JP5222461B2 - Method for manufacturing light emitting device and light emitting device - Google Patents

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Description

本発明は、エレクトロルミネセンス等の発光を利用する発光装置に係り、特に一対の電極間に発光層を挟んで成る発光素子を備えた発光装置に関する。 The present invention relates to a light emitting device using light emission such as electroluminescence, and more particularly to a light emitting device including a light emitting element having a light emitting layer sandwiched between a pair of electrodes.

発光素子を有する表示装置(以下、発光装置と呼ぶ)は、液晶表示装置と比較して、広視野角、低消費電力、高応答速度という利点を有しており、その研究開発が盛んに行われている。 A display device having a light-emitting element (hereinafter referred to as a light-emitting device) has advantages of a wide viewing angle, low power consumption, and high response speed as compared with a liquid crystal display device, and its research and development is actively performed. It has been broken.

発光素子は、一対の電極間に発光物質を備えた構成を有しており、該電極の透光性に応じて、発光物質からの光が出現される。 The light-emitting element has a structure in which a light-emitting substance is provided between a pair of electrodes, and light from the light-emitting substance appears according to the light-transmitting property of the electrode.

例えば、一方向に光を出現させたい場合、該一方向側に設けられた一方の電極に透光性を有する材料を用い、他方の電極を非透光性、つまり反射性を有する材料を用いて形成する。他方の電極による反射を有効に使うことにより、光の取り出し効率を高めることができる。 For example, when light is desired to appear in one direction, a light-transmitting material is used for one electrode provided on the one-direction side, and a non-light-transmitting material, that is, a reflective material is used for the other electrode. Form. The light extraction efficiency can be increased by effectively using the reflection by the other electrode.

一方、このような反射性を有する材料を電極に用いると、外光の映り込みが問題となる。外光の映り込みを防止するため、偏光板や円偏光板を設ける構成がある。しかし、偏光板等を用いると、発光素子からの光の損失が懸念される。 On the other hand, when such a reflective material is used for the electrode, reflection of external light becomes a problem. In order to prevent reflection of external light, there is a configuration in which a polarizing plate or a circular polarizing plate is provided. However, when a polarizing plate or the like is used, there is a concern about light loss from the light emitting element.

また外光の映り込み防止の方法として、一対の電極間の光学的距離がある数式を満たすようにし、共振器構造を導入し、共振波長と、取り出したい光のスペクトルのピーク波長を一致させた表示装置が提案されている(特許文献1参照)。
特開2004−178930号公報
In addition, as a method for preventing reflection of external light, an optical distance between a pair of electrodes satisfies a certain mathematical formula, a resonator structure is introduced, and the resonance wavelength is matched with the peak wavelength of the spectrum of light to be extracted. A display device has been proposed (see Patent Document 1).
JP 2004-178930 A

上記特許文献1は、第1の電極の発光層側の端面と、第2の電極の発光層側の端面との光学的距離がある数式を満たし、多重干渉により、色純度を向上させた発光素子が記載されている。この光学的距離は、赤色、緑色、青色の発光層の膜厚を異ならせることにより制御している。このように発光層の膜厚を異ならせると、各発光素子の駆動電圧が異なってしまい、特に厚くなるにつれて発光素子の駆動電圧は高くなってしまう。 The above-mentioned patent document 1 satisfies the mathematical formula that there is an optical distance between the end surface of the first electrode on the light emitting layer side and the end surface of the second electrode on the light emitting layer side, and emits light with improved color purity by multiple interference. An element is described. This optical distance is controlled by changing the film thicknesses of the red, green and blue light emitting layers. When the film thickness of the light emitting layer is varied as described above, the driving voltage of each light emitting element is different, and the driving voltage of the light emitting element is increased as the thickness is increased.

また上記特許文献1に記載の電極において、できるだけ高い反射率を有する材料として、白金(Pt)、金(Au)、銀(Ag)、クロム(Cr)、タングステン(W)を用いて第1の電極を形成することが記載されている。そしてカラーフィルターにより、配線によって反射された外光を吸収し、コントラストを改善することが記載されている。 In the electrode described in Patent Document 1, platinum (Pt), gold (Au), silver (Ag), chromium (Cr), and tungsten (W) are used as materials having the highest possible reflectance. The formation of an electrode is described. It is described that the color filter absorbs external light reflected by the wiring and improves the contrast.

しかし、反射率の高い材料を第1の電極に用い、これにより反射された外光を吸収するためにカラーフィルターを設けただけでは、外光反射防止の効果が不十分と考えられ、コントラストの低下を招いてしまう。 However, using a highly reflective material for the first electrode and providing a color filter to absorb the reflected external light is considered to be insufficient for preventing the reflection of external light. It will cause a decline.

そこで本発明は、コントラストの高い発光装置を提供することを課題とする。具体的には、偏光板を用いることなくコントラストを高めた発光装置を提供することを課題とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a light-emitting device with high contrast. Specifically, it is an object to provide a light-emitting device with high contrast without using a polarizing plate.

上記課題を鑑み本発明は、発光素子からの光の波長(発光波長と記す)を反射させる側の電極において、発光素子からの発光色の特定波長又は特定波長帯(以下、波長と記す)の反射が低減する発光装置を特徴とする。発光素子からの発光色の波長の反射を低減するために、一対の電極間の電界発光層の膜厚を決定する。このとき電界発光層の膜厚は、該電極において、発光素子からの発光色の波長の反射率が低減するように決定する。 In view of the above problems, the present invention provides a specific wavelength or specific wavelength band (hereinafter referred to as a wavelength) of the color of light emitted from a light emitting element in an electrode that reflects the wavelength of light from the light emitting element (referred to as an emission wavelength). It features a light emitting device that reduces reflection. In order to reduce the reflection of the wavelength of the luminescent color from the light emitting element, the thickness of the electroluminescent layer between the pair of electrodes is determined. At this time, the thickness of the electroluminescent layer is determined so that the reflectance of the wavelength of the luminescent color from the light emitting element is reduced in the electrode.

本発明の発光装置は、単色発光表示を行うことができ、光の出射方向にカラーフィルターを有することができる。カラーフィルターは、発光素子からの発光波長の透過率が高い材料からなることを特徴とする。言い換えると、カラーフィルターは、発光素子からの発光波長を選択的に透過することを特徴とする。 The light-emitting device of the present invention can perform monochromatic light-emitting display and can have a color filter in the light emission direction. The color filter is characterized by being made of a material having a high transmittance of the emission wavelength from the light emitting element. In other words, the color filter selectively transmits the emission wavelength from the light emitting element.

本発明の発光装置において、発光素子からの光の波長が異なるフルカラー表示を行う場合は、それぞれの発光素子からの発光波長の反射率が低減する構成とする。すなわち、それぞれの発光素子における発光波長の反射率が低減された電極を有し、低減させるために電界発光層の膜厚を決定する。 In the light-emitting device of the present invention, when performing full-color display in which the wavelengths of light from the light-emitting elements are different, the reflectance of the emission wavelength from each light-emitting element is reduced. In other words, each light emitting element has an electrode having a reduced reflectance of the emission wavelength, and the thickness of the electroluminescent layer is determined in order to reduce the electrode.

具体的な本発明は、第1の電極と、第1の電極に対向して設けられた第2の電極と、第1の電極、及び第2の電極を有する発光素子と、発光素子からの光を透過するカラーフィルターと、を有し、第1の電極における発光素子から出射される光の発光波長の発光波長反射が低減される構成を有することを特徴とする発光装置である。さらに本発明の発光装置において、カラーフィルターを設けることができる。発光波長また該発光装置の作製方法を特徴とする。 Specifically, the present invention relates to a first electrode, a second electrode provided opposite to the first electrode, a light emitting element having the first electrode and the second electrode, And a color filter that transmits light. The light-emitting device has a configuration in which emission wavelength reflection of an emission wavelength of light emitted from the light-emitting element in the first electrode is reduced. Furthermore, in the light emitting device of the present invention, a color filter can be provided. It is characterized by a light emission wavelength and a method for manufacturing the light emitting device.

本発明の別の形態は、第1の電極と、第1の電極に対向して設けられた第2の電極と、第1の電極、及び第2の電極を有する発光素子と、発光素子からの光を透過するカラーフィルターと、を有し、発光素子は全て単色の発光を出射し、第1の電極における前記単色発光素子からの発光波長の反射が低減される構成を有することを特徴とする発光装置である。さらに本発明の発光装置において、カラーフィルター発光波長を設けることができる。また該発光装置の作製方法を特徴とする。 Another embodiment of the present invention includes a first electrode, a second electrode provided to face the first electrode, a light emitting element having the first electrode and the second electrode, and a light emitting element. A color filter that transmits the light of the first and second light emitting elements, wherein all the light emitting elements emit monochromatic light, and the reflection of the emission wavelength from the monochromatic light emitting elements at the first electrode is reduced. It is a light-emitting device. Furthermore, in the light emitting device of the present invention, a color filter emission wavelength can be provided. Further, the method for manufacturing the light emitting device is characterized.

本発明の別の形態は、第1の電極と、第1の電極に対向して設けられた第2の電極と、第1の電極と、第2の電極との間に設けられた電界発光層と、第1の電極、第2の電極、電界発光層を有する発光素子と、発光素子からの光を透過するカラーフィルターと、を有し、電界発光層のいずれかの層は、第1の電極による発光素子からの発光波長の反射を低減する厚みを有する構造を有することを特徴とする発光装置である。さらに本発明の発光装置において、カラーフィルター発光波長を設けることができる。また該発光装置の作製方法を特徴とする。 Another embodiment of the present invention is an electroluminescent device provided between a first electrode, a second electrode provided opposite to the first electrode, the first electrode, and the second electrode. A light-emitting element including a layer, a first electrode, a second electrode, and an electroluminescent layer; and a color filter that transmits light from the light-emitting element. A light-emitting device having a structure having a thickness that reduces reflection of light emission wavelength from the light-emitting element by the electrode. Furthermore, in the light emitting device of the present invention, a color filter emission wavelength can be provided. Further, the method for manufacturing the light emitting device is characterized.

本発明の別の形態は、第1の電極と、第1の電極に対向して設けられた第2の電極と、第1の電極と、第2の電極との間に設けられた電界発光層と、第1の電極、第2の電極、電界発光層を有する発光素子と、発光素子からの光を透過するカラーフィルターと、を有し、発光素子は全て単色の発光を出射し、電界発光層のいずれかの層は、第1の電極による単色の発光素子からの発光波長の反射を低減する厚みを有する構造を有することを特徴とする発光装置。さらに本発明の発光装置において、カラーフィルターを設けることができ、前記単色の発光素子からの発光波長の透過率が高い材料からなる。また該発光装置の作製方法を特徴とする。 Another embodiment of the present invention is an electroluminescent device provided between a first electrode, a second electrode provided opposite to the first electrode, the first electrode, and the second electrode. A light-emitting element having a layer, a first electrode, a second electrode, and an electroluminescent layer; and a color filter that transmits light from the light-emitting element. Any one of the light emitting layers has a structure having a thickness that reduces reflection of an emission wavelength from a monochromatic light emitting element by the first electrode. Furthermore, in the light emitting device of the present invention, a color filter can be provided, and the light emitting device is made of a material having a high transmittance of the emission wavelength from the monochromatic light emitting element. Further, the method for manufacturing the light emitting device is characterized.

本発明の発光装置において、発光素子からの発光波長の反射を低減する厚みを有する電界発光層のいずれかの層は、バナジウム酸化物、モリブデン酸化物、ニオブ酸化物、レニウム酸化物、タングステン酸化物、ルテニウム酸化物、チタン酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物のいずれかから選択された金属酸化物を有する層を有することを特徴とする発光装置である。また該発光装置の作製方法を特徴とする。 In the light-emitting device of the present invention, any one of the electroluminescent layers having a thickness that reduces reflection of the emission wavelength from the light-emitting element is composed of vanadium oxide, molybdenum oxide, niobium oxide, rhenium oxide, tungsten oxide. And a layer having a metal oxide selected from any one of ruthenium oxide, titanium oxide, chromium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, and tantalum oxide. Further, the method for manufacturing the light emitting device is characterized.

本発明において、カラーフィルターとは、色変換層を含んでいてもよい。 In the present invention, the color filter may include a color conversion layer.

特に本発明は、該発光色を単色とした発光装置を特徴とする。このような単色発光装置は、フルカラー発光装置と比べて、トランジスタが設けられたTFT基板と、TFT基板に対向する対向基板との距離が大きくても、混色することがなく、視野角依存性がない。またTFT基板と、対向基板とを貼り合わせるとき、アライメントの制約を緩和できる。またカラーフィルターを色毎に作り分ける必要がないため、製造工程が簡便なものとなる。またフルカラー発光装置と同じデザインルールで、精細度を上げることができる。 In particular, the present invention is characterized by a light emitting device in which the emission color is a single color. Compared with a full-color light-emitting device, such a monochromatic light-emitting device does not mix colors and has a viewing angle dependency even when the distance between a TFT substrate provided with a transistor and a counter substrate facing the TFT substrate is large. Absent. Further, when the TFT substrate and the counter substrate are bonded together, the alignment constraint can be relaxed. In addition, since there is no need to make a color filter for each color, the manufacturing process becomes simple. In addition, the same design rule as a full-color light emitting device can increase the definition.

またTFT基板又は対向基板のうち、光の出射方向の基板に、その両面、または片面に反射防止コーティング(ARコート:Anti−Reflection treatment coating)を施してもよい。なお片面とは、発光素子が設けられていない側、所謂対向基板側の面である。 In addition, an anti-reflection coating (AR coating) may be applied to a substrate in the light emitting direction of the TFT substrate or the counter substrate on both sides or one side. Note that one side is a surface on which a light emitting element is not provided, that is, a surface on a so-called counter substrate side.

またさらに発光装置は、対抗基板側に発光が出射される上面出射型の発光装置に好適である。上面出射型の発光装置に、本発明の電極構造を備えた発光素子を用い、加えてカラーフィルターを用いることによって、外光の映り込みを効果的に防止することができる。またTFT基板側に発光が出射される下面出射型の発光装置の場合にも本発明の電極構造を備えた発光素子を適用することができるが、電極と基板との間に設けられた保護膜、ゲート絶縁膜、配線層を考慮する必要もある。 Furthermore, the light emitting device is suitable for a top emission type light emitting device in which light emission is emitted to the counter substrate side. By using a light emitting element having the electrode structure of the present invention in a top emission type light emitting device and additionally using a color filter, reflection of external light can be effectively prevented. The light emitting device having the electrode structure of the present invention can also be applied to a bottom emission type light emitting device in which light is emitted to the TFT substrate side, but a protective film provided between the electrode and the substrate. It is also necessary to consider the gate insulating film and the wiring layer.

本発明により、電極による不必要な反射を低減した発光素子、及び該発光素子を有する発光装置を提供することができる。そして発光装置が有するカラーフィルター等により、発光素子からの発光のみを透過させることによって、コントラスト等を設定することができる。 According to the present invention, a light-emitting element in which unnecessary reflection by an electrode is reduced and a light-emitting device including the light-emitting element can be provided. Then, the contrast or the like can be set by transmitting only light emitted from the light-emitting element with a color filter or the like included in the light-emitting device.

このような本発明により、偏光板等を必要としない発光装置を提供することができる。その結果、発光素子からの発光が、偏光板等によって減衰することがない。また偏光板等は高価であるが、本発明は偏光板等を必要としないため、コストを抑えることができる。さらに偏光板等は傷つきやすいといった問題もあるが、この問題も生じない。 According to the present invention, a light-emitting device that does not require a polarizing plate or the like can be provided. As a result, light emission from the light emitting element is not attenuated by the polarizing plate or the like. Moreover, although a polarizing plate etc. are expensive, since this invention does not require a polarizing plate etc., it can hold down cost. Furthermore, there is a problem that the polarizing plate is easily damaged, but this problem does not occur.

