JP5299241B2 - パーティクル計数装置 - Google Patents
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Description
前記パーティクル計数装置は通常、製造室からの排気管に配設されている。パーティクル計数装置は、排気管内の測定対象領域に対してレーザ光を照射する光源、レーザ光が照射されたパーティクルからの散乱光を検出する検出部、検出部の検出信号を予め設定された固有の弁別閾値と比較してパーティクルの有無を判別する判別部等を備えている。
本発明が解決しようとする課題は、光照射窓や光検出窓の汚れ状態を高感度に判定することができるパーティクル計数装置を提供することである。
a)真空状態ないし真空に近い状態の測定対象領域に光照射窓を通して光を照射する光照射手段と、
b)前記測定対象領域に光が照射されることにより発生する散乱光を光検出窓を通して検出し、電気信号に変換する散乱光検出手段と、
c)前記測定対象領域の真空度を測定する真空度計測手段と、
d)前記電気信号の時間平均値と真空度から前記光照射窓及び/又は光検出窓の汚れ状態を判別する判別手段と
を有することを特徴とする。
また、前記電気信号の時間平均値としては、測定対象領域を流れてくるパーティクルによる散乱光の電気信号のピーク幅の2倍以上の時間平均値を取ることが望ましい。
図1は、本実施形態に係るパーティクル計数装置の概略構成図である。パーティクル計数装置1は、検出部10、真空計12、信号処理部13、閾値設定部16、閾値判別部18、汚れ判別部19、カウンタ20等から構成されている。
図1及び図2に示すように、検出部10は例えば半導体製造装置の排気管22の途中に設けられている。排気管22内は真空状態ないし真空に近い状態になっており、図2において紙面と垂直な方向に(例えば紙面手前側から裏側に向かって)パーティクルPが流れてくるようになっている。
図3に弁別閾値とAC成分、パーティクルによる散乱光ピークとの関係を示す。通常はAC成分が弁別閾値を超えることはなく、パーティクルによる散乱光ピーク(図3において矢印で示す)が現れたときに弁別閾値を超えることになる。
なお、カウンタ20によるパーティクルの計数値、汚れ判別部19による判別結果は図示しない表示部に出力される。したがって、使用者は表示部の表示をみてパーティクルの数や光入射窓24等が汚れているか否かを確認することができる。
例えば、多数の窒素分子(直径0.2nmと仮定)による散乱光強度と、パーティクル(直径200nmと仮定)による散乱光強度を比較する。式(1)より、散乱光強度は、粒子径の6乗に比例する。上記の仮定では、粒子径は1000倍(=103)異なるため、散乱光強度は、1018倍異なる。たとえば、圧力1atmで検出領域の体積を0.2mlと仮定すると、そこに存在する分子数は、5.357×1018個(=6×1023/22.4×0.2×10-3)となる。つまり、1atmの窒素分子の散乱光は、200nmの1個のパーティクルによる散乱光より大きいことがわかる。
図5は、いずれの窓も汚れていないときの電気信号の波形である。このときは、電気信号に100mVのDC成分が観測された。
図6は、窓の汚れ状態が中程度であるときの電気信号の波形である。このときは、850mVのDC成分が観測された。
図7は、窓の汚れ状態がひどいときの電気信号の波形である。このときは1350mVのDC成分が観測された。図5〜図7から明らかなように、真空度が同じであっても窓の汚れ状態がひどくなるとDC成分が増加する。したがって、真空度に基づき設定された判別閾値と電気信号の時間平均値(DC成分)とから窓の汚れを判別することができる。
これに対して圧力を計測していないときは、DC成分の上昇が真空度によるものか否かを判別できないため、窓汚れの判定閾値は、大気圧のときのガス背景光の電気信号760mVよりも少し大きい値(たとえば800mV)に常時設定しておく必要がある。
以上のように、真空度とDC成分を組み合わせることにより、真空窓の汚れを800/20=40倍高感度に検知することができる。
12…真空計
13…信号処理部
16…閾値設定部
18…閾値判別部
19…汚れ判別部
20…カウンタ
24…光入射窓
26…光出射窓
28…光照射部
281…光源
30…検出窓
32…散乱光検出器
34…集光レンズ
40…測定対象領域
Claims (4)
- a)真空状態ないし真空に近い状態の測定対象領域に光照射窓を通して光を照射する光照射手段と、
b)前記測定対象領域に光が照射されることにより発生する散乱光を光検出窓を通して検出し、電気信号に変換する散乱光検出手段と、
c)前記測定対象領域の真空度を測定する真空度計測手段と、
d)前記電気信号の時間平均値と真空度から前記光照射窓及び/又は光検出窓の汚れ状態を判別する判別手段と
を有することを特徴とするパーティクル計数装置。 - 前記光照射窓と前記光検出窓が同一の窓であることを特徴とする請求項1に記載のパーティクル計数装置。
- 前記判別手段が、前記電気信号の時間平均値として、測定対象領域を流れてくるパーティクルによる散乱光の電気信号のピーク幅の2倍以上の時間平均値を取ることを特徴とする請求項1又は2に記載のパーティクル計数装置。
- 前記真空度計測手段が、前記測定対象領域の圧力を測定することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のパーティクル計数装置。
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US5027642A (en) * | 1987-10-13 | 1991-07-02 | American Air Liquide | Method of detecting and or removing trace amounts of condensible vapors from compressed gas |
US4928537A (en) * | 1988-12-06 | 1990-05-29 | Regents Of The University Of Minnesota | System for airborne particle measurement in a vacuum |
JPH02208531A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Hitachi Ltd | 真空度測定装置 |
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US5192870A (en) * | 1992-01-14 | 1993-03-09 | International Business Machines Corporation | Optical submicron aerosol particle detector |
US5247188A (en) * | 1992-01-23 | 1993-09-21 | High Yield Technology | Concentrator funnel for vacuum line particle monitors |
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JP4320924B2 (ja) * | 1999-06-15 | 2009-08-26 | 東京エレクトロン株式会社 | パーティクル計測装置及び処理装置 |
JP3535785B2 (ja) * | 1999-11-26 | 2004-06-07 | Necエレクトロニクス株式会社 | クリーニング終点検出装置およびクリーニング終点検出方法 |
JP4712188B2 (ja) * | 2000-12-26 | 2011-06-29 | 株式会社アイ・エヌ・シー・エンジニアリング | レーザレーダ監視方法 |
GB0515605D0 (en) * | 2005-07-29 | 2005-09-07 | Qinetiq Ltd | Laser measurement device and method |
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