JP5303245B2 - Method for forming vapor deposition film and method for manufacturing optical member - Google Patents
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Description
本発明は、蒸発源の形成方法、光学部材の製造方法及び光学部材に関し、特に、１回の工程で２種以上の蒸着材料を対象物に蒸着させることができ、蒸着対象物側と表面側とで蒸着材料の濃度の傾斜特性を有する蒸着膜を形成することができる蒸発源の形成方法、光学部材の製造方法及び光学部材に関するものである。 The present invention relates to a method for forming an evaporation source, a method for manufacturing an optical member, and an optical member, and in particular, two or more kinds of vapor deposition materials can be vapor-deposited on an object in a single step. The present invention relates to a method for forming an evaporation source, a method for manufacturing an optical member, and an optical member that can form a vapor deposition film having a gradient characteristic of the concentration of the vapor deposition material.
プラスチックレンズ等の光学部材に蒸着材料を蒸着して膜を形成する場合、蒸着材料を保持させた蒸発源を加熱して蒸着する方法が知られている。
例えば、特性文献１及び２には、熱伝導物質に有機化合物を混合、硬化した蒸発源を用い、熱伝導物質を熱伝導媒体として利用して、有機化合物を対象物に蒸着させる技術が開示されている。
また、特許文献３には、２種以上のシラン化合物により防汚層を眼鏡レンズに形成する方法が開示されている。
しかしながら、特許文献１〜３に記載の方法は、一種又は単なる混合物からなる蒸着膜が得られるだけであって、蒸着膜の基板側や表面側とで、蒸着材料の濃度に濃淡を有する蒸着膜を形成することはできなかった。
For example, the characteristic documents 1 and 2 disclose a technique for depositing an organic compound on an object using an evaporation source obtained by mixing and curing an organic compound with a heat conductive material and using the heat conductive material as a heat conductive medium. ing.
Patent Document 3 discloses a method of forming an antifouling layer on a spectacle lens with two or more silane compounds.
However, the methods described in Patent Documents 1 to 3 only provide a vapor deposition film made of one kind or a simple mixture, and the vapor deposition film has a concentration of the vapor deposition material on the substrate side or the surface side of the vapor deposition film. Could not be formed.
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、１回の工程で２種以上の蒸着材料を対象物に蒸着させることができ、蒸着対象物側と表面側とで蒸着材料の濃度の傾斜特性を有する蒸着膜を形成することができる蒸発源の形成方法、光学部材の製造方法及び光学部材を提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and two or more kinds of vapor deposition materials can be vapor-deposited on an object in one step, and the vapor deposition material can be formed on the vapor deposition object side and the surface side. It is an object of the present invention to provide an evaporation source forming method, an optical member manufacturing method, and an optical member capable of forming a deposited film having a concentration gradient characteristic.
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、２種以上の蒸着材料を積層させた蒸発源を用い、一方側から加熱することにより前記の目的を達成できることを見出し本発明を完成したものである。
すなわち、本発明は、異なる２種以上の蒸着材料を積層してなる蒸発源の一方の側から加熱し、対象物に蒸着させ蒸着膜を形成する蒸着膜の形成方法、前記対象物が光学部材であり、該光学部材上に前記方法により蒸着膜を形成する光学部材の製造方法、この方法によって製造されてなる光学部材を提供するものである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that the above object can be achieved by using an evaporation source in which two or more kinds of vapor deposition materials are laminated and heating from one side. The present invention has been completed.
That is, the present invention relates to a method for forming a vapor deposition film in which a vapor deposition film is formed by heating from one side of an evaporation source formed by laminating two or more different vapor deposition materials, and the object is an optical member. The manufacturing method of the optical member which forms a vapor deposition film by the said method on this optical member, and the optical member manufactured by this method are provided.
本発明の蒸発源の形成方法により光学部材を製造すると、１回の工程で２種以上の蒸着材料を対象物に蒸着させることができ、蒸着対象物側と表面側とで蒸着材料の濃度の傾斜特性を有する蒸着膜を形成することができる。 When an optical member is manufactured by the evaporation source forming method of the present invention, two or more kinds of vapor deposition materials can be vapor-deposited on an object in one step, and the concentration of the vapor deposition material on the vapor deposition object side and the surface side can be increased. A vapor deposition film having an inclination characteristic can be formed.
本発明の蒸着膜の形成方法は、異なる２種以上の蒸着材料を積層してなる蒸発源の一方の側から加熱し、対象物に蒸着させ蒸着膜を形成する。
例えば、蒸発源が、異なる２種の蒸着材料を積層した２層である場合には、図１に示すように、蒸発源６を第１蒸着材料フィルター５の側からヒーター７等で加熱すると、蒸着対象物１（図１では、レンズ基板＋反射防止膜）に形成される蒸着膜２が、対象物１側が第２蒸着材料より第１蒸着材料の濃度が高く（２ａ）、蒸着膜の表面側に向かって第１蒸着材料より第２蒸着材料の濃度が高い（２ｂ）、第１蒸着材料と第２蒸着材料の混合膜である。このように、得られた蒸着膜２は、ヒーター７等の加熱源に近い第２蒸着材料フィルター４から揮発した第２蒸着材料と、加熱源から離れた第１蒸着材料フィルター５から揮発した第１蒸着材料が時間差で揮発していくため、その結果境界が曖昧な混合膜となり、蒸着材料の濃度の傾斜特性を有する蒸着膜を形成することができる。
In the method for forming a vapor deposition film of the present invention, heating is performed from one side of an evaporation source formed by laminating two or more different vapor deposition materials, and vapor deposition is performed on an object to form a vapor deposition film.
For example, in the case where the evaporation source is two layers in which two different kinds of vapor deposition materials are laminated, as shown in FIG. 1, when the evaporation source 6 is heated from the first vapor deposition material filter 5 side by a heater 7 or the like, The vapor deposition film 2 formed on the vapor deposition object 1 (lens substrate + antireflection film in FIG. 1) has a higher concentration of the first vapor deposition material on the object 1 side than the second vapor deposition material (2a), and the surface of the vapor deposition film The concentration of the second vapor deposition material is higher than that of the first vapor deposition material toward the side (2b), and is a mixed film of the first vapor deposition material and the second vapor deposition material. Thus, the obtained vapor deposition film 2 is volatilized from the 2nd vapor deposition material filter 4 which volatilized from the 2nd vapor deposition material filter 4 near heating sources, such as the heater 7, and the 1st vapor deposition material filter 5 which separated from the heating source. Since one vapor deposition material volatilizes with a time difference, as a result, a mixed film with an unclear boundary is formed, and a vapor deposition film having a gradient characteristic of the concentration of the vapor deposition material can be formed.
このような２層の蒸発源としては、各蒸着材料をしみ込ませ、加熱して揮発分を取り除いたフィルターを別々に用意し、対象物に対し、最外部に形成したい蒸着材料フィルターをもう一方のフィルターの上に重ねてセットする。また、蒸着材料１種をフィルターにしみ込ませ、加熱固化させた後、別のフィルターをその上に載せてから別の蒸着材料を注入、加熱固化させても良い。更に蒸着材料１種をフィルターに染み込ませ、加熱固化させた後、別のフィルターをその上に載せてから別の蒸着材料を注入し、自然乾燥程度にとどめておいても良い。
具体的には、ＳＵＳ（ステンレス）製トレー上にシリカフィルターを入れ、第１の溶液状態の蒸着材料を注入し、（必要に応じて添加されるハイドロフルオロエーテル、溶媒やケイ素非含有のパーフルオロポリエ−テルを混合した溶液の形態で用いられても良い）その後、乾燥工程により、第１の蒸着材料を固化する。その後、第２の蒸着材料として、固化した第１の蒸着材料の上部に、前記シリカフィルターをのせ、第２の溶液状態の蒸着材料を注入し、乾燥工程をへて真空蒸着により基材上に成膜される。（必要であれば、第２の蒸着材料と同様の工程により第３の蒸着材料を具備しても良い。）
また、第２蒸着材料の蒸発を、さらに遅らせる必要がある場合には第１蒸着材料と第２蒸着材料との間に、例えば前記シリカフィルターと厚みの異なる（同じであっても良い）同材質フィルターのような、蒸着速度を調整するための緩衝層を設けても良い。
また、２種以上の蒸着材料を積層した蒸発源は、例えば、２層の場合、第１蒸着材料を含むフィルターと第２蒸着材料を含むフィルターは同形状で無くても良く、例えば、一方のフィルターに穴を開けた形状としたり（図２参照）、一方を他方より小さくする（図３参考例）、同型のフィルターの片方を任意の大きさに切る（図４参照）などして、蒸着速度や形成される蒸着膜の濃度傾斜を調整することができる。
As such a two-layer evaporation source, each of the vapor deposition materials is soaked, heated separately from the volatile matter, and a filter is prepared separately. Set it on top of the filter. Further, after one type of vapor deposition material is soaked in a filter and solidified by heating, another vapor deposition material may be injected and solidified by heating after another filter is placed thereon. Furthermore, after depositing one kind of vapor deposition material into the filter and heating and solidifying it, another vapor deposition material may be injected after placing another filter on the filter, and it may be kept at a natural drying level.
