス基板を製造するために、円形に形成され、または、複数の研磨布片が配置されて円形となされた研磨布であって、
前記ガラスディスクの表面に対する摺接面に複数の溝を有し、
前記複数の溝は、これら溝の任意の箇所における溝方向が、この研磨布の中心と該任意の箇所とを結ぶ直線の法線に対して交差していることを特徴とする研磨布。 - ガラスディスクの表面に摺接されてこの表面を研磨し磁気ディスク用ガラス基板を製造するために、複数の研磨布片が配置されて円形となされた研磨布であって、
前記各研磨布片は、前記ガラスディスクの表面に対する摺接面に格子状に形成された溝を有しており、各溝の溝方向を、この研磨布の周方向に対して交差する方向としていることを特徴とする研磨布。 - 請求項7、または、請求項8記載の研磨布と、前記ガラスディスクとを相対的に摺動させ、このガラスディスクの表面を研磨する工程を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項8記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004257628A JP2006068870A (ja) | 2004-09-03 | 2004-09-03 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004257628A JP2006068870A (ja) | 2004-09-03 | 2004-09-03 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006068870A true JP2006068870A (ja) | 2006-03-16 |
Family
ID=36149999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004257628A Pending JP2006068870A (ja) | 2004-09-03 | 2004-09-03 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006068870A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007111852A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 |
JP2008087099A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
JP2008105171A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-05-08 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法 |
US8408970B2 (en) | 2006-09-29 | 2013-04-02 | Hoya Corporation | Method of manufacturing glass substrate for magnetic disk, method of manufacturing magnetic disk, and polishing apparatus of glass substrate for magnetic disk |
JP2013535350A (ja) * | 2010-08-18 | 2013-09-12 | エルジー・ケム・リミテッド | 研磨システム用研磨パッド |
CN103875036A (zh) * | 2011-07-25 | 2014-06-18 | Hoya玻璃磁盘(泰国)公司 | 制造用于信息记录介质的玻璃衬底的方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09115862A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Hitachi Ltd | 研磨工具と、それを用いた研磨方法および研磨装置 |
JP2002100592A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-04-05 | Rodel Nitta Co | 研磨パッド |
JP2003145412A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-05-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法及び情報記録媒体用ガラス基板 |
JP2004243505A (ja) * | 2003-02-17 | 2004-09-02 | Rodel Nitta Co | 研磨部材 |
-
2004
- 2004-09-03 JP JP2004257628A patent/JP2006068870A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09115862A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Hitachi Ltd | 研磨工具と、それを用いた研磨方法および研磨装置 |
JP2002100592A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-04-05 | Rodel Nitta Co | 研磨パッド |
JP2003145412A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-05-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法及び情報記録媒体用ガラス基板 |
JP2004243505A (ja) * | 2003-02-17 | 2004-09-02 | Rodel Nitta Co | 研磨部材 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007111852A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 |
JP2008087099A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
JP2008105171A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-05-08 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法 |
US8408970B2 (en) | 2006-09-29 | 2013-04-02 | Hoya Corporation | Method of manufacturing glass substrate for magnetic disk, method of manufacturing magnetic disk, and polishing apparatus of glass substrate for magnetic disk |
JP2013535350A (ja) * | 2010-08-18 | 2013-09-12 | エルジー・ケム・リミテッド | 研磨システム用研磨パッド |
CN103875036A (zh) * | 2011-07-25 | 2014-06-18 | Hoya玻璃磁盘(泰国)公司 | 制造用于信息记录介质的玻璃衬底的方法 |
CN103875036B (zh) * | 2011-07-25 | 2016-12-21 | Hoya玻璃磁盘(泰国)公司 | 制造用于信息记录介质的玻璃衬底的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2005093720A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板 | |
JP4790973B2 (ja) | 研磨パッドを使用した情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板 | |
WO2007037302A1 (ja) | 研磨ブラシ、研磨方法、研磨装置及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2007250166A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP4424675B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに、磁気ディスクの製造方法 | |
JP5037975B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006099936A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及びガラス基板用の円柱状ガラス母材 | |
JP2007118172A (ja) | 研磨装置、研磨方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法 | |
JP5311731B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 | |
JP2008080482A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および製造装置、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法、ならびに磁気ディスク | |
JP5361185B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP4808985B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2007122849A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2007090452A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006068870A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨布 | |
JP4994213B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクおよび磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5242015B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP4942305B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006263879A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスク用基板の製造装置及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP4612600B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 | |
JP2006043842A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2005293840A (ja) | ガラスディスク基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラスディスク基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP4347146B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP4771981B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP4484162B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクおよび磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070307 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080929 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081222 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090130 |