JP5219237B2 - 塗布装置 - Google Patents

Description

本発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置に関する。

従来より、有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を利用した有機ＥＬ表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機ＥＬ材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ表示装置の製造では、ガラス基板（以下、単に「基板」という。）に対して、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路の形成、陽極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）の塗布、加熱処理による有機ＥＬ層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。

有機ＥＬ表示装置の製造において、正孔輸送液または有機ＥＬ液を基板に塗布する装置の１つとして、特許文献１および特許文献２に示すように、流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルを基板に対して相対移動することにより、基板に流動性材料を塗布する装置が知られている。

特許文献１および特許文献２の装置では、複数のノズルを主走査方向に移動するとともに、主走査方向へのノズルの移動が行われる毎に基板を副走査方向に移動することにより、基板上の塗布領域に形成された複数の隔壁間の溝に流動性材料がストライプ状に塗布される。特許文献１および特許文献２の塗布装置では、３本のノズルが保持部材により一体的に保持されており、基板に垂直な支持軸を中心として当該保持部材を回動して３本のノズルの副走査方向におけるピッチを小さくすることにより、流動性材料の塗布ピッチを狭くすることができる。

一方、特許文献３では、１本のノズルを主走査方向に移動するとともに、主走査方向へのノズルの移動が行われる毎に基板を副走査方向に移動することにより、基板上の塗布領域に形成された複数の隔壁間の溝に流動性材料をストライプ状に塗布する塗布装置が開示されている。特許文献３の塗布装置では、ノズルと基板との間に設けられたマスクに有機ＥＬ液を塗布し、マスク上における有機ＥＬ液の塗布軌跡および基板上の溝の画像データに基づいて基板の傾きを補正し、ノズルの主走査方向と溝の伸びる方向とを一致させることが行われている。
特開２００２−７５６４０号公報 特開２００３−１０７５５号公報 特開２００４−７４０５０号公報

ところで、このような装置では通常、ノズルのピッチ調整は作業員の手作業により行われ、調整結果の確認も作業員が塗布結果を直接目視することにより行われるが、高精度のピッチ調整は困難であることから、調整に要する作業時間および労力も多大なものとなっている。また、調整前のピッチ検出時や調整結果の確認時等の試験塗布は、製品用の基板の非塗布領域に対して行われることがあるが、ノズルの本数が多い場合には、試験塗布に要する幅が非塗布領域の幅よりも大きくなってしまい、ノズルのピッチ調整を行うことができなくなってしまう。

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、塗布装置の複数のノズルのピッチを、基板に対する流動性材料の塗布を行うことなく高精度に調整することを目的としている。

請求項１に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板の主面に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、前記複数のノズルを前記基板の前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記複数のノズルに対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動するノズル走査機構と、前記基板への非塗布時に前記複数のノズルからの流動性材料が試験塗布される試験塗布面を有する試験塗布部と、前記試験塗布部を前記複数のノズルの前記主走査方向における相対移動の経路に対して進退させる試験塗布部進退機構と、前記複数のノズルの前記主走査方向への相対移動により前記試験塗布面に塗布された流動性材料のパターンの画像を取得する撮像部と、前記撮像部により取得された画像に基づいて前記複数のノズルの前記副走査方向におけるピッチを検出するピッチ検出部と、前記複数のノズルの前記副走査方向におけるピッチを調整するピッチ調整機構と、前記試験塗布部の前記試験塗布面を新たな試験塗布面と交換する試験塗布面交換機構とを備え、前記試験塗布面が、樹脂テープの一部の主面であり、前記試験塗布部が、前記樹脂テープの前記一部を保持するテープ保持部と、前記樹脂テープの前記試験塗布面を前記基板の前記主面に平行な保持平面上に固定するテープ固定部とを備え、試験塗布時における前記複数のノズルと前記テープ固定部により固定された前記試験塗布面との間の距離が、塗布時の前記複数のノズルと前記基板の前記主面との間の距離に等しい。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、試験塗布時に、前記試験塗布面が前記複数のノズルの前記主走査方向における相対移動の経路の一部のみと重なっている。

請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の塗布装置であって、前記基板保持部を前記基板の前記主面に垂直な回転軸を中心に回転する基板回転機構と、前記主走査方向において前記試験塗布面から離間して設けられるもう１つの試験塗布面に塗布された流動性材料のパターンの画像を取得するもう１つの撮像部と、前記撮像部および前記もう１つの撮像部により取得された流動性材料のパターンの画像、並びに、前記撮像部および前記もう１つの撮像部により取得された前記基板の前記主面上の位置決め用目印の画像に基づいて前記ノズル走査機構および前記基板回転機構を制御することにより前記基板の前記複数のノズルに対する相対位置を調整する基板位置調整部とをさらに備える。

請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の塗布装置であって、前記もう１つの試験塗布面を、前記試験塗布面とは個別に新たな試験塗布面と交換するもう１つの試験塗布面交換機構をさらに備える。

請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記ピッチ調整機構を駆動する駆動部と、前記ピッチ検出部の検出結果に基づいて前記駆動部を制御する調整機構制御部とをさらに備える。

請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布装置であって、前記ピッチ検出部により、前記副走査方向に関して互いに隣接する２つのノズル間の各距離が検出され、前記ピッチ調整機構により、前記複数のノズルの全てまたは１つを除く他の全てが前記副走査方向に個別に移動されることにより前記各距離が調整される。

請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、前記試験塗布面交換機構が、前記樹脂テープを前記試験塗布部へと繰り出すテープ供給部を備える。

請求項８に記載の発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板の主面に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、前記複数のノズルを前記基板の前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記複数のノズルに対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動するノズル走査機構と、前記基板への非塗布時に前記複数のノズルからの流動性材料が試験塗布される試験塗布面を有する試験塗布部と、前記試験塗布部を前記複数のノズルの前記主走査方向における相対移動の経路に対して進退させる試験塗布部進退機構と、前記複数のノズルの前記主走査方向への相対移動により前記試験塗布面に塗布された流動性材料のパターンの画像を取得する撮像部と、前記撮像部により取得された画像に基づいて前記複数のノズルの前記副走査方向におけるピッチを検出するピッチ検出部と、前記複数のノズルの前記副走査方向におけるピッチを調整するピッチ調整機構と、前記試験塗布部の前記試験塗布面を新たな試験塗布面と交換する試験塗布面交換機構とを備え、前記試験塗布面が、流動性材料に対する濡れ性が前記基板の前記主面と同等とされた試験片の主面であり、前記試験塗布部が、前記試験片を保持する試験片保持部であり、試験塗布時における前記複数のノズルと前記試験片保持部により保持された前記試験片の前記試験塗布面との間の距離が、塗布時の前記複数のノズルと前記基板の前記主面との間の距離に等しい。

請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の塗布装置であって、前記試験塗布部が、前記試験片の前記試験塗布面に当接して前記試験塗布面に垂直な方向における前記試験塗布面の位置を決定する試験塗布面当接部を備え、前記試験塗布面交換機構が、前記試験片の前記試験塗布面とは反対側において複数の待機試験片を保持するとともに前記試験片を前記複数の待機試験片を介して前記試験塗布面当接部に向けて付勢する試験片収容部と、前記試験塗布部から前記試験片を取り出す試験片取出部とを備える。

