JP5222566B2 - 積層原体照射システム及びこれを用いた粒子線治療装置 - Google Patents
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Description
図1は本発明の実施の形態1における積層原体照射システムを適用した粒子線治療装置の全体構成を示すブロック図、図2は同装置の粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッドおよび粒子線の照射制御を行う照射制御手段の主要部を示すブロック図である。
図8は本発明の実施の形態2における粒子線治療装置において、粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッドおよび粒子線の照射制御を行う照射制御手段の主要部を示すブロック図である。なお、図1および図2に示した実施の形態1と対応もしくは相当する構成部分には同一の符号を付す。
Tbi=ni・Tw (1)
(但し、niはi番目の層において設定される整数)となるように設定する。
Ni=Tbi・Ii/Q0 (2)
(但し、Q0は電子の電荷量)となる。
Ii=Ni・Q0/(ni・Tw) (3)
となる。
図12は本発明の実施の形態3における粒子線治療装置において、粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッドおよび粒子線の照射制御を行う照射制御手段の主要部を示すブロック図である。なお、図1および図2に示した実施の形態1と対応もしくは相当する構成部分には同一の符号を付す。
Tri=ki・Tp=ni・Tw (4)
(但し、ki,niはi番目の層において設定される整数)となるように設定される。
2c 線形加速器、3a 患部(被照射体)、4 照射ヘッド、5 照射制御手段、
8 加速器系制御部、9 照射ヘッド制御部、10 照射系コントローラ、
42a,42b ワブラ電磁石、45 レンジシフタ。
Claims (7)
- イオン源から発生された粒子線を加速する加速器と、この加速器で加速された粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッドと、上記イオン源、加速器、および照射ヘッドを制御して積層原体照射を行う照射制御器とを備え、上記照射ヘッドは粒子線の偏向走査用のワブラ電磁石を有し、上記照射制御器は、上記ワブラ電磁石を励磁制御して粒子線を偏向走査するシステムであって、
上記照射制御器は、粒子線が始点から始まって始点に戻るような一筆書の周回軌道を描くように上記ワブラ電磁石を励磁制御するとともに、照射する前に上記加速器から出力される粒子線の全照射期間が、粒子線が上記周回軌道を一周するのに要するワブラ周期の整数倍になるように積層原体照射の各層毎に設定するものであることを特徴とする積層原体照射システム。 - 上記加速器は、粒子線を上記ワブラ周期よりも長いパルス幅でもって出射する加速器であり、上記照射制御器は、積層原体照射の各層ごとに粒子線の数を変更することにより被照射体の深さ方向の各層の照射線量を制御するとともに、粒子線の各パルスの照射期間が上記ワブラ周期の整数倍になるように制御するものである、ことを特徴とする請求項1記載の積層原体照射システム。
- 上記加速器は、粒子線を連続的に出射する加速器であり、上記照射制御器は、各層ごとに粒子線強度を変更することにより被照射体の深さ方向の各層の照射線量を制御するとともに、各層ごとの粒子線の全照射期間が上記ワブラ周期の整数倍になるように各層ごとに粒子線強度を制御するものである、ことを特徴とする請求項1記載の積層原体照射システム。
- イオン源から発生された粒子線を加速する加速器と、この加速器で加速された粒子線を被照射体に向けて照射する照射ヘッドと、上記イオン源、加速器、および照射ヘッドを制御して積層原体照射を行う照射制御器とを備え、上記照射ヘッドは粒子線の偏向走査用のワブラ電磁石を有し、上記照射制御器は、上記ワブラ電磁石を励磁制御して粒子線を偏向走査するシステムであって、
上記照射制御器は、粒子線が始点から始まって始点に戻るような一筆書の周回軌道を描くように上記ワブラ電磁石を励磁制御するとともに、上記加速器は、上記粒子線が上記周回軌道を一周するのに要するワブラ周期よりも短いパルス幅でもって上記粒子線を出射する加速器であり、上記照射制御器は、積層原体照射の各層ごとに粒子線のパルス数を変更することにより被照射体の深さ方向の各層の照射線量を制御するとともに、粒子線の各パルスの出射周期の整数倍が上記ワブラ周期の整数倍になるように制御するものである、ことを特徴とする積層原体照射システム。 - 上記照射制御器は、上記被照射体の深さ方向の各層の照射線量を制御することに加えて、各層ごとに粒子線の照射エネルギを変更することにより、上記被照射体に対する深さ方向の線量分布が平坦になるように制御するものであることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の積層原体照射システム。
- 上記の一筆書の周回軌道は、円軌道またはジクザク軌道であることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の積層原体照射システム。
- 請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の積層原体照射システムを用いた粒子線治療装置。
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