JP5252249B2 - デバイス製造処理方法 - Google Patents
デバイス製造処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5252249B2 JP5252249B2 JP2006041228A JP2006041228A JP5252249B2 JP 5252249 B2 JP5252249 B2 JP 5252249B2 JP 2006041228 A JP2006041228 A JP 2006041228A JP 2006041228 A JP2006041228 A JP 2006041228A JP 5252249 B2 JP5252249 B2 JP 5252249B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- wafer
- mask
- masks
- measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
トラック200は、露光装置100を囲むチャンバ(不図示)に接するように配置されている。トラック200は、内部に備える搬送ラインにより、主として露光装置100に対するウエハの搬入・搬出を行っている。
トラック200内には、レジスト塗布及び現像を行うコータ・デベロッパ(C/D)110が設けられている。C/D110は、ウエハW上に対しフォトレジストの塗布及び現像を行う。C/D110は、これらの処理状態を観測し、その観測データをログデータとして記録することができるようになっている。観測可能な処理状態としては、例えば、レジスト塗布膜厚均一性、現像モジュール処理、PEB(Post-Exposure-Bake)の温度均一性(ホットプレート温度均一性)、ウエハ加熱履歴管理(PEB処理後のオーバベークを回避、クーリングプレート)の各状態がある。C/D110も、その装置パラメータの設定により、その処理状態をある程度調整することができるようになっている。このような装置パラメータには、例えば、ウエハW上のレジストの塗布むらに関連するパラメータ、例えば、設定温度、ウエハWの回転速度、レジストの滴下量や滴下間隔などの装置パラメータがある。
トラック200内には、露光装置100でのウエハWの露光前後(すなわち、事前、事後)において、そのウエハWに対する様々な測定検査を行うことが可能な複合的なウエハ測定検査器120が設けられている。ウエハ測定検査器120は、露光装置100やC/D110とは、独立して動作可能である。ウエハ測定検査器120は、露光前に測定を行う事前測定検査処理と、露光後に測定を行う事後測定検査処理とを行う。
解析装置500は、露光装置100、トラック200とは独立して動作する装置である。解析装置500は、デバイス製造処理システム1000内の通信ネットワークと接続されており、外部とデータ送受信が可能となっている。解析装置500は、この通信ネットワークを介して各種装置から各種データ(例えばその装置の処理内容)を収集し、ウエハに対するプロセスに関するデータの解析を行う。このような解析装置500を実現するハードウエアとしては、例えばパーソナルコンピュータを採用することができる。この場合、解析処理は、解析装置500のCPU(不図示)で実行される解析プログラムの実行により実現される。この解析プログラムは、CD−ROMなどのメディア(情報記録媒体)により供給され、PCにインストールされた状態で実行される。
デバイス製造処理装置群900としては、CVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長法)装置910と、エッチング装置920と、化学的機械的研磨を行いウエハを平坦化する処理を行うCMP(Chemical Mechanical Polishing:化学機械研磨)装置930と、酸化・イオン注入装置940とが設けられている。CVD装置910は、ウエハ上に薄膜を生成する装置であり、エッチング装置920は、現像されたウエハに対しエッチングを行う装置である。また、CMP装置920は、化学機械研磨によってウエハの表面を平坦化する研磨装置であり、酸化・イオン注入装置940は、ウエハの表面に酸化膜を形成し、又はウエハ上の所定位置に不純物を注入するための装置である。また、CVD装置910、エッチング装置920、CMP装置930及び酸化・イオン注入装置940も、露光装置100などと同様に複数台設けられており、相互間でウエハを搬送可能とするための搬送経路が設けられている。デバイス製造処理装置群900には、この他にも、プロービング処理、リペア処理、ダイシング処理、パッケージング処理、ボンディング処理などを行う装置も含まれている。
管理コントローラ160は、露光装置100により実施される露光工程を集中的に管理するとともに、トラック200内のC/D110及びウエハ測定検査器120の管理及びそれらの連携動作の制御を行う。このようなコントローラとしては、例えば、パーソナルコンピュータを採用することができる。管理コントローラ160は、デバイス製造処理システム1000内の通信ネットワークを通じて、処理、動作の進捗状況を示す情報や、処理結果、測定・検査結果を示す情報を各装置から受信し、デバイス製造処理システム1000の製造ライン全体の状況を把握し、露光工程等が適切に行われるように、各装置の管理及び制御を行う。
ホストシステム(以下、「ホスト」と呼ぶ)600は、デバイス製造処理システム1000全体を統括管理し、露光装置100、トラック110、ウエハ測定検査器120、デバイス製造処理装置群900を統括制御するメインホストコンピュータである。このホスト600についても、例えばパーソナルコンピュータなどを採用することができる。ホスト600と、他の装置との間は、有線又は無線の通信ネットワークを通じて接続されており、相互にデータ通信を行うことができるようになっている。このデータ通信により、ホスト600は、このシステムの統括制御を実現している。
次に、デバイス製造処理システム1000における一連のプロセスの流れについて説明する。図11には、このプロセスのフローチャートが示されている。このデバイス製造処理システム1000の一連のプロセスは、ホスト600及び管理コントローラ160によってスケジューリングされ管理されている。上述したようにウエハはロット単位で処理されるが、実際には、ロット単位で、ウエハ毎に、図11に示される処理が例えばパイプライン的に繰り返されることになる。