本発明では、基板に対する流動性材料の塗布を行うことなく、複数のノズルのピッチを高精度に調整することができる。請求項２の発明では、試験塗布面の使用量を低減することができる。請求項３および４の発明では、基板の位置調整を高精度に行うことができる。

請求項５の発明では、複数のノズルのピッチを自動的に調整することができる。請求項６の発明では、隣接するノズル間の各距離を個別に調整することができる。請求項７の発明では、試験塗布面を容易に交換することができる。請求項８および９の発明では、複数のノズルのピッチを高精度に検出することができる。

図１は、本発明の第１の実施の形態に係る塗布装置１を示す平面図であり、図２は塗布装置１の正面図である。塗布装置１は、平面表示装置用のガラス基板９（以下、単に「基板９」という。）に、平面表示装置用の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する装置である。本実施の形態では、塗布装置１において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板９に、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。

図１および図２に示すように、塗布装置１は、基板９を保持する基板保持部１１、基板保持部１１を基板９の主面に平行な所定の方向（すなわち、図１中のＹ方向であり、以下、「副走査方向」という。）に水平移動する基板移動機構１２、および、基板保持部１１を基板９の主面に垂直な回転軸を中心に回転する基板回転機構１２ａを備える。基板保持部１１は、内部にヒータによる加熱機構（図示省略）を備える。

塗布装置１は、また、基板９上に配置された２つの撮像部であるＣＣＤカメラ１３、２つのＣＣＤカメラ１３を副走査方向にそれぞれ個別に移動する２つの撮像部移動機構１３ａ、基板保持部１１上の基板９の（＋Ｚ）側の主面（以下、「上面」という。）９１に向けて複数のノズル１７から有機ＥＬ液を連続的に吐出する吐出機構である塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４を基板９の主面に平行かつ副走査方向に垂直な方向（すなわち、図１中のＸ方向であり、以下、「主走査方向」という。）に水平移動するヘッド移動機構１５、塗布ヘッド１４の移動方向（すなわち、Ｘ方向）に関して基板保持部１１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部１６、および、複数のノズル１７の副走査方向におけるピッチを調整するピッチ調整機構３を備え、図１に示すように、塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液が試験塗布される試験塗布ユニット２を備える。また、塗布装置１は、これらの構成を制御する制御部１０を備える。

制御部１０は、通常のコンピュータと同様に、各種演算処理を行うＣＰＵ、実行されるプログラムを記憶したり演算処理の作業領域となるＲＡＭ、基本プログラムを記憶するＲＯＭ、各種情報を記憶する固定ディスク、作業者に各種情報を表示するディスプレイ、および、キーボードやマウス等の入力部等を接続した構成となっている。図３は、制御部１０のＣＰＵ等がプログラムに従って演算処理を行うことにより実現される機能を他の構成と共に示すブロック図であり、図３中のピッチ検出部１０１、調整機構制御部１０２および基板位置調整部１０３が、ＣＰＵ等により実現される機能に相当する。なお、これらの機能は複数台のコンピュータにより実現されてもよい。

図１に示す塗布ヘッド１４では、１６本のノズル１７が、図１中のＸ方向（すなわち、主走査方向）に関して略直線状に離れて配列されるとともに図１中のＹ方向（すなわち、副走査方向）に僅かにずれて配置される。本実施の形態では、隣接する２本のノズル１７の間の副走査方向に関する距離は、基板９の塗布領域上に予め形成されている主走査方向に伸びる隔壁間のピッチ（以下、「隔壁ピッチ」という。）の３倍に等しくされる。塗布装置１では、基板９への有機ＥＬ液の非塗布時に試験塗布ユニット２に対して有機ＥＬ液の試験塗布が行われ、試験塗布の結果に基づいてピッチ調整機構３が制御されることにより、複数のノズル１７間の副走査方向に関する距離が調整される。ノズル１７のピッチの調整方法については後述する。

図４および図５はそれぞれ、塗布ヘッド１４の一部を示す正面図および平面図である。図４および図５に示すように、塗布ヘッド１４は、基板９の上面９１（図１参照）に向けて有機ＥＬ液を連続的に吐出する１６本のノズル１７、および、当該１６本のノズルが取り付けられるノズル取付部１４１を備える。ノズル取付部１４１は、Ｙ方向に略垂直な背板部１４１１、および、背板部１４１１の下端部（すなわち、（−Ｚ）側の端部）に固定されるＺ方向に略垂直な水平部１４１２を備える。

１６本のノズル１７はそれぞれ、水平部１４１２の（−Ｙ）側のエッジから（＋Ｙ）方向（すなわち、副走査方向）に伸びる案内溝１４２に移動可能に取り付けられており、各ノズル１７の（−Ｘ）側には、ノズル１７のノズル取付部１４１に対する位置をロックするノズルロック部１７３が設けられている。

図１に示す塗布装置１では、１６本のノズル１７がノズル取付部１４１（図４および図５参照）に固定された状態にて、ヘッド移動機構１５により、塗布ヘッド１４が複数のノズル１７から有機ＥＬ液を連続的に吐出しつつ主走査方向に移動し、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が１回行われる毎に、基板移動機構１２により基板９が副走査方向（（＋Ｙ）方向）にステップ移動する。そして、複数のノズル１７の基板９に対する主走査方向および副走査方向への相対的な移動が繰り返されることにより、基板９の上面９１に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される。塗布装置１では、ヘッド移動機構１５および基板移動機構１２がそれぞれ、１６本のノズル１７をノズル取付部１４１と共に基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動するノズル走査機構となる。

また、塗布装置１では、ピッチ調整機構３が、基板保持部１１の（＋Ｘ）側において塗布ヘッド１４とは個別に設けられており、１６本のノズル１７およびノズル取付部１４１（図４および図５参照）は、ノズル走査機構のヘッド移動機構１５により、ピッチ調整機構３から独立して移動する。換言すれば、ピッチ調整機構３は、ノズル走査機構による基板９に対する塗布ヘッド１４の相対移動から独立して配置される。

ピッチ調整機構３は、複数のノズル１７にそれぞれ対応する複数（本実施の形態では、１６個）の調整ヘッドを備える。図６および図７は、ピッチ調整機構３の複数の調整ヘッドのうち最も（−Ｘ）側に位置する一の調整ヘッド３０、および、塗布ヘッド１４の一部をそれぞれ示す平面図および左側面図である。図６では、図の理解を容易にするために、図４および図５に示すノズルロック部１７３の図示を省略している。また、図７では、図の理解を容易にするために、ノズル取付部１４１およびノズル１７の一部を、ノズル１７の中心軸を含む断面にて示す。ピッチ調整機構３では、複数の調整ヘッド３０の構造は全て同様とされる。

図６および図７に示すように、調整ヘッド３０は、ノズル取付部１４１の水平部１４１２に（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側から第１固定部３１１および第２固定部３１４を当接させてノズル取付部１４１を固定する取付部固定機構３１、ノズル１７に（−Ｙ）側（すなわち、副走査方向の一方側）から当接するノズル当接部３２、ノズル当接部３２とは反対側（すなわち、ノズル１７の（＋Ｙ）側であり、副走査方向の他方側でもある。）からノズル１７をノズル当接部３２へと付勢するノズル付勢機構３３、並びに、ノズル付勢機構３３により付勢されているノズル１７が当接するノズル当接部３２の副走査方向の位置を調整する当接部移動機構３４を備える。

