JP5298632B2 - Electromagnetic wave shielding filter, multifunction filter and image display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は画像表示装置(ディスプレイ)の前面に配置するのに好適な、電磁波遮蔽フィルタと、それを用いた多機能フィルタ及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding filter suitable for being disposed on the front surface of an image display device (display), a multi-function filter using the same, and an image display device.
現在、電磁波遮蔽フィルタは、ディスプレイの前面に配置する用途などで使用されており、そのなかでも代表的にはプラズマディスプレイ(PDPともいう)用途がある。プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽フィルタにおいて、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた金属パターンとしてはメッシュ状のパターンが多く用いられている。金属パターン(EMIメッシュ)は、透明基材に金属箔を透明接着剤で貼り合せた後、フォトリソグラフィー法により金属箔をメッシュ状にケミカルエッチングして作ることができる(特許文献1、特許文献2)。
Currently, electromagnetic wave shielding filters are used for applications such as disposing on the front surface of a display, and among them, there are typically plasma display (also referred to as PDP) applications. In an electromagnetic wave shielding filter for a plasma display, a mesh pattern is often used as a metal pattern that achieves both electromagnetic wave shielding performance and light transmittance. A metal pattern (EMI mesh) can be formed by bonding a metal foil to a transparent substrate with a transparent adhesive and then chemically etching the metal foil into a mesh shape by a photolithography method (
金属箔の金属の材質としては、特許文献などでは特に限定しない文献が多い(特許文献1、特許文献2)。例示される金属としては銅の他、アルミニウム(特許文献2)等の高電導率のものが挙げられている。しかし、事実上、市場に流通している電磁波遮蔽フィルタのEMIメッシュは、銅、具体的には銅箔しか用いられておらず、アルミニウム箔を用いたものはなく実用化されていない。
As a metal material of the metal foil, there are many documents that are not particularly limited in Patent Documents (
近年、画像表示装置の普及促進において、高価な電磁波遮蔽フィルタはその妨げとなっており、電磁波遮蔽フィルタの低コスト化の為には、銅箔よりも安価なアルミニウム箔の採用が考えられる。
そこで、我々は、低コスト化を狙い、金属パターン(EMIメッシュ)の金属材料として、銅箔よりも安いアルミニウム箔を用いた電磁波遮蔽フィルタの検討を行ったが、その結果、実用化するには、実は、次の解決すべき課題があることがわかった。尚、以下の課題は、パターンの線幅及び厚みの寸法が100μm程度以上の場合は目立たい。高品質の画像表示装置用途の為に透視性を追及すべく、パターンの線幅及び厚みの寸法が10〜20μm程度以下に微細化した場合に於いて、特に顕在化して来るものであることも判明した。
In recent years, an expensive electromagnetic shielding filter has been a hindrance in promoting the spread of image display devices. In order to reduce the cost of the electromagnetic shielding filter, it is conceivable to use an aluminum foil that is cheaper than a copper foil.
Therefore, we aimed at cost reduction, and examined the electromagnetic wave shielding filter using aluminum foil cheaper than copper foil as the metal material of the metal pattern (EMI mesh). Actually, it turned out that there are the following problems to be solved. The following problems are conspicuous when the pattern line width and thickness are about 100 μm or more. In order to pursue transparency for use in high-quality image display devices, the pattern line width and thickness dimensions may become particularly evident when the dimensions are reduced to about 10 to 20 μm or less. found.
(a)アルミニウム自体が活性が高く、表面にアルミニウムの酸化皮膜が存在し、これが耐腐食膜となってケミカルエッチングを阻害する。
(b)エッチング液に接触した領域の酸化皮膜が一部除去されると、除去された部分がまだ除去されていない部分に対して急速にエッチングが進んでしまい、均一な安定したエッチングが困難である。
(c)上記(a)及び(b)の結果として、金属パターンのライン部の輪郭に、ギザ(zigzag状のこと。ラインの輪郭に凹凸があって直線性が悪くギザギザしている形態をこのように呼称する。)や断線が発生し、ラインのパターン精度が、銅箔の場合に比べてアルミニウムは劣る。
(A) Aluminum itself has high activity, and an aluminum oxide film is present on the surface, which becomes a corrosion-resistant film and inhibits chemical etching.
(B) When a portion of the oxide film in the region in contact with the etching solution is removed, the removed portion is rapidly etched with respect to the portion that has not yet been removed, and uniform and stable etching is difficult. is there.
(C) As a result of the above (a) and (b), the contour of the line portion of the metal pattern has a zigzag shape. In other words, aluminum is inferior in the pattern accuracy of the line compared to the case of copper foil.
以上の結果、銅箔と比べて画像表示装置で要求される微細なパターン(例えばライン幅10〜20μm、パターンの厚み10〜20μm程度)が得られない。そして、ギザは光透過性を実現する開口部の面積率のムラとなって表示画面の面ムラに繋がり、断線は電磁波遮蔽性能の低下に繋がる。 As a result, a fine pattern (for example, a line width of 10 to 20 μm and a pattern thickness of about 10 to 20 μm) required by the image display device cannot be obtained as compared with the copper foil. Then, the unevenness leads to unevenness in the area ratio of the opening that realizes light transmittance, leading to unevenness in the surface of the display screen, and disconnection leads to deterioration in electromagnetic wave shielding performance.
ここで、図4、図5を参照して、アルミニウム箔をケミカルエッチングでアルミニウムパターンとする際の不安定なエッチングと、それによって発生するパターン精度不良を説明する。 Here, with reference to FIG. 4 and FIG. 5, the unstable etching at the time of making an aluminum foil into an aluminum pattern by chemical etching and the pattern accuracy defect caused thereby will be described.