また本発明の単色発光装置に適用することができ、フルカラー発光装置と比べて低コスト化を達成することができる。 Further, the present invention can be applied to the monochromatic light emitting device of the present invention, and cost reduction can be achieved as compared with a full color light emitting device.

以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention is not construed as being limited to the description of this embodiment mode. Note that in all the drawings for describing the embodiments, the same portions or portions having similar functions are denoted by the same reference numerals, and repetitive description thereof is omitted.

(実施の形態1)
本実施の形態では、発光素子からの発光波長の反射率を低下させる構成を有する発光装置について説明する。本実施の形態において、発光装置はカラーフィルターを有し、発光装置は、単色の発光装置の場合で説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, a light-emitting device having a structure in which the reflectance of the emission wavelength from the light-emitting element is reduced will be described. In this embodiment mode, the light-emitting device includes a color filter, and the light-emitting device is a monochromatic light-emitting device.

図1には、第1の電極101、それに対向する第2の電極102、これらの間に第1の電極101から順に、第1の層111、第2の層112、第3の層113が設けられている発光素子を示す。第1の電極101は反射性を有し、第2の電極102は透光性を有する。なお透光性とは、透光性材料を用いて第2の電極102を形成することにより得られるが、非透光性材料であっても透光性を呈する程度にまで薄膜化することによっても得ることができる。そして光の出射方向、つまりに第2の電極102側にカラーフィルター105が設けられている。カラーフィルターは、公知の材料を用い、スクリーン印刷法、又は液滴吐出法等により形成することができる。なお、第1の電極101、第2の電極102、第1の層111乃至第3の層113は蒸着法で形成することができ、さらに大気に曝すことなく連続して形成することができる。 In FIG. 1, a first layer 101, a second layer 112, and a third layer 113 are sequentially formed from a first electrode 101, a second electrode 102 facing the first electrode 101, and the first electrode 101 therebetween. A light emitting element provided is shown. The first electrode 101 has reflectivity, and the second electrode 102 has translucency. Note that the light-transmitting property is obtained by forming the second electrode 102 using a light-transmitting material. However, even a non-light-transmitting material is thinned to such an extent that the light-transmitting material is exhibited. Can also be obtained. A color filter 105 is provided on the light emission direction, that is, on the second electrode 102 side. The color filter can be formed using a known material by a screen printing method, a droplet discharge method, or the like. Note that the first electrode 101, the second electrode 102, and the first layer 111 to the third layer 113 can be formed by an evaporation method and can be continuously formed without being exposed to the air.

そして、第1の電極101は、第1の層111乃至第3の層113のいずれかから出射される発光波長に対する反射率が、低減されることを特徴とする。そしてカラーフィルターは、少なくとも該発光波長を有する可視光を透過することができる。具体的には、第1の電極101での当該反射率を低減するように、第1の層111乃至第3の層113少なくとも一つの層の膜厚を決定する。このとき、以下の実施例で示すように、反射率が10%以下となるように膜厚を決定すると好ましい。特に、第1の層111乃至第3の層113のうち、第1の層111の膜厚を制御するとよい。第1の層111の膜厚は、電子と正孔が再結合する発光層に該当する層に基づきつまり発光波長に基づき決定することができる。その結果、第1の層111乃至第3の層113のいずれかから出射される光の発光波長に対する、第1の電極101の反射率を低くすることができ、発光装置における当該発光波長の反射を低くすることができる。このようにして本発明は、反射光を考慮することなく、第1の層111乃至第3の層113のいずれかから出射される発光のみ(自発光成分のみ)を得ることができる。 The first electrode 101 is characterized in that the reflectance with respect to the emission wavelength emitted from any of the first layer 111 to the third layer 113 is reduced. The color filter can transmit at least visible light having the emission wavelength. Specifically, the thickness of at least one of the first layer 111 to the third layer 113 is determined so as to reduce the reflectance at the first electrode 101. At this time, as shown in the following examples, it is preferable to determine the film thickness so that the reflectance is 10% or less. In particular, the thickness of the first layer 111 among the first layer 111 to the third layer 113 is preferably controlled. The film thickness of the first layer 111 can be determined based on the layer corresponding to the light-emitting layer in which electrons and holes are recombined, that is, based on the emission wavelength. As a result, the reflectance of the first electrode 101 with respect to the emission wavelength of light emitted from any of the first layer 111 to the third layer 113 can be reduced, and the reflection of the emission wavelength in the light-emitting device can be reduced. Can be lowered. In this manner, the present invention can obtain only light emitted from any of the first layer 111 to the third layer 113 (only the self-luminous component) without considering the reflected light.

さらにカラーフィルター105は、上記発光素子からの発光波長の透過率が高くなるようにする。言い換えると、カラーフィルター105は、発光素子からの発光波長を選択的に透過する。その結果、カラーフィルター105は、上記発光色以外を吸収することができ、外光成分は第1の電極101まで入射されない。その結果、コントラストを高めることができる。 Further, the color filter 105 increases the transmittance of the emission wavelength from the light emitting element. In other words, the color filter 105 selectively transmits the emission wavelength from the light emitting element. As a result, the color filter 105 can absorb light other than the emission color, and the external light component does not enter the first electrode 101. As a result, contrast can be increased.

このような本発明は、自発光成分のみを考慮してコントラスト等を制御することができる。すなわち、第1の電極101からの反射成分の光を考慮することないため、コントラスト等の制御を簡便なものとすることができる。コントラストの制御には、カラーフィルターを用いることができる。 In the present invention, contrast and the like can be controlled in consideration of only the self-luminous component. That is, since light of the reflection component from the first electrode 101 is not taken into consideration, control of contrast and the like can be simplified. A color filter can be used to control the contrast.

一方、特許文献1には、第1の電極に対して、できるだけ高い反射率を有する技術思想が開示されており、本発明の技術的思想と異なっている。 On the other hand, Patent Literature 1 discloses a technical idea having as high a reflectance as possible with respect to the first electrode, which is different from the technical idea of the present invention.

すなわち本発明は、特定の光を呈する発光素子において、反射性を有する第1の電極による該光の反射を小さくし、該光の波長以外をカラーフィルター105で抑えることにより、偏光板のような効果を奏することができる。このような本発明の発光装置は、第1の電極101に対向する第2の電極102側から、光が出射する上面出射型の発光装置に好適である。 That is, according to the present invention, in a light-emitting element that exhibits specific light, reflection of the light by the first electrode having reflectivity is reduced, and the color filter 105 suppresses light other than the wavelength of the light. There is an effect. Such a light-emitting device of the present invention is suitable for a top-emission type light-emitting device in which light is emitted from the second electrode 102 side facing the first electrode 101.

また本発明は、第1の層111乃至第3の層113のいずれかの膜厚を異ならせるので、いずれか層を通常より厚膜化する必要がある。そこで、厚膜化する層に、有機化合物と、無機化合物である金属酸化物とが混在した層(単に金属酸化物を有する層とも記す)を用いることを特徴とする。なお、混在した層とは、有機化合物と無機化合物とが混成された層や積層された層が含まれる。 Further, in the present invention, since any film thickness of the first layer 111 to the third layer 113 is made different, it is necessary to make any layer thicker than usual. Therefore, a layer in which an organic compound and a metal oxide which is an inorganic compound are mixed (also simply referred to as a layer having a metal oxide) is used for the layer to be thickened. The mixed layer includes a layer in which an organic compound and an inorganic compound are mixed or a layer in which the organic compound and the inorganic compound are stacked.

一般に、発光素子の層を厚膜化すると、駆動電圧が増加してしまうため、好ましくなかった。しかし、有機化合物と、金属酸化物とが混在した層を用いると、駆動電圧自体を低くすることができ、さらには厚膜化しても駆動電圧が高くならない。 In general, increasing the thickness of the light emitting element layer is not preferable because the driving voltage increases. However, when a layer in which an organic compound and a metal oxide are mixed is used, the drive voltage itself can be lowered, and the drive voltage does not increase even when the film thickness is increased.

また有機化合物と、無機化合物とが混在した層を用いることによって、該有機化合物の結晶化を抑制することができ、抵抗の増加を伴わずに厚膜化することが可能となる。そのため、基板上にゴミや汚れ等に起因する凹凸がある場合であっても、凹凸の影響をほとんど受けない。従って、凹凸に起因する第1の電極101と、第2の電極102とのショート等の不良を防止することができる。その結果、量産性を高めることもできる。 Further, by using a layer in which an organic compound and an inorganic compound are mixed, crystallization of the organic compound can be suppressed, and the film can be thickened without increasing resistance. Therefore, even if there are irregularities due to dust or dirt on the substrate, they are hardly affected by the irregularities. Therefore, defects such as a short circuit between the first electrode 101 and the second electrode 102 due to unevenness can be prevented. As a result, mass productivity can be increased.

また本実施の形態では、単色発光装置の場合で説明したが、フルカラー発光装置としてもよい。フルカラー発光装置の場合、例えば図12に示すように、カラーフィルター105R、105G、105Bを、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のいずれかを出現させたい領域毎に、それぞれ設ければよい。そして、第1の電極101において、各RGB発光素子の発光波長が低反射となるように、各RGB発光素子の第1の層111乃至第3の層113のいずれか、好ましくは第1の層111の膜厚を制御する。 In this embodiment mode, the case of a monochromatic light emitting device has been described. However, a full color light emitting device may be used. In the case of a full-color light emitting device, for example, as shown in FIG. 12, color filters 105R, 105G, and 105B are provided for each region where one of red (R), green (G), and blue (B) is desired to appear. Just do it. Then, in the first electrode 101, any one of the first layer 111 to the third layer 113 of each RGB light emitting element, preferably the first layer, so that the light emission wavelength of each RGB light emitting element becomes low reflection. The film thickness of 111 is controlled.

以上により、第1の電極101での発光素子からの光の反射を低減し、カラーフィルター105により該発光素子からの発光色以外の波長の透過を防止させた発光装置を得ることができる。その結果、発光素子からの光のみを調整することにより、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない発光装置を提供することができる。 As described above, a light-emitting device in which reflection of light from the light-emitting element at the first electrode 101 is reduced and transmission of wavelengths other than the emission color from the light-emitting element by the color filter 105 can be obtained. As a result, by adjusting only light from the light-emitting element, contrast can be increased, and a light-emitting device that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

(実施の形態2)
本実施の形態では、図1と異なり、第の1電極2101側から、光が出射する下面出射型の発光装置であって、第1の電極101側にカラーフィルター105を設ける場合の形態を図2を用いて説明する。その他の構成は、図1と同様であるため説明を省略する。
(Embodiment 2)
In this embodiment mode, unlike FIG. 1, a bottom emission type light emitting device in which light is emitted from the first electrode 2101 side, in which a color filter 105 is provided on the first electrode 101 side is illustrated. 2 will be described. Other configurations are the same as those in FIG.

図2に示すように、本実施の形態において、出射される光の発光波長に対する第2の電極102の反射率を低減させ、発光装置における当該発光波長の反射を低くすることができる。反射率を低減させるため、第1の層111乃至第3の層113のいずれかの膜厚を決定することを特徴とする。このとき、第1の層111乃至第3の層113のうち電子と正孔が再結合する発光層と、第2の電極102との間にある第3の層113の膜厚を決定するとよい。さらに厚膜化する必要のある層には、有機化合物と金属酸化物とが混在した層を用いると、駆動電圧が高くならず好ましい。 As shown in FIG. 2, in this embodiment mode, the reflectance of the second electrode 102 with respect to the emission wavelength of emitted light can be reduced, and the reflection of the emission wavelength in the light-emitting device can be lowered. In order to reduce the reflectance, the film thickness of any of the first layer 111 to the third layer 113 is determined. At this time, the thickness of the third layer 113 between the second electrode 102 and the light-emitting layer in which electrons and holes are recombined among the first layer 111 to the third layer 113 may be determined. . Further, it is preferable to use a layer in which an organic compound and a metal oxide are mixed as the layer that needs to be thicker because the driving voltage is not increased.

さらに第1の電極101側にカラーフィルター105を設ける場合、第1の電極101の下方(第1の電極と基板との間に相当する)には、薄膜トランジスタを構成する複数の絶縁膜等が積層して設けられている。そのため、これら絶縁膜間等で反射する光までも考慮して、第1の層111乃至第3の層113の膜厚を決定すると好ましい。また、光が通過する領域では、該絶縁膜等を除去してもよい。 Further, in the case where the color filter 105 is provided on the first electrode 101 side, a plurality of insulating films or the like constituting the thin film transistor are stacked below the first electrode 101 (corresponding to between the first electrode and the substrate). Is provided. Therefore, it is preferable to determine the thicknesses of the first layer 111 to the third layer 113 in consideration of light reflected between these insulating films and the like. Further, the insulating film or the like may be removed in a region where light passes.

また本実施の形態では、単色発光装置の場合で説明したが、フルカラー発光装置としてもよい。フルカラー発光装置の場合、図13に示すようにカラーフィルター105R、105G、105Bを、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のいずれかを出現させたい領域毎に、それぞれ設ければよい。そして、第2の電極102において、各RGB発光素子の発光波長が低反射となるように、各RGB発光素子の第1の層111乃至第3の層113のいずれか、好ましくは第3の層113の膜厚を決定すればよい。 In this embodiment mode, the case of a monochromatic light emitting device has been described. However, a full color light emitting device may be used. In the case of a full-color light emitting device, as shown in FIG. 13, color filters 105R, 105G, and 105B may be provided for each region where one of red (R), green (G), and blue (B) is desired to appear. Good. Then, in the second electrode 102, any one of the first layer 111 to the third layer 113 of each RGB light emitting element, preferably the third layer, so that the light emission wavelength of each RGB light emitting element becomes low reflection. The film thickness of 113 may be determined.

以上により、第2の電極102での発光素子からの光の反射を低減し、カラーフィルター105により該発光素子からの発光色以外の波長の透過を防止することができる。その結果、発光素子からの光のみを調整することにより、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない発光装置を提供することができる。 As described above, reflection of light from the light-emitting element at the second electrode 102 can be reduced, and the color filter 105 can prevent transmission of wavelengths other than the emission color from the light-emitting element. As a result, by adjusting only light from the light-emitting element, contrast can be increased, and a light-emitting device that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

(実施の形態3)
本実施の形態では、発光素子の構造について説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment mode, a structure of a light-emitting element will be described.

図3に示すように、本発明の発光素子は、対向する第1の電極101、第2の電極102を有し、第1電極101から順に、第1の層111、第2の層112、第3の層113が積層されている。このような発光素子は、例えば、第2の電極102の電位よりも第1の電極101の電位が高くなるように電圧を印加すると、第1の層111から第2の層112へ正孔が注入され、第3の層113から第2の層112へ電子が注入される。そして正孔と、電子とが、第2の層112において再結合し、発光物質を励起状態にする。そして、励起状態の発光物質は、基底状態に戻るときに発光する。 As shown in FIG. 3, the light-emitting element of the present invention includes a first electrode 101 and a second electrode 102 facing each other, and in order from the first electrode 101, a first layer 111, a second layer 112, A third layer 113 is stacked. In such a light-emitting element, for example, when a voltage is applied so that the potential of the first electrode 101 is higher than the potential of the second electrode 102, holes are generated from the first layer 111 to the second layer 112. Then, electrons are injected from the third layer 113 to the second layer 112. Then, holes and electrons recombine in the second layer 112, so that the light-emitting substance is excited. The excited luminescent material emits light when returning to the ground state.