Claims (9)
- 基板上に転写されるデバイスパターンの第1部分に相当する第1分割パターンが、互いに異なる条件で形成された複数の第1マスクと、前記第1部分とは異なる前記デバイスパターンの第2部分に相当する第2分割パターンが、互いに異なる条件で形成された複数の第2マスクとを用意する準備工程と;
前記基板上へのデバイスパターンの転写状態に関する情報を、前記複数の第1、第2マスク毎に、または、前記第1マスクと前記第2マスクとの各種組み合わせ毎に取得する取得工程と;
前記取得された情報に基づいて、前記複数の第1マスクの中から特定の第1マスクを選択すると共に、前記複数の第2マスクの中から特定の第2マスクを選択する選択工程と;を含むデバイス製造処理方法。 - 前記準備工程では、前記第1分割パターン及び前記第2分割パターンの少なくとも一方を、基板上に転写される複数の異なるデバイスパターンに含まれる共通のパターンとすることを特徴とする請求項1に記載のデバイス製造処理方法。
- 前記第1分割パターンを形成するための条件及び前記第2分割パターンを形成するための条件は、光近接効果補正技術の適用条件及び位相シフト技術の適用条件の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のデバイス製造処理方法。
- 前記取得工程では、
前記複数の第1マスク及び複数の前記第2マスク毎に、または、前記第1マスクと前記第2マスクとの各種組み合わせ毎に、前記基板上に転写して得られるデバイスパターンの転写結果に関する情報を取得することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のデバイス製造処理方法。 - 前記特定の第1マスク及び前記特定の前記第2マスクを用いて、前記基板に前記デバイスパターンを転写する転写工程をさらに含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のデバイス製造処理方法。
- 前記転写工程では、
前記第1分割パターン及び前記第2分割パターンを、同時に、前記基板上に転写することを特徴とする請求項5に記載のデバイス製造処理方法。 - 前記選択工程では、前記特定の第1マスクに形成された第1分割パターンに関する情報を考慮して、前記特定の第2マスクを選択することを特徴とする請求項6に記載のデバイス製造処理方法。
- 基板上に転写されるデバイスパターンの第1部分に相当する第1分割パターンが、互いに異なる条件で形成された複数の第1マスクと、前記第1部分とは異なる前記デバイスパターンの第2部分に相当する第2分割パターンが、互いに異なる条件で形成された複数の第2マスクとを用意する準備工程と;
前記用意された前記複数の第1マスクの中から選択された特定の第1マスクに形成された第1分割パターンの像と、前記用意された前記複数の第2マスクの中から選択された特定の第2マスクに形成された第2分割パターンの像とを、前記基板上に同時に投影して、前記デバイスパターンを転写する転写工程と;を含むデバイス製造処理方法。 - 前記転写工程では、前記特定の第1マスクに形成された第1分割パターンに関する情報を考慮して、前記特定の第2マスクを選択することを特徴とする請求項8に記載のデバイス製造処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006041228A JP5252249B2 (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | デバイス製造処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006041228A JP5252249B2 (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | デバイス製造処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007220986A JP2007220986A (ja) | 2007-08-30 |
JP5252249B2 true JP5252249B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=38497909
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006041228A Expired - Fee Related JP5252249B2 (ja) | 2006-02-17 | 2006-02-17 | デバイス製造処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5252249B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4700664B2 (ja) * | 2006-09-13 | 2011-06-15 | エーエスエムエル マスクツールズ ビー.ブイ. | アンカーリングフィーチャを利用したパターンピッチ分割分解を行うための方法 |
JP4991499B2 (ja) * | 2007-11-28 | 2012-08-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | レチクル検査装置及びレチクル検査方法 |
JP6357064B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2018-07-11 | 株式会社Screenホールディングス | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
CN112485973B (zh) * | 2020-11-27 | 2023-02-03 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 增大铜层工艺窗口的opc方法和opc模块 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000267257A (ja) * | 1999-03-12 | 2000-09-29 | Canon Inc | マスク及びそれを用いた露光方法 |