図4(a)はエッチングによる腐食が進行する前の状態を示し、図4(b)はエッチングによる腐食が進行中の状態を示す。図4(a)及び図4(b)では、エッチング液51でレジストパターン52の非形成部の領域において露出しているアルミニウム箔54をエッチングする様子を示す。
図4(a)及び図4(b)の場合、アルミニウム層53の上面及び下面の都合表裏両面にアルミニウムの酸化皮膜3を有する状態のアルミニウム箔54は、透明基材1の片面に、透明接着剤層4で接着固定され積層されて、これがアルミニウム箔積層体55となっている。
FIG. 4A shows a state before corrosion due to etching progresses, and FIG. 4B shows a state where corrosion due to etching progresses. FIGS. 4A and 4B show a state in which the
4A and 4B, the
そして、図4(b)のように、エッチングが進行すると、レジストパターン52の非形成部でエッチング液51に接触するアルミニウム箔54の露出部分の酸化皮膜3は、露出部の全面で均一にエッチングが進行せず、部分的にエッチングが先行し、この腐食先行部分56からアルミニウム層53のエッチングがなされて行く。
Then, as shown in FIG. 4B, when etching proceeds, the
この結果、エッチングが完了した状態では、図5の平面図にて概念的に示すように、アルミニウムパターン2のラインには、ギザや断線などのパターン精度不良が多発する。
As a result, when the etching is completed, pattern accuracy defects such as burrs and disconnections frequently occur in the lines of the
すなわち、本発明の課題は、金属パターンの材質を銅から安価なアルミニウムに代えると生じる、ケミカルエッチングで形成したアルミニウムパターンのパターン精度不良を解消して、アルミニウムを用いた安価でしかも実用可能な電磁波遮蔽フィルタを提供することである。
また、該電磁波遮蔽フィルタを用いた多機能フィルタ、これらフィルタを用いた画像表示装置を提供することである。
That is, an object of the present invention is to eliminate the pattern accuracy defect of an aluminum pattern formed by chemical etching, which occurs when the material of the metal pattern is changed from copper to inexpensive aluminum, and to provide an inexpensive and practical electromagnetic wave using aluminum. It is to provide a shielding filter.
Another object of the present invention is to provide a multifunction filter using the electromagnetic wave shielding filter and an image display device using the filter.
そこで、本発明の電磁波遮蔽フィルタでは、透明基材上に金属パターンが形成された電磁波遮蔽フィルタにおいて、金属パターンがアルミニウムパターンであり、アルミニウムパターンの少なくとも上面(透明基材に対してアルミニウムパターンが形成された側と同じ向きとなる面)のアルミニウムの酸化皮膜の厚みが0〜13Åである、電磁波遮蔽フィルタとした。 Therefore, in the electromagnetic wave shielding filter of the present invention, in the electromagnetic wave shielding filter in which the metal pattern is formed on the transparent substrate, the metal pattern is an aluminum pattern, and at least the upper surface of the aluminum pattern (the aluminum pattern is formed on the transparent substrate). An electromagnetic wave shielding filter having a thickness of 0 to 13 mm of an aluminum oxide film on the same direction as that of the coated side.
このように、少なくとも上面側のアルミニウムの酸化皮膜の厚みを薄く規定することで、アルミニウムパターンをケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能でエッチング品質が改善する為に、ライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、電磁波遮蔽性(表面抵抗値)のバラツキやヘーズ(曇価)の上昇を避けられる。この結果、銅よりも安価なアルミニウムを利用して、材料的に安価な電磁波遮蔽フィルタを実用化できる。
また、製造面でも、アルミニウムの酸化皮膜はそのままでケミカルエッチングできるのでその除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコストアップを避けられる。
In this way, by defining the thickness of at least the aluminum oxide film on the upper surface side to be thin, stable etching is possible when the aluminum pattern is formed by chemical etching, and the etching quality is improved. In addition, the defect that causes disconnection is eliminated, the pattern accuracy is improved, and as a result, variations in electromagnetic shielding properties (surface resistance value) and haze (cloudiness value) can be avoided. As a result, an electromagnetic wave shielding filter that is inexpensive in terms of material can be put into practical use by using aluminum that is less expensive than copper.
Also, in terms of manufacturing, since the aluminum oxide film can be chemically etched as it is, the removal process is unnecessary, and the manufacturing process is not complicated and the cost is increased.
また、本発明の多機能フィルタは、上記電磁波遮蔽フィルタと、光学フィルタとを積層した多機能フィルタとした。
この構成によって、電磁波遮蔽機能と共に光学フィルタ機能も備えた多機能化がなされ、透明基材の共通化、フィルタの薄型化が可能となり、ひいては低コスト化も可能となる。
The multifunction filter of the present invention is a multifunction filter in which the electromagnetic wave shielding filter and an optical filter are stacked.
With this configuration, it is possible to achieve multi-functionality including an optical filter function as well as an electromagnetic wave shielding function, so that a transparent substrate can be made common and a filter can be thinned, and thus cost can be reduced.
また、本発明の画像表示装置は、上記電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを、前面に配置した画像表示装置とした。
この構成によって、低コスト化が可能となり、画像表示装置の普及促進を図れる。
Moreover, the image display device of the present invention is an image display device in which the electromagnetic wave shielding filter or the multifunction filter is disposed on the front surface.
With this configuration, the cost can be reduced and the spread of the image display apparatus can be promoted.
(1)本発明の電磁波遮蔽フィルタによれば、金属パターンに銅よりも安価なアルミニウムを用いても、ケミカルエッチング形成時のライン輪郭のギザ(zigzag)や断線が解消してパターン精度が向上し、電磁波遮蔽性(表面抵抗値)のバラツキ、ヘーズの上昇を避けられ、安価な電磁波遮蔽フィルタを実用できる。
しかも、製造面でも、アルミニウムの酸化皮膜はそのままでケミカルエッチングできるので、酸化皮膜の追加的な除去工程が不要で、製造工程の複雑化やコストアップも避けられる。
(2)本発明の多機能フィルタによれば、低コスト化など、上記電磁波遮蔽フィルタによる効果が得られる多機能フィルタとなる。
(3)本発明の画像表示装置によれば、低コスト化など上記電磁波遮蔽フィルタ乃至は上記多機能フィルタの効果が得られる画像表示装置となり、その普及促進が図れる。
(1) According to the electromagnetic wave shielding filter of the present invention, even when aluminum which is cheaper than copper is used for the metal pattern, the line contour zigzag and disconnection at the time of chemical etching formation are eliminated, and the pattern accuracy is improved. Thus, variations in electromagnetic wave shielding properties (surface resistance value) and increase in haze can be avoided, and an inexpensive electromagnetic wave shielding filter can be practically used.
Moreover, since the aluminum oxide film can be chemically etched as it is in terms of production, an additional removal process of the oxide film is unnecessary, and the manufacturing process is not complicated and the cost is increased.
(2) According to the multi-function filter of the present invention, it becomes a multi-function filter from which the effects of the electromagnetic wave shielding filter such as cost reduction can be obtained.
(3) According to the image display device of the present invention, it becomes an image display device from which the effects of the electromagnetic wave shielding filter or the multifunction filter such as cost reduction can be obtained, and the spread of the image display device can be promoted.
