JP5237434B2 - アクチュエータシステム、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[0084] 以上、本発明の様々な実施形態について説明してきたが、それらの実施形態は、限定的ではなく例示的であることを理解されたい。本発明の精神及び範囲を逸脱することなく、本発明の形態及び詳細を様々に変更することができることは当業者には明らかであろう。それ故、本発明の範囲及び精神は、上述した例示的実施形態によって限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲及び均等物に従ってのみ定義されなければならない。
Claims (14)
- リソグラフィ装置内の第2の構成部品に対するリソグラフィ装置内の第1の構成部品の位置を制御するアクチュエータシステムであって、
前記第2の構成部品に対する前記第1の構成部品の位置を制御するために、作動方向に平行な方向に、前記第1の構成部品の取付け点と前記第2の構成部品との間に変位を提供する第1のアクチュエータと、
前記第2のアクチュエータに関連付けられた基準質量と前記リソグラフィ装置の前記第1の構成部品の取付け点との間に変位を提供する第2のアクチュエータと、を備え、
前記第2のアクチュエータによって提供される前記変位が、前記第1のアクチュエータによって提供される前記変位に平行な方向であり、
前記第2のアクチュエータによって提供される前記変位が前記第1のアクチュエータによって提供される前記変位に比例するように、第1及び第2のアクチュエータに制御信号を提供することにより、システムの最低の共振周波数を増加させ、それによりシステムの有効剛性を増加させる制御システムをさらに備える、
アクチュエータシステム。 - 前記第2のアクチュエータに関連付けられた前記基準質量が、前記第2のアクチュエータに接続される、
請求項1に記載のシステム。 - 前記第1のアクチュエータを前記第1の構成部品の取付け点に接続する減結合機構をさらに備え、
前記減結合機構は、前記第1のアクチュエータの前記第1の構成部品の取付け点への接続が前記作動方向に平行な方向に比較的高い剛性を有し、かつ少なくとも1つの他の方向に比較的低い剛性を有する、
請求項1又は2に記載のシステム。 - 前記減結合機構が、前記作動方向に平行な軸を中心とする回転方向と、前記作動方向に垂直な第1の軸を中心とする回転方向と、前記作動方向と前記第1の軸とに垂直な第2の軸を中心とする回転方向のうちの少なくとも1つに比較的低い剛性を有する、
請求項3に記載のシステム。 - 前記第1のアクチュエータを前記リソグラフィ装置の前記第2の構成部品に接続する減結合機構をさらに備え、
前記減結合機構は、前記第1のアクチュエータの前記リソグラフィ装置の前記第2の構成部品への接続が前記作動方向に平行な方向に比較的高い剛性を有し、少なくとも1つの他の方向に比較的低い剛性を有する、
請求項1から4のいずれか1項に記載のシステム。 - 前記減結合機構が、前記作動方向に平行な軸を中心とする回転方向と、前記作動方向に垂直な第1の軸を中心とする回転方向と、前記作動方向と前記第1の軸とに垂直な第2の軸を中心とする回転方向のうちの少なくとも1つに比較的低い剛性を有する、
請求項5に記載のシステム。 - 前記第2のアクチュエータによって提供される前記変位が前記第1のアクチュエータによって提供される前記変位のk倍の大きさになるように、前記制御システムが、前記第1及び第2のアクチュエータに制御信号を提供し、
ここで、
m1は、前記第1の構成部品の質量、
m2は、前記基準質量の質量、
c1は、前記第1の構成部品と前記第1のアクチュエータとの接続の剛性、
c2は、前記基準質量と前記第1の構成部品との接続の剛性、である、
請求項1から6のいずれか1項に記載のシステム。 - 放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、前記リソグラフィ装置内の第2の構成部品に対する前記リソグラフィ装置内の第1の構成部品の位置を制御するように構成されたアクチュエータシステムと、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記アクチュエータシステムが、
前記第2の構成部品に対する前記第1の構成部品の位置を制御するために、作動方向に平行な方向に、前記第1の構成部品の取付け点と前記第2の構成部品との間に変位を提供する第1のアクチュエータと、
前記第2のアクチュエータに関連付けられた基準質量と前記リソグラフィ装置の前記第1の構成部品の取付け点との間に変位を提供する第2のアクチュエータと、を有し、
前記第2のアクチュエータによって提供される前記変位が前記第1のアクチュエータによって提供される前記変位に平行な方向であり、
前記第2のアクチュエータによって提供される前記変位が前記第1のアクチュエータによって提供される前記変位に比例するように、第1及び第2のアクチュエータに制御信号を提供することにより、システムの最低の共振周波数を増加させ、それによりシステムの有効剛性を増加させる制御システムをさらに有する、
リソグラフィ装置。 - 前記第2の構成部品に対する前記第1の構成部品の位置を制御するようにそれぞれが構成された複数のアクチュエータシステムをさらに備え、
前記複数のアクチュエータシステムの各々が前記第1の構成部品のそれぞれの取付け点に力を加え、前記複数のアクチュエータシステムが前記第1の構成部品の位置を制御する、
請求項8に記載のリソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置の前記第2の構成部品が、基準フレームである、
請求項8又は9に記載のリソグラフィ装置。 - 前記基準フレームに対する前記第1の構成部品の位置及び変位のうちの少なくとも1つを測定する位置センサをさらに備える、
請求項10に記載のリソグラフィ装置。 - 第2の基準フレームと、
前記第2の基準フレームに対する前記第1の構成部品の位置及び変位のうちの少なくとも1つを測定する位置センサと、をさらに備える、
請求項10又は11に記載のリソグラフィ装置。 - (i)リソグラフィシステムの第2の構成部品に対する第1の構成部品の位置を、前記第1の構成部品の取付け点と前記第2の構成部品との間に第1の変位を施すことによって制御するステップと、
(ii)前記第1の構成部品の取付け点と基準質量との間に第2の変位を施すステップであって、前記第2の変位が前記第1の変位の方向に平行な方向であるステップと、を含み、
前記第2の変位が前記第1の変位に比例することにより、システムの最低の共振周波数を増加させ、それによりシステムの有効剛性を増加させる、
方法。 - パターニングデバイスを用いて照明システムからの放射ビームをパターニングするステップと、
投影システムを用いてパターン付放射ビームを基板上に投影するステップと、
前記照明システム、前記パターニングデバイス又は前記投影システムのうちの1つである第2の構成部品に対する、前記照明システム、前記パターニングデバイス又は前記投影システムのうちの1つである第1の構成部品の位置を制御するステップと、を含み、
該制御ステップが、
前記第1の構成部品の取付け点と前記第2の構成部品との間に第1の変位を施すことで前記第2の構成部品に対する前記第1の構成部品の位置を制御するステップと、
前記第1の構成部品の取付け点と基準質量との間に第2の変位を施すステップであって、前記第2の変位が前記第1の変位の方向に平行な方向であるステップと、を含み、
前記第2の変位が前記第1の変位に比例することにより、リソグラフィシステムの最低の共振周波数を増加させ、それによりリソグラフィシステムの有効剛性を増加させる、
デバイス製造方法。
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