ピッチ調整機構３では、ノズル取付部１４１が取付部固定機構３１の第１固定部３１１および第２固定部３１４に挟まれて固定された状態で、ロック部操作機構（図示省略）によりノズルロック部１７３（図４および図５参照）によるロックが解除され、当接部移動機構３４のステッピングモータ３４３、および、ノズル付勢機構３３のレギュレータ３３３に接続されたエアシリンダ３３２が、制御部１０の調整機構制御部１０２（図３参照）により駆動される。これにより、ノズル当接部３２およびノズル付勢機構３３のロッド３３１がノズル１７に（−Ｙ）側および（＋Ｙ）側からそれぞれ当接し、当接部移動機構３４によりノズル当接部３２が（＋Ｙ）方向へと移動されることにより、ノズル１７がノズル付勢機構３３によりノズル当接部３２に付勢された状態で（＋Ｙ）方向へと移動する。そして、ノズル１７が所望の距離だけ移動すると、再びロック部操作機構によりノズルロック部１７３が操作されてノズル１７の位置がロックされる。

図１に示す塗布装置１においてノズルのピッチが調整される際には、（−Ｘ）側から８番目のノズル１７が基準ノズルとされ、ピッチ調整機構３のロック部操作機構により、基準ノズルを除く他の１５本のノズルのロックが必要に応じて解除される。そして、当該１５本のノズル１７が副走査方向に移動され、各ノズル１７の副走査方向に関する基準ノズルからの距離が所定の距離となるように各ノズル１７の位置が調整される。ピッチ調整機構３によるノズル１７の位置調整（すなわち、各ノズル間距離の調整）は、試験塗布ユニット２に試験塗布された有機ＥＬ液の画像から、図３に示す制御部１０のピッチ検出部１０１により検出された各ノズル間距離に基づいて（すなわち、ピッチ検出部１０１の検出結果に基づいて）、ピッチ調整機構３の当接部移動機構３４（図６および図７参照）が調整機構制御部１０２に制御されることにより行われる。

図１に示すように、試験塗布ユニット２は、基板保持部１１の（＋Ｙ）側に設けられ、Ｘ方向に離間するとともにＹ方向に関してほぼ同じ位置に配置された２つの試験塗布ステージ部２１、および、２つの試験塗布ステージ部２１の間においてＸ方向に伸びるとともに両端部が試験塗布ステージ部２１に固定される中央受液部２２を備える。各試験塗布ステージ部２１は、スライダ２１１（図８および図９参照）を介して基板移動機構１２のレール１２１上にＹ方向に移動可能に取り付けられており、また、接続部１１１を介して基板保持部１１に固定されている。塗布装置１では、基板移動機構１２により基板保持部１１がＹ方向に移動することにより、試験塗布ユニット２も基板保持部１１と共にＹ方向に移動する。

図８および図９は、（＋Ｘ）側の試験塗布ステージ部２１をそれぞれ示す左側面図および背面図である。図８および図９では、基板移動機構１２の一部も併せて描いており、図９では、中央受液部２２の一部も併せて描いている。また、図８および図９では、図示の都合上、試験塗布ステージ部２１のハウジング２１２を断面にて描いており、図９では、樹脂テープ２１３も断面にて描いている（図１３および図１５においても同様）。塗布装置１では、図１に示す（−Ｘ）側の試験塗布ステージ部２１も、図８および図９に示す（＋Ｘ）側の試験塗布ステージ部２１と同様の構造を有する。

図８および図９に示すように、試験塗布ステージ部２１は、基板移動機構１２のレール１２１に移動可能に取り付けられるスライダ２１１、スライダ２１１上に固定されるハウジング２１２、有機ＥＬ液の試験塗布が行われる試験塗布部材である樹脂テープ２１３、ハウジング２１２の上部において樹脂テープ２１３の試験塗布が行われる部位を保持するテープ保持部２１４、未使用の（すなわち、有機ＥＬ液の試験塗布が行われていない）ロール状の樹脂テープ２１３を保持するとともに当該樹脂テープ２１３を繰り出してテープ保持部２１４へと供給するテープ供給部２１５、および、有機ＥＬ液の試験塗布が行われた樹脂テープ２１３の使用済みの部分を巻き取って回収するテープ回収部２１６を備える。本実施の形態では、樹脂テープ２１３として、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイト）系の樹脂テープが利用される。

試験塗布ステージ部２１は、また、図９に示すように、テープ供給部２１５およびテープ回収部２１６を回転するモータ２１７１およびウォームギア２１７２、並びに、テープ保持部２１４の（＋Ｘ）側に配置される外側受液部２１８を備え、外側受液部２１８は、テープ保持部２１４の（−Ｘ）側に配置される中央受液部２２と共に、テープ保持部２１４に保持された樹脂テープ２１３よりも僅かに下方（すなわち、（−Ｚ）側）に配置される。

試験塗布ステージ部２１では、モータ２１７１が駆動されることにより、テープ供給部２１５およびテープ回収部２１６がそれぞれ、図８中における反時計回りに所定の角度だけ回転する。これにより、テープ保持部２１４において、樹脂テープ２１３が（＋Ｙ）方向へと所定の長さだけ送られ、樹脂テープ２１３の未使用部分がテープ保持部２１４に位置する。試験塗布ステージ部２１は、図８に示すように、テープ供給部２１５とテープ保持部２１４との間に、テープ供給部２１５から繰り出される樹脂テープ２１３の終端を検出するセンサ２１５１を備え、また、テープ回収部２１６の近傍に、テープ回収部２１６に所定量の樹脂テープ２１３が巻き取られたことを検出するセンサ２１６１を備える。

図８および図９に示す試験塗布ステージ部２１では、樹脂テープ２１３のテープ保持部２１４に保持されている一部の（＋Ｚ）側の主面が、複数のノズル１７（図１参照）からの有機ＥＬ液が試験塗布される試験塗布面２１３１となっており、樹脂テープ２１３の当該一部を保持するテープ保持部２１４が、試験塗布面２１３１を有する試験塗布部となっている。また、樹脂テープ２１３を供給および回収するテープ供給部２１５およびテープ回収部２１６が、試験塗布部の試験塗布面２１３１を新たな試験塗布面と交換する試験塗布面交換機構となっている。換言すれば、試験塗布ユニット２は、主走査方向において離間して設けられる２つの試験塗布面２１３１、および、２つの試験塗布面２１３１を個別に新たな試験塗布面と交換する２つの試験塗布面交換機構を備える。

図１０は、図８および図９に示すテープ保持部２１４近傍を示す平面図である。図８ないし図１０に示すように、テープ保持部２１４は、樹脂テープ２１３の（−Ｚ）側（すなわち、試験塗布面２１３１とは反対側）に配置されて樹脂テープ２１３を吸着するテープ吸着部２１４１、樹脂テープ２１３の（＋Ｚ）側に配置されて（すなわち、試験塗布面２１３１に対向するように配置されて）樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１近傍の部位をテープ吸着部２１４１に向けて押圧するテープ押圧部２１４２、テープ押圧部２１４２をＺ方向に昇降する押圧部昇降機構２１４３、並びに、テープ押圧部２１４２および押圧部昇降機構２１４３をＹ方向に移動する押圧部移動機構２１４４を備える。