以下、本発明について、実施の形態を図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
先ず、図1の断面図で例示する電磁波遮蔽フィルタ10は、本発明の電磁波遮蔽フィルタの一形態を示し、同図の場合では、アルミニウムパターン2はその上面及び下面の表面にはアルミニウムの酸化皮膜3を有し、少なくとも上面の酸化皮膜の厚みが0〜13Åの範囲となっている。そして、同図の形態例では、このアルミニウムパターン2は、その下面側の酸化皮膜3の下面で透明接着剤層4によって透明基材1に接着固定され積層されている構成のものである。透明接着剤層4はアルミニウムパターンの開口部も含めて透明基材1の全面に形成されている。
First, the electromagnetic
なお、本発明にて「上面」とは、透明基材に対してアルミニウムパターンが形成された側と同じ向きとなる面(図面では上方を向く面でもある)を言い、「下面」とは「上面」と逆向きの面(図面では下方を向く面でもある)を言う。 In the present invention, the “upper surface” means a surface that is the same direction as the side on which the aluminum pattern is formed with respect to the transparent substrate (also a surface facing upward in the drawing), and the “lower surface” means “ It means the surface opposite to the “upper surface” (also the surface facing downward in the drawing).
[透明基材]
透明基材1は、可視領域での透明性(光透過性)、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、或いは樹脂板など板状体の剛直物でも良い。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、フレキシブルな樹脂フィルム(乃至シート)が好ましい。尚、ロール・トゥ・ロールとは、巻取(ロール)から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。
[Transparent substrate]
The
樹脂フィルム、樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその2軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい透明基材である。 Examples of resins for resin films and resin plates include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyolefin resins such as cycloolefin polymers, and cellulose resins such as triacetyl cellulose. Resins, polycarbonate resins, polyimide resins and the like. Among them, polyethylene terephthalate is a transparent base material whose biaxially stretched film is preferable in terms of heat resistance, mechanical strength, light transmittance, cost, and the like.
透明基材の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、フレキシブルな樹脂フィルムを利用する場合、例えば12〜500μm、好ましくは25〜200μm程度である。 The thickness of the transparent substrate is basically not particularly limited and is appropriately selected depending on the application. When a flexible resin film is used, it is, for example, about 12 to 500 μm, preferably about 25 to 200 μm.
なお、透明基材の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでも良い。
In addition, known additives such as an ultraviolet absorber, a colorant, a filler, a plasticizer, and an antistatic agent can be appropriately added to the resin of the transparent substrate as necessary.
Further, the transparent substrate may be obtained by subjecting the surface thereof to known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, primer treatment, and ground treatment.
[アルミニウムパターン]
アルミニウムパターン2はアルミニウムで形成したパターン層であり、該層自体は不透明だが、開口部など該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた層である。しかも、本発明のアルミニウムパターン2は少なくともその上面に特定の厚み範囲0〜13Åのアルミニウムの酸化皮膜3を有する。尚、1Å=0.1nmである。
[Aluminum pattern]
The
アルミニウムパターンのアルミニウムは、アルミニウムを主成分とし、アルミニウム純金属の他にアルミニウム合金でもよくこれらを纏めて本発明ではアルミニウムというが、アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は電磁波遮蔽性能の点では高い方が好ましく、純度が99.0%以上のアルミニウムが好ましい。このような純度が99.0%以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターンは、JIS H4160(アルミニウム及びアルミニウム合金はく)、JIS H4170(高純度アルミニウムはく)で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。 Aluminum in the aluminum pattern is mainly composed of aluminum, and may be aluminum alloy in addition to aluminum pure metal. These are collectively referred to as aluminum in the present invention. However, since the conductivity decreases when the purity of aluminum is low, the purity is shielded against electromagnetic waves. Higher is preferable in terms of performance, and aluminum having a purity of 99.0% or more is preferable. The aluminum pattern using aluminum having a purity of 99.0% or more is made of a foil conforming to the aluminum foil defined in JIS H4160 (aluminum and aluminum alloy foil) and JIS H4170 (high purity aluminum foil). It can be formed by using it.
なお、アルミニウムパターンはアルミニウム箔から形成するのではなく、透明基材上にアルミニウムを気相成長法、例えば真空蒸着法で形成したアルミニウム蒸着膜から形成したものを利用しても良い。 The aluminum pattern is not formed from an aluminum foil, but an aluminum pattern formed from an aluminum vapor deposition film formed on a transparent substrate by a vapor phase growth method such as a vacuum vapor deposition method may be used.
アルミニウムパターンの厚みは、電磁波遮蔽性能、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には1〜100μm、好ましくは5〜20μm、より好ましくは8〜15μmである。厚みが薄いと電磁波遮蔽性能、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。 The thickness of the aluminum pattern may be appropriately selected from the viewpoints of electromagnetic wave shielding performance, processability, mechanical strength, and the like, specifically 1 to 100 μm, preferably 5 to 20 μm, more preferably 8 to 15 μm. If the thickness is thin, electromagnetic wave shielding performance, mechanical strength and the like are lowered, and if the thickness is thick, workability is lowered.
アルミニウムパターンの平面視のパターンの形状は、例えばメッシュ形状、ストライプ形状などの電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた公知のパターンである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、この他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部(線部又は線条部)となる。ライン部は通常幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部及び開口部間は、全て各々同一形状で同一サイズとなる。 The shape of the aluminum pattern in plan view is, for example, a known pattern in which both electromagnetic wave shielding performance and light transmittance such as a mesh shape and a stripe shape are compatible. Among them, a mesh shape and a square lattice shape are typical, and in addition, examples of the lattice shape include a rectangular lattice, a rhombus lattice, a hexagonal lattice, and a triangular lattice. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and the openings are line portions (line portions or line portions) that define the openings. The line portions are usually line-shaped with a uniform width, and usually the openings and the spaces between the openings are all the same shape and the same size.
なお、上記パターンは、ディスプレイ用途では、電磁波遮蔽フィルタの画像表示に影響しない四辺周辺部には、接地用導通の為に開口部を設けないベタパターンか、在っても占有面積比率が小さい接地領域を、開口部を有する内部の画像表示領域の周囲に有することがある。 In addition, in the display application, the above pattern is a solid pattern that does not have an opening for grounding continuity around the four sides that do not affect the image display of the electromagnetic wave shielding filter, or grounding that has a small occupied area ratio. An area may be provided around an internal image display area having an opening.