次いで、これら第1の層111から第3の層113、第1の電極101、及び第2の電極102の材料について説明する。 Next, materials of the first layer 111 to the third layer 113, the first electrode 101, and the second electrode 102 will be described.

第1の層111は、正孔を発生する層である。このような機能を奏するためには、例えば、正孔輸送性物質と、その物質に対して電子受容性を示す物質とを含む層とにより達成できる。また正孔輸送性物質に対して電子受容性を示す物質は、正孔輸送性物質に対して、モル比が0.5〜2(=正孔輸送性物質に対して電子受容性を示す物質/正孔輸送性物質)と成るように含まれていることが好ましい。 The first layer 111 is a layer that generates holes. In order to exhibit such a function, it can be achieved, for example, by a layer containing a hole transporting substance and a substance showing an electron accepting property for the substance. In addition, the substance that exhibits electron acceptability with respect to the hole transporting substance has a molar ratio of 0.5 to 2 (= the substance that exhibits electron acceptability with respect to the hole transporting substance). / Hole transporting substance) is preferably included.

正孔輸送性物質とは、電子よりも正孔の輸送性が高い物質であり、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:α−NPD)、4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:TPD)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:MTDATA)、4,4’−ビス[N−{4−(N,N−ジ−m−トリルアミノ)フェニル}−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DNTPD)等の芳香族アミン化合物や、フタロシアニン(略称:HPc)、銅フタロシアニン(略称:CuPc)、バナジルフタロシアニン(略称:VOPc)等のフタロシアニン化合物等の有機化合物を用いることができる。なお、正孔輸送性物質は、これらに限定されるものではない。 The hole-transporting substance is a substance that has a higher hole-transporting property than electrons. For example, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: α- NPD), 4,4′-bis [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: TPD), 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenylamino) tri Phenylamine (abbreviation: TDATA), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (abbreviation: MTDATA), 4,4′-bis [N Aromatic amine compounds such as-{4- (N, N-di-m-tolylamino) phenyl} -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: DNTPD), phthalocyanine (abbreviation: H 2 Pc), copper phthalocyanine (abbreviation) : CuPc), Bana An organic compound such as a phthalocyanine compound such as zirphthalocyanine (abbreviation: VOPc) can be used. Note that the hole transporting substance is not limited to these.

また、正孔輸送性物質に対して電子受容性を示す物質は、周期表第4族乃至第12族のいずれかから選ばれた金属の酸化物(金属酸化物)を用いることができる。中でも、周期表第4族乃至第8族のいずれかの金属酸化物は電子受容性の高いものが多く、特にバナジウム酸化物、モリブデン酸化物、ニオブ酸化物、レニウム酸化物、タングステン酸化物、ルテニウム酸化物、チタン酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物が好適である。酸化物以外であっても、上記金属の窒化物、酸化窒化物を用いてもよい。なお正孔輸送性物質に対して電子受容性を示す物質は、これらに限定されるものではない。 In addition, as a substance that exhibits an electron accepting property with respect to a hole transporting substance, a metal oxide (metal oxide) selected from any of Groups 4 to 12 of the periodic table can be used. Among them, many of the metal oxides of Groups 4 to 8 of the periodic table have high electron accepting properties, and in particular, vanadium oxide, molybdenum oxide, niobium oxide, rhenium oxide, tungsten oxide, ruthenium. Oxides, titanium oxides, chromium oxides, zirconium oxides, hafnium oxides, and tantalum oxides are suitable. Even if it is not an oxide, you may use the said metal nitride and oxynitride. Note that a substance that exhibits an electron accepting property with respect to a hole transporting substance is not limited thereto.

そして第1の層111は、有機化合物からなる正孔輸送性物質と、上記金属酸化物からなる正孔輸送性物質に対して電子受容性を示す物質とが混在した層から形成すると、好ましい。このような有機化合物と、無機化合物とが混在した層を用いることによって、第1の層111に用いる有機化合物の結晶化を抑制することができ、抵抗の増加を伴わずに第1の層111を厚く形成することが可能となる。そのため、基板上にゴミや汚れ等に起因する凹凸がある場合であっても、第1の層111の厚膜化により凹凸の影響をほとんど受けない。従って、凹凸に起因する第1の電極101と、第2の電極102とのショート等の不良を防止することができる。さらに、上記金属酸化物からなる正孔輸送性物質に対して電子受容性を示す物質が混在した層は導電性が高くなるため、厚膜化を図ることができる。このように第1の層111を厚膜化することにより、第1の電極101と、第2の層112とを離すことができるので、金属に起因して発光が消光することを防ぐこともできる。 The first layer 111 is preferably formed of a layer in which a hole-transporting substance made of an organic compound and a substance having an electron-accepting property with respect to the hole-transporting substance made of the metal oxide are mixed. By using a layer in which such an organic compound and an inorganic compound are mixed, crystallization of the organic compound used for the first layer 111 can be suppressed, and the first layer 111 is not accompanied by an increase in resistance. Can be formed thick. Therefore, even when there is unevenness due to dust or dirt on the substrate, the first layer 111 is hardly affected by the unevenness due to the thick film. Therefore, defects such as a short circuit between the first electrode 101 and the second electrode 102 due to unevenness can be prevented. Further, since a layer in which a substance having an electron-accepting property is mixed with the hole-transporting substance including the metal oxide has high conductivity, the thickness can be increased. By increasing the thickness of the first layer 111 in this manner, the first electrode 101 and the second layer 112 can be separated from each other, so that light emission can be prevented from being quenched due to metal. it can.

なお第1の層111に、その他の有機化合物を含んでいてもよい。その他の有機化合物には、ルブレン等が挙げられる。ルブレンを加えることにより、信頼性を向上させることができる。 Note that the first layer 111 may contain another organic compound. Other organic compounds include rubrene and the like. Reliability can be improved by adding rubrene.

この他、第1の層111は、モリブデン酸化物、バナジウム酸化物、ルテニウム酸化物、コバルト酸化物、銅酸化物のような金属酸化物からなる層としてもよい。また金属酸化物以外に、これら金属元素を有する金属窒化物からなる層としてもよい。 In addition, the first layer 111 may be a layer made of a metal oxide such as molybdenum oxide, vanadium oxide, ruthenium oxide, cobalt oxide, or copper oxide. In addition to the metal oxide, a layer made of a metal nitride containing these metal elements may be used.

このような第1の層111は、蒸着法により形成することができる。第1の層111として、複数の化合物が混在した層を形成する場合には共蒸着法を用いることができる。共蒸着法は、抵抗加熱蒸着同士による共蒸着法、電子ビーム蒸着同士による共蒸着法、抵抗加熱蒸着と電子ビーム蒸着による共蒸着法があり、その他抵抗加熱蒸着とスパッタリング法による成膜、電子ビーム蒸着とスパッタリングによる成膜など、同種、異種方法を組み合わせて形成することができる。また、上記例は2種の材料を含む層を示しているが、3種以上の材料を含む場合も同様に、同種、異種方法を組み合わせて形成することができる。 Such a first layer 111 can be formed by an evaporation method. When forming a layer in which a plurality of compounds are mixed as the first layer 111, a co-evaporation method can be used. The co-evaporation method includes co-evaporation method by resistance heating evaporation, co-evaporation method by electron beam evaporation, co-evaporation method by resistance heating evaporation and electron beam evaporation, other film formation by resistance heating evaporation and sputtering method, electron beam It can be formed by combining the same type and different types of methods such as vapor deposition and sputtering. Moreover, although the said example has shown the layer containing 2 types of materials, also when it contains 3 or more types of materials, it can form similarly combining the same kind and different method.

次に、発光層を含む層である第2の層112について説明する。発光層を含む層とは、発光層のみからなる単層であっても、発光層を含む多層でも構わない。具体的な多層を示すと、発光層の他、電子輸送層、及び正孔輸送層のいずれから選ばれた層を含んでいる。図3において、第2の層112が正孔輸送層122、発光層123、電子輸送層124を含む多層の場合を示す。 Next, the second layer 112 which is a layer including a light emitting layer will be described. The layer including the light emitting layer may be a single layer including only the light emitting layer or a multilayer including the light emitting layer. A specific multilayer includes a light emitting layer, a layer selected from an electron transport layer and a hole transport layer. In FIG. 3, the second layer 112 is a multilayer including a hole transport layer 122, a light emitting layer 123, and an electron transport layer 124.

正孔輸送層122は、公知な材料から形成することができる。典型的な例としては、芳香族アミン系化合物であり、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(以下、α−NPDと示す)や、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(以下、TDATAと示す)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−トリフェニルアミン(以下、MTDATAと示す)などのスターバースト型芳香族アミン化合物が挙げられる。 The hole transport layer 122 can be formed from a known material. Typical examples include aromatic amine compounds such as 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (hereinafter referred to as α-NPD), 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine (hereinafter referred to as TDATA), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) ) -N-phenyl-amino] -triphenylamine (hereinafter referred to as MTDATA) and the like.

発光層123は、発光物質が、発光物質の有するエネルギーギャップよりも大きいエネルギーギャップを有する物質からなる層中に、分散して含まれた層であることが好ましい。なお、エネルギーギャップとはLUMO準位とHOMO準位との間のエネルギーギャップをいう。また発光物質は、発光効率が良好で、所望の発光波長の発光を得る物質を用いればよい。 The light-emitting layer 123 is preferably a layer in which a light-emitting substance is dispersed and included in a layer formed of a substance having an energy gap larger than that of the light-emitting substance. Note that the energy gap is an energy gap between the LUMO level and the HOMO level. As the light-emitting substance, a substance that has favorable emission efficiency and can emit light with a desired emission wavelength may be used.

発光物質を分散状態にするために用いる物質は、例えば、9,10−ジ(2−ナフチル)−2−tert−ブチルアントラセン(略称:t−BuDNA)等のアントラセン誘導体、または4,4’−ビス(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)等のカルバゾール誘導体の他、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ピリジナト]亜鉛(略称:Znpp)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:ZnBOX)等の金属錯体等を用いることができる。但し、発光物質を分散状態にするために用いる物質はこれらの材料に限定されない。発光物質を分散状態とする構造であると、発光物質からの発光が、濃度に起因して消光してしまうことを防ぐことができる。 A substance used for dispersing the light-emitting substance is, for example, an anthracene derivative such as 9,10-di (2-naphthyl) -2-tert-butylanthracene (abbreviation: t-BuDNA), or 4,4′- In addition to carbazole derivatives such as bis (N-carbazolyl) biphenyl (abbreviation: CBP), bis [2- (2-hydroxyphenyl) pyridinato] zinc (abbreviation: Znpp 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzo Metal complexes such as oxazolate] zinc (abbreviation: ZnBOX) can be used. However, substances used for bringing the light-emitting substance into a dispersed state are not limited to these materials. With a structure in which the light-emitting substance is dispersed, light emission from the light-emitting substance can be prevented from being quenched due to the concentration.

次に発光層123の発光物質を示す。赤色の発光を得たいときには、4−ジシアノメチレン−2−イソプロピル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン(略称:DCJTI)、4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン(略称:DCJT)、4−ジシアノメチレン−2−tert−ブチル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン(略称:DCJTB)やペリフランテン、2,5−ジシアノ−1,4−ビス[2−(10−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル)エテニル]ベンゼン、ビス[2,3−ビス(4−フルオロフェニル)キノキサリナイト]イリジウム(アセチルアセトナート)(略称:Ir[Fdpq]acac)等を用いることができる。但しこれらの材料に限定されず、600nmから680nmに発光波長のスペクトルのピークを有する発光を呈する物質を用いることができる。 Next, a light-emitting substance of the light-emitting layer 123 is shown. To obtain red light emission, 4-dicyanomethylene-2-isopropyl-6- [2- (1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran (abbreviation: DCJTI) ), 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- [2- (1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran (abbreviation: DCJT), 4-dicyanomethylene 2-tert-butyl-6- [2- (1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran (abbreviation: DCJTB), periflanthene, 2,5-dicyano- 1,4-bis [2- (10-methoxy-1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl) ethenyl] benzene, bis [2,3-bis (4-fluorophenyl) quinoxa Night] iridium (acetylacetonate) can be used (abbreviation Ir [Fdpq] 2 acac), or the like. However, the present invention is not limited to these materials, and a substance that emits light having a peak of the emission wavelength spectrum from 600 nm to 680 nm can be used.

緑色の発光を得たいときは、N,N’−ジメチルキナクリドン(略称:DMQd)、クマリン6やクマリン545T、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)等を用いることができる。但しこれらの材料に限定されず、500nmから550nmに発光波長のスペクトルのピークを有する発光を呈する物質を用いることができる。 To obtain green light emission, N, N′-dimethylquinacridone (abbreviation: DMQd), coumarin 6, coumarin 545T, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), or the like can be used. However, the present invention is not limited to these materials, and a substance exhibiting light emission having a light emission wavelength spectrum peak from 500 nm to 550 nm can be used.

青色の発光を得たいときは、9,10−ジ(2−ナフチル)−2−tert−ブチルアントラセン(略称:t−BuDNA)、9,9’−ビアントリル、9,10−ジフェニルアントラセン(略称:DPA)、9,10−ビス(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−ガリウム(略称:BGaq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)等を用いることができる。但しこれらの材料に限定されず、420nmから500nmに発光波長のスペクトルのピークを有する発光を呈する物質を用いることができる。 To obtain blue light emission, 9,10-di (2-naphthyl) -2-tert-butylanthracene (abbreviation: t-BuDNA), 9,9′-bianthryl, 9,10-diphenylanthracene (abbreviation: DPA), 9,10-bis (2-naphthyl) anthracene (abbreviation: DNA), bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-gallium (abbreviation: BGaq), bis (2-methyl-) 8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-aluminum (abbreviation: BAlq) or the like can be used. However, the present invention is not limited to these materials, and a substance that emits light having a peak of the emission wavelength spectrum from 420 nm to 500 nm can be used.

単色発光装置を形成する場合、上記3色の発光層材料から選ぶことができ、さらにカラーフィルターによって所望の発光を呈することができる。 When a monochromatic light emitting device is formed, the light emitting layer material of the three colors can be selected, and desired light emission can be exhibited by a color filter.

このような発光層となる有機化合物に、金属酸化物を混在させた層を用いてもよい。 You may use the layer which mixed the metal oxide in the organic compound used as such a light emitting layer.

次いで電子輸送層124について説明する。電子輸送層124とは、第2の電極102から注入された電子を発光層123へ輸送する機能を有する層である。このように、電子輸送層124を設け、第2の電極102と発光層123とを離すことによって、発光が金属に起因して消光することを防ぐことができる。 Next, the electron transport layer 124 will be described. The electron transport layer 124 is a layer having a function of transporting electrons injected from the second electrode 102 to the light emitting layer 123. In this manner, by providing the electron transport layer 124 and separating the second electrode 102 and the light-emitting layer 123, it is possible to prevent the light emission from being quenched due to the metal.