テープ吸着部２１４１は、樹脂テープ２１３を保持するとともに基板保持部１１上の基板９の上面９１（図１参照）に平行な保持平面２１４５を備え、テープ押圧部２１４２は、図１０に示すように、樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１の（＋Ｙ）側および（−Ｙ）側においてＸ方向に伸びる２本の爪部２１４６を備える。図８ないし図１０に示すテープ保持部２１４では、押圧部昇降機構２１４３によりテープ押圧部２１４２が下降することにより、テープ吸着部２１４１上において（＋Ｚ）側に凸となるように僅かに撓んでいる樹脂テープ２１３が、２本の爪部２１４６によりテープ吸着部２１４１の保持平面２１４５に向けて押圧される。

そして、テープ吸着部２１４１により樹脂テープ２１３が真空吸着されることにより、樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１が、テープ吸着部２１４１の保持平面２１４５上に平滑な状態で固定されて基板９の上面９１（図１参照）と同じ高さとされる。試験塗布ステージ部２１では、テープ吸着部２１４１およびテープ押圧部２１４２が、樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１を固定するテープ固定部となっている。テープ押圧部２１４２は、テープ吸着部２１４１による樹脂テープ２１３の吸着後、押圧部昇降機構２１４３により上昇して樹脂テープ２１３から離間するとともに、押圧部移動機構２１４４により（＋Ｙ）方向に移動して、試験塗布面２１３１上から退避する。

次に、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が行われる前の塗布装置１における準備作業について説明する。塗布装置１では、準備作業として、図１に示す塗布ヘッド１４の複数のノズル１７の副走査方向におけるピッチ（以下、「ノズルピッチ」という。）が調整され、基板９のノズル１７に対する相対位置の調整が行われた後、基板９に対して有機ＥＬ液が塗布される。図１１．Ａおよび図１１．Ｂは、塗布装置１における準備作業（すなわち、ノズルピッチの調整および基板９の位置調整）の流れを示す図である。

塗布装置１では、まず、基板保持部１１が図１に示す位置から（−Ｙ）方向に移動することにより、図１２に示すように、試験塗布ユニット２の２つの試験塗布ステージ部２１が、塗布ヘッド１４の複数のノズル１７の主走査方向における移動経路（すなわち、基板９に対する相対移動の経路）の下方の試験塗布位置に位置する。このとき、２つの試験塗布ステージ部２１がそれぞれ、２つのＣＣＤカメラ１３の下方に位置する（ステップＳ１１）。

塗布装置１では、基板移動機構１２が、試験塗布ユニット２の２つの試験塗布部であるテープ保持部２１４（図８ないし図１０参照）を、複数のノズル１７の主走査方向における移動経路に対して進退させる試験塗布部進退機構となっている。なお、試験塗布ユニット２は必ずしも基板保持部１１と共に移動される必要はなく、基板移動機構１２とは独立して駆動される他の試験塗布部進退機構（例えば、ロッドレスシリンダや基板移動機構１２のレール１２１上に設けられた他の移動子）により、試験塗布ユニット２が、複数のノズル１７の主走査方向における移動経路に対して進退してもよい。

試験塗布ユニット２が試験塗布位置に位置すると、塗布ヘッド１４の複数のノズル１７から（＋Ｘ）側の受液部１６に向けて有機ＥＬ液の吐出が開始され、ヘッド移動機構１５が駆動されて塗布ヘッド１４の移動が開始される。そして、複数のノズル１７から同一種類の有機ＥＬ液を基板９に向けて連続的に吐出しつつ、塗布ヘッド１４が（＋Ｘ）側の受液部１６上から、図１２中に二点鎖線にて示すように、（−Ｘ）側の受液部１６上へと主走査方向に移動することにより、試験塗布ユニット２の各試験塗布ステージ部２１において、テープ保持部２１４に保持された樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１（図８ないし図１０参照）に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される（ステップＳ１２）。

このとき、樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１は、上述のように、基板保持部１１上の基板９の上面９１と同じ高さとされるため、Ｚ方向における複数のノズル１７と樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１との間の距離は、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布時の複数のノズル１７と基板９の上面９１との間の距離と等しくなっている。また、２つの試験塗布ステージ部２１の間では、ノズル１７から吐出される有機ＥＬ液が中央受液部２２により受けられ、各試験塗布ステージ部２１の試験塗布面２１３１と受液部１６との間では、有機ＥＬ液は外側受液部２１８（図９参照）により受けられる。

続いて、各試験塗布ステージ部２１の試験塗布面２１３１がＣＣＤカメラ１３により撮像され、試験塗布面２１３１に塗布された有機ＥＬ液のストライプ状のパターンの画像が取得されて制御部１０のピッチ検出部１０１（図３参照）へと送られる（ステップＳ１３）。

ピッチ検出部１０１では、（＋Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３により取得された画像に基づいて、有機ＥＬ液の各ラインの中心線が求められ、隣接する中心線間の副走査方向に関する各距離（すなわち、副走査方向に関して互いに隣接する２つのノズル１７間の各距離）がノズルピッチとして検出される（ステップＳ１４）。なお、ピッチ検出部１０１によるノズルピッチの検出は、（−Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３により取得された画像に基づいて行われてもよく、また、２つのＣＣＤカメラ１３によりそれぞれ取得された画像の双方に基づいて行われてもよい（例えば、両画像から求めたノズル１７のピッチの平均値をノズルピッチとする。）。

そして、基準ノズルである（−Ｘ）側から８番目のノズル１７と他の１５本のノズル１７とのそれぞれの間の距離が求められ、予め定められているノズルピッチ（上述のように、本実施の形態では隔壁ピッチの３倍に等しい距離であり、以下、「目標ノズルピッチ」という。）に基づいて各ノズル１７の位置の調整が必要か否かが確認される（ステップＳ１５）。各ノズル１７の基準ノズルに対する相対位置が所定の位置となっている場合、制御部１０によりノズル位置の調整が不要と判断され、ノズルピッチの調整作業が終了する。

逆に、ノズル位置の調整が必要であると判断された場合は、上述のように求められた各ノズル間距離に基づき、基準ノズル以外の１５本のノズル１７（以下、「移動ノズル」という。）の副走査方向における移動すべき量（以下、単に「移動量」という。）がピッチ検出部１０１により求められる。以下では、１５本の移動ノズルの全てについて、ノズル位置の調整が必要であると判断されたものとして説明する。

各ノズル１７の移動量が求められると、塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液の吐出が停止された後、ヘッド移動機構１５により塗布ヘッド１４が（＋Ｘ）側へと移動され、図１２中に二点鎖線にて示すように、ピッチ調整機構３と対向する調整位置に位置する。続いて、ピッチ調整機構３の各調整ヘッド３０において、図６および図７に示す取付部固定機構３１の第１固定部３１１および第２固定部３１４により、ノズル取付部１４１の水平部１４１２が（−Ｙ）側および（＋Ｙ）側から挟まれることにより、ノズル取付部１４１が固定される。