パターンのライン部のライン幅は例えば5〜50μm、本発明の効果がより際立つ点ではより細い5〜30μmであり、ラインの繰り返し周期であるライン間隔(ピッチ)は例えば100〜500μmである。 The line width of the line portion of the pattern is 5 to 50 μm, for example, and 5 to 30 μm, which is finer in terms of the effect of the present invention.
(パターン形成)
アルミニウムパターンのパターンを形成するには、透明基材上にアルミニウム箔などパターン形成前のアルミニウム層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法(パターン露光法)、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、電磁波遮蔽フィルタに要求されるライン幅やその均一性など高精度のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。
(Pattern formation)
In order to form the pattern of the aluminum pattern, it can be formed by chemical etching after laminating an aluminum layer such as an aluminum foil on the transparent base material before pattern formation. For pattern formation of the resist pattern during chemical etching, a known pattern formation method such as a photolithography method (pattern exposure method) or a printing method may be appropriately selected. Among these, the photolithography method is a preferable method compared to the printing method in that a highly accurate pattern such as a line width required for the electromagnetic wave shielding filter and its uniformity can be stably formed.
アルミニウムパターンをケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択使用すれば良い。例えば、塩化第二鉄を含む酸性のエッチング液である。
エッチングは、アルミニウム層の上面のレジストパターン非形成部に於けるアルミニウムの酸化皮膜も含めて行われる。エッチングの前処理として、該上面のアルミニウムの酸化皮膜の除去は特に必要ない。
そして、レジストパターン形成部に対応した、上面や下面のアルミニウムの酸化皮膜3は、アルミニウムパターン2の上面や下面の酸化皮膜3となって残る。
A known etching solution may be appropriately selected and used as an etching solution for chemically etching the aluminum pattern. For example, an acidic etching solution containing ferric chloride.
Etching is performed including an aluminum oxide film in the resist pattern non-formation portion on the upper surface of the aluminum layer. It is not particularly necessary to remove the aluminum oxide film on the upper surface as a pretreatment for etching.
Then, the
[アルミニウムの酸化皮膜]
アルミニウムの酸化皮膜はアルミニウム酸化物を含む層であり、アルミニウムパターンをアルミニウム箔を利用して形成する場合、アルミニウムの酸化皮膜は箔の上面及び下面の表裏両面に存在するが、本発明ではケミカルエッチングでパターン形成する際に、エッチングされる側、つまり上面側について、その厚みを規定する。アルミニウムパターンの少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を13Å、好ましく12Å、より好ましくは10Å、更に好ましくは8Åとする。
少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を上記のようにすることで、該酸化皮膜がたとえ存在したままでも、安定したケミカルエッチングが可能となり、銅を安価なアルミニウムに変更したが故のパターン精度不良を回避できる。
[Aluminum oxide film]
An aluminum oxide film is a layer containing an aluminum oxide. When an aluminum pattern is formed using an aluminum foil, the aluminum oxide film exists on both the top and bottom surfaces of the foil. When the pattern is formed, the thickness of the etched side, that is, the upper surface side is defined. The upper limit of the thickness of the aluminum oxide film on at least the upper surface of the aluminum pattern is 13 mm, preferably 12 mm, more preferably 10 mm, and even more preferably 8 mm.
By setting the upper limit of the thickness of the aluminum oxide film on at least the upper surface as described above, stable chemical etching is possible even if the oxide film is still present, and copper is changed to inexpensive aluminum. The pattern accuracy defect can be avoided.
ところで、普通に製造されるアルミニウム箔は圧延法で製造され、アルミニウム塊の圧延工程、焼鈍工程を経る箔製造工程、その後の空気中保管など、常温(20℃、50%RH前後)で製造保管することによって、活性なアルミニウムは表面に不可逆的にアルミニウムの酸化皮膜が形成されるが、本発明の様に薄い酸化皮膜とはならずに、より厚みの厚い15Å以上、通常20〜100Å程度の酸化皮膜となる。 By the way, normally manufactured aluminum foil is manufactured by a rolling method, and manufactured and stored at normal temperature (20 ° C., around 50% RH), such as aluminum ingot rolling process, foil manufacturing process through annealing process, and subsequent storage in air. By doing so, an active aluminum irreversibly forms an oxide film of aluminum on the surface. However, it does not become a thin oxide film as in the present invention, but is thicker than 15 mm, usually about 20 to 100 mm. It becomes an oxide film.
また、アルミニウムパターン上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みの下限は、ケミカルエッチングを阻害しない観点からは、0(零)Å、つまり酸化皮膜が存在しなくても良い。
ただ、アルミニウムの酸化皮膜は、不動態膜と言われており、アルミニウム箔を加工、搬送、保管する過程中に於いて、アルミニウム箔の内部に(不用意な、望まれない)酸化乃至は腐食が進行することを防止する機能を有するので、この点では2〜3Å程度の、緻密なアルミニウム不動態膜としての酸化皮膜を形成しておいてもよい。
Further, the lower limit of the thickness of the aluminum oxide film on the upper surface of the aluminum pattern is 0 (zero), that is, no oxide film may be present from the viewpoint of not inhibiting chemical etching.
However, the oxide film of aluminum is said to be a passive film, and during the process of processing, transporting and storing the aluminum foil, oxidation or corrosion (inadvertently or undesired) inside the aluminum foil. In this respect, an oxide film as a dense aluminum passivating film may be formed in this respect.
なお、上面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターンは、真空中、不活性気体中でパターン形成前のアルミニウム層を透明基材上に形成し、酸化皮膜生成前にアルミニウム層の上面を樹脂被覆し酸化反応を遮断するなどすれば可能である。その後、ケミカルエッチングで所定のパターンを形成すれば、上面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターンとなる。 For aluminum patterns that do not have an aluminum oxide film on the upper surface, the aluminum layer before pattern formation is formed on a transparent substrate in vacuum and in an inert gas, and the upper surface of the aluminum layer is coated with a resin before forming the oxide film. This can be achieved by blocking the oxidation reaction. Thereafter, if a predetermined pattern is formed by chemical etching, an aluminum pattern having no aluminum oxide film on the upper surface is obtained.
アルミニウムの酸化皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにするには、各種あるが、アルミニウムパターンにアルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているが、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的とする厚みに調整できる。 There are various ways to reduce the thickness of the aluminum oxide film as described above, but when aluminum foil is used for the aluminum pattern, the aluminum foil is made by rolling, and then manufactured by annealing. However, it can adjust to the target thickness by adjusting rolling conditions and annealing conditions.