Specifically, a silica filter is put on a tray made of SUS (stainless steel), and a vapor deposition material in the first solution state is injected, (hydrofluoroether added if necessary, solvent or silicon-free perfluoro The first vapor deposition material may be solidified by a drying step. Thereafter, as the second vapor deposition material, the silica filter is placed on top of the solidified first vapor deposition material, the second solution vapor deposition material is injected, and the drying process is performed on the substrate by vacuum vapor deposition. A film is formed. (If necessary, the third vapor deposition material may be provided by the same process as the second vapor deposition material.)
Further, when it is necessary to further delay the evaporation of the second vapor deposition material, for example, the same material having a different thickness (or the same) as the silica filter may be provided between the first vapor deposition material and the second vapor deposition material. A buffer layer for adjusting the deposition rate, such as a filter, may be provided.
Further, in the case of an evaporation source in which two or more kinds of vapor deposition materials are stacked, for example, in the case of two layers, the filter including the first vapor deposition material and the filter including the second vapor deposition material may not be the same shape. Vapor deposition by forming a hole in the filter (see Fig. 2), making one smaller than the other (reference example in Fig. 3), or cutting one side of the same type filter to any size (see Fig. 4), etc. The speed and concentration gradient of the deposited film to be formed can be adjusted.
本発明においては、蒸発源を形成する少なくとも一種の蒸着材料が、酸化ケイ素含有繊維から構成される不織布に保持され、前記不織布の熱伝導率が0.01〜1.0Ｗｍ-1Ｋ-1であると好ましい。前記不織布の熱伝導率が0.01〜0.8Ｗｍ-1Ｋ-1であるとさらに好ましい。
このような不織布は、高い蓄熱効果を有し、蒸着材料の蒸発により熱を奪われた場合であっても、蒸発源自体の温度変化は抑制される。その結果、容易な熱管理で安定して蒸着することができ、局所的加熱が生じにくいため、沸点の異なる蒸着材料が混在していても、蒸着材料に蒸着差が生じて形成される蒸着膜の厚さや蒸着材料の分散度にムラが生じることを抑制することができる。
また、熱伝導率の低い不織布を用いたことにより、加熱初期の段階で急激な温度上昇が生じにくい。このため、蒸着時の加熱で固体の蒸着材料を加熱しても、蒸発材料の変質を抑制することができる。例えば、加熱初期に蒸着材料に急激な変化が生じないため、不測の反応や焦げ付きも生じにくくなる。
In the present invention, at least one vapor deposition material forming an evaporation source is held in a nonwoven fabric composed of silicon oxide-containing fibers, and the thermal conductivity of the nonwoven fabric is preferably 0.01 to 1.0 Wm −1 K −1. . More preferably, the non-woven fabric has a thermal conductivity of 0.01 to 0.8 Wm −1 K −1 .
Such a nonwoven fabric has a high heat storage effect, and even if the heat is taken away by evaporation of the vapor deposition material, the temperature change of the evaporation source itself is suppressed. As a result, it can be deposited stably with easy thermal management, and local heating is unlikely to occur. Therefore, even if vapor deposition materials with different boiling points are mixed, a vapor deposition film formed with a vapor deposition difference in the vapor deposition material. The occurrence of unevenness in the thickness and the degree of dispersion of the vapor deposition material can be suppressed.
In addition, since a non-woven fabric having a low thermal conductivity is used, a rapid temperature rise is unlikely to occur at the initial stage of heating. For this reason, even if a solid vapor deposition material is heated by heating at the time of vapor deposition, alteration of the evaporation material can be suppressed. For example, since an abrupt change does not occur in the vapor deposition material in the initial stage of heating, unexpected reactions and scorching are less likely to occur.
以上のような不織布の材質である酸化ケイ素含有繊維としては、熱伝導率が0.1〜20Ｗｍ-1Ｋ-1のものが好ましく、特に0.3〜10Ｗｍ-1Ｋ-1のものが好ましい。例えば、シリカ繊維（熱伝導率８Ｗｍ-1Ｋ-1）、ガラス繊維（熱伝導率１Ｗｍ-1Ｋ-1）、シリカ及び酸化アルミ混合繊維等が挙げられ、シリカ繊維、ガラス繊維が好ましい。
また、シリカやガラス繊維で構成された蒸発源は安価である。このため蒸発源に除去できない残渣が定着しても、気軽に廃棄して、交換することができるので、蒸着に係るコストを削減することができる。
また、酸化ケイ素含有繊維の径としては、通常0.1〜200μｍであり、1〜20μｍであると好ましい。
前記不織布の空隙率は、通常70〜99％であり、80〜96％であると好ましい。このように、本発明の蒸発源は、不織布の空隙率を高めることにより、熱伝導率を低下させ、蓄熱効果を高めることができる。
The silicon oxide-containing fibers, which are the materials of the nonwoven fabric as described above, preferably have a thermal conductivity of 0.1 to 20 Wm −1 K −1 , particularly preferably 0.3 to 10 Wm −1 K −1 . Examples thereof include silica fiber (
An evaporation source made of silica or glass fiber is inexpensive. For this reason, even if a residue that cannot be removed is fixed in the evaporation source, it can be easily discarded and replaced, so that the cost for vapor deposition can be reduced.
Moreover, as a diameter of a silicon oxide containing fiber, it is 0.1-200 micrometers normally, and it is preferable in it being 1-20 micrometers.
The porosity of the nonwoven fabric is usually 70 to 99%, preferably 80 to 96%. Thus, the evaporation source of the present invention can reduce the thermal conductivity and increase the heat storage effect by increasing the porosity of the nonwoven fabric.
前記不織布の厚さとしては、通常100〜2000μｍであり、200〜1200μｍであると好ましい。
本発明において、蒸着材料を不織布に対して保持させるとは、含浸、吸着、塗布、被覆等の状態が挙げられ、中でも、前記不織布を構成する酸化ケイ素含有繊維の表面に、前記蒸着材料が被膜を形成していると好ましい。蒸発源の繊維の表面に蒸着材料が被膜を形成していると、蒸着成分は、蒸着末期まで継続して繊維の表面から蒸発する。このため、蒸着の初期から末期にかけて蒸着速度の変動が生じづらく、均質な成膜を実現することができる。
The thickness of the nonwoven fabric is usually 100 to 2000 μm, preferably 200 to 1200 μm.
In the present invention, holding the vapor deposition material with respect to the nonwoven fabric includes states such as impregnation, adsorption, coating, and coating, and among others, the vapor deposition material is coated on the surface of the silicon oxide-containing fiber constituting the nonwoven fabric. Is preferably formed. When the vapor deposition material forms a film on the surface of the evaporation source fiber, the vapor deposition component continuously evaporates from the fiber surface until the end of the vapor deposition. For this reason, it is difficult for fluctuations in the vapor deposition rate to occur from the beginning to the end of vapor deposition, and uniform film formation can be realized.