電子輸送層124は、正孔の移動度よりも電子の移動度が高い物質を用いて形成することが好ましい。また、電子輸送層124は、10−6cm/Vs以上の電子移動度を有する物質を用いて形成することがより好ましい。また、電子輸送層124は、以上に述べた物質からなる層を二以上組み合わせて形成した多層構造の層であってもよい。具体的な電子輸送層の材料は、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq)、先に述べたBAlqなど、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体が好適である。また、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX))、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ))などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体もある。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)や、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)なども用いることができる。 The electron transport layer 124 is preferably formed using a substance having a higher electron mobility than a hole mobility. The electron transport layer 124 is more preferably formed using a substance having an electron mobility of 10 −6 cm 2 / Vs or higher. Further, the electron transport layer 124 may be a layer having a multilayer structure formed by combining two or more layers made of the substances described above. Specific examples of the material for the electron transport layer include tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Almq 3 ), bis (10-hydroxybenzo [h ] -Quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2 ) and the above-described metal complexes having a quinoline skeleton or a benzoquinoline skeleton such as BAlq are suitable. In addition, bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzoxazolate] zinc (abbreviation: Zn (BOX) 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzothiazolate] zinc (abbreviation: Zn (BTZ)) There are also metal complexes having an oxazole-based or thiazole-based ligand such as 2 ). In addition to metal complexes, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (abbreviation: PBD), 1,3-bis [5 -(P-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazol-2-yl] benzene (abbreviation: OXD-7), 3- (4-tert-butylphenyl) -4-phenyl-5 (4-Biphenylyl) -1,2,4-triazole (abbreviation: TAZ), 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2 , 4-triazole (abbreviation: p-EtTAZ), bathophenanthroline (abbreviation: BPhen), bathocuproin (abbreviation: BCP), and the like can also be used.

このような第2の層112は、蒸着法により作製することができる。なお第2の層112を構成する層のうち、混在した層を形成する場合には共蒸着法を用いることができる。共蒸着法は、抵抗加熱蒸着同士による共蒸着法、電子ビーム蒸着同士による共蒸着法、抵抗加熱蒸着と電子ビーム蒸着による共蒸着法があり、その他抵抗加熱蒸着とスパッタリング法による成膜、電子ビーム蒸着とスパッタリングによる成膜など、同種、異種方法を組み合わせて形成することができる。また、上記例は2種の材料を含む層を示しているが、3種以上の材料を含む場合も同様に、同種、異種方法を組み合わせて形成することができることは、上述のとおりである。 Such a second layer 112 can be manufactured by an evaporation method. Note that a co-evaporation method can be used when a mixed layer is formed among the layers included in the second layer 112. The co-evaporation method includes co-evaporation method by resistance heating evaporation, co-evaporation method by electron beam evaporation, co-evaporation method by resistance heating evaporation and electron beam evaporation, other film formation by resistance heating evaporation and sputtering method, electron beam It can be formed by combining the same type and different types of methods such as vapor deposition and sputtering. Moreover, although the said example has shown the layer containing 2 types of materials, it is as above-mentioned that it can form combining the same kind and different method similarly when it contains 3 or more types of materials.

次いで電子を発生する層である第3の層113について説明する。このような第3の層113は、例えば、電子輸送性物質と、その物質に対して電子供与性を示す物質とを含む層が挙げられる。 Next, the third layer 113 which is a layer for generating electrons will be described. Examples of such a third layer 113 include a layer containing an electron transporting substance and a substance that exhibits an electron donating property with respect to the substance.

なお電子輸送性物質とは、正孔よりも電子の輸送性が高い物質であり、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX))、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ))等の金属錯体の他、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)、4,4’ −ビス(5−メチル−ベンゾオキサゾール−2−イル)スチルベン(略称:BzOS)等を用いることができる。また第3の層113は、n型の半導体を用いて形成することができる。但し、電子輸送性物質はこれらに限定されない。 Note that an electron-transporting substance is a substance having a higher electron-transporting property than holes. For example, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum ( Abbreviations: Almq 3 ), bis (10-hydroxybenzo [h] -quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-aluminum (abbreviation: BAlq), Bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzoxazolate] zinc (abbreviation: Zn (BOX) 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzothiazolate] zinc (abbreviation: Zn (BTZ) 2 ), etc. In addition to metal complexes, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole ( Abbreviation: PBD), 1,3-bis [5- (p-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazol-2-yl] benzene (abbreviation: OXD-7), 3- (4- tert-butylphenyl) -4-phenyl-5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole (abbreviation: TAZ), 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole (abbreviation: p-EtTAZ), bathophenanthroline (abbreviation: BPhen), bathocuproin (abbreviation: BCP), 4,4'-bis (5-methyl- Benzoxazol-2-yl) stilbene (abbreviation: BzOS) or the like can be used. The third layer 113 can be formed using an n-type semiconductor. However, the electron transporting substance is not limited to these.

また、電子輸送性物質に対して電子供与性を示す物質は、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の中から選ばれた物質、具体的にはリチウム(Li)、カルシウム(Ca)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、マグネシウム(Mg)等を用いることができる。また、具体的な材料としては、上記アルカリ金属の酸化物またはアルカリ土類金属の酸化物、アルカリ金属の窒化物、アルカリ土類金属の窒化物等、具体的にはリチウム酸化物(LiO)、カルシウム酸化物(CaO)、ナトリウム酸化物(NaO)、カリウム酸化物(KO)、マグネシウム酸化物(MgO)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF)等が挙げられる。但し、電子輸送物質に対して電子供与性を示す物質は、これらに限定されない。なお、電子輸送性物質に対して電子供与性を示す物質は、電子輸送性物質に対して、モル比が0.5〜2(=電子輸送性物質に対して電子供与性を示す物質/電子輸送性物質)と成るように含まれていることが好ましい。 In addition, the substance that exhibits an electron donating property with respect to the electron transporting substance is a substance selected from alkali metals and alkaline earth metals, specifically lithium (Li), calcium (Ca), and sodium (Na). , Potassium (K), magnesium (Mg), or the like can be used. Specific examples of the material include alkali metal oxides or alkaline earth metal oxides, alkali metal nitrides, alkaline earth metal nitrides, and the like. Specifically, lithium oxide (Li 2 O ), Calcium oxide (CaO), sodium oxide (Na 2 O), potassium oxide (K 2 O), magnesium oxide (MgO), lithium fluoride (LiF), cesium fluoride (CsF), fluoride calcium (CaF 2), and the like can be mentioned. However, the substance that exhibits an electron donating property with respect to the electron transporting substance is not limited thereto. Note that a substance that exhibits an electron donating property with respect to an electron transporting substance has a molar ratio of 0.5 to 2 (= a substance that exhibits an electron donating property with respect to an electron transporting substance / electron. It is preferably contained so as to be a transportable substance.

また、第3の層113は、酸化亜鉛、硫化亜鉛、セレン化亜鉛、酸化スズ、酸化チタンのような物質からなる層であってもよい。 The third layer 113 may be a layer made of a substance such as zinc oxide, zinc sulfide, zinc selenide, tin oxide, or titanium oxide.

そして第3の層113は、有機化合物からなる電子輸送性物質と、上記金属酸化物からなる電子輸送性物質に対して電子供与性を示す物質とが混在した層から形成すると、好ましい。このような有機化合物と、無機化合物とが混在した層を用いることによって、第3の層113に用いる有機化合物の結晶化を抑制することができ、抵抗の増加を伴わずに第3の層113を厚く形成することが可能となる。そのため、基板上にゴミや汚れ等に起因する凹凸がある場合であっても、第3の層113の厚膜化により凹凸の影響をほとんど受けない。従って、凹凸に起因する第1の電極101と、第2の電極102とのショート等の不良を防止することができる。さらに、上記金属酸化物からなる電子輸送性物質に対して電子供与性を示す物質が混在した層は導電性が高くなるため、厚膜化を図ることができる。このように第3の層113を厚膜化することにより、第1の電極101と、第2の層112とを離すことができるので、金属に起因して発光が消光することを防ぐこともできる。 The third layer 113 is preferably formed from a layer in which an electron transporting substance made of an organic compound and a substance showing an electron donating property with respect to the electron transporting substance made of the metal oxide are mixed. By using a layer in which such an organic compound and an inorganic compound are mixed, crystallization of the organic compound used for the third layer 113 can be suppressed, and the third layer 113 is not accompanied by an increase in resistance. Can be formed thick. Therefore, even if there is unevenness due to dust or dirt on the substrate, the third layer 113 is hardly affected by the unevenness due to the thick film. Therefore, defects such as a short circuit between the first electrode 101 and the second electrode 102 due to unevenness can be prevented. Further, since a layer in which a substance exhibiting an electron donating property is mixed with an electron transporting substance made of the above metal oxide has high conductivity, it can be made thicker. By increasing the thickness of the third layer 113 in this manner, the first electrode 101 and the second layer 112 can be separated from each other, so that light emission can be prevented from being quenched due to metal. it can.

このような第3の層113は、蒸着法により作製することができる。第3の層113として、混在した層を形成する場合には共蒸着法を用いることができる。共蒸着法は、抵抗加熱蒸着同士による共蒸着法、電子ビーム蒸着同士による共蒸着法、抵抗加熱蒸着と電子ビーム蒸着による共蒸着法があり、その他抵抗加熱蒸着とスパッタリング法による成膜、電子ビーム蒸着とスパッタリングによる成膜など、同種、異種方法を組み合わせて形成することができる。また、上記例は2種の材料を含む層を示しているが、3種以上の材料を含む場合も同様に、同種、異種方法を組み合わせて形成することができることは、上述のとおりである。 Such a third layer 113 can be manufactured by an evaporation method. When a mixed layer is formed as the third layer 113, a co-evaporation method can be used. The co-evaporation method includes co-evaporation method by resistance heating evaporation, co-evaporation method by electron beam evaporation, co-evaporation method by resistance heating evaporation and electron beam evaporation, other film formation by resistance heating evaporation and sputtering method, electron beam It can be formed by combining the same type and different types of methods such as vapor deposition and sputtering. Moreover, although the said example has shown the layer containing 2 types of materials, it is as above-mentioned that it can form combining the same kind and different method similarly when it contains 3 or more types of materials.

以上のような、発光素子において、第3の層113に含まれる電子輸送性物質の電子親和力と、第2の層112に含まれる層のうち第3の層113と接する層に含まれる物質の電子親和力との差は、好ましくは2eV以下、より好ましくは1.5eV以下とするとよい。また、第3の層113がn型の半導体からなるとき、n型の半導体の仕事関数と、第2の層112に含まれる層のうち第3の層113と接する層に含まれる物質の電子親和力との差は、好ましくは2eV以下、より好ましくは1.5eV以下とするとよい。このように、第2の層112と第3の層113とを接合することによって、第3の層113から第2の層112への電子の注入が容易になる。 In the light-emitting element as described above, the electron affinity of the electron transporting substance contained in the third layer 113 and the substance contained in the layer in contact with the third layer 113 among the layers contained in the second layer 112. The difference from the electron affinity is preferably 2 eV or less, more preferably 1.5 eV or less. In addition, when the third layer 113 is formed of an n-type semiconductor, the work function of the n-type semiconductor and electrons of a substance included in a layer in contact with the third layer 113 among the layers included in the second layer 112. The difference from the affinity is preferably 2 eV or less, more preferably 1.5 eV or less. In this manner, by bonding the second layer 112 and the third layer 113, injection of electrons from the third layer 113 to the second layer 112 is facilitated.

なお本発明は、出射される光の発光波長に対する第1の電極101の反射率を低減するように、第1の層111乃至第3の層113の膜厚を決定することを特徴としており、図3に示す発光素子構成に限定されるものではない。例えば、第3の層113に接して形成された電子輸送層124設ける構成を示したが、電子輸送層124を有しない場合もある。すると発光層123は、第3の層113と接する構成となる。この場合、該発光層123には、発光物質を分散状態とするための物質を用いるとよい。同様に、正孔輸送層122を有しない場合もあり得る。 Note that the present invention is characterized in that the film thicknesses of the first layer 111 to the third layer 113 are determined so as to reduce the reflectance of the first electrode 101 with respect to the emission wavelength of emitted light. It is not limited to the light emitting element structure shown in FIG. For example, although the structure in which the electron transport layer 124 formed in contact with the third layer 113 is shown, the electron transport layer 124 may not be provided. Then, the light emitting layer 123 is in contact with the third layer 113. In this case, the light-emitting layer 123 may be formed using a substance for dispersing the light-emitting substance. Similarly, the hole transport layer 122 may not be provided.

また、Alq等のように分散状態としなくても発光することができる物質を発光層123に用いることができる。Alq等は、キャリアの輸送性の良い発光物質であるため、分散状態とすることなくAlqのみからなる層を発光層として機能させることができる。この場合、発光層123が発光物質そのものに相当する。 Further, a substance that can emit light without being dispersed, such as Alq 3 , can be used for the light-emitting layer 123. Since Alq 3 or the like is a light-emitting substance with good carrier transportability, a layer made of only Alq 3 can function as a light-emitting layer without being dispersed. In this case, the light emitting layer 123 corresponds to the light emitting substance itself.

このような第1の層111から第3の層113の作製は、同一方法により形成することができる。そのため、大気解放することなく連続して形成することができる。このように大気解放することなく連続して第1の層111から第3の層113を形成することにより、界面等への不純物混入を低減することができる。 The first layer 111 to the third layer 113 can be formed by the same method. Therefore, it can be formed continuously without being released to the atmosphere. In this way, by continuously forming the first layer 111 to the third layer 113 without releasing to the atmosphere, it is possible to reduce impurity contamination at the interface or the like.

次に電極について説明する。第1の電極101と第2の電極102とは、導電性を有する物質で形成する。また発光層からの光を外部に取り出す側に設けられた第2の電極102は、導電性に加えて透光性を有する必要がある。なお透光性を有するためには、非透光性を有する材料を、非常に薄く形成することによって、得ることもできる。 Next, the electrode will be described. The first electrode 101 and the second electrode 102 are formed using a conductive material. Further, the second electrode 102 provided on the side from which light from the light-emitting layer is extracted needs to have a light-transmitting property in addition to conductivity. In addition, in order to have translucency, it can also obtain by forming the non-translucent material very thinly.

第1の電極101の材料は、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、若しくはパラジウム(Pd)等の金属材料であって反射性の高い材料(反射性材料)を用いることができる。なお、第1の電極101は、例えばスパッタ法や蒸着法等を用いて形成することができる。但し、第1の電極101の材料は、これらに限定されない。このように反射性の高い金属材料を用いて第1の電極101を形成しても、第1の層111乃至第3の層113によって、出射される光の発光波長に対する反射率を低くすることを特徴とする。 The material of the first electrode 101 is titanium (Ti), aluminum (Al), gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), tungsten (W), chromium (Cr), molybdenum (Mo), iron A highly reflective material (reflective material) that is a metal material such as (Fe), cobalt (Co), copper (Cu), or palladium (Pd) can be used. Note that the first electrode 101 can be formed using, for example, a sputtering method, an evaporation method, or the like. However, the material of the first electrode 101 is not limited to these. Even when the first electrode 101 is formed using such a highly reflective metal material, the first layer 111 to the third layer 113 can reduce the reflectance with respect to the emission wavelength of emitted light. It is characterized by.

また第1の電極101は、上記金属材料の単層、又は積層を用いることができる。 For the first electrode 101, a single layer or a stacked layer of the above metal materials can be used.

また、第2の電極102の材料は、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物、2〜20%の酸化亜鉛を含む酸化インジウム等の透光性の高い材料(透光性材料)を用いることができる。その他、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、若しくはパラジウム(Pd)等の金属材料であって、透光性を有する程度に薄膜化して用いることができる。但し、第2の電極102の材料は、これらに限定されない。 The material of the second electrode 102 is a light-transmitting material (light-transmitting material) such as indium tin oxide (ITO), indium tin oxide containing silicon oxide, or indium oxide containing 2 to 20% zinc oxide. Material). In addition, gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), tungsten (W), chromium (Cr), molybdenum (Mo), iron (Fe), cobalt (Co), copper (Cu), or palladium ( It is a metal material such as Pd) and can be used after being thinned to such an extent that it has translucency. However, the material of the second electrode 102 is not limited to these.

