JP5267366B2 - シリコンウェーハの処理装置 - Google Patents
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Description
20 チャンバー
21 上部部材
22 下部部材
23,24 側部部材
25 サセプタ
26 昇降機構
27 スリットバルブ
28 ローテーションシャフト
28a ローテーションハウジング
28b ウェハリフトハウジング
28c コレット
28d アイソレーションハウジング
29 ベースプレート
30 導入機構
31 導入配管
32 インジェクトキャップ
33 流量調整バルブ
34 集合導入配管
35 メインバルブ
36 メイン導入配管
40 排気機構
41 排気配管
42 イグゾーストキャップ
43 バルブ
44 集合排気配管
50 モータ
60 アクチュエータ
100 シリコンウェーハ
Claims (5)
- シリコンウェーハが収容され、導入されるガスによって所定の処理が行われるチャンバーと、
前記チャンバーに取り付けられ、金属を含む材料からなる複数の部材と、を備えるシリコンウェーハの処理装置であって、
前記複数の部材は、前記チャンバーから排気されるガスを案内する排気機構と、前記チャンバーを保持するベースプレートとを含んでおり、
前記排気機構の少なくとも一部にはDLCからなる第1のコーティングが施され、前記ベースプレートには石英からなる第2のコーティングが施されていることを特徴とするシリコンウェーハの処理装置。 - 前記複数の部材は、前記チャンバー内にガスを導入する導入機構をさらに含んでおり、前記導入機構の少なくとも一部には前記第2のコーティングが施されていることを特徴とする請求項1に記載のシリコンウェーハの処理装置。
- 前記排気機構は、排気配管と、前記ベースプレートと前記排気配管を接続するイグゾーストキャップとを含んでおり、
前記導入機構は、導入配管と、前記ベースプレートと前記導入配管を接続するインジェクトキャップとを含んでおり、
前記排気配管及び前記イグゾーストキャップには、いずれも前記第1のコーティングが施されており、
前記導入配管及び前記インジェクトキャップには、いずれも前記第2のコーティングが施されていることを特徴とする請求項2に記載のシリコンウェーハの処理装置。 - 前記複数の部材は、前記チャンバー内に前記シリコンウェーハをロードし又は前記チャンバーから前記シリコンウェーハをアンロードするためのスリットバルブをさらに含んでおり、前記スリットバルブには前記第2のコーティングが施されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のシリコンウェーハの処理装置。
- 前記複数の部材は、前記チャンバー内のシリコンウェーハを回転させるためのローテーションシャフトの挿入部をさらに含んでおり、前記ローテーションシャフトの挿入部には前記第2のコーティングが施されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のシリコンウェーハの処理装置。
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