CN107357088A - 阵列基板、显示面板及液晶显示器 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板、显示面板及液晶显示器。其中，阵列基板上设置有多个薄膜晶体管、铺设在薄膜晶体管上的有机层以及铺设在有机层上的配向膜层；配向膜层的部分区域作为间隔物区域，用于与用于支撑阵列基板和彩膜基板的间隔物接触；有机层对应间隔物区域的第一区域的厚度大于有机层除间隔物区域外的第二区域的厚度，配向膜层的间隔物区域的厚度小于配向膜层除间隔物区域外的非间隔物区域的厚度。通过上述方式，本发明能够减少间隔物与配向膜层之间因摩擦而产生的配向膜层碎屑，进而提高产品的品质。

Description

阵列基板、显示面板及液晶显示器
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种阵列基板、显示面板及液晶显示器。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)是由阵列基板和彩膜基板组成，TFT-LCD在日常生活中已经很普及，如电视、电脑、手机等显示屏，该领域技术不断更新以更好的服务消费者。因而，随着TFT-LCD产品的不断革新，对TFT-LCD产品提出了更高的品质要求。
而当下的TFT-LCD行业中，作为支撑隔离阵列基板和彩膜基板的隔离物(PhotoSpacer，PS)经常会与阵列基板上的铺设的配向膜层(PI膜层)发生摩擦，进而产生PI碎屑。而PI碎屑不但会影响TFT-LCD产品的品质，还会因此影响TFT-LCD产品的透光率。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种阵列基板、显示面板及液晶显示器，能够减少间隔物与配向膜层之间因摩擦而产生的配向膜层碎屑，进而提高了产品的品质。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种阵列基板，阵列基板上设置有多个薄膜晶体管、铺设在薄膜晶体管上的有机层以及铺设在有机层上的配向膜层；配向膜层的部分区域作为间隔物区域，用于与用于支撑阵列基板和彩膜基板的间隔物接触；有机层对应间隔物区域的第一区域的厚度大于有机层除第一区域外的第二区域的厚度，配向膜层的间隔物区域的厚度小于配向膜层除间隔物区域外的非间隔物区域的厚度。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种显示面板，包括：上述的阵列基板、与阵列基板相对设置的彩膜基板以及设置于阵列基板与彩膜基板之间的间隔物；其中，间隔物用于支撑阵列基板和彩膜基板。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种液晶显示器，包括上述的显示面板、用于驱动显示面板的驱动电路以及用于向显示面板提供背光源的背光模组。
上述方案中，阵列基板上设置有多个薄膜晶体管、铺设在薄膜晶体管上的有机层以及铺设在有机层上的配向膜层；配向膜层的部分区域作为间隔物区域，用于与用于支撑阵列基板和彩膜基板的间隔物接触；有机层对应间隔物区域的第一区域的厚度大于有机层除第一区域外的第二区域的厚度，配向膜层的间隔物区域的厚度小于配向膜层除间隔物区域外的非间隔物区域的厚度，减小了配向膜层与隔离物的接触区域的厚度，进而减少了间隔物与配向膜层之间因摩擦而产生的配向膜层碎屑，进而提高了产品的品质。
附图说明
图1是本发明一种阵列基板一实施方式的结构示意图；
图2是本发明一种阵列基板另一实施方式的结构示意图；
图3是本发明一种显示面板一实施方式的结构示意图；
图4是本发明一种显示面板另一实施方式的结构示意图；
图5是本发明一种显示面板其中一实施方式的部分立体结构示意图；
图6是本发明一种液晶显示器一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合具体实施方式与附图对本发明做详细的说明。
请参阅图1，图1是本发明一种阵列基板一实施方式的结构示意图。如图1所示，本实施方式中的阵列基板10包括：衬底11、TFT(Thin Film Transisto，薄膜场效应晶体管)12、有机层14以及配向膜层15。其中，有机层14覆盖于玻璃基板11及TFT 12上，配向膜层15铺设在有机层14上。可以理解的是，有机层14未必直接覆盖在TFT表面上，在其他实施例中，有机层14与TFT14之间还可设置有至少一层其他功能层，例如绝缘层和其他有机层等。且，该有机层14为最接近该配向膜层15的一层，具体可为平坦层(PLN)等有机材料形成的膜层。另外，衬底11可以是玻璃基板，也可以是其他材质的透明基板。