本発明に用いる具体的な不織布としては、硼珪酸ガラス繊維のみからなる濾紙であるＧＡ−５５、ＧＡ−１００、ＧＡ−２００、ＧＢ−１００Ｒ、ＧＢ−１４０、ＧＣ−５０、ＧＤ−１２０、ＧＦ−７５等、硼珪酸ガラス繊維にバインダー樹脂を加えて強度を高めた濾紙であるＧＳ−２５、ＧＣ−９０、ＤＰ−７０、ＰＧ−６０等、シリカ繊維からなるＱＲ−１００、ＱＲ−２００等（以上、全てアドバンテック東洋（株）製：商品名）、ファインフレックス（商品名）、SiO2系ファイバー、SiO2＋Al2O3系ファイバー（以上、ニチアス（株）製）等が挙げられる。 Specific nonwoven fabrics used in the present invention are GA-55, GA-100, GA-200, GB-100R, GB-140, GC-50, GD-120, GF, which are filter papers made only of borosilicate glass fibers. GS-25, GC-90, DP-70, PG-60, etc., which are filter papers made by adding a binder resin to borosilicate glass fiber to increase the strength, QR-100, QR-200, etc. made of silica fiber (All above, manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd .: trade name), fine flex (trade name), SiO 2 fiber, SiO 2 + Al 2 O 3 fiber (manufactured by Nichias Corporation), and the like.
本発明においては、前記蒸着膜を、減圧下、加熱蒸着、（ハロゲンヒーター、抵抗過熱、電子銃等を使用）によって光学部材に蒸着材料を蒸着する。さらに、前記不織布を用い、ハロゲンヒーター、ボート等により下方より加熱することで、例えば、ＳＵＳ製フィルターに注入した場合と比較して、温度上昇率が穏やかであるため、成膜時の膜厚コントロール性に優れ、また、蒸着物質が分解することを防ぐことができる。その結果、膜厚精度が良く、蒸着物質が本来持つ性能を有した薄膜を成製することができる。
本発明において、蒸着する際の真空蒸着装置内の真空度は、特に限定されないが、均質の蒸着膜を得るために、通常１．３３×１０-1〜１．３３×１０-6Ｐａ（１０-3〜１０-8Ｔｏｒｒ）であり、６．６６×１０-1〜８．００×１０-4Ｐａ（５．０×１０-3〜６．０×１０-6Ｔｏｒｒ）であると好ましい。
In the present invention, the vapor deposition material is vapor-deposited on the optical member by heating vapor deposition (using a halogen heater, resistance overheating, an electron gun, etc.) under reduced pressure. Furthermore, by using the non-woven fabric and heating from below with a halogen heater, boat, etc., for example, the rate of temperature rise is gentle compared to when injected into a SUS filter. In addition, it is possible to prevent the vapor deposition material from being decomposed. As a result, it is possible to produce a thin film with good film thickness accuracy and the performance inherent to the vapor deposition material.
In the present invention, the degree of vacuum in the vacuum vapor deposition apparatus during vapor deposition is not particularly limited, but is usually 1.33 × 10 −1 to 1.33 × 10 −6 Pa (10 in order to obtain a homogeneous vapor deposition film. −3 to 10 −8 Torr), preferably 6.66 × 10 −1 to 8.00 × 10 −4 Pa (5.0 × 10 −3 to 6.0 × 10 −6 Torr).
本発明において、蒸着材料を加熱する際の具体的温度は、蒸着材料の種類、蒸着する真空条件により異なるが、所望の真空度における蒸着材料の蒸着開始温度以上から分解温度を超えない範囲で行うことが好ましい。ここで蒸着開始温度とは前記蒸着材料を含む溶液の蒸気圧が真空度と等しくなったときの温度をいい、また、前記蒸着材料の分解温度とは１分間に、窒素雰囲気下、該化合物と反応性のある物質が存在しない条件で、前記蒸着材料の５０質量％が分解する温度をいう。
また、前述のような熱伝導率の不織布を用いることで、ヒーター温度の上昇による蒸発源の過熱現象が抑制されるため、蒸着材料を分解温度以下で成膜することが可能となる。
In the present invention, the specific temperature at which the vapor deposition material is heated varies depending on the type of the vapor deposition material and the vacuum conditions for vapor deposition, but is performed in a range not exceeding the decomposition temperature from the vapor deposition start temperature of the vapor deposition material at a desired degree of vacuum. It is preferable. Here, the deposition start temperature refers to the temperature at which the vapor pressure of the solution containing the deposition material becomes equal to the degree of vacuum, and the decomposition temperature of the deposition material refers to the compound and the compound in a nitrogen atmosphere in one minute. The temperature at which 50% by mass of the vapor deposition material decomposes under the condition that no reactive substance is present.
In addition, by using a non-woven fabric having a thermal conductivity as described above, an evaporation source overheating phenomenon due to an increase in the heater temperature is suppressed, so that the vapor deposition material can be formed at a decomposition temperature or lower.
このような蒸着膜の形成方法は、蒸着膜の形成を必要とする種々の技術分野に適用できる。例えば、光学分野、エレクトロニクス分野、医療分野、装飾品、機械工具、自動車部品、電化製品等の成膜に関する分野に適用できるが、特に、光学部材に蒸着膜を形成する際に有用であり、本発明の光学部材の製造方法は、本発明の蒸着膜の形成方法により光学部材に蒸着膜を形成するものである。
また、本発明により形成される蒸着膜は、特に限定されないが、例えば、撥水膜、反射防止膜、防曇膜等が挙げられる。
Such a method for forming a vapor deposition film can be applied to various technical fields that require the formation of a vapor deposition film. For example, it can be applied to fields related to film formation, such as the optical field, electronics field, medical field, ornaments, machine tools, automobile parts, electrical appliances, etc., but it is particularly useful when forming a deposited film on an optical member. The manufacturing method of the optical member of the invention is to form a vapor deposition film on the optical member by the method of forming a vapor deposition film of the present invention.
Moreover, although the vapor deposition film formed by this invention is not specifically limited, For example, a water repellent film, an antireflection film, an antifogging film etc. are mentioned.
本発明で用いる蒸着材料の種類は限定されないが、有機系蒸着材料であると好ましい。
有機系蒸着材料としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(Ｉ)で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物、下記一般式（II）で示されるシラン化合物、一般式(III)で示される含フッ素有機ケイ素化合物、その他、パーフルオロポリエーテルとポリシロキサンに由来する構造を含むシラン化合物等が挙げられる。
以下、それらの化合物について説明する。
Although the kind of vapor deposition material used by this invention is not limited, It is preferable in it being an organic type vapor deposition material.
The organic vapor deposition material is not particularly limited. For example, the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound represented by the following general formula (I), the silane compound represented by the following general formula (II), and the general formula (III) Examples thereof include the fluorine-containing organosilicon compounds shown, and other silane compounds having a structure derived from perfluoropolyether and polysiloxane.
Hereinafter, these compounds will be described.
一般式（Ｉ）のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物
一般式（Ｉ）において、Ｒｆ基は、式：−（ＣkＦ2kＯ）−（式中、ｋは１〜６、好ましくは１〜４の整数であり、該一般式中の（ＣkＦ2kＯ）の配列はランダムである。）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する二価の基、または式：−（ＣkＦ2k）−（式中、ｋは１〜６、好ましくは１〜４の整数であり、該一般式中の（ＣkＦ2k）の配列はランダムである。）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロアルキル構造を有する二価の基の単独又は混合した構造を有する。なお、前記一般式（Ｉ）中のｎ及びｎ’がいずれも０である場合、前記一般式（Ｉ）中の酸素原子（Ｏ）に結合する前記Ｒｆ基の末端は、酸素原子ではない。 In the general formula (I), the Rf group is represented by the formula: — (C k F 2k O) — (wherein k is an integer of 1 to 6, preferably 1 to 4, and (C k The sequence of F 2k O) is random.), A divalent group having a linear perfluoropolyalkylene ether structure having no branch, and a unit represented by the formula: — (C k F 2k ) -(Wherein k is an integer of 1 to 6, preferably 1 to 4, and the sequence of (C k F 2k ) in the general formula is random) and has a branch. It has a single or mixed structure of divalent groups having a linear perfluoroalkyl structure. When both n and n ′ in the general formula (I) are 0, the terminal of the Rf group bonded to the oxygen atom (O) in the general formula (I) is not an oxygen atom.
一般式（Ｉ）において、Ｘは加水分解性基又はハロゲン原子である。上記Ｘが加水分解性基である場合としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基；アリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基；ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンタノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基；Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基等のアミド基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基等を挙げることができる。
また、上記Ｘがハロゲン原子である場合としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
これらの中で、メトキシ基、エトキシ基及び塩素原子が好適である。
In general formula (I), X is a hydrolyzable group or a halogen atom. Examples of the case where X is a hydrolyzable group include, for example, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group; an alkoxyalkoxy group such as a methoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, and an ethoxyethoxy group; Alkenyloxy groups such as isopropenoxy; acyloxy groups such as acetoxy group, propionyloxy group, butylcarbonyloxy group, benzoyloxy group; dimethyl ketoxime group, methyl ethyl ketoxime group, diethyl ketoxime group, cyclopentanoxime group, cyclohexanoxy group Ketoxime groups such as oxime groups; N-methylamino group, N-ethylamino group, N-propylamino group, N-butylamino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, N-cyclohexylamino group Amino groups such as groups N- methylacetamide group, N- ethyl acetamide group, an amido group such as N- methylbenzamide group; N, N- dimethylamino group, N, can be mentioned an amino group, such as N- diethylamino group.
Moreover, as a case where said X is a halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned, for example.
Among these, a methoxy group, an ethoxy group, and a chlorine atom are preferable.
一般式（Ｉ）において、Ｒは炭素原子数１〜８の一価炭化水素基であり、Ｒが複数存在する場合には、Ｒは互いに同一でも異なってもよい。Ｒの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素原子数１〜３の一価炭化水素基が好ましく、特にメチル基が好適である。 In the general formula (I), R is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and when a plurality of Rs are present, the Rs may be the same or different. Specific examples of R include, for example, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group; a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group; Aryl groups such as benzyl group and phenethyl group; alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group and hexenyl group. Among these, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methyl group is particularly preferable.
一般式（Ｉ）において、ｎ及びｎ’はそれぞれ０〜２の整数であり、好ましくは１である。ｎとｎ’は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｍ及びｍ’はそれぞれ１〜５の整数であり、３であることが好ましい。ｍとｍ’は互いに同一であっても異なっていてもよい。
次に、ａ及びｂは各々２又は３であり、加水分解及び縮合反応性、及び被膜の密着性の観点から、３であることが好ましい。
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の分子量は、特に制限されないが、安定性、取扱い易さ等の点から、数平均分子量で５００〜２０，０００、好ましくは１０００〜１０，０００のものが適当である。
In the general formula (I), n and n ′ are each an integer of 0 to 2, preferably 1. n and n ′ may be the same or different from each other. M and m ′ are each an integer of 1 to 5, and is preferably 3. m and m ′ may be the same as or different from each other.
Next, a and b are each 2 or 3, and preferably 3 from the viewpoints of hydrolysis and condensation reactivity and coating adhesion.
The molecular weight of the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound represented by the general formula (I) is not particularly limited, but from the viewpoint of stability, ease of handling, etc., the number average molecular weight is 500 to 20,000, preferably 1000. A value of ˜10,000 is suitable.
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物の具体例としては、例えば、下記構造式で示されるものが挙げられる。但し、下記例示に限定されるものではない。
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）lＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）lＣＦ2ＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3
一般式（Ｉ）の化合物は、１種単独でも２種以上を組合せても使用することができる。また、場合により、上記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物とその部分加水分解縮合物とを組み合わせて使用することができる。
Specific examples of the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound represented by the general formula (I) include those represented by the following structural formula. However, it is not limited to the following illustration.
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) 1 CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(CH 3 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) 1 CF 2 CF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CF 2 (OC 2 F 4 ) p (OCF 2 ) q OCF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(CH 3 O) 2 CH 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CF 2 (OC 2 F 4 ) p (OCF 2 ) q OCF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CF 2 (OC 2 F 4 ) p (OCF 2 ) q OCF 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(C 2 H 5 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CF 2 (OC 2 F 4) p (OCF 2) q OCF 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5) 3
The compounds of general formula (I) can be used singly or in combination of two or more. Moreover, depending on the case, the said fluorine-substituted alkyl group containing organosilicon compound and its partial hydrolysis-condensation product can be used in combination.
一般式（Ｉ）で表されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、溶媒で希釈されたものを用いるとよい。使用できる溶媒としては、例えば、フッ素変性脂肪族炭化水素系溶剤（パーフルオロヘプタン、パーフルオロオクタン等）、フッ素変性芳香族炭化水素系溶剤（１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等）、のフッ素変性エーテル系溶剤（メチルパーフルオロブチルエーテル、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）等）、フッ素変性アルキルアミン系溶剤（パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリペンチルアミン等）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、ミネラルスピリッツ、トルエン、キシレン等）、ケトン系溶剤（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、アルコール溶剤（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール等）等が挙げられる。これらは１種単独でも２種以上を組み合わせてもよい。これらのなかでも、変性シランの溶解性、濡れ性等の点で、フッ素変性された溶剤が好ましく、特に、１，３−ジ（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、及びパーフルオロトリブチルアミンが好ましい。 The fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound represented by the general formula (I) may be diluted with a solvent. Examples of the solvent that can be used include fluorine-modified aliphatic hydrocarbon solvents (perfluoroheptane, perfluorooctane, etc.), fluorine-modified aromatic hydrocarbon solvents (1,3-di (trifluoromethyl) benzene, trifluoro Fluorine-modified ether solvents (methyl perfluorobutyl ether, perfluoro (2-butyltetrahydrofuran), etc.), fluorine-modified alkylamine solvents (perfluorotributylamine, perfluorotripentylamine, etc.), hydrocarbons Solvents (petroleum benzine, mineral spirits, toluene, xylene, etc.), ketone solvents (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), alcohol solvents (methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, etc.), etc.These may be used alone or in combination of two or more. Among these, a fluorine-modified solvent is preferable in terms of solubility, wettability, etc. of the modified silane, and in particular, 1,3-di (trifluoromethyl) benzene, perfluoro (2-butyltetrahydrofuran), and Perfluorotributylamine is preferred.
一般式（II）のシラン化合物
Ｒ'−Ｓｉ(ＯＲ’’)3及び／又はＳｉ(ＯＲ’’)4 （II）
一般式（II）において、Ｒ'は有機基であり、炭素数１〜５０（好ましくは１〜１０）のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基等）、エポキシエチル基、グリシジル基、アミノ基等が挙げられ、これらは置換されていても良い。
一般式（II）において、Ｒ’’は炭素数１〜４８のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基等）であり、メチル基又はエチル基が好ましい。
一般式（II）で表されるシラン化合物の具体例としては、例えば、構造式、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨ2、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣ3Ｈ6ＮＨ2、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）4Ｓｉ、（Ｃ2Ｈ5Ｏ）3Ｓｉ-Ｏ-Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3、等が挙げられる。但し、上記例示に限定されるものではない。
一般式（II）の化合物は、１種単独でも２種以上を組合せても使用することができる。
一般式（II）の化合物は、Ｒ'−Ｓｉ(ＯＲ’’)3を単独あるいは他の成分より多く用いることがより好ましい。
Silane compounds of general formula (II) R′—Si (OR ″) 3 and / or Si (OR ″) 4 (II)
In the general formula (II), R ′ is an organic group, an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms (preferably 1 to 10) (methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), epoxyethyl group, glycidyl group, amino group. Groups and the like, and these may be substituted.
In the general formula (II), R ″ is an alkyl group having 1 to 48 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), preferably a methyl group or an ethyl group.
Specific examples of the silane compound represented by the general formula (II) include, for example, a structural formula, (C 2 H 5 O) 3 SiC 3 H 6 NH 2 , (CH 3 O) 3 SiC 3 H 6 NH 2 , (C 2 H 5 O) 4 Si, (C 2 H 5 O) 3 Si-O-Si (OC 2 H 5) 3, and the like. However, it is not limited to the above example.
The compounds of the general formula (II) can be used singly or in combination of two or more.
In the compound of the general formula (II), it is more preferable to use R′—Si (OR ″) 3 alone or more than other components.
一般式(III)の含フッ素有機ケイ素化合物
ＡαＺ1Ｑ−Ｒｆ1−（Ｑ−Ｚ2−Ｑ−Ｒｆ1）x−ＱＺ1Ａα (III)
一般式(III)において、Ｒｆ1はパーフルオロオキシアルキレン基、Ｚ1は単結合又はケイ素原子１〜１５個を含む２〜９価の有機基、Ｚ2はケイ素原子２〜１００個を含む２価のポリオルガノシロキシレン基、Ｑは酸素原子及び／又は窒素原子を含んでいてよい炭素数２〜１２の、２〜９価の基であり、互いに異なっていてもよく、αは１〜８の整数、ｘは０〜５の整数であり、Ａは下記一般式(IV)で示される基である。
−ＣdＨ2dＳｉＲ1 3-cＸ1 c (IV)
一般式(IV)において、Ｒ1は炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基である。Ｘ1は加水分解性基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などの炭素数１〜１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基などの炭素数２〜１０のオキシアルコキシ基、アセトキシ基などの炭素数１〜１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基などの炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、クロル基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基などが挙げられる。中でもメトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基、クロル基が好ましい。ｃは２又は３、ｄは０〜６の整数である。
Fluorine-containing organosilicon compound of general formula (III)
AαZ 1 Q-Rf 1- (QZ 2 -Q-Rf 1 ) x -QZ 1 Aα (III)
In the general formula (III), Rf 1 is a perfluorooxyalkylene group, Z 1 is a single bond or a 2-9 valent organic group containing 1 to 15 silicon atoms, and Z 2 is 2 containing 2 to 100 silicon atoms. A polyvalent organoxylene group, Q is a 2-9 valent group having 2 to 12 carbon atoms which may contain an oxygen atom and / or a nitrogen atom, may be different from each other, and α is 1-8. , X is an integer of 0 to 5, and A is a group represented by the following general formula (IV).
-C d H 2d SiR 1 3- c X 1 c (IV)
In general formula (IV), R 1 is an alkyl group or a phenyl group having 1 to 4 carbon atoms. X 1 is a hydrolyzable group, for example, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group or a butoxy group, an oxy group having 2 to 10 carbon atoms such as a methoxymethoxy group or a methoxyethoxy group. Examples thereof include C1-C10 acyloxy groups such as alkoxy groups and acetoxy groups, C2-C10 alkenyloxy groups such as isopropenoxy groups, halogen groups such as chloro groups, bromo groups and iodo groups. Of these, a methoxy group, an ethoxy group, an isopropenoxy group, and a chloro group are preferable. c is 2 or 3, d is an integer of 0-6.
一般式(IV)で表される含フッ素有機ケイ素化合物としては、例えば、下記（１）及び（２）の構造を有し、各ＰＦＰＥの部分は（３）のＰＦＰＥ1又は（４）のＰＦＰＥ2の構造を適宜選択可能とする化合物等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
その他、パーフルオロポリエーテルとポリシロキサンに由来する構造を含むシラン化合物、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物、ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテル等といったフッ素含有物を１種単独でも２種以上を組合せても使用することができる。 Other fluorine-containing materials such as silane compounds containing structures derived from perfluoropolyethers and polysiloxanes, fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compounds, silicon-free perfluoropolyethers, etc., alone or in combination of two or more Can also be used.
本発明で用いる前記蒸着材料においては、必要に応じ溶媒で希釈しても良く、動粘度が低く揮発性の高く、他の成分と実質的反応しないフッ素系溶媒を用いて希釈することが好ましい。このようにすると、蒸着材料の粘度を下げることができるので、多孔性材料への注入性の改善ができ、また蒸着材料の固化も容易になる。 In the said vapor deposition material used by this invention, you may dilute with a solvent as needed, and it is preferable to dilute using a fluorine-type solvent with low kinematic viscosity and high volatility which does not react substantially with another component. In this way, since the viscosity of the vapor deposition material can be lowered, the injection property into the porous material can be improved, and the vapor deposition material can be easily solidified.
本発明における光学部材としては、例えば、眼鏡レンズ、カメラレンズ、ワードプロセッサーのディスプレー等に付設する光学フィルター、自動車の窓ガラス等が挙げられ、特にプラスチックレンズ、中でも眼鏡用プラスチックレンズに適している。
本発明に用いる光学部材の材質としては、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタンなどのプラスチック製光学基板、あるいは無機ガラス製光学基板などが挙げられる。なお、上記基板は基板上にハードコート層を有するものであってもよい。ハードコート層としては、有機ケイ素化合物、アクリル化合物等を含んだ硬化膜を例示できる。
Examples of the optical member in the present invention include an eyeglass lens, a camera lens, an optical filter attached to a display of a word processor, an automobile window glass, and the like, and are particularly suitable for a plastic lens, particularly a plastic lens for eyeglasses.
As the material of the optical member used in the present invention, methyl methacrylate homopolymer, copolymer having methyl methacrylate and one or more other monomers as monomer components, diethylene glycol bisallyl carbonate homopolymer, diethylene glycol bisallyl carbonate, Plastic optics such as copolymers containing one or more other monomers as monomer components, sulfur-containing copolymers, halogen-containing copolymers, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, unsaturated polyester, polyethylene terephthalate, polyurethane, etc. Examples of the substrate include an optical substrate made of inorganic glass. The substrate may have a hard coat layer on the substrate. Examples of the hard coat layer include a cured film containing an organosilicon compound, an acrylic compound, and the like.
本発明においては、光学部材上に反射防止膜が形成されており、該反射防止膜上に蒸着膜を形成しても良い。
反射防止膜とは、例えば、レンズ等の光学基板表面の反射を減少させるために設けられた ＺｒＯ2、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｙ2Ｏ3、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3などから形成される単層または多層膜（但し、最外層にＳｉＯ2膜を有することが好ましい）又はＣｒＯ2などの着色膜（但し、最外層にＳｉＯ2膜を有することが好ましい）を言う。本発明においては、反射防止膜の最外層に二酸化ケイ素を主成分とする層が用いられることが好ましい。ここで二酸化ケイ素を主成分とするとは、実質的に二酸化ケイ素からなる層、又は二酸化ケイ素、酸化アルミニウム及び有機化合物からなるハイブリッド層をいう。なお、反射防止膜は真空蒸着法によって作成されることが好ましい。
In the present invention, an antireflection film is formed on the optical member, and a vapor deposition film may be formed on the antireflection film.
The antireflection film is, for example, ZrO 2 , SiO 2 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , Y 2 O 3 , MgF 2 , Al 2 O 3 provided to reduce reflection on the surface of an optical substrate such as a lens. monolayer or multilayer film formed from such (but preferably has a SiO 2 film as the outermost layer) or colored film such as CrO 2 (however, it is preferred to have a SiO 2 film as the outermost layer) refers to. In the present invention, it is preferable to use a layer mainly composed of silicon dioxide as the outermost layer of the antireflection film. Here, silicon dioxide as a main component means a layer substantially composed of silicon dioxide or a hybrid layer composed of silicon dioxide, aluminum oxide and an organic compound. The antireflection film is preferably formed by a vacuum deposition method.