また第2の電極102は、上記金属材料の単層、又は積層を用いることができる。第2の電極102に積層を用いる場合、上記材料を薄膜化し、その上に透光性材料を積層する構成を用いることもできる。勿論、薄い上記材料を単層で用いて、第2の電極102を形成してもよい。第2の電極102を薄く形成することにより、抵抗が高くなることを防止するため、補助配線を設けることもできる。 The second electrode 102 can be a single layer or a stacked layer of the above metal materials. In the case where a stacked layer is used for the second electrode 102, a structure in which the above material is thinned and a light-transmitting material is stacked thereover can also be used. Needless to say, the second electrode 102 may be formed using the thin material described above in a single layer. In order to prevent the resistance from increasing by forming the second electrode 102 thin, an auxiliary wiring can be provided.

なお第1の電極101、又は第2の電極102は、発光素子に印加する電圧によって、それぞれ陽極、又は陰極となりえる。陽極となる場合は、仕事関数の大きい(仕事関数4.0eV以上)材料とする。また陰極となる場合は、仕事関数の小さい(仕事関数3.8eV以下)材料とする。 Note that the first electrode 101 or the second electrode 102 can be an anode or a cathode depending on a voltage applied to the light-emitting element, respectively. In the case of an anode, a material having a high work function (work function of 4.0 eV or more) is used. In the case of a cathode, a material having a small work function (work function of 3.8 eV or less) is used.

第1の電極101、又は第2の電極102は、スパッタリング法や蒸着法等を用いて形成することができる。なお、蒸着法を用いる場合、第1の電極101、第1の層111から第3の層113、第2の電極102の作製において、大気解放することなく連続して形成することが可能となる。このように大気解放することなく連続して発光素子を形成することにより、界面等への不純物混入を低減することができる。 The first electrode 101 or the second electrode 102 can be formed by a sputtering method, an evaporation method, or the like. Note that in the case of using the vapor deposition method, the first electrode 101, the first layer 111 to the third layer 113, and the second electrode 102 can be continuously formed without being released to the atmosphere. . Thus, by continuously forming the light emitting elements without releasing to the atmosphere, it is possible to reduce the contamination of impurities at the interface and the like.

また本発明は厚膜化する層に有機化合物と、金属酸化物とが混在した層を用い、低駆動電圧化を達成した発光装置を提供することができる。また該層を厚くすることにより、発光層と第1の電極、又は発光層と第2の電極とを離すことができるため、発光の消光を防止できる。また発光素子を厚く形成することができるので、電極間の短絡を防止でき、量産性を高めることができる。 In addition, the present invention can provide a light emitting device that achieves a low driving voltage by using a layer in which an organic compound and a metal oxide are mixed in a layer to be thickened. Further, by increasing the thickness of the layer, the light emitting layer and the first electrode or the light emitting layer and the second electrode can be separated from each other, so that quenching of light emission can be prevented. In addition, since the light-emitting element can be formed thick, a short circuit between the electrodes can be prevented and mass productivity can be improved.

以上のような発光素子構造を有する本発明は、第1の電極101又は第2の電極102での発光素子からの光の反射を低減し、カラーフィルター105により該発光素子からの発光色以外の波長の透過を防止することができる。その結果、発光素子からの光のみを調整することにより、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない発光装置を提供することができる。 In the present invention having the light emitting element structure as described above, the reflection of light from the light emitting element at the first electrode 101 or the second electrode 102 is reduced, and the color filter 105 reduces the color other than the light emission color from the light emitting element. Wavelength transmission can be prevented. As a result, by adjusting only light from the light-emitting element, contrast can be increased, and a light-emitting device that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

(実施の形態4)
本実施の形態では、上記実施の形態と異なる発光素子の構造について説明する。
(Embodiment 4)
In this embodiment, a structure of a light-emitting element which is different from that in the above embodiment will be described.

図4に示すように、本実施の形態に示す発光素子は、対向する第1の電極101、第2の電極102を有し、第1電極101から順に、第1の層111、第2の層112、第3の層113、第4の層128が積層されており、第4の層128を設けたことを特徴とする。第4の層128は、第1の層111と同様の材料から形成することができ、その他の構成は、上記実施の形態と同様であるため、説明を省略する。 As illustrated in FIG. 4, the light-emitting element described in this embodiment includes a first electrode 101 and a second electrode 102 which are opposed to each other, and the first layer 111 and the second electrode 102 are sequentially formed from the first electrode 101. The layer 112, the third layer 113, and the fourth layer 128 are stacked, and the fourth layer 128 is provided. The fourth layer 128 can be formed using a material similar to that of the first layer 111, and the other structures are the same as those in the above embodiment; thus, description thereof is omitted.

このように第4の層128を設けると、第2の電極102を形成するときの各層へのダメージを低減することができる。 When the fourth layer 128 is provided in this manner, damage to each layer when the second electrode 102 is formed can be reduced.

そして各発光色に応じて、第1の層111乃至第4の層128のいずれかの膜厚を異ならせる。その結果、第1の電極101での該発光波長の反射率を低減することができる。また膜厚を異ならせる場合、第4の層128においても、有機化合物と金属酸化物とが混在された層を用いるとよい。具体的には金属酸化物として、バナジウム酸化物、モリブデン酸化物、ニオブ酸化物、レニウム酸化物、タングステン酸化物、ルテニウム酸化物、チタン酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、及びタンタル酸化物のいずれかを用いることができる。またこれら金属の窒化物であってもよいし、酸化窒化物であってもよい。これら金属酸化物等は、厚膜化しても駆動電圧を高くならず好ましいことは上述の通りである。 Then, the film thickness of any of the first layer 111 to the fourth layer 128 is changed depending on each emission color. As a result, the reflectance of the emission wavelength at the first electrode 101 can be reduced. In the case where the film thickness is different, a layer in which an organic compound and a metal oxide are mixed is preferably used for the fourth layer 128. Specifically, as the metal oxide, vanadium oxide, molybdenum oxide, niobium oxide, rhenium oxide, tungsten oxide, ruthenium oxide, titanium oxide, chromium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, and Any of tantalum oxides can be used. Further, these metals may be nitrides or oxynitrides. As described above, these metal oxides and the like are preferable because the driving voltage does not increase even when the film thickness is increased.

そして第4の層128を厚膜化することにより、第2の電極102を形成するときのダメージの、さらなる低減を期待できる。 Further, by increasing the thickness of the fourth layer 128, it is possible to expect further reduction of damage when the second electrode 102 is formed.

以上のような発光素子構造を有する本発明は、第1の電極101又は第2の電極102での発光素子からの光の反射を低減し、カラーフィルター105により該発光素子からの発光色以外の波長の透過を防止することができる。その結果、発光素子からの光のみを調整することにより、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない発光装置を提供することができる。 In the present invention having the light emitting element structure as described above, the reflection of light from the light emitting element at the first electrode 101 or the second electrode 102 is reduced, and the color filter 105 reduces the color other than the light emission color from the light emitting element. Wavelength transmission can be prevented. As a result, by adjusting only light from the light-emitting element, contrast can be increased, and a light-emitting device that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

(実施の形態5)
本実施の形態では、発光素子への電流の供給を制御するトランジスタ(駆動用トランジスタと記す)がp型TFTの場合における、画素の断面構造について説明する。なお本実施の形態では、第1の電極が陽極、第2の電極が陰極の場合について説明する。
(Embodiment 5)
In this embodiment, a cross-sectional structure of a pixel in the case where a transistor for controlling supply of current to a light-emitting element (referred to as a driving transistor) is a p-type TFT will be described. Note that in this embodiment, the case where the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode is described.

図5に、TFT611がp型で、発光素子603から発せられる光を第2の電極102側から取り出す上方出射型であって、3つ分の画素の断面図を示す。図5では、発光素子603の第1の電極101と、TFT611がそれぞれ電気的に接続されている。また第1の電極101に隣接した電界発光層605、当該電界発光層に隣接するように第2の電極102が順に積層されている。電界発光層605は、上記第1の層111及び第3の層113、またさらに第4の層128からなる。このような電界発光層からは、発光波長のスペクトルのピークが可視光帯域にある光が出射される。 FIG. 5 is a cross-sectional view of three pixels, which is a top emission type in which the TFT 611 is a p-type and light emitted from the light-emitting element 603 is extracted from the second electrode 102 side. In FIG. 5, the first electrode 101 of the light emitting element 603 and the TFT 611 are electrically connected to each other. In addition, an electroluminescent layer 605 adjacent to the first electrode 101 and a second electrode 102 are sequentially stacked so as to be adjacent to the electroluminescent layer. The electroluminescent layer 605 includes the first layer 111, the third layer 113, and the fourth layer 128. From such an electroluminescent layer, light having an emission wavelength spectrum peak in the visible light band is emitted.

TFT611は、厚さが10nm乃至200nmであって、島状に分離された半導体膜により、チャネル形成領域が形成されている。半導体膜は、非晶質半導体膜、結晶性半導体膜、微結晶半導体膜のいずれを用いてもよい。例えば、結晶性半導体膜の場合、まず非晶質半導体膜を形成し、加熱処理により結晶化された結晶性半導体膜を用いることができる。加熱処理とは、加熱炉、レーザー照射、若しくはレーザー光の代わりにランプから発する光の照射(以下、ランプアニールと表記する)、又はそれらを組み合わせて用いることができる。 The TFT 611 has a thickness of 10 nm to 200 nm, and a channel formation region is formed using an island-shaped semiconductor film. As the semiconductor film, any of an amorphous semiconductor film, a crystalline semiconductor film, and a microcrystalline semiconductor film may be used. For example, in the case of a crystalline semiconductor film, an amorphous semiconductor film can be formed first, and a crystalline semiconductor film crystallized by heat treatment can be used. The heat treatment can be a heating furnace, laser irradiation, irradiation of light emitted from a lamp instead of laser light (hereinafter referred to as lamp annealing), or a combination thereof.

レーザー照射を用いる場合、連続発振型のレーザー(CWレーザー)やパルス発振型のレーザー(パルスレーザー)を用いることができる。 When laser irradiation is used, a continuous wave laser (CW laser) or a pulsed laser (pulse laser) can be used.

またさらにレーザーの入射角を、半導体膜に対してθ(0°<θ<90°)となるようにしてもよい。その結果、レーザーの干渉を防止することができる。 Furthermore, the incident angle of the laser may be θ (0 ° <θ <90 °) with respect to the semiconductor film. As a result, laser interference can be prevented.

なお連続発振の基本波のレーザー光と、連続発振の高調波のレーザー光とを照射するようにしてもよいし、連続発振の基本波のレーザー光と、パルス発振の高調波のレーザー光とを照射するようにしてもよい。複数のレーザー光を照射することにより、エネルギーを補うことができる。 The continuous wave fundamental laser beam and the continuous wave harmonic laser beam may be irradiated, or the continuous wave fundamental laser beam and the pulsed harmonic laser beam may be irradiated. You may make it irradiate. Energy can be supplemented by irradiating a plurality of laser beams.

またパルス発振型のレーザーであって、半導体膜がレーザー光によって溶融してから固化するまでに、次のパルスのレーザー光を照射できるような発振周波数でレーザー光を発振させることで、走査方向に向かって連続的に成長した結晶粒を得ることができる。すなわち、パルス発振の周期が、半導体膜が溶融してから完全に固化するまでの時間よりも短くなるように、発振の周波数の下限を定めたパルスビームを使用することができる。実際に用いることができるパルスビームの発振周波数は10MHz以上であって、通常用いられている数十Hz〜数百Hzの周波数帯よりも著しく高い周波数帯を使用する。 In addition, it is a pulse oscillation type laser that oscillates laser light at an oscillation frequency that can irradiate the laser light of the next pulse after the semiconductor film is melted by the laser light and solidifies in the scanning direction. Crystal grains grown continuously can be obtained. That is, a pulse beam in which the lower limit of the oscillation frequency is determined so that the period of pulse oscillation is shorter than the time from when the semiconductor film is melted until it is completely solidified. The oscillation frequency of the pulse beam that can be actually used is 10 MHz or more, and a frequency band that is significantly higher than the frequency band of several tens to several hundreds Hz that is normally used is used.

その他の加熱処理による結晶化手段として、加熱炉を用いる場合、非晶質半導体膜を500〜550℃で2〜20時間かけて加熱する方法がある。このとき、徐々に高温となるように温度を500〜550℃の範囲で多段階に設定するとよい。最初の低温加熱工程により、半導体膜の水素等が出てくるため、結晶化の際の膜荒れを低減し、さらにダングリングボンドの終端を行うことができる。さらに、結晶化を促進させる金属元素、例えばNiを非晶質半導体膜上に形成すると、加熱温度を低減することができ好ましい。このような金属元素を用いた結晶化であっても、600〜950℃に加熱しても構わない。 As another crystallization method by heat treatment, when a heating furnace is used, there is a method of heating an amorphous semiconductor film at 500 to 550 ° C. for 2 to 20 hours. At this time, the temperature may be set in multiple stages in the range of 500 to 550 ° C. so that the temperature gradually increases. In the first low-temperature heating step, hydrogen or the like of the semiconductor film is produced, so that film roughness during crystallization can be reduced and dangling bonds can be terminated. Furthermore, it is preferable to form a metal element that promotes crystallization, such as Ni, on the amorphous semiconductor film because the heating temperature can be reduced. Even crystallization using such a metal element may be heated to 600 to 950 ° C.

但し、金属元素を形成する場合、半導体素子の電気特性に悪影響を及ぼすことが懸念されるので、該金属元素を低減又は除去するためのゲッタリング工程を施す必要が生じる。例えば、非晶質半導体膜をゲッタリングシンクとして金属元素を捕獲するよう工程を行えばよい。 However, when a metal element is formed, there is a concern that the electrical characteristics of the semiconductor element may be adversely affected. Therefore, it is necessary to perform a gettering step for reducing or removing the metal element. For example, a process may be performed so as to capture a metal element using an amorphous semiconductor film as a gettering sink.

さらにTFT611は、該半導体膜を覆うゲート絶縁膜、第1の導電膜及び第2の導電膜が積層しているゲート電極を有し、該ゲート電極上には水素を含む絶縁膜が設けられている。該水素によっても、ダングリングボンドを終端することができる。 The TFT 611 further includes a gate insulating film that covers the semiconductor film, a gate electrode in which a first conductive film and a second conductive film are stacked, and an insulating film containing hydrogen is provided over the gate electrode. Yes. The dangling bond can also be terminated by the hydrogen.

TFT611は、p型を有し、半導体膜は高濃度不純物領域のみを有するシングルドレイン構造とする。またTFT611は、半導体膜に低濃度不純物領域、及び高濃度不純物領域を有するLDD(低濃度ドレイン)構造としてもよい。なお低濃度不純物領域がゲート電極と重なったGOLD構造としてもよい。 The TFT 611 is p-type, and the semiconductor film has a single drain structure having only a high concentration impurity region. The TFT 611 may have an LDD (low concentration drain) structure in which a semiconductor film has a low concentration impurity region and a high concentration impurity region. Note that a GOLD structure in which the low concentration impurity region overlaps with the gate electrode may be employed.

TFT611は層間絶縁膜607で覆われており、層間絶縁膜607上には開口部を有する隔壁608が形成されている。隔壁608の開口部において、第1の電極101が一部露出しており、該開口部において第1の電極101、電界発光層605、第2の電極102が順に積層されている。 The TFT 611 is covered with an interlayer insulating film 607, and a partition wall 608 having an opening is formed over the interlayer insulating film 607. In the opening of the partition wall 608, the first electrode 101 is partly exposed, and the first electrode 101, the electroluminescent layer 605, and the second electrode 102 are sequentially stacked in the opening.