例えば、圧延後のアルミニウム箔の表面に付着している圧延油を焼鈍時に除去する際に、表面が酸化しないように、焼鈍雰囲気のガス組成を制御したり(酸素濃度を低めにする)、アルミニウム箔表面のアルミニウムの酸化皮膜を薬品で除去したりする、といった方法などがある。焼鈍しないという方法もあるが、圧延油は、フォトリソグラフィー法に悪影響を及ぼすため好ましくない。 For example, when removing the rolling oil adhering to the surface of the aluminum foil after rolling during annealing, the gas composition of the annealing atmosphere is controlled so that the surface is not oxidized (the oxygen concentration is lowered), aluminum There are methods such as removing the aluminum oxide film on the foil surface with chemicals. Although there is a method of not annealing, rolling oil is not preferable because it adversely affects the photolithography method.
なお、アルミニウムの酸化皮膜の厚みは、ハンターホール法、蛍光X線分析法の一種であるX線光電子分光法(XPS)で測定する。 The thickness of the aluminum oxide film is measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), which is a kind of Hunter Hall method and X-ray fluorescence analysis.
アルミニウムの酸化皮膜は、その箔製造工程からして、箔の表裏両面、つまり上面及び下面の両面に通常形成されている。このうち、アルミニウムパターンのパターン形成のためのケミカルエッチングに影響するのは上面の酸化皮膜であるので、本発明では少なくともこの上面のアルミニウムの酸化皮膜について特定の厚み(薄さ)を規定する。尚、下面のアルミニウムの酸化皮膜については、通常は、上面のアルミニウム酸化皮膜に比べてケミカルエッチング時のメッシュ形状ギザ発生への寄与は無視出来る為、パターン精度の点からは特に規定する必要はない。但し、該膜厚が厚すぎると、開口部に残留したアルミニウム酸化皮膜によるメッシュ形状への悪影響も起こり得るし、又開口部の透明性を低下させることも有り得る。この為、下面のアルミニウム酸化皮膜は、好ましくは、可視光線の最小波長380nm未満、更に好ましくは200nm以下とすることが推奨される。例えば、下面のアルミニウム酸化皮膜の膜厚も上面と同様に0〜13Åとする。尚、本発明の1形態として、ケミカルエッチング前の下面のアルミニウム酸化皮膜の膜厚、及びケミカルエッチングの加工条件を調整することにより、パターン開口部に可視光線の最小波長380nm未満(例えば3〜13Å)の膜厚の透明なアルミニウム酸化皮膜を残留させ、ケミカルエッチング時に開口部に露出する透明接着剤層又は透明基材を腐食液による着色から保護することも出来る。
ただ、下面のアルミニウムの酸化皮膜も上面の酸化皮膜と同程度の厚みで存在するとすれば、下面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについても、上記した上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みと同じ規定をすることができる。
The aluminum oxide film is usually formed on both the front and back surfaces of the foil, that is, both the upper surface and the lower surface from the foil manufacturing process. Among these, since it is the oxide film on the upper surface that affects the chemical etching for pattern formation of the aluminum pattern, the present invention defines a specific thickness (thinness) for at least the aluminum oxide film on the upper surface. Note that the aluminum oxide film on the lower surface does not need to be specified in terms of pattern accuracy because the contribution to the generation of mesh-shaped burrs during chemical etching is usually negligible compared to the aluminum oxide film on the upper surface. . However, if the film thickness is too thick, an adverse effect on the mesh shape due to the aluminum oxide film remaining in the opening may occur, and the transparency of the opening may be reduced. For this reason, it is recommended that the aluminum oxide film on the lower surface is preferably less than the minimum visible light wavelength of 380 nm, more preferably 200 nm or less. For example, the film thickness of the aluminum oxide film on the lower surface is set to 0 to 13 mm similarly to the upper surface. As one form of the present invention, by adjusting the film thickness of the aluminum oxide film on the lower surface before chemical etching and the processing conditions of chemical etching, the minimum wavelength of visible light in the pattern opening is less than 380 nm (for example, 3 to 13 mm). The transparent aluminum oxide film having a thickness of 2) remains, and the transparent adhesive layer or transparent substrate exposed to the opening during chemical etching can be protected from coloring by the corrosive liquid.
However, if the lower surface aluminum oxide film has the same thickness as that of the upper surface oxide film, the thickness of the lower surface aluminum oxide film is defined to be the same as the thickness of the upper surface aluminum oxide film. be able to.
(黒化処理層)
なお、アルミニウムパターンはその表面に黒化処理層を形成してもよい。
黒化処理層は、アルミニウムパターンやその表面の酸化皮膜による光反射を抑制することで、外光吸収、画像のコントラスト向上を図る層である。黒化処理層は外光吸収、画像のコントラスト向上が必要な場合に設ける。黒化処理層はアルミニウムパターンの表面、表面に酸化皮膜がある場合はその皮膜表面に設けて、その光反射率を低下させる層である。
(Blackening treatment layer)
The aluminum pattern may have a blackened layer on the surface.
The blackening treatment layer is a layer for improving external light absorption and image contrast by suppressing light reflection by the aluminum pattern and the oxide film on the surface. The blackening treatment layer is provided when external light absorption and image contrast improvement are required. When there is an oxide film on the surface or surface of the aluminum pattern, the blackening treatment layer is a layer that is provided on the surface of the film to reduce the light reflectance.
ここで表面は上面、下面、側面などの面をいう。黒化処理して黒化処理層を形成する表面としては、上面のみ、上面と両側側面、下面のみ、上面と両側側面と下面の全ての表面など、要求に応じた面とすれば良いのは公知の黒化処理と同じである。このうち、透明接着剤層存在下で透明接着剤に接する面が下面である。また、電磁波遮蔽フィルタをその上面側を観察者側にして使用するには、少なくとも上面については黒化処理層を形成するのが好ましく、更に好ましくは両側側面、後述画像表示素子側となる下面についても黒化処理層を形成するのがよい。 Here, the surface means a surface such as an upper surface, a lower surface, or a side surface. The surface on which the blackening treatment is performed to form the blackening treatment layer may be surfaces according to demand, such as the upper surface only, the upper surface and both side surfaces, the lower surface only, the upper surface, both side surfaces, and the entire lower surface. This is the same as a known blackening process. Among these, the surface in contact with the transparent adhesive in the presence of the transparent adhesive layer is the lower surface. Further, in order to use the electromagnetic wave shielding filter with the upper surface side of the observer side, it is preferable to form a blackening treatment layer on at least the upper surface, more preferably on both side surfaces, and on the lower surface on the image display element side described later. Also, a blackening treatment layer is preferably formed.