具体地，配向膜层15区域分为间隔物区域Ⅰ和非间隔物区域Ⅱ，其中，间隔物区域Ⅰ用于与用于支撑阵列基板和彩膜基板的间隔物(Photo Spacer，PS)接触，非间隔物区域Ⅱ则不与间隔物接触。相应地，有机层14也划分第一区域1和第二区域2，其中，有机层14的第一区域1对应配向膜层15的间隔物区域Ⅰ设置，有机层14的第二区域2对应配向膜层15的非间隔物区域Ⅱ设置。
有机层14的第一区域1的厚度大于有机层14的第二区域2的厚度，配向膜层15的间隔物区域Ⅰ的厚度小于配向膜层15的非间隔物区域Ⅱ的厚度。如图1所示，第一区域1的厚度h11大于第二区域2的厚度h12，也即是，h11＞h12。在具体实施方式中，第一区域1与第二区域2的厚度差Δh1(Δh1＝h11-h12)的范围可以为大于或等于10纳米，且小于或等于100纳米。
在本实施方式中，配向膜层的间隔物区域的厚度设置为小于配向膜层的非间隔物区域的厚度(也即，配向膜层的正常厚度)，可以使得间隔物设置于间隔物区域时，由于该间隔物区域的配向膜层薄，导致间隔物与配向膜层摩擦所产生的取向膜碎屑减少，进而可以提高产品的品质。
为尽可能减少间隔物与配向膜层摩擦所产生的取向膜碎屑，可将配向膜层的间隔物区域的厚度设置为尽量薄。请参阅图2，图2是本发明阵列基板另一实施方式的结构示意图。本实施例的阵列基板与图1所示的上述阵列基板结构基本相同，且区别点在于：位于间隔物区域Ⅰ的配向膜层25的厚度h21大于位于第二区域2的有机层24与位于非间隔物区域Ⅱ的配向膜层25的厚度之和h22，也即是h21＞h22，而且h21与h22的差值Δh2的范围可以是小于或等于0.5微米，且大于或等于0.1微米。例如，h21与h22的差值Δh2为0.3微米。
由于在实际的工艺中，配向膜层25是经过涂布机涂布在有机层25上的，而且在涂覆配向膜层25时，取向膜为液态的。为了使位于间隔物区域的配向膜层25尽量薄，可将有机层24对应的间隔物区域的第一区域1的厚度设置为高于配向膜层25的非间隔物区域及其对应的有机层24的第二区域2的厚度之和，即该有机层24的第一区域形成凸起，使得在涂覆取向膜后，由于取向膜向低处流动的属性，导致有机层24的第一区域上的配向膜层15形成很薄，进而可以更好的使间隔物与配向膜层15摩擦所产生的取向膜碎屑尽量的少，并达到提高产品的品质的目的。
请参阅图3，图3是本发明一种显示面板一实施方式的结构示意图。如图3所示，本实施方式中的显示面板30包括阵列基板31、间隔物32以及彩膜基板33。其中，阵列基板31为上述实施方式中的阵列基板10，间隔物32设置在阵列基板31与彩膜基板33之间，用于支撑阵列基板31与彩膜基板33。具体地，间隔物42的高度可设置为小于或等于7微米，且大于或等于3微米。彩膜基板33包括有机平坦层331、色阻层332以及黑色矩阵333。其中，有机平坦层331铺设在色阻层332上，色阻层332中包括不同颜色的色阻，色阻用黑色矩阵333彼此隔开。具体地，色阻层332中包含的色阻颜色可以是红色、绿色、蓝色、白色、黄色等。其中，间隔物32的一端接触在阵列基板31的配向膜层15的间隔物区域Ⅰ上，另一端对应于彩膜基板33的黑色矩阵333设置。由于配向膜层15的间隔物区域Ⅰ的厚度小于配向膜层15的非间隔物区域Ⅱ的厚度(即配向膜层的正常厚度)，因此，可以减小间隔物32与配向膜层15的摩擦，进而减少配向膜层碎屑，并提高产品品质。
进一步地，阵列基板31上还可设置有配线区域(图未示)，该配向区即为该阵列基板31上设置有配线如数据线和扫描线等的区域。该间隔物32可对应阵列基板31的配线区域设置，即间隔物32在阵列基板31上的投影落在配线区域。由于配线区域本身不透光，故间隔物32不会影响阵列基板的透光区的光线。另外，彩膜基板的黑色矩阵区域333也可对应配线区域的部分设置，以使得黑色矩阵区域333在阵列基板31上的投影也落在配线区域51内，由此间隔物42和黑色矩阵333均不占用阵列基板的透光区域，即不会影响显示面板的透光率，相对于现有间隔物至少部分依然占用阵列基板的透光区域的设置，可提高显示面板的透过率。