次に、各調整ヘッド３０のロック部操作機構により、各移動ノズルのノズルロック部１７３によるロックが解除され、各移動ノズルが副走査方向に移動可能とされる。そして、制御部１０の調整機構制御部１０２（図３参照）により、各移動ノズルに対応する調整ヘッド３０において、ピッチ調整機構３の駆動部である当接部移動機構３４のステッピングモータ３４３が制御され、ノズル１７がノズル付勢機構３３によりノズル当接部３２に付勢された状態で、ピッチ検出部１０１により求められた移動量に従って副走査方向に移動される（ステップＳ１５１）。各移動ノズルの副走査方向への移動が終了すると、ロック部操作機構により各移動ノズルの位置が再びロックされる。なお、１５本の移動ノズルにおいて位置調整が不要と判断されたものがある場合には、当該移動ノズルのロックは解除されず、また、副走査方向への移動も行われない。

その後、取付部固定機構３１の第１固定部３１１および第２固定部３１４がノズル取付部１４１の水平部１４１２から離れることにより、塗布ヘッド１４のノズル取付部１４１の固定が解除される。図１２に示す塗布ヘッド１４は、（＋Ｘ）側の受液部１６上へと移動し、複数のノズル１７から有機ＥＬ液の吐出が開始される。

このように、塗布装置１では、ピッチ検出部１０１により求められた移動量に従って、１本の基準ノズルを除く全てのノズル１７（すなわち、全移動ノズル）が副走査方向に個別に移動されることによりノズルピッチの調整が行われる。本実施の形態では、ノズルピッチが１２０μｍ〜７００μｍの範囲で調整される。なお、塗布装置１では、１６本のノズル１７の全てが副走査方向に個別に移動されてノズルピッチの調整が行われてもよい。

移動ノズルの副走査方向における移動が終了すると、試験塗布ユニット２の各試験塗布ステージ部２１において、図８ないし図１０に示すテープ吸着部２１４１による樹脂テープ２１３の吸着が解除されるとともに、押圧部移動機構２１４４によりテープ押圧部２１４２が（−Ｙ）方向に移動され、図１０に示すように、テープ吸着部２１４１の上方に位置する。続いて、図９に示すモータ２１７１が駆動されることにより、図８ないし図１０に示すテープ保持部２１４において樹脂テープ２１３が（＋Ｙ）方向へと所定の長さだけ送られ、新しい試験塗布面２１３１がテープ吸着部２１４１上に位置する。

次に、押圧部昇降機構２１４３によりテープ押圧部２１４２が下降して樹脂テープ２１３をテープ吸着部２１４１に向けて押圧するとともに、テープ吸着部２１４１により樹脂テープ２１３が吸着されることにより、試験塗布面が新しい試験塗布面２１３１に交換されて保持平面２１４５上に固定される（ステップＳ１５２）。樹脂テープ２１３が吸着されると、テープ押圧部２１４２は試験塗布面２１３１上から退避する。

試験塗布面２１３１が交換されると、ステップＳ１２に戻って、塗布ヘッド１４が、複数のノズル１７から有機ＥＬ液を吐出しつつ（−Ｘ）方向へと移動され、試験塗布ユニット２の２つの試験塗布面２１３１に有機ＥＬ液が塗布される（ステップＳ１２）。続いて、ＣＣＤカメラ１３により試験塗布面２１３１上の有機ＥＬ液のパターンの画像が取得され、ピッチ検出部１０１によりノズルピッチが検出されてノズル位置の再調整が必要か否かが確認される（ステップＳ１３〜Ｓ１５）。そして、ノズル位置の調整が不要と判断されるまで、ピッチ調整機構３によるノズル１７の副走査方向への移動、および、試験塗布面２１３１の交換（ステップＳ１５１，Ｓ１５２）、並びに、試験塗布面２１３１への有機ＥＬ液の塗布、ノズルピッチの検出、および、ノズル位置の調整の要否確認（ステップＳ１２〜Ｓ１５）が繰り返される。

ノズルピッチの調整が終了すると、２つのＣＣＤカメラ１３により最後に取得された試験塗布面２１３１上の有機ＥＬ液のパターンの２つの画像（すなわち、ノズルピッチの調整が不要と判断された際の画像であり、以下、「最終画像」という。）のそれぞれにおいて、制御部１０の基板位置調整部１０３（図３参照）により、有機ＥＬ液のパターンの画像中における副走査方向の位置が求められる。続いて、（＋Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３により撮像された最終画像を基準として、（−Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３により撮像された最終画像中のパターンの位置の副走査方向におけるずれ量（以下、「位置ずれ量」という。）が求められる（ステップＳ１６）。

次に、（−Ｘ）側の撮像部移動機構１３ａが基板位置調整部１０３により制御されることにより、（−Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３が、位置ずれ量に等しい距離だけ副走査方向に移動されて２つのＣＣＤカメラ１３の相対位置が調整される（ステップＳ１７）。これにより、２つのＣＣＤカメラ１３の撮像領域の中心を結ぶ直線が、塗布ヘッド１４により塗布される有機ＥＬ液のラインに平行とされる。具体的には、（−Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３による最終画像中の有機ＥＬ液のパターンが、（＋Ｘ）側の最終画像に比べて（−Ｙ）側にずれている場合には、（−Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３が（−Ｙ）方向に移動され、（＋Ｙ）側にずれている場合には（＋Ｙ）方向に移動される。なお、塗布装置１におけるＣＣＤカメラ１３の位置調整は、（−Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３が固定された状態で（＋Ｘ）側のＣＣＤカメラ１３が移動されることにより行われてもよく、両方のＣＣＤカメラ１３が移動されることにより行われてもよい。

ＣＣＤカメラ１３の位置調整が終了すると、基板移動機構１２により基板９が基板保持部１１および試験塗布ユニット２と共に（＋Ｙ）方向に移動され、図１に実線にて示すように、基板９が２つのＣＣＤカメラ１３の下方に位置する（ステップＳ１８）。このとき、基板９の上面９１上において、（＋Ｙ）側の２つの角部近傍、かつ、塗布領域の外側の非塗布領域に設けられた２つの位置決め用目印９３（図１２参照）はそれぞれ、２つのＣＣＤカメラ１３の撮像領域内に位置する。基板９上では、２つの位置決め用目印９３の中心を結ぶ直線が、塗布領域の複数の溝に平行とされている。

続いて、基板位置調整部１０３により２つのＣＣＤカメラ１３が制御され、基板９上の２つの位置決め用目印９３が撮像される（ステップＳ１９）。次に、２つの位置決め用目印９３の画像に基づいて位置決め用目印９３の中心間の副走査方向に関する距離が求められ、予め記憶されている位置決め用目印９３の中心間の主走査方向に関する距離に基づいて基板９の回転方向のずれ量（すなわち、傾き）が求められる。そして、基板位置調整部１０３により基板回転機構１２ａが基板９の回転方向のずれ量に基づいて制御されて基板９が回転することにより、２つの位置決め用目印９３のＣＣＤカメラ１３に対する副走査方向における相対位置が等しくされる（ステップＳ２０）。

