JP5323329B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Description
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
図1(a)は、本発明に関わる液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式平面図である。図1(b)は、図1(a)のA−A’線における液晶表示パネルの模式断面図である。
図2(a)は、従来の液晶表示パネルのTFT基板における1つの画素の構成の一例を示す模式平面図である。図2(b)は、図2(a)のB−B’線における液晶表示パネルの模式断面図である。図2(c)は、図2(a)のC−C’線における液晶表示パネルの模式断面図である。図2(d)は、図2(a)のD−D’線における液晶表示パネルの模式断面図である。
なお、図2(b)乃至図2(d)では、偏光板や位相差板は省略している。
図3(a)は、実施例1の液晶表示パネルにおけるTFT基板の一構成例を示す模式平面図である。図3(b)は、実施例1のTFT基板の製造方法のうちの、第1の膜および第2の膜を形成する工程が終了した直後の断面構成を示す模式断面図である。図3(c)は、実施例1のTFT基板の製造方法のうちの、画素電極を形成する工程が終了した直後の模式断面図である。図3(d)は、実施例1のTFT基板の製造方法のうちの、配向膜を形成する工程における第1段階の断面構成を示す模式断面図である。図3(e)は、実施例1のTFT基板の製造方法のうちの、配向膜を形成する工程における第2段階の断面構成を示す模式断面図である。
なお、図3(b)乃至図3(e)は、図3(a)のE−E’線における断面構成を示している。
図5(a)は、実施例1の液晶表示パネルの第2の変形例を示す模式平面図である。図5(b)は、実施例1の液晶表示パネルの第3の変形例を示す模式平面図である。図5(c)は、実施例1の液晶表示パネルの第4の変形例を示す模式平面図である。
図6(a)は、実施例2の液晶表示パネルにおけるTFT基板の一構成例を示す模式平面図である。図6(b)は、図6(a)のF−F’線における断面構成の一例を示す模式断面図である。
図8は、実施例2の液晶表示パネルの第2の変形例を示す模式平面図である。
図9(a)は、縦電界駆動方式の液晶表示パネルにおけるTFT基板の一構成例を示す模式平面図である。図9(b)は、図9(a)のG−G’線における液晶表示パネルの模式断面図である。図9(c)は、図9(a)のH−H’線における液晶表示パネルの模式断面図である。図9(d)は、図9(a)のJ−J’線における液晶表示パネルの模式断面図である。
なお、図9(b)乃至図9(d)では、偏光板や位相差板は省略している。
2…対向基板
3…液晶材料
4…シール材
5A…下偏光板
5B…上偏光板
SUB1…第1の絶縁基板
GL…走査信号線
CL…保持容量線
PAS1…第1の絶縁層
SC…TFT素子の半導体層
DL…映像信号線
SD1…ドレイン電極
SD2…ソース電極
PAS2…第2の絶縁層
PX…画素電極
CT…対向電極
SUB2…第2の絶縁基板
BM…遮光膜
CFR,CFG,CFB…カラーフィルタ
PAS3…平坦化膜
PS…スペーサ
ORI1,ORI2…配向膜
ORI1’…配向膜材料
6…第1の膜
7…第2の膜
8…第3の膜
Claims (8)
- 第1の基板と第2の基板との間に液晶材料を封入した液晶表示パネルを有し、
前記第1の基板は、第1の絶縁基板と、前記第1の絶縁基板の表面上に配置された複数本の走査信号線、複数本の映像信号線、複数個のTFT素子、および複数個の画素電極と、前記第1の絶縁基板の前記走査信号線、前記映像信号線、前記TFT素子、および前記画素電極が配置された面の最上層に設けられた第1の配向膜とを有し、
前記第2の基板は、第2の絶縁基板と、前記第2の絶縁基板の表面上に配置された複数個の概略柱状のスペーサと、前記第2の絶縁基板の前記スペーサが配置された面の最上層に設けられた第2の配向膜とを有する液晶表示装置であって、
前記第1の基板の前記第1の配向膜を配置する面は、前記第2の基板の前記スペーサと対向する位置に、頂上部が概ね平坦な突出した台座を有し、
前記第1の基板の前記台座は、前記第1の配向膜を配置する面からの高さが、前記第2の基板の前記第2の配向膜を配置する面からの前記スペーサの高さよりも低く、かつ、平面で見たときの前記頂上部の外周と前記第1の絶縁基板の前記表面との距離が、当該台座の前記頂上部の外周を1周する間に、1回以上変動することを特徴とする液晶表示装置であって、
前記台座には、絶縁層で挟まれた島状の膜が配置されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第2の基板の前記スペーサは、前記第1の基板の前記走査信号線のうちの、前記映像信号線と交差する領域および前記TFT素子が配置された領域以外の領域と対向する位置に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記島状の膜は、平面で見たときの外周の一部分が、当該島状の膜の中心側に後退していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記島状の膜は、前記映像信号線と同じ材料からなる導電膜であることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の絶縁基板の前記表面のうちの、前記第2の基板の前記スペーサと対向する位置には、前記絶縁層で挟まれた島状の第1の膜および第2の膜が配置されており、
前記第1の膜は、平面で見たときに前記第2の膜と重なる領域および重ならない領域を有し、
前記第2の膜は、平面で見たときに前記第1の膜と重なる領域および重ならない領域を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液晶表示装置。 - 前記第2の膜のうちの、前記第1の膜と重なる領域は、前記第1の絶縁基板からみて前記第1の膜の上に乗り上げていることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の膜は、平面で見たときの外周のうちの、前記第2の膜と重ならない部分の一部分が、当該第1の膜の中心側に後退していることを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置。
- 前記第1の膜は、前記TFT素子の半導体層と同じ材料からなる半導体膜であり、前記第2の膜は、前記映像信号線と同じ材料からなる導電膜であることを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれか1項に記載の液晶表示装置。
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