電界発光層605は、第1の層111、第2の層112、及び第3の層113、加えて第4の層128に相当しており、第1の電極101における電界発光層605からの発光色の反射が低くなるように、その膜厚が決定されている。そしてこれらの層には、有機化合物と、金属酸化物とが混在する層を用いると、厚膜化による駆動電圧の上昇を防止できる。 The electroluminescent layer 605 corresponds to the first layer 111, the second layer 112, the third layer 113, and the fourth layer 128, and the electroluminescent layer 605 from the electroluminescent layer 605 in the first electrode 101. The film thickness is determined so that the reflection of the emission color becomes low. If a layer in which an organic compound and a metal oxide are mixed is used for these layers, an increase in driving voltage due to thickening can be prevented.

上方出射型であるため、第1の電極101は、非透光性を有し、第2の電極102は透光性を有する材料から形成する。これら材料は、上記実施の形態を参照することができる。 Since it is a top emission type, the first electrode 101 has a non-light-transmitting property, and the second electrode 102 is formed from a light-transmitting material. For these materials, the above embodiment mode can be referred to.

電界発光層605は、発光層の他に、正孔を発生する層、電子を発生する層等を有していることは上述の通りである。第1の電極101が陽極であるため、第1の電極101から正孔を発生する層、発光層、電子を発生する層の順に積層する。なお第1の電極101が陰極の場合、電子を発生する層、発光層、正孔を発生する層の順に積層する。 As described above, the electroluminescent layer 605 includes, in addition to the light emitting layer, a layer that generates holes, a layer that generates electrons, and the like. Since the first electrode 101 is an anode, a layer that generates holes from the first electrode 101, a light-emitting layer, and a layer that generates electrons are stacked in this order. Note that in the case where the first electrode 101 is a cathode, an electron generating layer, a light emitting layer, and a hole generating layer are stacked in this order.

図5に示した画素の場合、発光素子603から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第2の電極102側から取り出すことができる。そして、第1の電極101では、当該光の反射が低減される。具体的には、第1の電極101での発光波長の反射率が低減されるように、電界発光層の膜厚を決定する。 In the case of the pixel shown in FIG. 5, light emitted from the light-emitting element 603 can be extracted from the second electrode 102 side as indicated by a hollow arrow. In the first electrode 101, reflection of the light is reduced. Specifically, the thickness of the electroluminescent layer is determined so that the reflectance of the emission wavelength at the first electrode 101 is reduced.

そして、第2の電極側に設けられたカラーフィルター105により、該発光素子からの発光色以外の波長の透過を防止することができる。すなわちカラーフィルター105は、該発光素子からの発光色の波長を選択的に透過させることができる。その結果、電界発光層からの光のみを調整することにより、コントラスト等の制御を行うことができる。そしてさらに本発明の構成によって、偏光板等を必要としない発光装置を提供することができる。 The color filter 105 provided on the second electrode side can prevent transmission of wavelengths other than the emission color from the light emitting element. That is, the color filter 105 can selectively transmit the wavelength of the emission color from the light emitting element. As a result, it is possible to control contrast and the like by adjusting only the light from the electroluminescent layer. Further, the structure of the present invention can provide a light-emitting device that does not require a polarizing plate or the like.

(実施の形態6)
次に図6を用いて、TFT611がp型で、発光素子603から発せられる光を第1の電極101側から取り出す下方出射型における、3つ分の画素の断面図を示す。
(Embodiment 6)
Next, FIG. 6 is a cross-sectional view of three pixels in a bottom emission type in which the TFT 611 is p-type and the light emitted from the light emitting element 603 is extracted from the first electrode 101 side.

図6では、発光素子603の第1の電極101と、TFT611がそれぞれ電気的に接続されている。また第1の電極101上に電界発光層605、第2の電極102が順に積層されている。 In FIG. 6, the first electrode 101 of the light-emitting element 603 and the TFT 611 are electrically connected to each other. In addition, an electroluminescent layer 605 and a second electrode 102 are sequentially stacked over the first electrode 101.

TFT611は、上記実施の形態と同様に形成することができる。また下方出射型であるため、第1の電極101は透光性を有し、第2の電極102は非透光性を有する。これら材料は、上記実施の形態を参照することができる。そして、光の出射側である第1の電極101側に、カラーフィルター105が設けられている。 The TFT 611 can be formed in a manner similar to that of the above embodiment mode. In addition, since it is a bottom emission type, the first electrode 101 has a light-transmitting property and the second electrode 102 has a non-light-transmitting property. For these materials, the above embodiment mode can be referred to. A color filter 105 is provided on the first electrode 101 side that is the light emission side.

電界発光層605も、上記実施の形態と同様に形成することができる。ただし、本実施の形態において、第1の電極101が陰極であるため、電子を発生する層、発光層、正孔を発生する層の順に積層するとよい。そして第2の電極102における電界発光層からの発光色の反射を低減するように、第1の層111乃至第3の層113、さらに第4の層128の膜厚が決定される。図6では、下方出射型の場合を示しているため、電界発光層605のうち、第2の電極102に近い第3の層113に相当する層の膜厚を決定するとよい。 The electroluminescent layer 605 can also be formed in the same manner as in the above embodiment mode. However, in this embodiment mode, since the first electrode 101 is a cathode, a layer that generates electrons, a light-emitting layer, and a layer that generates holes may be stacked in this order. Then, the thicknesses of the first layer 111 to the third layer 113 and further the fourth layer 128 are determined so as to reduce the reflection of the emission color from the electroluminescent layer in the second electrode 102. 6 shows the case of the bottom emission type, the thickness of the layer corresponding to the third layer 113 close to the second electrode 102 in the electroluminescent layer 605 may be determined.

図6に示した画素の場合、発光素子603から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極101側から取り出すことができ、第2の電極102での反射を低減し、カラーフィルター105により該発光素子からの発光色以外の波長の透過を防止することができる。その結果、電界発光層からの光のみを調整することにより、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない発光装置を提供することができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 6, light emitted from the light emitting element 603 can be extracted from the first electrode 101 side as indicated by a white arrow, and reflection at the second electrode 102 is reduced. The color filter 105 can prevent transmission of wavelengths other than the emission color from the light-emitting element. As a result, by adjusting only the light from the electroluminescent layer, the contrast can be increased and a light-emitting device that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

(実施の形態7)
本実施の形態では、発光素子を有する画素の等価回路図について、図7を用いて説明する。
(Embodiment 7)
In this embodiment, an equivalent circuit diagram of a pixel including a light-emitting element will be described with reference to FIGS.

図7(A)は、画素の等価回路の一例を示したものであり、信号線712、電源線715、走査線710それらの交点に発光素子603、トランジスタ703、711、容量素子704を有する画素の等価回路である。 FIG. 7A illustrates an example of an equivalent circuit of a pixel, in which a pixel having a light-emitting element 603, transistors 703 and 711, and a capacitor 704 at intersections of a signal line 712, a power supply line 715, and a scanning line 710. Is an equivalent circuit.

このような等価回路において、信号線712には信号線駆動回路から、映像信号が入力される。トランジスタ711は、走査線710に入力される選択信号に従って、トランジスタ703のゲートへの、該映像信号の電位の供給を制御することができ、スイッチング用トランジスタと呼ばれる。トランジスタ703は、該映像信号の電位に従って、発光素子603への電流の供給を制御することができ、駆動用トランジスタと呼ばれる。発光素子は、供給される電流に伴い発光状態、又は非発光状態をとり、これにより表示を行うことができる。容量素子704は、トランジスタ703のゲート・ソース間の電圧を保持することができる。なお、図7(A)では、容量素子704を図示したが、トランジスタ703のゲート容量や他の寄生容量で賄うことが可能な場合には、設けなくてもよい。 In such an equivalent circuit, a video signal is input to the signal line 712 from the signal line driver circuit. The transistor 711 can control the supply of the potential of the video signal to the gate of the transistor 703 in accordance with a selection signal input to the scan line 710 and is called a switching transistor. The transistor 703 can control supply of current to the light-emitting element 603 in accordance with the potential of the video signal, and is referred to as a driving transistor. The light-emitting element takes a light-emitting state or a non-light-emitting state in accordance with the supplied current, and thus can perform display. The capacitor 704 can hold a voltage between the gate and the source of the transistor 703. Note that although the capacitor 704 is illustrated in FIG. 7A, the capacitor 704 is not necessarily provided when it can be covered by the gate capacitance of the transistor 703 or other parasitic capacitance.

図7(B)は、図7(A)に示した画素の等価回路に、新たに走査線719、トランジスタ718を設けた画素の等価回路である。 FIG. 7B is an equivalent circuit of a pixel in which a scan line 719 and a transistor 718 are newly provided in the equivalent circuit of the pixel shown in FIG.

トランジスタ718は、トランジスタ703のゲートとソースを同電位とし、強制的に発光素子603に電流が流れない状態を作ることができ、消去用トランジスタと呼ばれる。そのため、時間階調表示において、全画素に映像信号が入力され終わる前に、次に映像信号を入力することができ、デューティー比を高くすることができる。 The transistor 718 is called an erasing transistor because the gate and the source of the transistor 703 can be set to the same potential so that no current can be forced to flow through the light-emitting element 603. Therefore, in the time gradation display, the video signal can be input next before the video signal is completely input to all pixels, and the duty ratio can be increased.

またトランジスタ718の代わりにダイオードとして機能する素子を設けてもよい。本実施の形態では、トランジスタ703のゲート電極と、走査線719との間にダイオード接続したトランジスタやPN型のダイオードを設けることができる。その結果、強制的に発光素子603に電流が流れない状態を作ることもできる。 Further, an element functioning as a diode may be provided instead of the transistor 718. In this embodiment, a transistor or a PN diode that is diode-connected can be provided between the gate electrode of the transistor 703 and the scan line 719. As a result, it is possible to forcibly create a state in which no current flows through the light emitting element 603.

図7(C)は、図7(B)に示した画素の等価回路に、新たにトランジスタ725と、配線726を設けた画素の等価回路である。トランジスタ725は、そのゲートの電位が固定されている。例えば、配線726に接続されることによってゲート電位が固定される。そして、トランジスタ703とトランジスタ725は、電源線715と発光素子603との間に直列に接続されている。よって図7(C)では、トランジスタ725により発光素子603に供給される電流の値が制御され、トランジスタ703により発光素子603への該電流の供給の有無が制御できる。 FIG. 7C is an equivalent circuit of a pixel in which a transistor 725 and a wiring 726 are newly provided in the equivalent circuit of the pixel illustrated in FIG. The potential of the gate of the transistor 725 is fixed. For example, the gate potential is fixed by being connected to the wiring 726. The transistor 703 and the transistor 725 are connected in series between the power supply line 715 and the light emitting element 603. Accordingly, in FIG. 7C, the value of the current supplied to the light-emitting element 603 is controlled by the transistor 725, and whether or not the current is supplied to the light-emitting element 603 can be controlled by the transistor 703.

以上、図7(A)(B)(C)に示した画素の等価回路は、デジタル方式で駆動させることができる。デジタル方式で駆動させる場合、各駆動用トランジスタに多少の電気特性ばらつきがあっても、該トランジスタをスイッチング素子として使用するため、問題にならない。 As described above, the pixel equivalent circuit shown in FIGS. 7A, 7B, and 7C can be driven in a digital manner. In the case of driving by a digital method, even if there is a slight variation in electrical characteristics among the driving transistors, there is no problem because the transistors are used as switching elements.

本発明の発光装置が有する画素の等価回路は、デジタル方式であっても、アナログ方式であっても駆動させることができる。例えば図7(D)に示す画素の等価回路は、信号線712、電源線715、走査線710、それらの交点に発光素子603、トランジスタ711、720、721、容量素子704を有する。図7(D)において、トランジスタ720、721はカレントミラー回路を構成しており、p型のトランジスタからなる。このような画素の等価回路では、デジタル方式の場合、信号線712からデジタルビデオ信号が入力され、時間階調により発光素子603に供給される電流の値が制御される。またアナログ方式の場合、信号線712からアナログビデオ信号が入力され、その値に応じて発光素子603に供給される電流の値が制御される。アナログ方式で駆動させる場合、低消費電力化を図ることができる。 An equivalent circuit of a pixel included in the light-emitting device of the present invention can be driven by either a digital method or an analog method. For example, an equivalent circuit of a pixel illustrated in FIG. 7D includes a signal line 712, a power supply line 715, a scanning line 710, and light-emitting elements 603, transistors 711, 720, and 721, and a capacitor 704 at intersections thereof. In FIG. 7D, transistors 720 and 721 form a current mirror circuit and are p-type transistors. In such an equivalent circuit of a pixel, in the case of a digital method, a digital video signal is input from a signal line 712, and the value of a current supplied to the light-emitting element 603 is controlled by time gradation. In the case of the analog method, an analog video signal is input from the signal line 712, and the value of the current supplied to the light emitting element 603 is controlled according to the value. In the case of driving in an analog manner, power consumption can be reduced.

以上のような画素において、信号線712、電源線715、726には、信号線駆動回路から信号が入力される。また走査線710、719には、走査線駆動回路から信号が入力される。信号線駆動回路や走査線駆動回路は、単数、又は複数設けることができる。例えば、画素部を介して第1の走査線駆動回路、第2の走査線駆動回路を設けることができる。 In the pixel as described above, signals are input from the signal line driver circuit to the signal line 712 and the power supply lines 715 and 726. In addition, signals are input to the scanning lines 710 and 719 from the scanning line driving circuit. One or more signal line driver circuits and / or scanning line driver circuits can be provided. For example, a first scan line driver circuit and a second scan line driver circuit can be provided through the pixel portion.

また図7(A)に示す画素において、図7(B)を用いて説明したように、強制的に発光素子603に電流が流れない状態を作ることができる。例えば、第1の走査線駆動回路により、発光素子603が点灯するタイミングで、トランジスタ711を選択し、第2の走査線駆動回路により発光素子603へ強制的に電流が流れないような信号を走査線710に供給する。強制的に電流が流れないような信号(Wirte Erase Signal)とは、発光素子603の第1の電極101と、第2の電極102とが同電位となるための電位を与える信号である。このように、駆動方法によっても、強制的に発光素子603に電流が流れない状態を作ることができ、デューティー比を高めることができる。 In the pixel illustrated in FIG. 7A, a state in which no current flows through the light-emitting element 603 can be forcibly formed as described with reference to FIG. 7B. For example, the first scanning line driver circuit selects the transistor 711 at the timing when the light-emitting element 603 is turned on, and the second scanning line driver circuit scans a signal that does not forcibly flow current to the light-emitting element 603. Supply to line 710. A signal that prevents a current from flowing forcibly (Wirte Erase Signal) is a signal that provides a potential for causing the first electrode 101 and the second electrode 102 of the light-emitting element 603 to have the same potential. As described above, even in accordance with the driving method, a state in which no current flows through the light emitting element 603 can be forcibly created, and the duty ratio can be increased.

このように本発明の発光装置が有する画素の等価回路は、多くの形態をとることができる。なお、本発明の画素回路は、本実施の形態で示した構成に限定されない。また本実施の形態は、上記の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 As described above, an equivalent circuit of a pixel included in the light-emitting device of the present invention can take many forms. Note that the pixel circuit of the present invention is not limited to the structure shown in this embodiment mode. This embodiment can be freely combined with the above embodiment.

(実施の形態8)
本発明の発光装置を表示部に備えた電子機器として、テレビジョン装置(単にテレビ、又はテレビジョン受信機ともよぶ)、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話装置(単に携帯電話機、携帯電話ともよぶ)、PDA等の携帯情報端末、携帯型ゲーム機、コンピュータ用のモニター、コンピュータ、カーオーディオ等の音響再生装置、家庭用ゲーム機等の記録媒体を備えた画像再生装置等が挙げられる。その具体例について、図8を参照して説明する。
(Embodiment 8)
As an electronic device including the light-emitting device of the present invention in a display portion, a television device (also simply referred to as a television or a television receiver), a digital camera, a digital video camera, or a mobile phone device (also simply referred to as a mobile phone or a mobile phone). ), Portable information terminals such as PDAs, portable game machines, computer monitors, computers, sound reproduction apparatuses such as car audio, and image reproduction apparatuses equipped with recording media such as home game machines. A specific example will be described with reference to FIG.

