JP5133319B2 - 粒子線照射システムおよびその制御方法 - Google Patents
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Description
図7は、従来システムにおいて、あるスポットに対する照射中に照射中断要因が発生した場合の、制御フローを示したものである。
4…ビーム輸送系
5A,5B…走査電磁石(荷電粒子ビーム走査装置)
6A…走査位置モニタ(照射量検出装置)
6B…線量モニタ(照射量検出装置)
7A…走査電磁石電源(X方向)
7B…走査電磁石電源(Y方向)
8…走査電磁石電源制御装置
9…高周波印加装置
11A、11B…走査位置計測装置
12…シンクロトロン(加速器)
15…スキャニング照射装置
40…加速器・輸送系コントローラ
41…スキャニングコントローラ(第1制御装置)
42…電源制御装置
90…制御システム(制御装置)
91…高周波電源
92…開閉スイッチ
93…高周波印加電極
100…中央制御装置(第2制御装置)
140…治療計画装置
Claims (10)
- 荷電粒子ビームを出射する加速器と、
荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを照射対象の照射スポットに照射する照射装置と、
前記照射対象を深さ方向に分割した複数の層の同一層に、照射を中断しなければならない事象が発生した場合でも全てのスポットが目標照射量に達するまで照射を行うスポットの集合が予め定義されて記憶されており、前記予め定義されたスポットの集合のある照射スポットへの荷電粒子ビームの照射中に、照射を中断しなければならない事象が発生した場合に、前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を直ちに停止させずに、前記予め定義されたスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点で前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させる制御装置とを備えることを特徴とする粒子線照射システム。 - 請求項1記載の粒子線照射システムにおいて、
前記制御装置は、前記荷電粒子ビームの出射停止後、前記照射を中断しなければならない事象が解消した場合は、直ちに前記照射スポットを変更させ、かつ前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を次のスポットの集合の先頭の照射スポットから再開させることを特徴とする粒子線照射システム。 - 請求項1に記載の粒子線照射システムにおいて、
第一の前記スポットの集合と、第二の前記スポットの集合とは、両方の集合に属する重複した照射スポットがあるように予め定義され、
前記制御装置は、前記事象が発生した場合でも前記第一のスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点で前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させることを特徴とする粒子線照射システム。 - 荷電粒子ビームを出射する加速器と、
荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを照射対象の照射スポットに照射する照射装置と、
前記照射スポットへの照射量が目標照射量に達したとき、前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させ、この荷電粒子ビームの出力を停止した状態で、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御することにより前記照射スポットを次のスポットへ変更させ、この照射スポットの変更後に前記加速器からの荷電粒子ビームの出力を開始させる第1制御装置と、
前記照射対象を深さ方向に分割した複数の層の同一層に、照射を中断しなければならない事象が発生した場合でも全てのスポットが目標照射量に達するまで照射を行うスポットの集合が予め定義されて記憶されており、前記予め定義されたスポットの集合のある照射スポットへの荷電粒子ビームの照射中に、照射を中断しなければならない事象が発生した場合に、前記照射スポットへの照射量が目標照射量に達するまで前記第1制御装置の制御を継続し、前記照射スポットへの照射量が目標照射量に達すると前記第1制御装置の次のスポットへの制御を継続し、前記予め定義されたスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点で前記第1制御装置の制御を中断しかつ前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させる第2制御装置とを備えることを特徴とする粒子線照射システム。 - 請求項4記載の粒子線照射システムにおいて、
前記第2制御装置は、前記荷電粒子ビームの出射停止後、前記照射を中断しなければならない事象が解消した場合、前記第1制御装置の制御を復帰させ、
前記第1制御装置は、復帰後に、直ちに前記荷電粒子ビーム走査装置を制御することにより前記照射スポットを変更させかつこの変更後に前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を次のスポットの集合の先頭の照射スポットから再開させることを特徴とする粒子線照射システム。 - 請求項4に記載の粒子線照射システムにおいて、
第一の前記スポットの集合と第二の前記スポットの集合とは、両方の集合に属する重複した照射スポットがあるように予め定義され、
前記第1制御装置は、前記事象が発生した場合でも前記第一のスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点で前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させることを特徴とする粒子線照射システム。 - 荷電粒子ビームを出射する加速器と、荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを照射対象の照射スポットに照射する照射装置と、制御装置とを備えた粒子線照射システムの制御方法において、
前記制御装置は、
前記照射対象を深さ方向に分割した複数の層の同一層に、照射を中断しなければならない事象が発生した場合でも全てのスポットが目標照射量に達するまで照射を行うスポットの集合が予め定義されて記憶されており、前記予め定義されたスポットの集合のある照射スポットへの荷電粒子ビームの照射中に、照射を中断しなければならない事象が発生した場合に、前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を直ちに停止させずに、前記予め定義されたスポットの集合に属する全スポットについての照射を完了させた時点で前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させることを特徴とする粒子線照射システムの制御方法。 - 請求項7記載の粒子線照射システムの制御方法において、
前記制御装置は、
前記荷電粒子ビームの出射停止後、前記照射を中断しなければならない事象が解消した場合は、直ちに前記照射スポットを変更させ、かつ前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を次のスポットの集合の先頭の照射スポットから再開させることを特徴とする粒子線照射システムの制御方法。 - 荷電粒子ビームを出射する加速器と、荷電粒子ビーム走査装置を有し、前記加速器から出射された荷電粒子ビームを照射対象の照射スポットに照射する照射装置と、制御装置とを備えた粒子線照射システムの制御方法において、
前記制御装置は、
前記照射スポットへの照射量が目標照射量に達したとき、前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させ、この荷電粒子ビームの出力を停止した状態で、前記荷電粒子ビーム走査装置を制御することにより前記照射スポットを次のスポットへ変更させ、この照射スポットの変更後に前記加速器からの荷電粒子ビームの出力を開始させる第1手順と、
前記照射対象を深さ方向に分割した複数の層の同一層に、照射を中断しなければならない事象が発生した場合でも全てのスポットが目標照射量に達するまで照射を行うスポットの集合が予め定義されて記憶されており、前記予め定義されたスポットの集合のある照射スポットへの荷電粒子ビームの照射中に、照射を中断しなければならない事象が発生した場合に、前記照射スポットへの照射量が目標照射量に達するまで前記第1手順の制御を継続し、前記照射スポットへの照射量が目標照射量に達すると次のスポットにおいて前記第1手順の制御を継続し、前記予め定義されたスポットの集合の属する全スポットについての照射を完了させた時点で前記第1手順の制御を中断しかつ前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を停止させる第2手順とを実行することを特徴とする粒子線照射システムの制御方法。 - 請求項9記載の粒子線照射システムにおいて、
前記制御装置は、
前記第2手順において、前記荷電粒子ビームの出射停止後、前記照射を中断しなければならない事象が解消した場合、前記第1手順の制御を復帰させ、
前記第1手順において、復帰後に、直ちに前記荷電粒子ビーム走査装置を制御することにより前記照射スポットを変更させかつこの変更後に前記加速器からの前記荷電粒子ビームの出射を次のスポットの集合の先頭の照射スポットから再開させることを特徴とする粒子線照射システムの制御方法。
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