JP5243335B2 - 欠陥検査方法、欠陥検査装置、欠陥検査プログラム、及びそのプログラムを記録した記録媒体 - Google Patents
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Description
この一連のレジスト塗布処理を終了した基板は、検査装置によって、基板表面に所定の膜が形成されているか否か、あるいは適切な露光処理が行われているかどうかについて、さらには、傷、異物の付着があるかどうかの所謂マクロ欠陥検査が行われている。
前記マクロ欠陥検査は、特許文献1に記載されているように基板を載置している載置台に対して、撮像装置、例えばCCDラインセンサが、相対的に移動して基板の画像を取り込み、この画像を画像処理して欠陥の有無を判定するようにしている。
そして、露光処理前に前記マクロ欠陥検査を行う場合、例えばCCDカメラにより前記多層に成膜されたウエハWを上方から撮像し、図7に示すような撮像データDを得て、得られた撮像データDに対し所定の画像処理を施すことにより欠陥部60が検出される。
即ち、前記マクロ欠陥検査では、欠陥が生じた膜種の判定ができないため、その欠陥がクリティカルなものか否かの原因を特定するには時間を要し、生産性に大きく影響を及ぼすという課題があった。
尚、前記検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データから抽出された色情報との相違度は、該2つの色情報間のユークリッド距離であることが望ましい。
尚、前記色相違度計算手段は、前記検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データから抽出された色情報との間のユークリッド距離を前記相違度として出力することが望ましい。
尚、前記色相違度計算手段は、前記検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データから抽出された色情報との間のユークリッド距離を前記相違度として出力することが望ましい。
この欠陥検査装置1は、フォトリソグラフィ工程において複数の膜、例えば下地膜、レジスト膜、トップコート等が順に積層されたウエハWにおいて、特にその成膜過程に生じた欠陥(未塗布部分等)を検出するものである。
さらに、欠陥検査装置1は、データ取得部2によって取得された撮像データDsを、処理レシピに従い正常に処理されたウエハの撮像データ21と所定の画像処理により比較し、ウエハW上の欠陥を検出する欠陥検出部20(欠陥検査手段)を備える。
また、欠陥検査装置1は、さらに前記色相違度計算部27が算出した色の相違度に基づいて、欠陥が生じた膜を特定する比較判定部29(比較判定手段)と、欠陥の種類(パーティクル、スクラッチ等)を分類する欠陥分類部28と、特定結果の表示等を行う結果出力部30とを備える。
カバー8内の他端部側には、ハーフミラー10が設けられている。ハーフミラー10の背後には、照明装置11が設けられている。カバー8の他端部下面には、開口部12が形成されており、照明装置11からの照明は、ハーフミラー10を通過して、開口部12から撮像ユニット7の下方に向けて照射される。したがって、この照射領域にある物体の反射光は、ハーフミラー10で反射して、撮像装置9に取り込まれる。すなわち、撮像装置9は、照射領域にある物体を撮像することができる。
すなわち駆動装置14の駆動によって回転する駆動軸15に、撮像ユニット7のカバー8に固定されているスライダ16がかみ合っており、ボールネジ構成のように、駆動装置15による駆動軸15の回転によって、スライダ16を有する撮像ユニット7が、データ取得部2のケーシング3内を直線移動する。
この場合、教示データとしては、ウエハWに積層されるべき全ての膜のうち、いずれか1つの膜のみが成膜されていないウエハWを、考え得るパターンについて全て作成し、その撮像データが教示データとなされる。
図3に示すように、これら教示データとされる膜種P,Q,Rの撮像データDp、Dq、Drは、欠陥検査前において予め膜種ごとにカテゴリ分けされ色判定用データベース22に記録される。
先ず、データ取得部2内の載置台4上に検査対象となるウエハWが載置されると、所定のアライメントが行われた後、撮像ユニット7が移動して、撮像ユニット7内の撮像装置9によるウエハWの撮像が行われる(図4のステップS1)。これにより図5に示すように撮像データDsが得られる。
図5に示すように欠陥40(スクラッチによる未塗布部分等)がある場合、撮像データDsは欠陥領域抽出部23及び欠陥情報抽出部26に送られる。
欠陥領域抽出部23においては、欠陥検出部20によって得られた撮像データDsに基づき、色判定用データベース22に記録されている教示データ、即ち撮像データDp、Dq、Drのそれぞれから、図5に示すようにウエハWに欠陥40が存在する領域Asと同領域Ap、Aq、Arの画像データが抽出される(図4のステップS3)。
色相違度計算部27では、前記教示データから得られた各色情報と、前記検査対象から得られた色情報との相違度Δ(Δp、Δq、Δr)が、式(1)に示すユークリッド距離として算出される(図4のステップS6)。尚、式(1)において、(wx,wy,wz)は、それぞれ予め設定された重み係数である。
また、膜種P,Q,Rに対する色相違度Δp、Δq、Δrが全て閾値Th以上である場合、膜種P,Q,Rのいずれにおいて生じた欠陥でもないと判定され、未分類となされる(図4のステップS9)。
尚、表1に示す欠陥分類部28による欠陥分類において、プアコートは、欠陥の形状情報に基づき、そのウエハ上の塗布膜形状が塗布工程に起因する異常パターンであると判断される欠陥種類である。また、スクラッチは、スクラッチ傷に起因する塗布異常の欠陥種類である。