黒化処理層としては、電磁波遮蔽フィルタにおいて、公知のものを適宜採用すれば良い。例えば、黒化処理層としては、金属などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金属乃至は合金、金属酸化物、金属硫化物などの金属化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては例えば黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。 As the blackening treatment layer, any known electromagnetic shielding filter may be adopted as appropriate. For example, as the blackening treatment layer, an inorganic material such as a metal, an organic material such as a black resin, or the like can be used. The inorganic material is, for example, a metal compound such as a metal or an alloy, a metal oxide, or a metal sulfide, and can be formed by a known blackening process such as a plating method. Moreover, as black resin, it can form as a layer which contained the black coloring agent in resin, for example.
[透明接着剤層]
透明接着剤層4は、アルミニウムパターンを透明基材に固定するための層であり、例えば、アルミニウムパターンをアルミニウム箔から形成する場合に、アルミニウム箔を透明基材に接着固定するために使用される。なお、透明接着剤層は、アルミニウムパターンをアルミニウム蒸着で透明基材上に直接積層したアルミニウム層から形成する場合では省略できる。
[Transparent adhesive layer]
The transparent adhesive layer 4 is a layer for fixing the aluminum pattern to the transparent substrate. For example, when the aluminum pattern is formed from an aluminum foil, the transparent adhesive layer 4 is used for bonding and fixing the aluminum foil to the transparent substrate. . In addition, a transparent adhesive bond layer can be abbreviate | omitted when forming from the aluminum layer which laminated | stacked the aluminum pattern directly on the transparent base material by aluminum vapor deposition.
透明接着剤層としては、アルミニウムパターンの開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤であればよく、公知の透明な接着剤を適宜使用すればよい。例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などである。なかでも、ウレタン系接着剤、例えば2液硬化型ウレタン系接着剤は、接着力などの点で好ましい。2液硬化型ウレタン系接着剤としては、ポリオールを主剤とし、これに硬化剤としてポリイソシアネート化合物を用いた接着剤を使用できる。ポリオールは、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオールなどである。また、ポリイソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート系、キシリレンジイソシアネート系、ヘキサメチレンジイソシアネート系などである。ポリオール、ポリイソシアネートは、各々複数種使用してもよい。 The transparent adhesive layer may be a transparent adhesive so as not to impair the light transmission through the openings of the aluminum pattern, and a known transparent adhesive may be used as appropriate. For example, urethane adhesive, acrylic adhesive, epoxy adhesive, rubber adhesive, and the like. Among these, urethane adhesives, for example, two-component curable urethane adhesives are preferable in terms of adhesive strength. As the two-component curable urethane-based adhesive, an adhesive using a polyol as a main agent and a polyisocyanate compound as a curing agent can be used. Examples of the polyol include acrylic polyol, polyester polyol, polyurethane polyol, polyether polyol, and polyester polyurethane polyol. Examples of the polyisocyanate compound include tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate. A plurality of polyols and polyisocyanates may be used.
透明接着剤層は、透明な接着剤をアルミニウム箔、透明基材のいずれか又は両方に公知の形成法によって施した後、これらを接着剤を介する様に積層することで形成できる。該形成法は、塗工法、印刷法などである。 The transparent adhesive layer can be formed by applying a transparent adhesive to one or both of an aluminum foil and a transparent substrate by a known forming method, and then laminating these with an adhesive interposed therebetween. The forming method includes a coating method and a printing method.
[多機能フィルタ]
多機能フィルタ20は、上記した電磁波遮蔽フィルタに更に光学フィルタを積層し、電磁波遮蔽機能と共に光学フィルタ機能を備えたフィルタである。図2はこのような、多機能フィルタ20の一形態を示す断面図であり、電磁波遮蔽フィルタ10の片面に光学フィルタ5が直接積層された構成のフィルタである。
積層面は電磁波遮蔽フィルタ10の何れかの片面の他、両面でもよい。なお、積層面が片面の場合、透明基材の下面側の面、アルミニウムパターンの上面側の面、いずれでもよい。
[Multi-function filter]
The
The laminated surface may be either one surface of the electromagnetic
電磁波遮蔽フィルタに更に光学フィルタを積層した多機能フィルタとすることによって、電磁波遮蔽機能と共に光学フィルタ機能も備えた多機能化がなされ、透明基材の共通化、フィルタの薄型化が可能となり、ひいては低コスト化も可能となる。 By making a multi-function filter in which an optical filter is further laminated on an electromagnetic wave shielding filter, the multi-functionality is provided with an optical filter function as well as an electromagnetic wave shielding function, making it possible to share a transparent base material and reduce the thickness of the filter. Cost reduction is also possible.
(光学フィルタ)
光学フィルタ5としては、光学フィルタ機能を有する公知の光学フィルタを適宜選択すればよい。光学フィルタ機能としては、例えば、近赤外線を吸収する近赤外線吸収機能、紫外線を吸収する紫外線吸収機能、PDPディスプレイのネオン光を吸収するネオン光吸収機能、表示画像を好みの色調に補正する色補正機能などの特定光透過機能、反射防止機能(防眩、反射防止、防眩及び反射防止のいずれか)、或いは特開2007−272161号公報に記載の外光反射防止によるコントラスト向上機能を有する薄膜微小ルーバなどである。
光学フィルタ5は、上記した、近赤外線吸収機能、反射防止機能、コントラスト向上機能などの各種光学フィルタ機能のうち1機能或いは2機能以上を備える。
(Optical filter)
As the
The
これら各種の光学フィルタ機能は、例えば、近赤外線吸収機能、ネオン光吸収機能、色補正機能などは、これら機能に応じた色素(近赤外線吸収色素、ネオン光吸収色素、色補正色素)を用い、紫外線吸収機能は紫外線吸収剤を用いるなど、公知の材料・方法で実現できる。例えば、これら材料を樹脂中に分散させた樹脂層を光学フィルタ層として、公知の塗工法、押出法などで形成することができる。また、樹脂層は単層又は多層構成によって、複数機能を兼用することができる。
また、反射防止機能なども含めて光学フィルタ機能を担う光学フィルタ層は、適宜透明基材に積層して光学フィルタとすることもある。なお、ここでの透明基材としては、前述電磁波遮蔽フィルタの透明基材で列記した材料を使用できる。
These various optical filter functions, for example, near infrared absorption function, neon light absorption function, color correction function, etc., using dyes corresponding to these functions (near infrared absorption dye, neon light absorption dye, color correction dye), The ultraviolet absorbing function can be realized by a known material / method such as using an ultraviolet absorber. For example, a resin layer in which these materials are dispersed in a resin can be formed as an optical filter layer by a known coating method, extrusion method, or the like. In addition, the resin layer can be used for a plurality of functions depending on a single layer or a multilayer structure.