JP2001297976A (ja) * | 2000-04-17 | 2001-10-26 | Canon Inc | 露光方法及び露光装置 |
EP1986223A4 (en) * | 2006-02-16 | 2010-08-25 | Nikon Corp | EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
TW200746259A (en) * | 2006-04-27 | 2007-12-16 | Nikon Corp | Measuring and/or inspecting method, measuring and/or inspecting apparatus, exposure method, device manufacturing method, and device manufacturing apparatus |
-
2006
- 2006-02-17 JP JP2006041228A patent/JP5252249B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007220986A (ja) | 2007-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5077770B2 (ja) | デバイス製造方法、デバイス製造システム及び測定検査装置 | |
US8687167B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US9310698B2 (en) | Method and apparatus for controlling a lithographic apparatus | |
JP5057248B2 (ja) | 測定検査方法、測定検査装置、露光方法、デバイス製造方法及びデバイス製造装置 | |
US7718327B2 (en) | Overlay management method and apparatus, processing apparatus, measurement apparatus and exposure apparatus, device manufacturing system and device manufacturing method, and program and information recording medium | |
JP4710827B2 (ja) | アライメント条件決定方法及び装置、並びに露光方法及び装置 | |
US20120008127A1 (en) | Method Of Calibrating A Lithographic Apparatus, Device Manufacturing Method and Associated Data Processing Apparatus and Computer Program Product | |
US9715181B2 (en) | Method of calibrating a lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product | |
WO2012010458A1 (en) | Method and apparatus for determining an overlay error | |
JP2009200105A (ja) | 露光装置 | |
JP4947483B2 (ja) | デバイス製造処理方法、デバイス製造処理システム、プログラム及び記憶媒体 | |
CN114207527A (zh) | 用于控制半导体制造过程的方法 | |
JP5252249B2 (ja) | デバイス製造処理方法 | |
JP5152612B2 (ja) | 情報管理方法、情報管理システム、プログラム、記録媒体、パターン検査装置及び基板検査装置 | |
JP2011119457A (ja) | 位置合わせ条件最適化方法及びシステム、パターン形成方法及びシステム、露光装置、デバイス製造方法、並びに重ね合わせ精度評価方法及びシステム | |
JP4873230B2 (ja) | 露光方法、露光装置、計測方法及び計測装置 | |
JP4947269B2 (ja) | 測定検査方法、測定検査装置、露光装置及びデバイス製造処理装置 | |
JP5838594B2 (ja) | ダブルパターニング最適化方法及びシステム、パターン形成方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
NL2006099A (en) | Calibration of lithographic apparatus. | |
JP4793686B2 (ja) | 露光方法、デバイス製造処理方法、デバイス製造処理システム及び測定検査装置 | |
JP2002203773A (ja) | 露光装置 | |
JP2013254849A (ja) | パターン形成最適化方法及びシステム、露光方法及び装置、検出装置、並びにデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110601 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110725 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120525 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120719 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130322 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130404 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5252249 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426 Year of fee payment: 3 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D04 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |