JP5300920B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
−放射ビームB(例えばUV放射またはDUV放射)を調整するように構成されたイルミネーションシステム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
−基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wの(例えば1つまたは複数のダイを備える)ターゲット部分Cに投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
Claims (13)
- テーブルに支持された基板にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、
前記テーブルと前記投影システムの少なくとも一部との付近における環境に加湿ガスを供給するための出口と、
前記出口と流体連結した状態の加湿装置であって、
液体に対して親液性である表面を有するメンブレンと、
前記メンブレンの一方の側にガスを誘導するための第1の導管と、
前記メンブレンの他方の側に前記液体を誘導するための第2の導管と、
前記一方の側から離れる方にガスを誘導するための第3の導管と、
前記他方の側から離れる方に前記液体を誘導するための第4の導管と、
前記第2の導管の上流側の前記液体の温度を調節するためかつ/または前記メンブレンの上流側および/または下流側の前記ガスの温度を調節するための温度調節器と
を備え、前記第4の導管が、前記温度調節器の後に設けられる加湿装置と
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記投影システムと、前記基板テーブル、前記基板、もしくは前記基板テーブルおよび基板の双方との間の空間に液浸液を供給するための液体供給システムをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記空間に前記液浸液を閉じ込めるための液体閉じ込め構造をさらに備える、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記出口が、前記液体閉じ込め構造の下面におけるガスナイフ出口である、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- テーブルに支持された基板にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、
前記投影システムと、前記基板テーブル、前記基板、もしくは前記基板テーブルおよび基板の双方との間に形成された空間に、液浸液を供給するためおよび閉じ込めるための液体閉じ込め構造であって、加湿ガスのガスナイフ流を供給するためのガスナイフ出口を備える液体閉じ込め構造と、
前記ガスナイフ出口に前記加湿ガスを供給するための加湿装置であって、
液体に対して親液性である表面を有するメンブレンと、
前記メンブレンの一方の側にガスを誘導するための第1の導管と、
前記メンブレンの他方の側に前記液体を誘導するための第2の導管と、
前記一方の側から離れる方にガスを誘導するための第3の導管と、
前記他方の側から離れる方に前記液体を誘導するための第4の導管と、
前記第2の導管の上流側の前記液体の温度を調節するためかつ/または前記メンブレンの上流側および/または下流側の前記ガスの温度を調節するための温度調節器と
を備え、前記第4の導管が、前記温度調節器の後に設けられる加湿装置と
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記加湿ガスが、前記基板の表面および/または前記基板テーブルおよび/またはセンサに供給される、請求項1ないし5のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- テーブルに支持された基板にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、
前記投影システムと、前記基板テーブル、前記基板、もしくは前記基板テーブルおよび基板の双方との間に形成された空間に、液浸液を供給するためおよび閉じ込めるための液体閉じ込め構造と、
前記テーブル、前記投影システムの少なくとも一部、および前記液体閉じ込め構造のうちの少なくとも一つの付近における環境に加湿ガスを供給するための出口と、
前記出口を介して供給されるガスを加湿するための加湿装置であって、
液体に対して親液性である表面を有するメンブレンと、
前記メンブレンの一方の側にガスを誘導するための第1の導管と、
前記メンブレンの他方の側に前記液体を誘導するための第2の導管と、
前記一方の側から離れる方にガスを誘導するための第3の導管と、
前記他方の側から離れる方に前記液体を誘導するための第4の導管と、
前記第2の導管の上流側の前記液体の温度を調節するためかつ/または前記メンブレンの上流側および/または下流側の前記ガスの温度を調節するための温度調節器と
を備え、前記第4の導管が、前記温度調節器の後に設けられる加湿装置と
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記メンブレンが、使用中、前記液体に対しては非浸透的に機能し、前記液体の蒸気に対しては浸透的に機能する、請求項1ないし7のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記メンブレンがチューブの形態であり、好ましくは前記メンブレンの前記一方の側が前記チューブの内部である、請求項1ないし8のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記メンブレンが中空繊維であり、前記液体が前記中空繊維の内側を通過し、前記ガスが前記中空繊維の外側の上を通過する、請求項1ないし8のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記加湿装置が、前記液体またはガスが調節される温度および/または前記液体またはガスの流速を変化させるために前記温度調節器を制御する制御器をさらに備える、請求項1ないし10のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御器が、前記メンブレンの前記一方の側に入るガス温度または前記メンブレンの前記一方の側から出て行くガス温度に基づいて制御を行う、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の導管の上流側で前記ガスを事前加湿するための事前加湿装置をさらに備える、1ないし12のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置。
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