この場合、膜種の判定が出来なかった原因として、色判定用データベース22への未学習の可能性が考えられる(即ち、膜種P,Q,R以外のカテゴリである)。そのため、例えば検査対象のウエハWの画像データをユーザが確認し、過去の経験により欠陥原因が予測できる可能性が高ければ(図4のステップS10)、その欠陥情報を新たなカテゴリの教示データとして、データベース22に登録することが望ましい(図4のステップS11)。そのようにしてデータベース22に学習させ、教示データを蓄積していくことによって、より確実且つ迅速に欠陥原因を特定することができる。
このように欠陥の生じた膜が特定されるため、欠陥発生の原因分析が迅速化し、その原因を適切に取り除くことで、生産性の低下を防止することができる。
また、検査対象とする基板としては、半導体ウエハの他に、フラットディスプレイパネル等に用いるガラス基板等でもよい。
2 データ取得部
9 撮像装置
20 欠陥検出部
22 色判定用データベース
23 欠陥領域抽出部
24 表色系選択部
25 色情報抽出部(教示データ色情報抽出部)
26 欠陥情報抽出部
27 色相違度計算部
28 欠陥分類部
29 比較判定部
30 結果出力部
Th 閾値
W 半導体ウエハ(基板)
Claims (7)
- 複数種の膜が積層される基板の欠陥検査において、各々種類の異なる一つの膜のみが成膜されていない複数の基板の撮像データを膜種ごとにカテゴリ分けし、教示データとして予めデータベースに記録し、検査対象である基板の欠陥を検出する欠陥検査方法であって、
前記複数種の膜が積層された被検査対象の基板を撮像し、撮像データを取得するステップと、
取得した前記撮像データから欠陥の有無を検出するステップと、
前記検出された欠陥の領域の色情報を、所定の表色系に準ずる値として抽出するステップと、
前記データベースに記録された全ての膜種の教示データから、前記検出された欠陥の領域と同領域の色情報を、前記所定の表色系に準ずる値として膜種ごとに抽出するステップと、
前記検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データから抽出された色情報との相違度を膜種ごとに算出するステップと、
前記相違度が所定値より小さい場合に、その色情報を有する教示データにおいて成膜されていない膜と同種の膜に欠陥を有すると判定するステップとを実行することを特徴とする欠陥検査方法。 - 前記検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データから抽出された色情報との相違度は、該2つの色情報間のユークリッド距離であることを特徴とする請求項1に記載された欠陥検査方法。
- 複数種の膜が積層される基板の欠陥検査装置において、
各々種類の異なる一つの膜のみが成膜されていない複数の基板の撮像データを膜種ごとにカテゴリ分けし、教示データとして記録するデータベースと、
前記複数種の膜が積層された被検査対象の基板を撮像し、撮像データを取得するデータ取得手段と、
前記データ取得手段が取得した前記撮像データから欠陥の有無を検出する欠陥検出手段と、
前記欠陥検出手段により検出された欠陥の領域の色情報を、所定の表色系に準ずる値として抽出する欠陥情報抽出手段と、
前記データベースに記録された全ての膜種の教示データから、前記検出された欠陥の領域と同領域の色情報を、前記所定の表色系に準ずる値として膜種ごとに抽出する教示データ色情報抽出手段と、
前記欠陥情報抽出手段により検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データ色情報抽出手段により抽出された色情報との相違度を膜種ごとに算出する色相違度計算手段と、
前記色相違度計算手段により算出された相違度が所定値より小さい場合に、その色情報を有する教示データにおいて成膜されていない膜と同種の膜に欠陥を有すると判定する比較判定手段とを備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 前記色相違度計算手段は、前記検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データから抽出された色情報との間のユークリッド距離を前記相違度として出力することを特徴とする請求項3に記載された欠陥検査装置。
- 積層される複数種の膜のうち、各々種類の異なる一つの膜のみが成膜されていない複数の基板の撮像データを膜種ごとにカテゴリ分けし、教示データとして記録するデータベースと、前記複数種の膜が積層された被検査対象の基板を撮像し、撮像データを取得するデータ取得手段と、前記基板上の欠陥を検査するコンピュータとを備える欠陥検査装置において、前記コンピュータにより実行され、
前記コンピュータを、
前記データ取得手段が取得した前記撮像データから欠陥の有無を検出する欠陥検出手段と、
前記欠陥検出手段により検出された欠陥の領域の色情報を、所定の表色系に準ずる値として抽出する欠陥情報抽出手段と、
前記データベースに記録された全ての膜種の教示データから、前記検出された欠陥の領域と同領域の色情報を、前記所定の表色系に準ずる値として膜種ごとに抽出する教示データ色情報抽出手段と、
前記欠陥情報抽出手段により検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データ色情報抽出手段により抽出された色情報との相違度を膜種ごとに算出する色相違度計算手段と、
前記色相違度計算手段により算出された相違度が所定値より小さい場合に、その色情報を有する教示データにおいて成膜されていない膜と同種の膜に欠陥を有すると判定する比較判定手段として機能させることを特徴とする欠陥検査プログラム。 - 前記色相違度計算手段は、前記検出された欠陥の領域の色情報と、前記教示データから抽出された色情報との間のユークリッド距離を前記相違度として出力することを特徴とする請求項5に記載された欠陥検査プログラム。
- 前記請求項5または請求項6に記載の欠陥検査プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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