図8(A)に示す携帯情報端末機器は、本体9201、表示部9202等を含んでいる。表示部9202には、本発明の発光装置を適用することができる。その結果、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない携帯情報端末機器を提供することができる。 A portable information terminal device illustrated in FIG. 8A includes a main body 9201, a display portion 9202, and the like. The light emitting device of the present invention can be applied to the display portion 9202. As a result, contrast can be increased and a portable information terminal device that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

図8(B)に示すデジタルビデオカメラは、表示部9701、表示部9702等を含んでいる。表示部9701には、本発明の発光装置を適用することができる。その結果、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としないデジタルビデオカメラを提供することができる。 A digital video camera shown in FIG. 8B includes a display portion 9701, a display portion 9702, and the like. The light-emitting device of the present invention can be applied to the display portion 9701. As a result, it is possible to provide a digital video camera that can increase contrast and does not require a polarizing plate or the like.

図8(C)に示す携帯電話機は、本体9101、表示部9102等を含んでいる。表示部9102には、本発明の発光装置適用することができる。その結果、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない携帯電話機を提供することができる。 A cellular phone shown in FIG. 8C includes a main body 9101, a display portion 9102, and the like. The light emitting device of the present invention can be applied to the display portion 9102. As a result, contrast can be increased and a mobile phone that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

図8(D)に示す携帯型のテレビジョン装置は、本体9301、表示部9302等を含んでいる。表示部9302には、本発明の発光装置を適用することができる。その結果、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない携帯型のテレビジョン装置を提供することができる。また携帯型のテレビジョン装置としては、携帯電話機などの携帯端末に搭載する小型のものから、持ち運びをすることができる中型のものまで、幅広く本発明の発光装置を適用することができる。 A portable television device illustrated in FIG. 8D includes a main body 9301, a display portion 9302, and the like. The light emitting device of the present invention can be applied to the display portion 9302. As a result, the contrast can be increased and a portable television device that does not require a polarizing plate or the like can be provided. In addition, as a portable television device, the light-emitting device of the present invention can be applied widely, from a small one mounted on a portable terminal such as a cellular phone to a medium-sized one that can be carried.

図8(E)に示す携帯型のコンピュータは、本体9401、表示部9402等を含んでいる。表示部9402には、本発明の発光装置を適用することができる。その結果、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない携帯型のコンピュータを提供することができる。 A portable computer illustrated in FIG. 8E includes a main body 9401, a display portion 9402, and the like. The light emitting device of the present invention can be applied to the display portion 9402. As a result, the contrast can be increased and a portable computer that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

図8(F)に示すテレビジョン装置は、本体9501、表示部9502等を含んでいる。表示部9502には、本発明の発光装置を適用することができる。その結果、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としないテレビジョン装置を提供することができる。 A television device illustrated in FIG. 8F includes a main body 9501, a display portion 9502, and the like. The light emitting device of the present invention can be applied to the display portion 9502. As a result, the contrast can be increased and a television device that does not require a polarizing plate or the like can be provided.

このように、本発明の発光装置により、コントラストを高めることができ、偏光板等を必要としない電子機器を提供することができる。 As described above, the light-emitting device of the present invention can increase the contrast and provide an electronic device that does not require a polarizing plate or the like.

本実施例では、波長400nmから800nmに対する反射率、又は透過率について、実測値及び計算値等を示す。 In this embodiment, measured values, calculated values, and the like are shown for the reflectance or transmittance for wavelengths from 400 nm to 800 nm.

図9には、赤色を呈するため、赤色のカラーフィルターを用いた結果を示す。素子構造は、第1の電極としてチタン(Ti)を形成し、有機化合物としてαNPD及びルブレンを用い、それらとモリブデン酸化物とが混在した層を196nm、αNPDを10nm、Alqに赤色の発光物質を分散させた層を40nmに、Alqを20nm、BzOSとリチウム(Li)とを有する層を20nm、第2の電極としてアルミニウム(Al)を15nm、と順に積層したものである。なおチタンの膜厚は、光を透過しない程度であればよく、40nm以上とする。 FIG. 9 shows the result of using a red color filter in order to exhibit red. In the element structure, titanium (Ti) is formed as the first electrode, αNPD and rubrene are used as the organic compound, a layer in which these are mixed with molybdenum oxide is 196 nm, αNPD is 10 nm, and Alq 3 is a red light emitting substance. A layer in which Al is dispersed is 40 nm, Alq 3 is 20 nm, a layer containing BzOS and lithium (Li) is 20 nm, and aluminum (Al) is laminated as a second electrode in order of 15 nm. Note that the thickness of titanium is not limited to transmit light, and is 40 nm or more.

曲線(A)は、第1の電極における反射率の計算値であり、本発光素子からの発光のスペクトルとなる630nm辺りで、もっとも反射率が低くなることがわかる。曲線(B)は、赤色用のカラーフィルターの透過率の実測値である。カラーフィルターの膜厚は1.5μmとした。(B)をみると、本発光素子からの発光のスペクトルとなる630nm辺りで、もっとも透過率が高くなっていることがわかる。曲線(C)は、(A)の反射率に、(B)の透過率の2乗をかけたものであり、実際の発光装置における外光の反射を検討するために求めている。外光の光路は、カラーフィルターを通過し、第1の電極で反射し、再びカラーフィルターを通過して、使用者に認識されるためである。曲線(C)をみると、本発光素子からの発光のスペクトルとなる630nm辺りで、十分反射率が小さくなっていることがわかる。具体的には、発光素子からの発光波長のスペクトルのピーク(630nm付近)の反射率は10%以下であることがわかる。 A curve (A) is a calculated value of the reflectance of the first electrode, and it can be seen that the reflectance is the lowest around 630 nm, which is a spectrum of light emission from the light emitting element. A curve (B) is an actual measurement value of the transmittance of the red color filter. The film thickness of the color filter was 1.5 μm. When (B) is seen, it turns out that the transmittance | permeability is the highest around 630 nm used as the spectrum of light emission from this light emitting element. A curve (C) is obtained by multiplying the reflectance of (A) by the square of the transmittance of (B), and is obtained in order to examine the reflection of external light in an actual light emitting device. This is because the external light path passes through the color filter, is reflected by the first electrode, passes through the color filter again, and is recognized by the user. From the curve (C), it can be seen that the reflectance is sufficiently small around 630 nm, which is a spectrum of light emission from the light emitting element. Specifically, it can be seen that the reflectance of a spectrum peak (around 630 nm) of the emission wavelength from the light emitting element is 10% or less.

また図10には、緑色を呈するため、緑色のカラーフィルターを用いた結果を示す。素子構造は同様な材料であって、第1の電極としてチタン(Ti)を形成し、有機化合物としてαNPD及びルブレンを用い、それらとモリブデン酸化物とが混在した層を140nm、αNPDを10nm、Alqに緑色の発光物質を分散させた層を40nm、Alqを20nm、BzOSとリチウム(Li)とを有する層を20nm、第2の電極としてアルミニウム(Al)を15nm、と順に積層したものであり、有機化合物としてαNPD及びルブレンを用い、それらとモリブデン酸化物とが混在した層の膜厚が上記赤色の素子と異なっている。なおチタンの膜厚は、光を透過しない程度であればよく、40nm以上とする。 Further, FIG. 10 shows the result of using a green color filter in order to exhibit green. The element structure is the same material, titanium (Ti) is formed as the first electrode, αNPD and rubrene are used as the organic compound, a layer in which these and molybdenum oxide are mixed is 140 nm, αNPD is 10 nm, Alq 3 is a layer in which a green light emitting material is dispersed to 40 nm, Alq 3 is 20 nm, a layer having BzOS and lithium (Li) is 20 nm, and aluminum (Al) is laminated as a second electrode in order of 15 nm. Yes, αNPD and rubrene are used as organic compounds, and the film thickness of a layer in which they are mixed with molybdenum oxide is different from that of the red element. Note that the thickness of titanium is not limited to transmit light, and is 40 nm or more.

曲線(A)は、第1の電極における反射率の計算値であり、本発光素子からの発光のスペクトルとなる530nm辺りで、もっとも反射率が低くなることがわかる。(B)は、緑色用のカラーフィルターの透過率の実測値である。カラーフィルターの膜厚は1.5μmとした。曲線(B)をみると、本発光素子からの発光のスペクトルとなる530nm辺りで、もっとも透過率が高くなっていることがわかる。曲線(C)は、曲線(A)の反射率に、曲線(B)の透過率の2乗をかけたものである。曲線(C)をみると、本発光素子からの発光のスペクトルとなる530nm辺りで、十分反射率が小さくなっていることがわかる。具体的には、発光素子からの発光波長のスペクトルのピーク(530nm付近)の反射率は10%以下であることがわかる。 A curve (A) is a calculated value of the reflectance at the first electrode, and it can be seen that the reflectance is lowest at around 530 nm which is a spectrum of light emission from the light emitting element. (B) is an actual measurement value of the transmittance of the green color filter. The film thickness of the color filter was 1.5 μm. From the curve (B), it can be seen that the transmittance is highest around 530 nm, which is the spectrum of light emission from the light emitting element. Curve (C) is obtained by multiplying the reflectance of curve (A) by the square of the transmittance of curve (B). From the curve (C), it can be seen that the reflectance is sufficiently small around 530 nm, which is the spectrum of light emission from the light emitting element. Specifically, it can be seen that the reflectance of the spectrum peak (around 530 nm) of the emission wavelength from the light emitting element is 10% or less.

また図11には、青色を呈するため、青色のカラーフィルターを用いた結果を示す。素子構造は同様な材料であって、第1の電極としてチタン(Ti)を形成し、有機化合物としてαNPD及びルブレンを用い、それらとモリブデン酸化物とが混在した層を95nm、αNPDを10nm、t−BuDNAを40nm、Alqを20nm、BzOSとリチウム(Li)とを有する層を20nm、第2の電極としてアルミニウム(Al)を15nm、と順に積層したものであり、有機化合物としてαNPD及びルブレンを用い、それらとモリブデン酸化物とが混在した層の膜厚が、上記赤色及び青色の素子と異なっている。なおチタンの膜厚は、光を透過しない程度であればよく、40nm以上とする。 Further, FIG. 11 shows the result of using a blue color filter in order to exhibit blue. The element structure is the same material, titanium (Ti) is formed as the first electrode, αNPD and rubrene are used as the organic compound, a layer in which these and molybdenum oxide are mixed is 95 nm, αNPD is 10 nm, t -BuDNA 40 nm, Alq 3 20 nm, BzOS and lithium (Li) layer 20 nm, aluminum (Al) 15 nm as the second electrode in order, αNPD and rubrene as organic compounds The film thickness of the layer in which they are used and molybdenum oxide is different from those of the red and blue elements. Note that the thickness of titanium is not limited to transmit light, and is 40 nm or more.

曲線(A)は、第1の電極における反射率の計算値であり、本発光素子からの発光のペクトルとなる450nm辺りで、もっとも反射率が低くなることがわかる。曲線(B)は、青色用のカラーフィルターの透過率の実測値である。カラーフィルターの膜厚は1.5μmとした。曲線(B)をみると、本発光素子からの発光のスペクトルとなる450nm辺りで、もっとも透過率が高くなっていることがわかる。曲線(C)は、曲線(A)の反射率に、曲線(B)の透過率の2乗をかけたものである。(C)をみると、本発光素子からの発光のスペクトルとなる450nm辺りで、十分反射率が小さくなっていることがわかる。具体的には、発光素子からの発光波長のスペクトルのピーク(450nm付近)の反射率は10%以下であることがわかる。 Curve (A) is a calculated value of the reflectance of the first electrode, and it can be seen that the reflectance is lowest at around 450 nm, which is the spectrum of light emission from the light emitting element. A curve (B) is an actual measurement value of the transmittance of the blue color filter. The film thickness of the color filter was 1.5 μm. From the curve (B), it can be seen that the transmittance is highest around 450 nm, which is the spectrum of light emission from the light emitting element. Curve (C) is obtained by multiplying the reflectance of curve (A) by the square of the transmittance of curve (B). As can be seen from (C), the reflectance is sufficiently small around 450 nm, which is the spectrum of light emission from the light emitting element. Specifically, it can be seen that the reflectance of the peak (near 450 nm) of the emission wavelength spectrum from the light emitting element is 10% or less.

このような発光素子により、第1の電極による所望の発光波長の反射率を低減することができ、発光装置における当該発光波長の反射を低くすることができる。そしてカラーフィルターは、該発光素子からの発光波長の透過率を高くしり、その他の光の波長を吸収することができる。その結果、発光素子からの光のみを考慮することができ、コントラスト制御を簡便なものとすることができる。また本発明により、偏光板等を必要としない上面出射型の発光装置を提供することができる。 With such a light-emitting element, the reflectance of a desired light emission wavelength by the first electrode can be reduced, and the reflection of the light emission wavelength in the light-emitting device can be reduced. The color filter can increase the transmittance of the emission wavelength from the light emitting element and can absorb other wavelengths of light. As a result, only light from the light emitting element can be taken into account, and contrast control can be simplified. Further, according to the present invention, a top emission light emitting device which does not require a polarizing plate or the like can be provided.

なお本実施例において、第1の電極の反射率について検討しているが、第2の電極の反射率も同様に検討することができうる。第2の電極の反射率を検討し、発光素子の膜厚を決定することにより、下面出射型の発光装置において、コントラスト制御を簡便にし、偏光板等を不要とすることができる。 In this embodiment, the reflectivity of the first electrode is examined. However, the reflectivity of the second electrode can be examined in the same manner. By examining the reflectance of the second electrode and determining the film thickness of the light emitting element, contrast control can be simplified and a polarizing plate or the like can be eliminated in the bottom emission type light emitting device.

このようなシミュレーション結果に基づき、第1の電極又は第2の電極に対する、電界発光層の膜厚を決定することができる。すなわち、第1の電極又は第2の電極における、発光素子からの発光波長の反射率を測定し、該反射率が低くなるように電界発光層の膜厚を決定し、所望のカラーフィルターの透過率を測定し、当該発光素子からの発光波長の透過率が高くなるようにして、発光装置を作製することができる。 Based on the simulation result, the thickness of the electroluminescent layer with respect to the first electrode or the second electrode can be determined. That is, the reflectance of the emission wavelength from the light emitting element in the first electrode or the second electrode is measured, the thickness of the electroluminescent layer is determined so that the reflectance is lowered, and the desired color filter is transmitted. The light emitting device can be manufactured by measuring the rate and increasing the transmittance of the emission wavelength from the light emitting element.

本発明の発光装置の発光素子の拡大図であるIt is an enlarged view of the light emitting element of the light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置の発光素子の拡大図であるIt is an enlarged view of the light emitting element of the light emitting device of the present invention. 本発明の発光素子を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the light emitting element of this invention. 本発明の発光素子を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the light emitting element of this invention. 本発明の発光装置を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the light-emitting device of this invention. 本発明の発光装置を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the light-emitting device of this invention. 本発明の発光装置の画素回路図であるIt is a pixel circuit diagram of the light emitting device of the present invention. 本発明の発光装置を適用した電子機器を示した図であるIt is the figure which showed the electronic device to which the light-emitting device of this invention is applied. 赤色の発光素子における電極反射率の結果であるIt is a result of electrode reflectance in a red light emitting element 緑色の発光素子における電極反射率の結果であるIt is a result of electrode reflectance in a green light emitting element 青色の発光素子における電極反射率の結果であるIt is a result of electrode reflectance in a blue light emitting element 本発明の発光装置を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the light-emitting device of this invention. 本発明の発光装置を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the light-emitting device of this invention.