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、本実施例及び比較例で得られたプラスチックレンズは以下に示す評価方法により諸物性を評価した。
（１）水に対する静止接触角
接触角計ＣＡ−Ｄ（商品名：協和界面科学（株）製）を使用し、２５℃において直径２ｍｍの水滴を針先に作り、これをレンズの凸面の最上部に触れさせて、液滴を作った。この時に生ずる液滴と面との角度を測定し静止接触角とした。静止接触角θは水滴の半径（水滴がレンズ表面に接触している部分の半径）をｒとし、水滴の高さをｈとしたときに、以下の式で求められる。
θ＝２×ｔａｎ‐1（ｈ／ｒ）
なお、静止接触角の測定は水の蒸発による測定誤差を最小限にするために水滴をレンズに触れさせた後１０秒以内に行った。
（２）外観
目視にて干渉色の色ムラ及び干渉色変化があるかどうかを調べ、眼鏡レンズとして使用できる外観かどうか評価した。
（３）耐久性
レンズクリーニング布(商品名:HOYA Clearcloth)で５００ｇの荷重をかけて撥水膜を有するプラスチックレンズ表面を３６００回、前後に擦り（２５℃、相対湿度５０〜６０％）、その後（１）に記載した方法で水に対する静止接触角を測定した。
（４）耐摩耗性
新東科学（株）製往復摩擦磨耗試験機にて、撥水膜を有するプラスチックレンズ表面に、荷重４ｋｇ、砂消しゴム５０往復摩耗テストを実施し、ヘーズメーターＭＨ−１５０（商品名：（株）村上色彩技術研究所製）にてヘーズ値を測定、ヘーズ値の変化を測定した。
（使用砂消しゴム、ライオン（株）製 ギャザ半砂）
（５）動摩擦係数
連続加重式表面性測定機ＴＹＰＥ：２２Ｈ（商品名：新東科学（株）製）を使用し、移動距離２０ｍｍの平均動摩擦係数を各々３回測定し、平均値を出した。
（６）スチールウール耐摩耗性
新東科学（株）製往復摩擦磨耗試験機にて、撥水膜を有するプラスチックレンズ表面に、１ｋｇ、２ｋｇ、３ｋｇの荷重で、スチールウール（ボンスター販売（株）製 ＃００００）２０往復の摩耗テストを実施し、傷の発生状態を確認した。
その評価は、暗室、蛍光灯下、反射光にて目視により反射防止膜上の傷の有無を確認し、傷無し○、傷有×とし、プラスチックレンズ上、各荷重３箇所でテストを実施し、３箇所○であれば、その荷重を、スチールウール耐荷重とした。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
In addition, the physical properties of the plastic lenses obtained in the examples and comparative examples were evaluated by the evaluation methods shown below.
(1) Static contact angle with respect to water Using a contact angle meter CA-D (trade name: manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), a water drop with a diameter of 2 mm is made on the needle tip at 25 ° C. A drop was made by touching the top. The angle between the droplet and the surface generated at this time was measured to obtain a static contact angle. The static contact angle θ can be obtained by the following equation, where r is the radius of the water droplet (the radius of the portion where the water droplet is in contact with the lens surface) and h is the height of the water droplet.
θ = 2 × tan− 1 (h / r)
The measurement of the static contact angle was performed within 10 seconds after the water droplet touched the lens in order to minimize the measurement error due to water evaporation.
(2) Appearance Visual inspection was conducted to determine whether there was any interference color unevenness and interference color change, and to evaluate whether the appearance could be used as a spectacle lens.
(3) Durability With a lens cleaning cloth (trade name: HOYA Clearcloth), rub the plastic lens surface with a water repellent film 3600 times back and forth with a load of 500 g (25 ° C., relative humidity 50-60%), then The static contact angle with respect to water was measured by the method described in (1).
(4) Abrasion resistance Using a reciprocating friction and abrasion tester manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd., a plastic lens surface having a water-repellent film was subjected to a load of 4 kg and a
(Used sand eraser, Gather semi-sand made by Lion Corporation)
(5) Coefficient of dynamic friction Using a continuous load type surface property measuring machine TYPE: 22H (trade name: manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), the average dynamic coefficient of friction at a moving distance of 20 mm was measured three times, and the average value was obtained. .
(6) Steel wool wear resistance Steel wool (Bonnster Sales Co., Ltd.) with a load of 1 kg, 2 kg, or 3 kg on the surface of a plastic lens having a water repellent film using a reciprocating frictional wear tester manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. Manufactured # 0000) A 20-way wear test was performed to confirm the state of scratches.
In the evaluation, the presence or absence of scratches on the antireflection film was confirmed by visual observation in a dark room, under a fluorescent lamp, and with reflected light. The test was conducted with three points on the plastic lens. If it was three places (circle), the load was made into steel wool load capacity.
製造例１（蒸着材料１の製造）
以下のようにして、蒸着材料１を製造した。
容器は、ガラススクリュー瓶（アズワン（株）製）３０ｃｃを使用。スターラーの攪拌速度は５００ｒｐｍに設定。
Production Example 1 (Production of Vapor Deposition Material 1)
The vapor deposition material 1 was manufactured as follows.
The container uses a 30 cc glass screw bottle (manufactured by AS ONE). The stirring speed of the stirrer is set to 500 rpm.
（工程１）シラン化合物とシリコーンオイルとの反応溶液の製造
シラン化合物としてＫＢＥ４０３（商品名：信越化学工業（株）製、分子量２７８．４，屈折率（２５℃）１．４２５）１ｇと、シリコーンオイルとしてＫＦ８５７（商品名：信越化学工業（株）製、動粘度６５ｍｍ2／ｓ（２５℃）、屈折率（２５℃）１．４１１、官能基当量７９０ｇ／ｍｏｌ）４ｇを２４時間、混合攪拌した。
前記シラン化合物はエポキシ基を有しており、前記シリコーンオイルは、メトキシ基と、アミノ基を有している。これにより、アミノ基とグリシジル基が反応し、メトキシ基を主鎖として、側鎖に２及び３級アミンを有したジメチルシロキサン含有混合物を得る。この反応には約２４時間を要す。
（工程２）シリコーンオイルの反応溶液と、シランカップリング剤との混合
工程１生成物質５gと、シラン化合物としてＫＢＥ９０３（商品名：信越化学工業（株）製、分子量２２１．４，屈折率（２５℃）１．４２０）５ｇとを２４時間混合攪拌して工程２生成物質を得た。
（工程３）一般式（Ｉ）のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物として、以下の構造を有する有機ケイ素化合物（化合物（１））５ｇに、工程２で製造した溶液１g、ＩＰＡ（イソプロパノール）１ｇを投入し、１０分攪拌する。
化合物（１）
（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p（ＯＣＦ2）qＯＣＦ2ＣＨ2
ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
（式中、ｐ＝２２、ｑ＝２２、繰り返し単位（ＯＣ2Ｆ4）及び（ＯＣＦ2）の配列はランダムである。）
（工程４）注入性改善及び乾燥性改善のためのハイドロフルオロエーテルの混合過程
工程３で調製した混合溶液７ｇに、ハイドロフルオロエーテルとしてＨＦＥ７２００（商品名：住友スリーエム（株）製、Ｃ4Ｆ9ＯＣ2Ｈ5、粘度５．７×１０-4Ｐａ・ｓ、動粘度０．４０ｍｍ2／ｓ、屈折率（２５℃）１．２８）３ｇ投入し、１時間、攪拌を行った。
以上の工程にて蒸着材料１を得た。
(Step 1) Production of reaction solution of silane compound and silicone oil 1 g of KBE403 (trade name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., molecular weight 278.4, refractive index (25 ° C.) 1.425) as a silane compound, and silicone 4 g of KF857 (trade name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., kinematic viscosity 65 mm 2 / s (25 ° C.), refractive index (25 ° C.) 1.411, functional group equivalent 790 g / mol) as oil was mixed and stirred for 24 hours. did.
The silane compound has an epoxy group, and the silicone oil has a methoxy group and an amino group. Thereby, an amino group and a glycidyl group react, and a dimethylsiloxane-containing mixture having a methoxy group as a main chain and having secondary and tertiary amines in side chains is obtained. This reaction takes about 24 hours.
(Step 2) Mixing of a reaction solution of silicone oil with a silane coupling agent Step 1 5 g of the product and KBE903 (trade name: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., molecular weight 221.4, refractive index (25) as the silane compound C.) 1.420) and 5 g were mixed and stirred for 24 hours to obtain the product of Step 2.
(Step 3) As a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound of the general formula (I), 1 g of the solution produced in Step 2 and 1 g of IPA (isopropanol) are added to 5 g of an organosilicon compound (compound (1)) having the following structure: And stir for 10 minutes.
Compound (1)
(CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CF 2 (OC 2 F 4 ) p (OCF 2 ) q OCF 2 CH 2
OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3
(In the formula, p = 22, q = 22, and the arrangement of the repeating units (OC 2 F 4 ) and (OCF 2 ) is random.)