在另外一种实施方式中，如图4所示，图4是本发明一种显示面板另一实施方式的结构示意图。本实施方式中的显示面板40包括阵列基板41、间隔物42以及彩膜基板43。其中，阵列基板41是上述实施方式中的阵列基板20，彩膜基板43是上述实施方式中的彩膜基板33。本实施方式中的显示面板40与图3所示的上述显示面板结构基本相同，且区别点在于：位于间隔物区域Ⅰ的配向膜层25的厚度大于位于第二区域2的有机层24与位于非间隔物区域Ⅱ的配向膜层25的厚度之和。故，将位于第二区域2的有机层24与位于非间隔物区域Ⅱ的配向膜层25的厚度之和定义为第一厚度，将位于间隔物区域Ⅰ的配向膜层25和位于第一区域的有机层24的厚度之和定义为第二厚度，则该第二厚度大于该第一厚度，配向膜层25的间隔物区域Ⅰ形成凸起。
由于间隔物42设置在阵列基板41的取向膜25间隔物区域Ⅰ上，本实施例的间隔物42由于配向膜层的间隔物区域形成凸起，其高度相对于图3所示的间隔物32的高度减小，且间隔物42的高度h4减小的高度Δh3等于第一厚度和第二厚度之差。该间隔物42的高度h4减小的高度Δh3可设置为小于或等于0.5微米，且大于或等于0.1微米。间隔物42的高度可按照显示面板的实际所需间隔进行设置。如在一具体应用中，间隔物42的高度h4减小的高度Δh3为0.3微米。
另外，彩膜基板43距离阵列基板41的非间隔物区域Ⅱ的垂直距离h5为小于或等于3.5微米，且大于或等于3微米，3.5微米≥h5≥3微米。如在以具体的应用中，彩膜基板43距离阵列基板41的非间隔物区域Ⅱ的垂直距离h5为3.3微米，间隔物42的高度h4减小的高度Δh3为0.3微米，此时间隔物42的高度h4为3微米。
上述实施方式中，该间隔物32/42经曝光形成，且间隔物32/42的垂直于阵列基板31/32的横截面可呈倒梯形设置，如图3和图4所示。其中，倒梯形的远离阵列基板的上底的长度大于靠近阵列基板的下底的长度，且下底与倒梯形的腰之间的夹角为钝角，也即是，α1和α2均为钝角，而且120度＜α1＜150度，120度＜α2＜150度。具体地，α1和α2均可以取135度。
上述实施方式中，配向膜层的间隔物区域的厚度小于配向膜层除间隔物区域外的非间隔物区域的厚度，可以使得间隔物与配向膜层摩擦所产生的取向膜碎屑尽量的少，进而可以提高产品的品质。
请参阅图5，图5是本发明一种显示面板其中一实施方式的部分立体结构示意图。本实施例的显示面板与上述如图4所示的显示面板的结构基本相同，且本实施例显示面板的阵列基板中由第一区域的有机层和配向膜层形成一凸起52。该阵列基板上还设置有配线区域51，该显示面板的间隔物41对应设置在阵列基板的配线区域51上，相应地，彩膜基板的黑色矩阵区域333对应配线区域51设置，以使得间隔物42和黑色矩阵区域333在阵列基板上的投影均落在配线区域51内，由此间隔物42不占用阵列基板的透光区域，即不会影响显示面板的透光率，进而提高显示面板的透过率。
由于液晶分子是设置在显示面板的透光区的，若是有机层的凸起52也设置在显示面板的透光区，则会占用液晶分子的位置，进而影响液晶分子的各种运动状态。故可阵列基板中由第一区域的有机层和配向膜层形成的凸起52也设置在配线区域51上，也即，该凸起52在阵列基板上的投影落在配线区域51内。
在具体应用中，上述配线区域51可以是为TFT提供信号配线区域，例如，沿第一方向延伸的配线区域511是数据线区域，沿第二方向延伸的配线区域512是扫描线区域。或者，沿第一方向延伸的配线区域511是扫描线区域，沿第二方向延伸的配线区域512是数据线区域。间隔物41和凸起52分别对应配线区域511和配线区域512设置。
本实施例中，间隔物42与阵列基板的凸起52可相交设置，这样做可以减小间隔物42与配向膜层的接触面积，进而减少取向膜碎屑的产生，进一步达到提高产品的品质的目的。进一步地，该间隔物42与阵列基板的凸起52可为垂直设置，这时，间隔物42与配向膜层的接触面积最小，此时，产生的取向膜碎屑的产生也最少。
具体地，间隔物42和凸起52均可以是长条状，例如是棱柱长条。其中，棱柱长条沿垂直于阵列基板的横截面面A和面C均呈倒梯形设置，间隔物沿平行于阵列基板的横截面面B呈矩形设置。
在本实施方式中，阵列基板上设置有多个薄膜晶体管、铺设在薄膜晶体管上的有机层以及铺设在有机层上的配向膜层；配向膜层的部分区域作为间隔物区域，用于与用于支撑阵列基板和彩膜基板的间隔物接触；有机层对应间隔物区域的第一区域的厚度大于有机层除间隔物区域外的第二区域的厚度，配向膜层的间隔物区域的厚度小于配向膜层除间隔物区域外的非间隔物区域的厚度，减小了配向膜层与隔离物的接触区域的厚度，进而减少了间隔物与配向膜层之间因摩擦而产生的配向膜层碎屑，另外，由于间隔物和有机层的突出部分不占用需要进行透光的区域，进而达到了提高阵列基板的透光率的目的。