Claims (6)

赤色の発光波長を呈する第1の発光素子と、
緑色の発光波長を呈する第2の発光素子と、
青色の発光波長を呈する第3の発光素子と、
前記第1の発光素子からの光を透過する第1のカラーフィルターと、
前記第2の発光素子からの光を透過する第2のカラーフィルターと、
前記第3の発光素子からの光を透過する第3のカラーフィルターと、を有し、
前記第1の発光素子は、反射性材料を有する第1の陽極と、
前記第1の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第1の陰極と、
前記第1の陽極と、前記第1の陰極との間において、前記第1の陽極側に設けられた第1の層とを有し、
前記第2の発光素子は、反射性を有する第2の陽極と、
前記第2の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第2の陰極と、
前記第2の陽極と、前記第2の陰極との間において、前記第2の陽極側に設けられた第2の層とを有し、
前記第3の発光素子は、反射性を有する第3の陽極と、
前記第3の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第3の陰極と、
前記第3の陽極と、前記第3の陰極との間において、前記第3の陽極側に設けられた第3の層とを有し、
前記第1の層乃至前記第3の層は、それぞれ、正孔輸送を示す物質を有する有機化合物と、前記正孔輸送性を示す物質に対して電子受容性を示す物質を有する金属酸化物とが混在した層であり、
前記第1の層乃至前記第3の層が有する金属酸化物は、モリブデン酸化物であり、
前記第1の発光素子において、外光が前記第1のカラーフィルターを透過して、前記第1の陽極で反射された後、前記第1のカラーフィルターを透過したときの反射率を第1の反射率としたとき、前記第1の発光素子からの発光スペクトルにおいて、前記第1の反射率が10%以下となるように、前記第1の層の膜厚を決定し、
前記第2の発光素子において、外光が前記第2のカラーフィルターを透過して、前記第2の陽極で反射された後、前記第2のカラーフィルターを透過したときの反射率を第の反射率としたとき、前記第2の発光素子からの発光スペクトルにおいて、前記第の反射率が10%以下となるように、前記第2の層の膜厚を決定し、
前記第3の発光素子において、外光が前記第3のカラーフィルターを通過して、前記第3の陽極で反射された後、前記第3のカラーフィルターを透過したときの反射率を第の反射率としたとき、前記第3の発光素子からの発光スペクトルにおいて、前記第の反射率が10%以下となるように、前記第3の層の膜厚を決定し、
前記決定された第1の層は、前記決定された第2の層より厚く、前記決定された第2の層は、前記決定された第3の層より厚い
ことを特徴とする発光装置の作製方法。
A first light emitting element exhibiting a red emission wavelength;
A second light emitting element exhibiting a green emission wavelength;
A third light emitting element exhibiting a blue emission wavelength;
A first color filter that transmits light from the first light emitting element;
A second color filter that transmits light from the second light emitting element;
A third color filter that transmits light from the third light emitting element,
The first light emitting element includes a first anode having a reflective material;
A first cathode provided facing the first anode and having a translucent material;
A first layer provided on the first anode side between the first anode and the first cathode;
The second light emitting element includes a second anode having reflectivity,
A second cathode provided facing the second anode and having a translucent material;
A second layer provided on the second anode side between the second anode and the second cathode;
The third light emitting element includes a third anode having reflectivity,
A third cathode provided opposite to the third anode and having a translucent material;
A third layer provided on the third anode side between the third anode and the third cathode;
The first layer to the third layer, respectively, and an organic compound having a substance showing a hole transporting property, a metal oxide having a substance showing an electron accepting property to the substance having a hole transport property Is a mixed layer,
The metal oxide included in the first layer to the third layer is molybdenum oxide,
In the first light-emitting element, the external light is transmitted through the first color filter, reflected by the first anode, and then reflected by the first color filter. when the reflectance, in the emission spectrum from the first light emitting element, said first reflectivity so as to be 10% or less, to determine the thickness of the first layer,
In the second light emitting element, after the external light is transmitted through the second color filter and reflected by the second anode, the reflectance when the light passes through the second color filter is set to a second reflectance. when the reflectance, in the emission spectrum from the second light emitting element, the second reflectance so as to be 10% or less, to determine the thickness of the second layer,
In the third light emitting element, the reflectance when the external light passes through the third color filter, is reflected by the third anode, and then passes through the third color filter is expressed as a third reflectance. when the reflectance, in the emission spectrum from said third light-emitting element, the third reflectance of so as to be 10% or less, to determine the thickness of the third layer,
The determined first layer is thicker than the determined second layer, and the determined second layer is thicker than the determined third layer. Method.
赤色の発光波長を呈する第1の発光素子と、
緑色の発光波長を呈する第2の発光素子と、
青色の発光波長を呈する第3の発光素子と、
前記第1の発光素子からの光を透過する第1のカラーフィルターと、
前記第2の発光素子からの光を透過する第2のカラーフィルターと、
前記第3の発光素子からの光を透過する第3のカラーフィルターと、を有し、
前記第1の発光素子は、反射性材料を有する第1の陽極と、
前記第1の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第1の陰極と、
前記第1の陽極と、前記第1の陰極との間において、前記第1の陽極側に設けられた第1の層とを有し、
前記第2の発光素子は、反射性を有する第2の陽極と、
前記第2の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第2の陰極と、
前記第2の陽極と、前記第2の陰極との間において、前記第2の陽極側に設けられた第2の層とを有し、
前記第3の発光素子は、反射性を有する第3の陽極と、
前記第3の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第3の陰極と、
前記第3の陽極と、前記第3の陰極との間において、前記第3の陽極側に設けられた第3の層とを有し、
前記第1の層乃至前記第3の層は、それぞれ、正孔輸送を示す物質を有する有機化合物と、前記正孔輸送性を示す物質に対して電子受容性を示す物質を有する金属酸化物とが混在した層であり、
前記第1の層乃至前記第3の層が有する金属酸化物は、モリブデン酸化物であり、
前記第1の発光素子において、外光が前記第1のカラーフィルターを透過して、前記第1の陽極で反射された後、前記第1のカラーフィルターを透過したときの反射率を第1の反射率としたとき、前記第1の発光素子からの発光スペクトルにおいて、前記第1の反射率が10%以下となるように、前記第1の層の膜厚を決定し、
前記第2の発光素子において、外光が前記第2のカラーフィルターを透過して、前記第2の陽極で反射された後、前記第2のカラーフィルターを透過したときの反射率を第の反射率としたとき、前記第2の発光素子からの発光スペクトルにおいて、前記第の反射率が10%以下となるように、前記第2の層の膜厚を決定し、
前記第3の発光素子において、外光が前記第3のカラーフィルターを通過して、前記第3の陽極で反射された後、前記第3のカラーフィルターを透過したときの反射率を第の反射率としたとき、前記第3の発光素子からの発光スペクトルにおいて、前記第の反射率が10%以下となるように、前記第3の層の膜厚を決定し、
前記決定された第1の層乃至第3の層に関し、前記決定された第1の層がもっとも厚いことを特徴とする発光装置の作製方法。
A first light emitting element exhibiting a red emission wavelength;
A second light emitting element exhibiting a green emission wavelength;
A third light emitting element exhibiting a blue emission wavelength;
A first color filter that transmits light from the first light emitting element;
A second color filter that transmits light from the second light emitting element;
A third color filter that transmits light from the third light emitting element,
The first light emitting element includes a first anode having a reflective material;
A first cathode provided facing the first anode and having a translucent material;
A first layer provided on the first anode side between the first anode and the first cathode;
The second light emitting element includes a second anode having reflectivity,
A second cathode provided facing the second anode and having a translucent material;
A second layer provided on the second anode side between the second anode and the second cathode;
The third light emitting element includes a third anode having reflectivity,
A third cathode provided opposite to the third anode and having a translucent material;
A third layer provided on the third anode side between the third anode and the third cathode;
The first layer to the third layer, respectively, and an organic compound having a substance showing a hole transporting property, a metal oxide having a substance showing an electron accepting property to the substance having a hole transport property Is a mixed layer,
The metal oxide included in the first layer to the third layer is molybdenum oxide,
In the first light-emitting element, the external light is transmitted through the first color filter, reflected by the first anode, and then reflected by the first color filter. when the reflectance, in the emission spectrum from the first light emitting element, said first reflectivity so as to be 10% or less, to determine the thickness of the first layer,
In the second light emitting element, after the external light is transmitted through the second color filter and reflected by the second anode, the reflectance when the light passes through the second color filter is set to a second reflectance. when the reflectance, in the emission spectrum from the second light emitting element, the second reflectance so as to be 10% or less, to determine the thickness of the second layer,
In the third light emitting element, the reflectance when the external light passes through the third color filter, is reflected by the third anode, and then passes through the third color filter is expressed as a third reflectance. when the reflectance, in the emission spectrum from said third light-emitting element, the third reflectance of so as to be 10% or less, to determine the thickness of the third layer,
The method for manufacturing a light-emitting device, wherein the determined first layer is the thickest with respect to the determined first to third layers.
赤色の発光波長を呈する第1の発光素子と、
緑色の発光波長を呈する第2の発光素子と、
青色の発光波長を呈する第3の発光素子と、
前記第1の発光素子からの光を透過する第1のカラーフィルターと、
前記第2の発光素子からの光を透過する第2のカラーフィルターと、
前記第3の発光素子からの光を透過する第3のカラーフィルターと、を有し、
前記第1の発光素子は、反射性材料を有する第1の陽極と、
前記第1の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第1の陰極と、
前記第1の陽極と、前記第1の陰極との間において、前記第1の陽極側に設けられた第1の層とを有し、
前記第2の発光素子は、反射性を有する第2の陽極と、
前記第2の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第2の陰極と、
前記第2の陽極と、前記第2の陰極との間において、前記第2の陽極側に設けられた第2の層とを有し、
前記第3の発光素子は、反射性を有する第3の陽極と、
前記第3の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第3の陰極と、
前記第3の陽極と、前記第3の陰極との間において、前記第3の陽極側に設けられた第3の層とを有し、
前記第1の層乃至前記第3の層は、それぞれ、正孔輸送を示す物質を有する有機化合物と、前記正孔輸送性を示す物質に対して電子受容性を示す物質を有する金属酸化物とが混在した層であり、
前記第1の層乃至前記第3の層が有する前記金属酸化物は、モリブデン酸化物であり、
前記第1の層は、前記第2の層より厚く、前記第2の層は、前記第3の層より厚いことを特徴とする発光装置。
A first light emitting element exhibiting a red emission wavelength;
A second light emitting element exhibiting a green emission wavelength;
A third light emitting element exhibiting a blue emission wavelength;
A first color filter that transmits light from the first light emitting element;
A second color filter that transmits light from the second light emitting element;
A third color filter that transmits light from the third light emitting element,
The first light emitting element includes a first anode having a reflective material;
A first cathode provided facing the first anode and having a translucent material;
A first layer provided on the first anode side between the first anode and the first cathode;
The second light emitting element includes a second anode having reflectivity,
A second cathode provided facing the second anode and having a translucent material;
A second layer provided on the second anode side between the second anode and the second cathode;
The third light emitting element includes a third anode having reflectivity,
A third cathode provided opposite to the third anode and having a translucent material;
A third layer provided on the third anode side between the third anode and the third cathode;
The first layer to the third layer, respectively, and an organic compound having a substance showing a hole transporting property, a metal oxide having a substance showing an electron accepting property to the substance having a hole transport property Is a mixed layer,
The metal oxide included in the first layer to the third layer is molybdenum oxide,
The light emitting device is characterized in that the first layer is thicker than the second layer, and the second layer is thicker than the third layer.
赤色の発光波長を呈する第1の発光素子と、
緑色の発光波長を呈する第2の発光素子と、
青色の発光波長を呈する第3の発光素子と、
前記第1の発光素子からの光を透過する第1のカラーフィルターと、
前記第2の発光素子からの光を透過する第2のカラーフィルターと、
前記第3の発光素子からの光を透過する第3のカラーフィルターと、を有し、
前記第1の発光素子は、反射性材料を有する第1の陽極と、
前記第1の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第1の陰極と、
前記第1の陽極と、前記第1の陰極との間において、前記第1の陽極側に設けられた第1の層とを有し、
前記第2の発光素子は、反射性を有する第2の陽極と、
前記第2の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第2の陰極と、
前記第2の陽極と、前記第2の陰極との間において、前記第2の陽極側に設けられた第2の層とを有し、
前記第3の発光素子は、反射性を有する第3の陽極と、
前記第3の陽極に対向して設けられ、透光性材料を有する第3の陰極と、
前記第3の陽極と、前記第3の陰極との間において、前記第3の陽極側に設けられた第3の層とを有し、
前記第1の層乃至前記第3の層は、それぞれ、正孔輸送を示す物質を有する有機化合物と、前記正孔輸送性を示す物質に対して電子受容性を示す物質を有する金属酸化物とが混在した層であり、
前記第1の層乃至前記第3の層が有する前記金属酸化物は、モリブデン酸化物であり、
前記第1の層乃至前記第3の層に関し、前記第1の層がもっとも厚いことを特徴とする発光装置。
A first light emitting element exhibiting a red emission wavelength;
A second light emitting element exhibiting a green emission wavelength;
A third light emitting element exhibiting a blue emission wavelength;
A first color filter that transmits light from the first light emitting element;
A second color filter that transmits light from the second light emitting element;
A third color filter that transmits light from the third light emitting element,
The first light emitting element includes a first anode having a reflective material;
A first cathode provided facing the first anode and having a translucent material;
A first layer provided on the first anode side between the first anode and the first cathode;
The second light emitting element includes a second anode having reflectivity,
A second cathode provided facing the second anode and having a translucent material;
A second layer provided on the second anode side between the second anode and the second cathode;
The third light emitting element includes a third anode having reflectivity,
A third cathode provided opposite to the third anode and having a translucent material;
A third layer provided on the third anode side between the third anode and the third cathode;
The first layer to the third layer, respectively, and an organic compound having a substance showing a hole transporting property, a metal oxide having a substance showing an electron accepting property to the substance having a hole transport property Is a mixed layer,
The metal oxide included in the first layer to the third layer is molybdenum oxide,
The light-emitting device according to any one of the first to third layers, wherein the first layer is the thickest.
請求項3又は請求項のいずれか一において、
前記第1の発光素子乃至前記第3の発光素子は基板上に設けられ、
前記第1のカラーフィルター乃至前記第3のカラーフィルターは、前記基板と対向する基板側に設けられていることを特徴とする発光装置。
In any one of Claim 3 or Claim 4 ,
The first light emitting element to the third light emitting element are provided on a substrate,
The light-emitting device, wherein the first color filter to the third color filter are provided on a substrate side facing the substrate.
請求項乃至請求項のいずれか一において、
前記第1のカラーフィルターは、前記第1の発光素子からの発光スペクトルに対する透過率が高い材料からなり、
前記第2のカラーフィルターは、前記第2の発光素子からの発光スペクトルに対する透過率が高い材料からなり、
前記第3のカラーフィルターは、前記第3の発光素子からの発光スペクトルに対する透過率が高い材料からなる
ことを特徴とする発光装置。
In any one of Claims 3 thru | or 5 ,
The first color filter is made of a material having a high transmittance with respect to an emission spectrum from the first light emitting element.
The second color filter is made of a material having a high transmittance with respect to an emission spectrum from the second light emitting element,
The light emitting device, wherein the third color filter is made of a material having a high transmittance with respect to an emission spectrum from the third light emitting element.
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