JP5319876B2 - 表面検査装置及び表面検査方法 - Google Patents
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Description
203の相対移動線速度が、内周部に比べて外周部で大きくなることを示す。
(検査信号)に変換し、散乱光信号として出力する。本実施例では光検出器207として光電子増倍管を用いているが、異物からの散乱光を高感度に検出できる光検出器であれば他の検出原理の光検出器であっても良い。
位置))÷A
A=膜種,膜厚,表面粗さ,結晶方位,反り量から規定。
501…異物・欠陥信号が低周波数成分に畳重、502…低周波数分除去を行う、503…従来検出できなかった異物・欠陥信号、504…従来しきい値、505…本実施例後しきい値、506…本実施例後検出信号。
Claims (18)
- 被検査物表面上または表面近傍内部に存在する異物や欠陥を検出する表面検査装置において、
前記被検査物を概略一定の回転角速度により走査可能に構成された回転移動手段と並進移動手段を有する被検査物移動ステージと、
レーザ光源と、
前記レーザ光源から発せられるレーザ光を被検査物表面上の予め定められた大きさの照明スポットに照射する照明手段と、
前記照明スポットにおいて前記照射光が散乱、回折、及び反射した光のうち少なくとも1つを検出して電気信号に変換する散乱・回折・反射光検出手段と、
前記電気信号をデジタルデータに変換するA/D変換器と、
前記A/D変換によって得られるデジタルデータから異物や欠陥の大きさを算出する粒径算出機構と、を備え、
前記A/D変換手段は概略一定のサンプリング時間間隔で前記電気信号をサンプリングし、前記粒径算出機構は前記A/D変換器から得られるデジタルデータに不所望の低周波変動成分を除去する周波数帯域制限フィルタ処理を施した結果を用いて異物・欠陥検出を行い、さらに、
前記粒径算出機構は、前記周波数帯域制限フィルタ処理のCut−Off周波数を決定する際に(1)前記被検査物移動ステージの主走査回転速度、(2)前記座標検出手段から得られる副走査方向の座標位置、(3)前記照明スポットの大きさ、のいずれか一つまたは複数の組み合わせ、及び、被検査物表面上の、(4)作成された膜種や膜厚、(5)表面粗さ、(6)結晶方位、(7)反り量、のいずれか一つまたは複数の情報の組み合わせを用いるよう構成されることを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1記載の表面検査装置において、
前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記照明スポット内を通過する時間内に前記電気信号からサンプリングされた複数のデジタルデータに対してデジタルフィルタ処理を施すことにより成されることを特徴とする表面検査装置。 - 請求項2記載の表面検査装置において、
前記デジタルフィルタ処理は、前記不所望の低周波変動成分を除去する周波数帯域制限フィルタ処理であることを特徴とする表面検査装置。 - 請求項3記載の表面検査装置において、
前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記不所望の低周波変動成分を抽出するローパスフィルタ処理であり、前記A/D変換によって得られるデジタルデータから前記ローパスフィルタ処理の結果を差し引くように構成したことを特徴とする表面検査装置。 - 請求項3記載の表面検査装置において、
前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記不所望の低周波変動成分を除去するハイパスフィルタ処理またはバンドパスフィルタ処理であることを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1に記載の表面検査装置において、
前記Cut−off周波数を可変にしたことを特徴とする表面検査装置。 - 被検査物を概略一定の回転角速度により走査しながら前記被検査物表面上または表面近傍内部に存在する異物や欠陥を検出する表面検査方法において、
走査が回転移動と並進移動から成る被検査物移動ステージと、
レーザ光源と、
前記レーザ光源から発せられるレーザ光を被検査物表面上の予め定められた大きさの照明スポットに照射する照明手段と、
前記照明スポットにおいて前記照射光が散乱、回折、及び反射した光のうち少なくとも1つを検出して電気信号に変換する散乱・回折・反射光検出手段と、
前記電気信号をデジタルデータに変換するA/D変換手段と、
前記A/D変換手段によって得られるデジタルデータから異物や欠陥の大きさを算出する粒径算出手段と、を備え、
前記A/D変換手段は概略一定のサンプリング時間間隔で前記電気信号をサンプリングし、前記粒径算出手段は前記A/D変換手段から得られるデジタルデータに不所望の低周波変動成分を除去する周波数帯域制限フィルタ処理を施した結果を用いて異物・欠陥検出を行い、
前記周波数帯域制限フィルタ処理のCut−off周波数は可変であり、
前記周波数帯域制限フィルタ処理のCut−off周波数を、(1)前記被検査物移動ステージの主走査回転速度、(2)座標検出手段から得られる副走査方向の座標位置、(3)前記照明スポットの大きさ、のいずれか一つまたは複数の組み合わせ、及び、被検査物表面上の、(4)作成された膜種や膜厚、(5)表面粗さ、(6)結晶方位、(7)反り量、のいずれか一つまたは複数の組み合わせを用いることにより決定することを特徴とする表面検査方法。 - 請求項7記載の表面検査方法において、