Further, the optical filter layer having an optical filter function including an antireflection function may be appropriately laminated on a transparent substrate to form an optical filter. In addition, as a transparent base material here, the material listed with the transparent base material of the above-mentioned electromagnetic wave shielding filter can be used.
[その他の層]
上記した電磁波遮蔽フィルタ、多機能フィルタには、更にその他の層、例えば、アルミニウムパターンの上面側の凹凸を平坦化する平坦化樹脂層、表面を保護する表面保護層、ハードコート層、汚染防止機能層、帯電防止機能層、粘着剤層などの、これらのフィルタにおいて公知の層を積層することができる。これらの層は、兼用することができる。
[Other layers]
The electromagnetic wave shielding filter and the multi-function filter described above include other layers such as a flattening resin layer for flattening the unevenness on the upper surface side of the aluminum pattern, a surface protective layer for protecting the surface, a hard coat layer, and a contamination prevention function. In these filters, known layers such as a layer, an antistatic functional layer, and an adhesive layer can be laminated. These layers can be combined.
[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、上記した電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを前面に配置した画像表示装置であり、より具体的には上記した電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを画像表示素子の観察者側に配置した表示装置である。なお、前面とは画像表示装置の観察者側面である。また、配置は公知の形態によればよい。
[Image display device]
The image display device of the present invention is an image display device in which the above-described electromagnetic wave shielding filter or multi-functional filter is disposed on the front surface, and more specifically, the above-described electromagnetic wave shielding filter or multi-functional filter is disposed on the observer side of the image display element. It is the display device arranged in. The front surface is the observer side of the image display device. Moreover, arrangement | positioning should just follow a well-known form.
このような画像表示装置とすることによって、その低コスト化が可能となり、画像表示装置の普及促進を図れる。 By using such an image display device, the cost can be reduced, and the spread of the image display device can be promoted.
(画像表示素子)
該画像表示素子としては、プラズマディスプレイパネル(PDPともいう)、陰極線管(CRTともいう)、液晶表示素子(LCDともいう)、電界発光素子(ELともいう)などで、電磁波が発生する素子である。例えば、PDPでは、30MHz〜1GHzの帯域の不要な電磁波が発生する。
(Image display element)
Examples of the image display element include a plasma display panel (also referred to as PDP), a cathode ray tube (also referred to as CRT), a liquid crystal display element (also referred to as LCD), an electroluminescent element (also referred to as EL), and the like that generate electromagnetic waves. is there. For example, in PDP, unnecessary electromagnetic waves in a band of 30 MHz to 1 GHz are generated.
(配置の形態)
電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを、画像表示素子の観察者側に配置する配置形態には、大別して、電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを画像表示素子の観察者側の面に空間を介さず、但し通常は接着剤層を介して、直接積層して配置する形態〔図3(a)〕と、電磁波遮蔽フィルタ又は多機能フィルタを空間を介して画像表示素子の観察者側に配置する形態〔図3(b)〕とがある。
(Arrangement form)
The electromagnetic wave shielding filter or the multi-functional filter is arranged on the observer side of the image display element, and is roughly divided into the electromagnetic wave shielding filter or the multi-functional filter on the observer side of the image display element without a space, However, a configuration in which the electromagnetic wave shielding filter or the multi-functional filter is disposed on the viewer side of the image display element through a space [FIG. 3 (b)].
図3(a)に示す直接積層して配置する形態の画像表示装置40は、電磁波遮蔽フィルタ10又は多機能フィルタ20を、画像表示素子30の観察者側の面に空隙を空けずに直接に積層した表示装置となっている。電磁波遮蔽フィルタ10又は多機能フィルタ20を画像表示素子30の観察者側の面に直貼りすることによって得ることができる。その際、必要に応じて透明な接着剤を介して積層する。接着剤(含む粘着剤)は電磁波遮蔽フィルタ10又は多機能フィルタ20の一部として備えられた接着剤層、或いは積層時にこれらの間に適用したものなど公知のもので良い。透明な接着剤には、上記した透明接着剤層で列記した接着剤などを使用できる。
The
一方、図3(b)に示す空間を介して配置する形態の画像表示装置40の場合は、一旦、電磁波遮蔽フィルタ10又は多機能フィルタ20を透明基板6の面に直接積層した板状積層体21としたものを、画像表示素子20の観察者側に空間を空けて配置したものである。
On the other hand, in the case of the
なお、図3(b)の様に、電磁波遮蔽フィルタ10又は多機能フィルタ20を空間を空けて配置する形態では、これら電磁波遮蔽フィルタ10又は多機能フィルタ20が剛直な板状体ではなくシート又はフィルム状でフレキシブルで形状維持ができないときに、透明基板6と積層した板状積層体21とすることで、形状維持ができるようになる点で好適である。
また、板状積層体21において、図3(b)に例示の形態では、電磁波遮蔽フィルタ10又は多機能フィルタ20は透明基板6に対して観察者側の面に積層してあるが、この逆に、画像表示素子側の面に積層したものでもよい。
As shown in FIG. 3B, in the form in which the electromagnetic
3B, the electromagnetic
(透明基板)
なお、透明基板6としては、形状維持可能な板状体、例えば、ガラス、セラミックスなどの無機板、樹脂板などが使用できる。樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。
透明基板の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
(Transparent substrate)
In addition, as the
In the resin of the transparent substrate, known additives such as an ultraviolet absorber, a colorant, a filler, a plasticizer, and an antistatic agent can be appropriately added as necessary.
