JP5279451B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Description
ここで、r0、r1、r2、r3・・・は、開口0、1、2、3・・・の中心から座標(x、y)までの距離)。例えば、d(x、y)を単位格子領域150について計算し、当該単位格子領域150と同様の膜厚分布が部材30の全面に繰り返して形成されるものと考えることができる。
図1に示す成膜装置(真空蒸着装置)の実施例を説明する。部材30は、直径が200mmの平行平板のガラス基板であり、チャンバー10の内部空間における上部に配置され、保持機構40によって保持されている。保持機構40は、駆動機構(回転機構)としての遊星回転機構35によって駆動されて回転(より具体的には、自転および公転)する。
図2で示す成膜装置(スパッタ装置)の実施例を説明する。部材30は、直径が250mmの平行平板のガラス基板であり、チャンバー10の内部空間における側面側に配置され、保持機構40によって保持されている。保持機構40は、回転機構を含む駆動機構36によって駆動されて自転するとともに第1方向に沿って移動する。膜厚分布を制御する制御板100は、保持機構40によって保持される部材30に対して一定の相対位置を維持するように配置され、部材30と一体となって自転するとともに第1方向に沿って移動する。これにより、成膜中に供給源20に対する保持機構40および制御板100の相対位置が変更され、部材30の膜形成領域に目標膜厚分布が形成される。
上記のような成膜装置を用いて製造されうる光学部品の具体例を説明する。ここでは、光学部品は、透過率分布補正フィルタであるとする。部材30としてのガラス基板の膜形成領域に目標膜厚分布を有する膜を形成することにより、目標透過率分布を有する光学部品を得ることができる。ここで、部材30としてのガラス基板を石英、成膜する材料をMgF2、使用する光源の波長を193.4nm(ArFレーザー波長)とする。この場合、膜厚と透過率との関係は図10のようになる。MgF2の膜厚に応じて3%程度透過率を低減することができる。図10に示す関係に基づいて目標膜厚分布を計算することができる。この膜厚分布に基づいて第1、第2実施例で示したように制御板100を設計する。設計した制御板100を用いてガラス基板の膜形成領域に目標膜厚分布を有する膜を形成することで、目標透過率分布を有する光学部品(透過率分布補正フィルタ)を製造することができる。3%よりも大きな透過率分布を要する場合は、MgF2の代わりに高屈折率材料や多層膜を使用すればよい。
図12は、本発明の好適な実施形態の露光装置である。本発明の好適な実施形態の露光装置300は、照明装置310によって原版320を照明して原版320のパターンを投影光学系330によって基板340に投影することによって基板340を露光する。
2 成膜装置
10 チャンバー
20 供給源
21 供給源側駆動機構
30 基板
35 遊星回転機構
36 部材側駆動機構
40 保持機構
50 排気機構
60 シャッター
70 ガス供給部
100 制御板
110 膜厚制御部
120 開口
130 開口の間隔
140 開口のサイズ
150 単位格子領域
210 膜形成領域
300 露光装置
310 照明装置
312 光源部
313 照明光学系
314a 光学部品
320 原版
325 原版ステージ
330 投影光学系
330a 光学部品
340 基板
345 基板ステージ
Claims (11)
- 膜を形成する成膜装置であって、
供給源から供給される材料によって部材に膜が形成されるように前記部材を保持する保持機構と、
前記保持機構によって保持された前記部材と前記供給源との間に前記部材から離隔して配置されて、前記部材に形成される膜の膜厚分布を制御する制御板とを備え、
前記制御板は、少なくとも前記部材に対する膜の形成時は、前記保持機構によって保持された前記部材との相対位置が固定され、
前記制御板は、所定方向における位置に応じて膜厚が大きくなるように前記膜厚分布を制御する、
ことを特徴とする成膜装置。 - 前記制御板は、前記膜厚分布を制御するように配置された複数の開口を有する、
ことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。 - 前記供給源に対する前記保持機構および前記制御板の相対位置を変更する駆動機構を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の成膜装置。
- 前記駆動機構は、前記保持機構を前記制御板とともに回転させる回転機構を含むことを特徴とする請求項3に記載の成膜装置。
- 前記駆動機構は、膜の形成中に前記供給源と前記保持機構および前記制御板との距離を変更する機構を含むことを特徴とする請求項3又は4に記載の成膜装置。
- 前記制御板は、前記制御板の構造、および、前記部材と前記制御板との相対位置の少なくとも1つによって前記膜厚分布を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記制御板は、前記制御板の厚さの分布によって前記膜厚分布を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記複数の開口は、六方最密状に配列されている、
ことを特徴とする請求項2に記載の成膜装置。 - 前記成膜装置は、前記制御板を取り外して膜の形成を実施した場合に均一な膜厚分布が得られる一方で前記制御板を取り付けて膜の形成を実施した場合に前記所定方向における位置に応じて膜厚が大きくなる膜厚分布が得られるように、調整されている、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記供給源は、固体材料を蒸発させて前記部材に供給するように構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記供給源は、ターゲットから材料を放出させるように構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の成膜装置。
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