既述のように、塗布装置１では、２つのＣＣＤカメラ１３の複数のノズル１７（から吐出されて基板９上に塗布される有機ＥＬ液のライン）に対する副走査方向に関する相対位置が互いに等しくされている。したがって、２つの位置決め用目印９３のＣＣＤカメラ１３に対する副走査方向の相対位置を互いに等しくすることにより、２つの位置決め用目印９３の複数のノズル１７（から吐出されて基板９上に塗布される有機ＥＬ液のライン）に対する副走査方向に関する相対位置が互いに等しくされる。すなわち、基板９上の塗布領域の隔壁間の溝が、主走査方向における複数のノズル１７の移動の軌跡に対して平行となる。

このように、塗布装置１では、２つのＣＣＤカメラ１３により取得された有機ＥＬ液のパターンの画像、および、２つのＣＣＤカメラ１３により取得された基板９の上面９１上の位置決め用目印９３の画像に基づいて、基板移動機構１２および基板回転機構１２ａが、制御部１０の基板位置調整部１０３（図３参照）により制御されることにより、基板９の複数のノズル１７に対する相対位置が調整される。

そして、基板９の位置調整が終了すると、ヘッド移動機構１５により、塗布ヘッド１４が複数のノズル１７から有機ＥＬ液を連続的に吐出しつつ主走査方向に移動し、塗布ヘッド１４の主走査方向への移動が１回行われる毎に、基板移動機構１２により基板９が副走査方向（（＋Ｙ）方向）にステップ移動する。そして、基板９が図１中に二点鎖線にて示す塗布終了位置に位置するまで、複数のノズル１７の基板９に対する主走査方向および副走査方向への相対的な移動が繰り返されることにより、基板９に有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される。

以上に説明したように、塗布装置１では、試験塗布ユニット２の試験塗布面２１３１に有機ＥＬ液が塗布され、ＣＣＤカメラ１３により取得された試験塗布面２１３１上の有機ＥＬ液のパターンの画像に基づいてノズルピッチが検出され、さらに、検出結果に基づいて複数のノズル１７の副走査方向におけるピッチがピッチ調整機構３により調整される。これにより、塗布装置１の複数のノズル１７の副走査方向におけるピッチ（すなわち、ノズルピッチ）を、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布を行うことなく高精度に調整することができる。

その結果、基板上の非塗布領域に試験塗布を行ってノズルピッチを調整する場合とは異なり、ノズルの本数と非塗布領域の大きさとの関係（すなわち、試験塗布に要する領域の大きさと基板上の試験塗布可能領域の大きさとの関係）を考慮することなく、ノズルピッチの調整を高精度に行うことができる。したがって、塗布装置１の構造は、多数（例えば、８本以上）のノズルを備える塗布装置に特に適している。また、塗布装置１では、基板に対する試験塗布が行われないことにより、試験塗布された有機ＥＬ液の乾燥後に有機ＥＬ材料から発生する可能性があるパーティクルを防止することができ、基板９に対する塗布の質を向上することができる。

塗布装置１では、試験塗布時におけるノズル１７と試験塗布面２１３１との間のＺ方向の距離が、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布時のノズル１７と基板９の上面９１との間のＺ方向の距離と等しくされるため、基板９への有機ＥＬ液の塗布時における有機ＥＬ液の吐出距離が試験塗布時の吐出距離と等しくなる。仮に、基板への塗布時および試験塗布時における吐出距離に大きな差があるとすると、塗布された複数の有機ＥＬ液のラインのピッチが変化する可能性があるが、本実施の形態に係る塗布装置１では、基板９への塗布時および試験塗布時における吐出距離の差による影響を防止することができるため、ノズルピッチをより高精度に調整することができる。なお、塗布装置１では、有機ＥＬ液のラインピッチに対する吐出距離の差の影響が防止される範囲内であれば、試験塗布時におけるノズル１７と試験塗布面２１３１との間のＺ方向の距離と、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布時のノズル１７と基板９の上面９１との間のＺ方向の距離とが僅かに異なっていても、これらの距離は実質的に等しいとみなすことができる。

試験塗布ステージ部２１では、試験塗布面２１３１を樹脂テープ２１３の主面とし、テープ供給部２１５により樹脂テープ２１３をテープ保持部２１４へと繰り出すことにより、使用済みの（すなわち、有機ＥＬ液の試験塗布が行われた後の）試験塗布面２１３１を新しい未使用の試験塗布面と容易に交換することができる。テープ保持部２１４では、テープ吸着部２１４１およびテープ押圧部２１４２により樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１を固定して平坦とし、試験塗布面２１３１と複数のノズル１７との間の距離を一定に保つことにより、ノズルピッチをより高精度に検出することができる。

試験塗布ユニット２では、試験塗布ステージ部２１の試験塗布面２１３１が、塗布ヘッド１４による試験塗布時に、複数のノズル１７の主走査方向における相対移動の経路の一部のみと重なっている。換言すれば、ヘッド移動機構１５による複数のノズル１７の移動経路上において、主走査方向の一部にのみ試験塗布面２１３１が配置される。このため、有機ＥＬ液が塗布される試験塗布面の面積を小さくすることができ、試験塗布面２１３１の使用量を低減することができる。その結果、ノズルピッチの調整に要するコストを低減することができる。

塗布装置１では、制御部１０のピッチ検出部１０１により検出されたノズルピッチに基づき、ピッチ調整機構３の当接部移動機構３４が調整機構制御部１０２により制御されることにより、ノズルピッチを自動的に調整することができる。その結果、ノズルピッチをより高精度に調整することができるとともに、ノズルピッチの調整に要する作業時間および労力を低減することができる。また、ピッチ調整機構３により、複数のノズル１７の１本を除く他の全て（または、複数のノズル１７の全て）が副走査方向に個別に移動されることにより、隣接するノズル１７間の副走査方向における各距離を個別に、かつ、高精度に調整することができる。

塗布装置１では、主走査方向に離間する２つの試験塗布面２１３１に塗布された有機ＥＬ液のパターンの画像と、基板９上において主走査方向に離間して配置される２つの位置決め用目印９３の画像とに基づいて基板９のノズル１７に対する相対位置が調整されることにより、複数のノズル１７により塗布される有機ＥＬ液のラインと基板９の塗布領域における複数の溝とを精度良く平行として基板９の位置調整を高精度に行うことができる。また、ノズルピッチの調整用の構成を利用して基板９の位置調整を行うことができるため、塗布装置１の構造を簡素化することもできる。

さらには、同じ構造の２つの試験塗布ステージ部２１により、２つの試験塗布面２１３１をそれぞれ固定する２つのテープ保持部２１４、並びに、２つの試験塗布面２１３１をそれぞれ交換する各２つのテープ供給部２１５およびテープ回収部２１６が構成されることにより、塗布装置１の構造をより簡素化することができる。

次に、本発明の第２の実施の形態に係る塗布装置について説明する。第２の実施の形態に係る塗布装置は、図８および図９に示す試験塗布ステージ部２１とは構造が異なる２つの試験塗布ステージ部２１ａを備える。その他の構成は、図１ないし図７に示す塗布装置１と同様であり、以下の説明において同符号を付す。