[実施例1]
先ず、アルミニウムパターンとする金属箔として、厚み12μmの連続帯状の圧延アルミニウム箔を用意した。このアルミニウム箔の表面の酸化皮膜の厚みを測定したところ、上面下面とも8Åだった。
また、透明基材として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、連続帯状の無着色透明な厚み100μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
[Example 1]
First, a continuous strip-shaped rolled aluminum foil having a thickness of 12 μm was prepared as a metal foil for an aluminum pattern. When the thickness of the oxide film on the surface of this aluminum foil was measured, it was 8 mm on both the upper and lower surfaces.
Further, as a transparent substrate, a continuous belt-like uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a polyester resin primer layer formed on one side was prepared.
次いで、上記透明基材のプライマー層面と、上記アルミニウム箔の光沢面とを、透明な2液硬化型ウレタン樹脂系接着剤(主剤として平均分子量3万のポリエステルポリウレタンポリオール12質量部に対して、硬化剤としてキシリレンジイソシアネート系プレポリマー1質量部を含む)でドライラミネートした後、50℃で3日間養生して、アルミニウム箔と透明基材間に厚み7μmの透明接着剤層を有する連続帯状のアルミニウム箔積層シートを得た。 Next, the primer layer surface of the transparent substrate and the glossy surface of the aluminum foil are cured with respect to 12 parts by mass of a transparent two-component curable urethane resin-based adhesive (polyester polyurethane polyol having an average molecular weight of 30,000 as a main component). (Including 1 part by mass of xylylene diisocyanate-based prepolymer as an agent) and then cured at 50 ° C. for 3 days to form a continuous strip of aluminum having a 7 μm thick transparent adhesive layer between the aluminum foil and the transparent substrate. A foil laminated sheet was obtained.
次いで、上記アルミニウム箔積層シートのアルミニウム箔に対して、フォトリソグラフィー法を利用したケミカルエッチング処理を行い、開口部及びライン部とから成るメッシュ状領域、及びメッシュ状領域を囲繞する外縁部に額縁状の開口部非形成の接地用領域を有するアルミニウムパターンを形成した。 Next, the aluminum foil of the aluminum foil laminated sheet is subjected to a chemical etching process using a photolithographic method, and a mesh-like region composed of an opening and a line portion, and a frame shape on the outer edge surrounding the mesh-like region. An aluminum pattern having a grounding region with no opening was formed.
上記エッチングは、具体的には、カラーTVシャドウマスク用の製造ラインを利用して、連続帯状の上記積層シートに対して、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層シートのアルミニウム箔面全面に感光性のエッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュの開口部に相当する領域上にレジスト層が非形成となったレジストパターンを形成した後、レジスト層非形成部のアルミニウム箔を、塩化第二鉄を含む酸性水溶液のエッチング液でエッチングして除去して、メッシュ状の開口部を有したアルミニウムパターンを形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。 Specifically, the etching was consistently performed from masking to etching on the continuous belt-like laminated sheet using a production line for a color TV shadow mask. That is, after applying a photosensitive etching resist on the entire surface of the aluminum foil of the laminated sheet, a desired mesh pattern is closely exposed, developed, hardened, and baked to form a resist on the area corresponding to the mesh opening. After forming the resist pattern in which the layer is not formed, the aluminum foil in the resist layer non-formed part is removed by etching with an acid aqueous etchant containing ferric chloride to have a mesh-like opening. An aluminum pattern was formed, and then washing with water, stripping of the resist, washing, and drying were sequentially performed.
メッシュ状領域(画像表示領域)のメッシュの形状は、その開口部が正方形で非開口部となる線状のライン部のライン幅は20μm、そのライン間隔(ピッチ)は300μm、ライン部の高さは12μm、長方形の枚葉シートに切断した場合に、該ライン部と該長方形の長辺とが構成する劣角として定義されるバイアス角度は49度であった。このようにして、幅寸法605mmの電磁波遮蔽フィルタの中間体を得て、ロール状に巻き取った。 The mesh shape of the mesh area (image display area) is such that the line width of the linear line portion whose opening is a square and non-opening is 20 μm, the line interval (pitch) is 300 μm, and the height of the line portion. When cut into a rectangular sheet of 12 μm, the bias angle defined as the minor angle formed by the line portion and the long side of the rectangle was 49 degrees. Thus, the intermediate body of the electromagnetic wave shielding filter of width dimension 605mm was obtained, and it wound up in roll shape.
得られたロール状の、電磁波遮蔽フィルタの中間体を、ロール・トウ・ロールで連続的に黒化処理装置に供給し、中間体のアルミニウムパターン面に対してニッケル化合物の黒化処理層を形成し、巻き取って電磁波遮蔽フィルタを得た。 The obtained roll-shaped electromagnetic shielding filter intermediate is continuously supplied to the blackening device using rolls, tows, and rolls, and a nickel compound blackening layer is formed on the aluminum pattern surface of the intermediate. And wound up to obtain an electromagnetic wave shielding filter.
得られたアルミニウムパターンのパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキは4.5μmであり、面ムラは外観上問題はなく、また、表面抵抗値のバラツキもほとんどなかった。 Regarding the pattern accuracy of the obtained aluminum pattern, the variation in the line width of the mesh was 4.5 μm, the surface unevenness had no problem in appearance, and there was almost no variation in the surface resistance value.
[比較例1]
実施例1において、アルミニウム箔の表面酸化皮膜の厚みが15Åのものを使用した以外は同様にして電磁波遮蔽フィルタを得た。
得られたアルミニウムパターンのパターン精度は、メッシュのラインに断線が多発し(ライン幅のバラツキ20μm以上)、外観的にも目視で面ムラが目立ち、また表面抵抗値が大きくばらついた。
[Comparative Example 1]
An electromagnetic wave shielding filter was obtained in the same manner as in Example 1 except that an aluminum foil having a surface oxide film thickness of 15 mm was used.
As for the pattern accuracy of the obtained aluminum pattern, breakage occurred frequently in the mesh line (line width variation of 20 μm or more), surface irregularity was conspicuous visually, and the surface resistance value varied greatly.
1 透明基材
2 アルミニウムパターン
3 酸化皮膜
4 透明接着剤層
5 光学フィルタ
6 透明基板
10 電磁波遮蔽フィルタ
20 多機能フィルタ
21 板状積層体
30 画像表示素子
40 画像表示装置
51 エッチング液
52 レジストパターン
53 アルミニウム層
54 アルミニウム箔
55 アルミニウム箔積層体(シート)
56 腐食先行部分
DESCRIPTION OF
56 Corrosion preceding part
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JP2009277965A (en) | 2009-11-26 |
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