JP5302788B2 - レーザ加工装置 - Google Patents
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
Z1=(G−H)+nH…(1)
Z2=(C−E)+nE…(2)
(A)加工対象物:パイレックス(登録商標)ガラス(厚さ700μm)
(B)レーザ
光源:Yb:KGW超短パルスレーザ
波長:1030nm
発振形態:再生増幅
繰り返し周波数:3kHz
パルス幅:3ps
出射レーザエネルギ:100μJ/パルス
出射レーザ光品質:TEM00
偏光特性:直線偏光
(C)対物レンズ
開口数(NA):0.55
レーザ光に対する透過率:70%
(D)照射条件
第2の点P2でのレーザ光の断面形状:100μm(Y軸方向の最大長さ)×5μm(X軸方向の最大長さ)
第2の点P2でのレーザ光の断面積:5×10−6cm2
第2の点P2でのレーザ光のピークパワー密度:5.1×1012W/cm2
第1の点P1でのレーザ光の断面形状:7μm(Y軸方向の最大長さ)×50μm(X軸方向の最大長さ)
第1の点P1でのレーザ光の断面積:3.5×10−6cm2
第1の点P1でのレーザ光のピークパワー密度:1×1012W/cm2
(E)対物レンズに対する支持台の移動速度:300mm/s
Claims (8)
- レーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光に対して透過性を有する加工対象物を支持する支持台と、
平行光を光軸と直交する所定の方向において発散又は収束させる機能を有し、前記レーザ光源から出射された前記レーザ光を前記所定の方向において発散又は収束させる第1の光学系と、
平行光を光軸上の一点に収束させる機能を有し、前記第1の光学系から出射された前記レーザ光を、光軸と直交する第1の方向において第1の点に収束させ、光軸及び前記第1の方向と直交する第2の方向において第2の点に収束させる第2の光学系と、
前記第2の光学系に対して前記第1の光学系を光軸に沿って相対的に移動させる第1の移動機構と、
前記第2の光学系に対して前記支持台を光軸に沿って相対的に移動させる第2の移動機構と、を備え、
前記第1の移動機構及び前記第2の移動機構によって、前記第1の点及び前記第2の点を前記加工対象物の外表面又は内部に位置させて、前記加工対象物に前記レーザ光を照射することを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記第1の移動機構及び前記第2の移動機構によって、前記第1の点及び前記第2の点を前記加工対象物の内部に位置させて、前記加工対象物に前記レーザ光を照射することを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
- 前記第1の移動機構及び前記第2の移動機構によって、前記第1の点及び前記第2の点を前記加工対象物の外表面に位置させて、前記加工対象物に前記レーザ光を照射することを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
- 前記第1の移動機構及び前記第2の移動機構によって、前記第1の点を前記加工対象物の内部に位置させ、前記第2の点を前記加工対象物の外表面に位置させて、前記加工対象物に前記レーザ光を照射することを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
- 直交するように第1の加工ライン及び第2の加工ラインが前記加工対象物に設定されている場合に、前記第1の加工ラインと前記第2の加工ラインとが直交する部分に前記第1の点及び前記第2の点を位置させて、前記加工対象物に前記レーザ光を照射することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載のレーザ加工装置。
- 前記第2の移動機構は、前記第2の光学系に対して前記支持台を前記第1の方向に相対的に移動させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載のレーザ加工装置。
- 前記第2の移動機構は、前記第2の光学系に対して前記支持台を前記第2の方向に相対的に移動させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載のレーザ加工装置。
- 前記第1の光学系と前記第2の光学系との間の光軸上には、前記レーザ光を反射する光学部材が配置され、
前記光学部材は、前記加工対象物を観察するための観察光を透過させることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載のレーザ加工装置。
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