図１３は、（＋Ｘ）側の試験塗布ステージ部２１ａを示す左側面図である。図１３では、基板移動機構１２の一部も併せて描いている。第２の実施の形態に係る塗布装置では、（−Ｘ）側の試験塗布ステージ部２１ａも、図１３に示す（＋Ｘ）側の試験塗布ステージ部２１ａと同様の構造を有する。

図１３に示すように、試験塗布ステージ部２１ａは、基板移動機構１２のレール１２１に移動可能に取り付けられるスライダ２１１、スライダ２１１上に固定されるハウジング２１２、有機ＥＬ液の試験塗布が行われる試験塗布部材である試験片２１３ａ、ハウジング２１２の上部において試験片２１３ａを保持する試験片保持部２１４ａ、試験片２１３ａの（−Ｚ）側において未使用の（すなわち、有機ＥＬ液の試験塗布が行われていない）複数の試験片２１３ｂ（以下、「待機試験片２１３ｂ」という。）を積層して保持するマガジンである試験片収容部２１５ａ、試験片保持部２１４ａに保持された試験片２１３ａを（＋Ｙ）方向に向けて押し出すシリンダである押出機構２１６ａ、および、押出機構２１６ａにより試験片保持部２１４ａから押し出された試験片２１３ａを受け取る試験片回収部２１７ａを備える。

試験片２１３ａは、有機ＥＬ液に対する濡れ性が基板９と同等の材料により形成されており、本実施の形態では、基板９と同材質のガラスにより形成される。また、試験片２１３ａの（＋Ｚ）側の主面には、有機ＥＬ液の塗布前に基板９上に形成されている薄膜（例えば、後述する正孔輸送材料の層）と同等の薄膜が形成されることにより、試験片２１３ａの（＋Ｚ）側の主面と基板９の上面９１との有機ＥＬ液に対するそれぞれの濡れ性が同等（すなわち、ほぼ等しく）とされる。なお、試験片２１３ａの材料を適宜選択することにより、試験片２１３ａの（＋Ｚ）側の主面に薄膜を形成することなく、試験片２１３ａの（＋Ｚ）側の主面と基板９の上面９１との有機ＥＬ液に対するそれぞれの濡れ性が同等とされてもよい。

試験塗布ステージ部２１ａでは、試験片２１３ａの（＋Ｚ）側の主面が、複数のノズル１７（図１参照）からの有機ＥＬ液が試験塗布される試験塗布面２１３１となっており、試験片２１３ａを保持する試験片保持部２１４ａが、試験塗布面２１３１を有する試験塗布部となっている。

図１４は、試験片保持部２１４ａ近傍を示す平面図である。図１３および図１４に示すように、試験片保持部２１４ａは、試験片２１３ａの試験塗布面２１３１に当接してＺ方向（すなわち、試験塗布面２１３１に垂直な方向）における試験塗布面２１３１の位置を決定する略矩形枠状の試験塗布面当接部２１４７を備える。試験片保持部２１４ａの試験片２１３ａは、試験片２１３ａの試験塗布面２１３１とは反対側（すなわち、（−Ｚ）側）の試験片収容部２１５ａにより、複数の待機試験片２１３ｂを介して試験塗布面当接部２１４７に向けて押圧されて試験塗布面当接部２１４７に付勢される。

試験塗布ステージ部２１ａでは、押出機構２１６ａが駆動されることにより、試験塗布面当接部２１４７に当接している試験片２１３ａが、（＋Ｙ）方向に押し出されて試験片保持部２１４ａから取り出される。そして、試験片収容部２１５ａに収容されている複数の待機試験片２１３ｂのうち、最上部の待機試験片２１３ｂが、試験片保持部２１４ａの試験塗布面当接部２１４７に付勢されることにより、試験片保持部２１４ａに保持される新たな試験片２１３ａとなり、当該試験片２１３ａの（＋Ｚ）側の主面が新たな試験塗布面２１３１となる。すなわち、試験塗布ステージ部２１ａでは、押出機構２１６ａが、試験片保持部２１４ａから試験片２１３ａを取り出す試験片取出部となっており、試験片収容部２１５ａおよび押出機構２１６ａが、試験片保持部２１４ａの試験塗布面２１３１を新たな試験塗布面と交換する試験塗布面交換機構となっている。

第２の実施の形態に係る塗布装置における準備作業（すなわち、ノズルピッチの調整および基板９の位置調整）の流れは、ステップＳ１５２における試験塗布面２１３１の交換が、樹脂テープ２１３の繰り出しによるものから試験片２１３ａの交換によるものへと変更される点を除き、第１の実施の形態と同様である。

第２の実施の形態に係る塗布装置では、第１の実施の形態と同様に、試験塗布ユニット２（図１参照）の試験塗布面２１３１に有機ＥＬ液が塗布され、試験塗布面２１３１上の有機ＥＬ液のパターンの画像に基づいてノズルピッチが検出され、さらに、検出結果に基づいて複数のノズル１７（図１参照）の副走査方向におけるピッチが調整される。これにより、塗布装置の複数のノズル１７の副走査方向におけるピッチ（すなわち、ノズルピッチ）を、基板９（図１参照）に対する有機ＥＬ液の塗布を行うことなく高精度に調整することができる。

第２の実施の形態に係る塗布装置では、特に、試験塗布面２１３１が、有機ＥＬ液に対する濡れ性が基板９の上面９１と同等の試験片２１３ａの主面とされることにより、試験塗布面２１３１と基板９の上面９１との濡れ性の差による計測誤差等を防止することにより、ノズルピッチを高精度に検出することができる。

試験塗布ステージ部２１ａでは、試験片２１３ａの（−Ｚ）側に複数の待機試験片２１３ｂを収容する試験片収容部２１５ａを設け、押出機構２１６ａにより試験片保持部２１４ａから試験片２１３ａを押し出すことにより、新たな試験片２１３ａが試験片保持部２１４ａの試験塗布面当接部２１４７に付勢されて新たな試験塗布面２１３１が配置される。これにより、試験塗布面２１３１の交換を容易とすることができるとともに、試験塗布面２１３１と複数のノズル１７との間の距離を一定に保つことができ、ノズルピッチをより高精度に検出することができる。

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。

例えば、第１の実施の形態に係る塗布装置１の試験塗布ステージ部２１では、テープ保持部２１４においてテープ吸着部２１４１の吸引力のみにより樹脂テープ２１３を吸着して試験塗布面２１３１を平滑な状態で固定することができる場合、テープ押圧部２１４２、押圧部昇降機構２１４３および押圧部移動機構２１４４が省略され、テープ吸着部２１４１のみが樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１を固定するテープ固定部とされてもよい。また、テープ吸着部２１４１による吸着を行うことなく、テープ押圧部２１４２による押圧により樹脂テープ２１３の試験塗布面２１３１の固定が行われてもよい。

塗布装置１における準備作業では、ステップＳ１５１におけるピッチ調整機構３によるノズル１７の移動と、ステップＳ１５２における試験塗布面２１３１の交換とが並行して行われてもよく、ステップＳ１５２がステップＳ１５１よりも前に行われてもよい（第２の実施の形態においても同様）。また、ステップＳ１８において撮像される位置決め用目印は、必ずしも、非塗布領域に設けられた位置決め専用の目印である必要はなく、例えば、塗布領域内の隔壁や非塗布領域に形成された配線の一部が位置決め用目印とされてもよい。