前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記不所望の低周波変動成分を抽出するローパスフィルタ処理であり、前記A/D変換手段によって得られるデジタルデータから前記ローパスフィルタ処理の結果を差し引くようにしたことを特徴とする表面検査方法。 - 請求項7記載の表面検査方法において、
前記周波数帯域制限フィルタ処理は、前記不所望の低周波変動成分を除去するハイパスフィルタ処理またはバンドパスフィルタ処理であることを特徴とする表面検査方法。 - 被検査物から得られた検査信号に基づいて表面検査を行う表面検査装置において、
前記被検査物に光を照明し照明スポットを形成する照明光学系と、
得られた検査信号をデジタルフィルタリングするデジタルフィルタ部と、
該デジタルフィルタリングのCut−off周波数を検査中に動的に変化させる変化部と、
前記被検査物を回転しながら移動させる被検査物移動ステージと、
前記表面検査中の座標を得る座標検出手段と、
前記Cut−off周波数は、(1)前記被検査物移動ステージの主走査回転速度、(2)前記座標検出手段から得られる副走査方向の座標位置、(3)前記照明スポットの大きさのうち少なくとも1つと(4)作成された膜種や膜厚、(5)前記被検査物の表面粗さ、(6)前記被検査物の結晶方位、(7)被検査物の反り量のうち少なくとも1つとの組み合わせに基づいて決定されることを特徴とする表面検査装置。 - 被検査物から得られた検査信号に基づいて表面検査を行う表面検査装置において、
前記被検査物を回転しながら移動させる被検査物移動ステージと、
前記被検査物に光を照明し照明スポットを形成する照明光学系と、
得られた検査信号をデジタルフィルタリングするデジタルフィルタ部と、
前記検査信号が得られた被検査物の位置情報を取得する位置情報取得部と、
該位置情報取得部からの情報に基づいて、前記デジタルフィルタリングのCut−off周波数を変化させる変化部と、を有し、
前記Cut−off周波数は、(1)前記被検査物移動ステージの主走査回転速度、(2)前記位置情報取得部から得られる副走査方向の座標位置、(3)前記照明スポットの大きさのうち少なくとも1つと(4)作成された膜種や膜厚、(5)前記被検査物の表面粗さ、(6)前記被検査物の結晶方位、(7)被検査物の反り量のうち少なくとも1つとの組み合わせに基づいて決定されることを特徴とする表面検査装置。 - 請求項11において、
前記位置情報は、少なくとも得られた検査信号に対応した被検査物の半径位置情報であることを特徴とする表面検査装置。 - 被検査物から得られた検査信号に基づいて表面検査を行う表面検査方法において、
被検査物移動ステージを使用して前記被検査物を回転しながら移動し、
前記被検査物に光を照明し照明スポットを形成し、
座標検出手段を使用して前記表面検査中の座標を得て、
得られた検査信号をデジタルフィルタリングするデジタルフィルタ処理と、
該デジタルフィルタリングのCut−off周波数を検査中に動的に変化させる変化処理と、を有し、
前記Cut−off周波数は、(1)前記被検査物移動ステージの主走査回転速度、(2)前記座標検出手段から得られる副走査方向の座標位置、(3)前記照明スポットの大きさのうち少なくとも1つと(4)作成された膜種や膜厚、(5)前記被検査物の表面粗さ、(6)前記被検査物の結晶方位、(7)被検査物の反り量のうち少なくとも1つとの組み合わせに基づいて決定されることを特徴とする表面検査方法。 - 被検査物から得られた検査信号に基づいて表面検査を行う表面検査方法において、
被検査物移動ステージを使用して前記被検査物を回転しながら移動し、
前記被検査物に光を照明し照明スポットを形成し、
得られた検査信号をデジタルフィルタリングするデジタルフィルタ処理と、
前記検査信号が得られた被検査物の位置情報を取得する位置情報取得処理と、
前記位置情報取得処理からの情報に基づいて、前記デジタルフィルタリングのCut−off周波数を変化させる変化処理と、を行い、
前記Cut−off周波数は、(1)前記被検査物移動ステージの主走査回転速度、(2)前記位置情報取得処理から得られる副走査方向の座標位置、(3)前記照明スポットの大きさのうち少なくとも1つと(4)作成された膜種や膜厚、(5)前記被検査物の表面粗さ、(6)前記被検査物の結晶方位、(7)被検査物の反り量のうち少なくとも1つとの組み合わせに基づいて決定されることを特徴とする表面検査方法。 - 請求項14において、
前記位置情報は、少なくとも得られた検査信号に対応した被検査物の半径位置情報であることを特徴とする表面検査方法。 - 被検査物の異常を検出する検査装置において、
前記被検査物へ光を照明する照明光学系と、
前記被検査物からの光を検出する検出光学系と、
前記検出光学系の検出結果をサンプリングするサンプリング部と、
前記サンプリング結果に対してデジタルフィルタ処理を行うデジタルフィルタ部と、
前記デジタルフィルタ処理のCut−off周波数を得る処理部と、を有し、
前記Cut−off周波数は、前記検査装置の装置構成に関する情報と前記被検査物に関する情報とを組み合わせることで決定され、
前記被検査物に関する情報とは、前記被検査物上に作成された膜種、前記被検査物上に作成された膜の膜厚、前記被検査物の表面粗さ、前記被検査物の結晶方位、及び前記被検査物の反り量の少なくとも1つであることを特徴とする検査装置。 - 請求項16に記載の検査装置において、
前記装置構成に関する情報とは、被検査物移動ステージの主走査回転速度、座標検出手段から得られる副走査方向の座標位置、及び前記照明光学系によって前記被検査物上に形成される照明スポットの大きさの少なくとも1つであることを特徴とする検査装置。 - 請求項16に記載の検査装置において、
前記フィルタ部は、検査中に前記Cut−off周波数を変えることを特徴とする検査装置。
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