JP5269933B2 - 光学多層膜フィルタ - Google Patents
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Description
この構成により、ITOを使用することなく導電性の高い光学多層膜フィルタを提供することができ、この光学多層膜フィルタは静電気が溜まることがなくゴミ、ホコリなどが付着することがない。
これらの材料が高屈折率薄膜又は低屈折率薄膜として適用できる。
ガラス基板又は水晶基板が光学フィルタとして適している。
本発明の光学多層膜フィルタ30は光学ローパスフィルタである水晶基板20の表面に高い屈折率の酸化物と、低い屈折率の酸化物とを積層し、最終層に低い屈折率の非酸化物を積層することで、除電機能のもつ光学多層膜フィルタ30を提供する。例えば、光学多層膜フィルタ30は屈折率の高い材料として二酸化チタン(TiO2)32を用い、屈折率の低い材料として二酸化ケイ素(SiO2)33を用いている。光学多層膜フィルタ30は高屈折材料と低屈折材料とを20層から60層重ねることで、赤外線を除去し、最終層にフッ化マグネシウム(MgF2)31を積層することで、帯電を除去する。
光学多層膜フィルタ30は温度や湿度の変化に対する光学特性の変化が少ない、安定な薄膜形成が求められる。このため、光学多層膜フィルタ30はイオンアシスト蒸着(IAD:Ion Assisted Deposition)などの手法を用いて薄膜を形成している。イオンアシスト蒸着装置10は図1に示すような構成により、均一で安定な光学多層膜フィルタ30を形成している。
光学多層膜フィルタ30の光透過率は透明薄膜の屈折率と膜厚の積で決まるため、所望する赤外線を反射するように屈折率と膜厚と積層数とを設計する。一般的に膜厚は波長の反射率もしくは透過率が最大になるように波長の1/4前後に設計される。
実施例2は実施例1での光学多層膜フィルタ30をデジタルスチルカメラの撮像モジュール100に適用した場合を示す。図5はデジタルスチルカメラの撮像モジュール100の構成図である。撮像モジュール100は光学ローパスフィルタである水晶基板20と、光学ローパスフィルタの前面に蒸着した光学多層膜フィルタ30と、CCDセンサまたはCMOSセンサなどの固体撮像素子40と、固体撮像素子40の駆動部50と、で構成されている。
11 … 第1蒸発源
12 … 第2蒸発源
13 … イオン源
14 … 中和器
15 … 基板ドーム
16 … シャッタ
17 … 電子銃
19 … 真空チャンバ
20 … 水晶基板
21 … 蒸発物質
22 … イオン(+)
23 … 電子(−)
30 … 光学多層膜フィルタ
31 … フッ化マグネシウム
32 … 二酸化チタン
33 … 二酸化ケイ素
40 … 固体撮像素子
50 … 駆動部
100 … 撮像モジュール
Claims (4)
- 酸化インジウムスズ(ITO:Indium Tin Oxide)を使用しない光学多層膜フィルタであって、
酸化物の高屈折率材料から成る高屈折率薄膜と酸化物の低屈折率材料から成る低屈折率薄膜とが交互に複数積層された多層膜が積層された透明基板からなり、
最終層の2層前に前記高屈折率薄膜を、最終層の1層前に前記低屈折率薄膜を真空状態で形成し、一旦大気解放された後、最終層にMgF2又はLiFの蒸着材料を真空状態で形成した光学多層膜フィルタ。 - 前記高屈折率薄膜は、TiO2、Nb2O5、Ta2O5のいずれか、又はTiO2、Nb2O5、Ta2O5のいずれかを主成分とした複合酸化物から成り、前記低屈折率薄膜は、SiO2、Bi2O3のいずれか、又はLa2O3とAl2O3との複合酸化物から成る酸化物であることを特徴とする請求項1に記載の光学多層膜フィルタ。
- 前記透明基板が、ガラス基板又は水晶基板であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか一項に記載の光学多層膜フィルタ。
- 前記最終層のMgF2又はLiFが、前記高屈折率薄膜及び前記低屈折率薄膜の酸素と反応して、最終層のMgF2又はLiFの一部が酸化金属膜となり、且つ所定の透過率を有する請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の光学多層膜フィルタ。
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