请参阅图6，图6是本发明一种液晶显示器一实施方式的结构示意图。在图6中的液晶显示器60中，包括显示面板40、驱动电路61以及背光模组62。其中，驱动电路61用于驱动显示面板40，背光模组62用于为显示面板40提供背光源，显示面板40是上述实施方式中的显示面板。
其中，在其他的实施方式中，显示面板还可以是上述显示面板30。
具体地，液晶显示器可以是电视、电脑等需要设置显示面板的器件。
本实施方式中的液晶显示器包括显示面板，显示面板中的阵列基板上设置有多个薄膜晶体管、铺设在薄膜晶体管上的有机层以及铺设在有机层上的配向膜层；配向膜层的部分区域作为间隔物区域，用于与用于支撑阵列基板和彩膜基板的间隔物接触；有机层对应间隔物区域的第一区域的厚度大于有机层除间隔物区域外的第二区域的厚度，配向膜层的间隔物区域的厚度小于配向膜层除间隔物区域外的非间隔物区域的厚度，减小了配向膜层与隔离物的接触区域的厚度，进而减少了间隔物与配向膜层之间因摩擦而产生的配向膜层碎屑，另外，由于间隔物和有机层的突出部分不占用需要进行透光的区域，进而达到了提高阵列基板的透光率的目的。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板上设置有多个薄膜晶体管、铺设在所述薄膜晶体管上的有机层以及铺设在所述有机层上的配向膜层；所述配向膜层的部分区域作为间隔物区域，用于与用于支撑所述阵列基板和彩膜基板的间隔物接触；
所述有机层对应所述间隔物区域的第一区域的厚度大于所述有机层除所述第一区域外的第二区域的厚度，所述配向膜层的所述间隔物区域的厚度小于所述配向膜层除所述间隔物区域外的非间隔物区域的厚度。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二区域的有机层和位于非间隔物区域的配向膜层的厚度之和为第一厚度，位于所述第一区域的有机层的厚度大于位于所述第一厚度。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，位于所述第一区域的有机层的厚度与所述第一厚度间的厚度差小于或等于0.5微米，且大于或等于0.1微米。
4.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至3任一项所述的阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜基板以及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的间隔物；
其中，所述间隔物用于支撑所述阵列基板和所述彩膜基板。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述彩膜基板距离所述阵列基板的所述配向膜层的非间隔物区域的垂直距离为小于或等于3.5微米，且大于或等于3微米。
6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述间隔物在所述阵列基板上的投影落在所述阵列基板的沿第一方向延伸的配线区域内。
7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，
所述间隔物和位于所述第一区域的所述有机层均为长条状，位于所述第一区域的所述有机层与所述间隔物在所述阵列基板上的投影相交。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，
所述间隔物为棱柱长条，所述棱柱长条沿垂直于所述阵列基板的横截面呈倒梯形设置，所述间隔物沿平行于所述阵列基板的横截面呈矩形设置；
位于所述第一区域的所述有机层与所述间隔物在所述阵列基板上的投影垂直。
9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，
位于所述第一区域的所述有机层在所述阵列基板上的投影落在所述阵列基板的沿第二方向延伸的配线区域内；
其中，所述第一方向与所述第二方向呈垂直设置。
10.一种液晶显示器，包括权利要求4至9任一项所述的显示面板、用于驱动所述显示面板的驱动电路以及用于向所述显示面板提供背光源的背光模组。
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