(Step 4) Mixing process of hydrofluoroether for improvement of injectability and drying property To 7 g of the mixed solution prepared in step 3, HFE7200 (trade name: manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd., C 4 F 9 as hydrofluoroether) 3 g of OC 2 H 5 , viscosity 5.7 × 10 −4 Pa · s, kinematic viscosity 0.40 mm 2 / s, refractive index (25 ° C.) 1.28) was added and stirred for 1 hour.
The vapor deposition material 1 was obtained by the above process.
製造例２（蒸着材料２の製造）
以下のようにして、蒸着材料２を製造した。
容器は、ガラススクリュー瓶（アズワン（株）製）３０ｃｃを使用。スターラーの攪拌速度は５００ｒｐｍに設定。
Production Example 2 (Production of Vapor Deposition Material 2)
The vapor deposition material 2 was manufactured as follows.
The container uses a 30 cc glass screw bottle (manufactured by AS ONE). The stirring speed of the stirrer is set to 500 rpm.
（工程１）フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物として化合物(1) ５ｇにＩＰＡ １ｇを投入し、１０分攪拌する。
（工程２）注入性改善及び乾燥性改善のためのハイドロフルオロエーテルの混合過程
工程１で調製した混合溶液６ｇに、ハイドロフルオロエーテルとしてＨＦＥ７２００を５ｇ投入し、１時間、攪拌を行った。
以上の工程にて蒸着材料２を得た。
(Step 1) As a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound, 1 g of IPA is added to 5 g of compound (1) and stirred for 10 minutes.
(Step 2) Mixing process of hydrofluoroether for improvement of injectability and drying property 5 g of HFE7200 as hydrofluoroether was added to 6 g of the mixed solution prepared in Step 1, and stirred for 1 hour.
The vapor deposition material 2 was obtained by the above process.
製造例３（蒸着材料３の製造）
一般式（Ｉ）のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を１０ｇに対し、ＫＢＥ０４（商品名：信越化学工業（株）製、分子量２０８．３，屈折率（２５℃）１．３８１１）を３ｇ投入し、１０分攪拌を行ない蒸着材料３とした。
Production Example 3 (Production of Vapor Deposition Material 3)
3 g of KBE04 (trade name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., molecular weight 208.3, refractive index (25 ° C.) 1.3811) is added to 10 g of the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound of the general formula (I). Then, stirring was performed for 10 minutes to obtain a vapor deposition material 3.
製造例４（蒸着材料４の製造）
フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物として下記化合物（３）５ｇに、ハイドロフルオロエーテルとしてＨＦＥ７２００を５ｇ投入し、１時間、攪拌を行い蒸着材料４とした。
Production Example 4 (Production of Vapor Deposition Material 4)
5 g of HFE7200 as a hydrofluoroether was added to 5 g of the following compound (3) as a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound, and the mixture was stirred for 1 hour to obtain a deposition material 4.
実施例１
ＳＵＳ製のトレー（内径２１ｍｍ、厚み１ｍｍ、深さ３ｍｍ）に、シリカフィルターＱＲ−１００（商品名：アドバンテック東洋（株）製，径２１ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ、繊維径１〜１０μｍ、空隙率平均９２％（８５〜９２％））を１枚挿入する。
そこに、第１蒸着材料として製造例１で得られた蒸着材料１を０．３ｃｃ注入し、８０℃で２時間ドライオーブン加熱を行い、第１蒸着材料を固化する。
次に、固化した第１蒸着材料含有フィルター上に、新しいシリカフィルターＱＲ−１００を挿入し、第２蒸着材料として製造例２で得られた蒸着材料２を０．３ｃｃ注入し、８０℃で２時間ドライオーブン加熱を行い固化し、蒸発源を製造した。
この、蒸発源を、真空蒸着装置内にセットし、第１蒸着材料側からハロゲンヒーターにて７００℃まで２４０秒で上昇させ、さらに７００℃から８５０℃まで２４０秒で上昇させ、反射防止膜付プラスチックレンズに上に撥水膜を形成した。このレンズの視感反射率は０．４％であった。
また、上記（１）〜（６）の評価結果を表３に示す。スチールウール耐荷重は３ｋｇまで問題なく、耐摩耗性（ヘーズ値変化量）＋１．５、水接触角１０８℃であった。
Example 1
A SUS tray (inner diameter: 21 mm, thickness: 1 mm, depth: 3 mm) and silica filter QR-100 (trade name: manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd., diameter: 21 mm, thickness: 0.5 mm, fiber diameter: 1 to 10 μm, porosity: Insert an average of 92% (85-92%).
There, 0.3 cc of the vapor deposition material 1 obtained in Production Example 1 is injected as a first vapor deposition material, and heated in a dry oven at 80 ° C. for 2 hours to solidify the first vapor deposition material.
Next, a new silica filter QR-100 is inserted on the solidified first vapor deposition material-containing filter, 0.3 cc of the vapor deposition material 2 obtained in Production Example 2 is injected as a second vapor deposition material, and 2 at 80 ° C. Evaporation source was produced by solidifying by dry oven heating for hours.
This evaporation source is set in a vacuum deposition apparatus, and is raised from the first deposition material side to 700 ° C. by a halogen heater in 240 seconds, and further raised from 700 ° C. to 850 ° C. in 240 seconds, with an antireflection film. A water repellent film was formed on the plastic lens. The luminous reflectance of this lens was 0.4%.
Table 3 shows the evaluation results of the above (1) to (6). The steel wool load capacity was up to 3 kg without any problem, and was wear resistance (change in haze value) +1.5 and water contact angle 108 ° C.
また、下記の測定条件にて、形成された撥水膜のＥＳＣＡ分析（Ｘ線光電子分光分析装置 ＰＨＩ製 ＥＳＣＡ５４００ＭＣ）を行った、その結果を図５に示す。図５は、Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ｔｉｍｅ（蒸着時間）に対する、Ｒｅｌａｔｉｖｅ Ａｔｏｍｉｃ Ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ（相対原子濃度）を示す。
測定条件
Ｘ線源：Ｍｇ−Ｋα（１２５３．６ｅＶ）
Ｘ線出力：３００Ｗ（１５ｋＶ−２０ｍＡ）
分析面積：１．０ｍｍφ
測定元素：Ｃ、Ｏ、Ｆ、Ｓｉ、Ｔｉ（図５には、Ｃ、Ｆ、Ｓｉのみ表記）
分析分解能：Ｐａｓｓ Ｅｎｅｒｇｙ（７１．５５ｅＶ）、Ｓｔｅｐ（０．１ｅＶ）
イオン銃条件
イオン種：Ａｒ+
加速電圧：３ｋＶ
ラスター：３ｍｍ×３ｍｍ
Ｚａｌａｒ回転：無し
なお、図５において、Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ｔｉｍｅの０が最も表面、１００が最も内側（レンズ側）である。同図より、形成された撥水膜に濃度傾斜があることを確認できる。
Further, ESCA analysis of the formed water-repellent film (X-ray photoelectron spectrometer PCA ESCA5400MC) was performed under the following measurement conditions, and the results are shown in FIG. FIG. 5 shows Relative Atom Concentration (relative atomic concentration) versus Sputtering time (deposition time).
Measurement conditions X-ray source: Mg-Kα (1253.6 eV)
X-ray output: 300W (15kV-20mA)
Analysis area: 1.0mmφ
Measurement elements: C, O, F, Si, Ti (only C, F, Si are shown in FIG. 5)
Analysis resolution: Pass Energy (71.55 eV), Step (0.1 eV)
Ion gun conditions Ion species: Ar +
Acceleration voltage: 3 kV
Raster: 3mm x 3mm
Zalar rotation: None In FIG. 5, 0 of the sputtering time is the frontmost surface and 100 is the innermost side (lens side). From this figure, it can be confirmed that the formed water-repellent film has a concentration gradient.
実施例２
製造例１において、シラン化合物ＫＢＥ４０３をＫＢＥ４０２（商品名：信越化学工業（株）製、分子量２４８．４，屈折率（２５℃）１．４３１）に変更した以外は同様にして製造した蒸着材料を第１蒸着材料として用い、それ以外は実施例１と同様の方法にて、反射防止膜付プラスチックレンズに上に撥水膜を形成した。このレンズの視感反射率は０．４％であった。
また、上記（１）〜（６）の評価結果を表３に示す。スチールウール耐荷重は３ｋｇまで問題なく、耐摩耗性（ヘーズ値変化量）＋１．５、水接触角１０８℃であった。得られた撥水膜には実施例１同様に濃度傾斜が確認できた。
Example 2
A vapor deposition material produced in the same manner as in Production Example 1 except that the silane compound KBE403 was changed to KBE402 (trade name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., molecular weight 248.4, refractive index (25 ° C.) 1.431). A water repellent film was formed on a plastic lens with an antireflection film by the same method as in Example 1 except that it was used as the first vapor deposition material. The luminous reflectance of this lens was 0.4%.
Table 3 shows the evaluation results of the above (1) to (6). The steel wool load capacity was up to 3 kg without any problem, and was wear resistance (change in haze value) +1.5 and water contact angle 108 ° C. Concentration gradient was confirmed in the obtained water repellent film as in Example 1.
実施例３
ＳＵＳ製のトレー（内径２１ｍｍ、厚み１ｍｍ、深さ３ｍｍ）に、シリカフィルターＱＲ−１００（商品名：アドバンテック東洋株式会社製，径２１ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ、繊維径１〜１０μｍ、空隙率平均９２％（８５〜９２％））を１枚挿入する。
そこに、第１蒸着材料として製造例３で用いた化合物（２）を０．２ｃｃ注入し、５０℃で１時間ドライオーブン加熱を行い、第１蒸着材料を固化する。
次に、固化した第１蒸着材料含有フィルター上に、新しいシリカフィルターＱＲ−１００を挿入し、第２蒸着材料として製造例４で得られた蒸着材料４を０．３ｃｃ注入し、５０℃で１時間ドライオーブン加熱を行い固化し、蒸発源を製造した。
この、蒸発源を、真空蒸着装置内にセットし、第１蒸着材料側からハロゲンヒーターにて７００℃まで２４０秒で上昇させ、さらに７００℃から８５０℃まで２４０秒で上昇させ、反射防止膜付プラスチックレンズに上に撥水膜を形成した。
Example 3
To a SUS tray (inner diameter 21 mm, thickness 1 mm, depth 3 mm), silica filter QR-100 (trade name: manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd., diameter 21 mm, thickness 0.5 mm, fiber diameter 1 to 10 μm, porosity average) 92% (85-92%)) is inserted.
There, 0.2 cc of the compound (2) used in Production Example 3 is injected as a first vapor deposition material, and heated in a dry oven at 50 ° C. for 1 hour to solidify the first vapor deposition material.
Next, a new silica filter QR-100 is inserted on the solidified first vapor deposition material-containing filter, 0.3 cc of the vapor deposition material 4 obtained in Production Example 4 is injected as the second vapor deposition material, and 1 at 50 ° C. Evaporation source was produced by solidifying by dry oven heating for hours.
This evaporation source is set in a vacuum deposition apparatus, and is raised from the first deposition material side to 700 ° C. by a halogen heater in 240 seconds, and further raised from 700 ° C. to 850 ° C. in 240 seconds, with an antireflection film. A water repellent film was formed on the plastic lens.
実施例４
ＳＵＳ製のトレー（内径２１ｍｍ、厚み１ｍｍ、深さ３ｍｍ）に、シリカフィルターＱＲ−１００（商品名：アドバンテック東洋株式会社製，径２１ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ、繊維径１〜１０μｍ、空隙率平均９２％（８５〜９２％））を１枚挿入する。
そこに、第１蒸着材料として製造例３で得られた蒸着材料３を０．２ｃｃ注入し、５０℃で１時間ドライオーブン加熱を行い、第１蒸着材料を固化する。
次に、固化した第１蒸着材料含有フィルター上に、新しいシリカフィルターＱＲ−１００を挿入し、第２蒸着材料として製造例４で得られた蒸着材料４を０．３ｃｃ注入し、５０℃で１時間ドライオーブン加熱を行い固化し、蒸発源を製造した。
この、蒸発源を、真空蒸着装置内にセットし、第１蒸着材料側からハロゲンヒーターにて７００℃まで２４０秒で上昇させ、さらに７００℃から８５０℃まで２４０秒で上昇させ、反射防止膜付プラスチックレンズに上に撥水膜を形成した。
Example 4
To a SUS tray (inner diameter 21 mm, thickness 1 mm, depth 3 mm), silica filter QR-100 (trade name: manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd., diameter 21 mm, thickness 0.5 mm, fiber diameter 1 to 10 μm, porosity average) 92% (85-92%)) is inserted.
Therein, 0.2 cc of the vapor deposition material 3 obtained in Production Example 3 is injected as a first vapor deposition material, and heated in a dry oven at 50 ° C. for 1 hour to solidify the first vapor deposition material.
Next, a new silica filter QR-100 is inserted on the solidified first vapor deposition material-containing filter, 0.3 cc of the vapor deposition material 4 obtained in Production Example 4 is injected as the second vapor deposition material, and 1 at 50 ° C. Evaporation source was produced by solidifying by dry oven heating for hours.
This evaporation source is set in a vacuum deposition apparatus, and is raised from the first deposition material side to 700 ° C. by a halogen heater in 240 seconds, and further raised from 700 ° C. to 850 ° C. in 240 seconds, with an antireflection film. A water repellent film was formed on the plastic lens.
比較例１
撥水処理剤（化合物(1)）を０．３０ｍｌしみ込ませたＳＵＳ製チップを５０℃で１時間ドライオーブン加熱し、その後、真空蒸着装置内にセットした。ハロゲンヒーターにて７００℃まで２４０秒で上昇させ、さらに７００℃から８５０℃まで２４０秒で上昇させ、反射防止膜付プラスチックレンズに撥水膜を形成した。このレンズの視感反射率は０．４％であった。
また、上記（１）〜（６）の評価結果を表３に示す。スチールウール耐荷重は２ｋｇまでは問題なく、耐摩耗性（ヘーズ値変化量）＋３．５、水接触角１０８℃であった。得られた撥水膜には濃度傾斜は無かった。
Comparative Example 1
A SUS chip soaked with 0.30 ml of the water repellent agent (compound (1)) was heated in a dry oven at 50 ° C. for 1 hour, and then set in a vacuum deposition apparatus. The temperature was raised from 700 ° C. to 240 ° C. with a halogen heater in 240 seconds, and further raised from 700 ° C. to 850 ° C. in 240 seconds to form a water repellent film on the plastic lens with an antireflection film. The luminous reflectance of this lens was 0.4%.
Table 3 shows the evaluation results of the above (1) to (6). The steel wool load resistance was no problem up to 2 kg, and was wear resistance (change in haze value) +3.5 and water contact angle 108 ° C. The obtained water repellent film had no concentration gradient.
以上詳細に説明したように、本発明の蒸発源の形成方法により光学部材を製造すると、１回の工程で２種以上の蒸着材料を対象物に蒸着させることができ、蒸着対象物側と表面側とで蒸着材料の濃度の傾斜特性を有する蒸着膜を形成することができる。特に、光学部材として眼鏡用プラスチックレンズに適している。 As described above in detail, when an optical member is manufactured by the evaporation source forming method of the present invention, two or more kinds of vapor deposition materials can be vapor-deposited on the object in one step, and the vapor deposition object side and the surface A vapor deposition film having a gradient characteristic of the concentration of the vapor deposition material can be formed on the side. In particular, the optical member is suitable for a plastic lens for spectacles.
１．蒸着対象物（レンズ基材＋反射防止膜）
２．蒸着膜
２ａ．第１蒸着材料リッチ部分
２ｂ．第２蒸着材料リッチ部分
３．揮発中の第１蒸着材料＋第２蒸着材料
４．第２蒸着材料フィルター
５．第１蒸着材料フィルター
６．蒸着源
７．ヒーター
８．空洞
９. 第２蒸着材料フィルター
１０. 第１蒸着材料フィルター
１１. 第２蒸着材料フィルター
１２. 第１蒸着材料フィルター
１３．第２蒸着材料フィルター
１４．第１蒸着材料フィルター
1. Deposition target (lens substrate + antireflection film)
2.
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