ピッチ調整機構３では、必ずしも複数の調整ヘッド３０が設けられる必要はなく、１つの調整ヘッド３０により、複数のノズル１７の副走査方向における位置調整が順次行われてもよい。この場合、複数のノズル１７は、ヘッド移動機構１５による塗布ヘッド１４の移動により、当該調整ヘッド３０に対応する位置へと順次移動されることとなる。なお、複数のノズル１７のうち１本のノズル１７が基準ノズルとされる場合、当該基準ノズルに対する調整ヘッド３０による位置調整は行われない。また、基準ノズルは副走査方向に移動不可能にノズル取付部１４１に固定されてもよい。

上記実施の形態に係る塗布装置では、必ずしも、全てのノズル１７（または、１本のノズル１７を除く他の全てのノズル１７）が副走査方向に個別に移動される必要はなく、複数のノズル１７が移動不可能に固定されたノズル取付部が、ピッチ調整機構３とは異なる他のピッチ調整機構により、基板９の上面９１に垂直な回転軸を中心として僅かな角度だけ回転されることにより、副走査方向におけるノズルピッチが変更されてもよい。また、塗布装置におけるノズルピッチの調整は、ノズルピッチの検出結果に基づいて作業者がピッチ調整機構を手動にて操作することにより行われてもよい。

塗布装置では、基板９の位置調整が、ノズルピッチの調整に利用される構成とは異なる他の機構により行われる場合には、試験塗布ユニット２に１つの試験塗布ステージ部のみが設けられてもよい。この場合であっても、上記実施の形態と同様に、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布を行うことなく、ノズルピッチを高精度に調整することができる。

図１５は、樹脂テープ２１３を利用する試験塗布ユニット２ａの他の例を示す背面図である。図１５に示す試験塗布ユニット２ａでは、図８および図９に示す試験塗布ステージ部２１とは９０°向きが異なるとともに基板のＸ方向（すなわち、主走査方向）の幅よりも大きい試験塗布ステージ部２１ｂが１つのみ設けられる。試験塗布ステージ部２１ｂの上部のテープ保持部２１４では、樹脂テープ２１３が、基板のＸ方向の幅とほぼ等しい長さだけＸ方向に伸びている。

試験塗布ユニット２ａでは、テープ保持部２１４において、樹脂テープ２１３のＸ方向のおよそ全長に亘って有機ＥＬ液が塗布され、樹脂テープ２１３のＸ方向の両端部近傍における２つの試験塗布面２１３１がテープ吸着部２１４１により固定された状態でＣＣＤカメラにより撮像されることにより、上記実施の形態と同様に、ノズルピッチが検出されるとともに基板の位置調整に必要な情報が入手される。

試験塗布ステージ部２１ｂでは、樹脂テープ２１３が環状とされており、１回の試験塗布が終了すると図１５中の反時計回りに送られる。これにより、使用済みの試験塗布面２１３１が新たな試験塗布面に交換される。また、使用済みの試験塗布面２１３１は、スプレー２１９１により洗浄液が噴射され、エアーナイフ２１９２により付着している有機ＥＬ材料が除去されることにより、新たな試験塗布面として利用可能とされる。なお、試験塗布ステージ部２１ｂでは、（＋Ｘ）側および（−Ｘ）側にそれぞれテープ供給部およびテープ回収部が設けられ、使用済みの試験塗布面が巻き取られて回収される構造とされてもよい。

上記実施の形態に係る塗布装置では、基板移動機構１２による基板９および基板保持部１１の移動に代えて、塗布ヘッド１４が副走査方向に移動することにより、副走査方向における基板９の塗布ヘッド１４に対する相対移動が行われてもよい。また、ヘッド移動機構１５による塗布ヘッド１４の移動に代えて、基板９および基板保持部１１が主走査方向に移動することにより、主走査方向における塗布ヘッド１４の基板９に対する相対移動が行われてもよい。

上記実施の形態に係る塗布装置では、塗布ヘッド１４に設けられるノズル１７の本数は１６本には限定されず、３本以上であればよい。塗布装置では、例えば、塗布ヘッド１４に設けられた３本のノズル１７から、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が同時に吐出されて基板９に塗布されてもよい。この場合、隣接する２本のノズルの間の副走査方向に関する距離は、隔壁ピッチと等しくなるよう調整される。

また、上記塗布装置では、画素形成材料である正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）が基板９に塗布されてもよい。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。

上記塗布装置は、必ずしも有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ液または正孔輸送液の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対し、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。

このような、有機ＥＬ表示装置用の基板に対する有機ＥＬ液や正孔輸送液の塗布、その他の平面表示装置用の基板に対する画素形成材料を含む流動性材料の塗布では、流動性材料の塗布位置に高い位置精度が求められる。上述のように、塗布装置は、複数のノズル１７のピッチを高精度に調整することができるため、有機ＥＬ表示装置用の基板に対する有機ＥＬ液や正孔輸送液の塗布、その他の平面表示装置用の基板に対する画素形成材料を含む流動性材料の塗布に特に適している。

また、上記塗布装置は、平面表示装置用の基板以外にも、磁気ディスクや光ディスク用のガラス基板やセラミック基板、あるいは、半導体基板等、様々な基板に対する様々な種類の流動性材料の塗布に利用されてもよい。

第１の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。 塗布装置の正面図である。 制御部の機能を示すブロック図である。 塗布ヘッドの一部を示す正面図である。 塗布ヘッドの一部を示す平面図である。 調整ヘッドおよび塗布ヘッドの一部を示す平面図である。 調整ヘッドおよび塗布ヘッドの一部を示す左側面図である。 試験塗布ステージ部の左側面図である。 試験塗布ステージ部の背面図である。 テープ保持部近傍を示す平面図である。 塗布装置における準備作業の流れを示す図である。 塗布装置における準備作業の流れを示す図である。 塗布装置の平面図である。 第２の実施の形態に係る試験塗布ステージ部の左側面図である。 試験片保持部近傍を示す平面図である。 他の試験塗布ステージ部の背面図である。

符号の説明

１ 塗布装置
３ ピッチ調整機構
９ 基板
１１ 基板保持部
１２ 基板移動機構
１２ａ 基板回転機構
１３ ＣＣＤカメラ
１５ ヘッド移動機構
１７ ノズル
２１，２１ａ，２１ｂ 試験塗布ステージ部
３４ 当接部移動機構
９１ 上面
９３ 位置決め用目印
１０１ ピッチ検出部
１０２ 調整機構制御部
１０３ 基板位置調整部
２１３ 樹脂テープ
２１３ａ 試験片
２１３ｂ 待機試験片
２１４ テープ保持部
２１４ａ 試験片保持部
２１５ テープ供給部
２１５ａ 試験片収容部
２１６ テープ回収部
２１６ａ 押出機構
３４３ ステッピングモータ
２１３１ 試験塗布面
２１４１ テープ吸着部
２１４２ テープ押圧部
２１４５ 保持平面
２１４７ 試験塗布面当接部
Ｓ１１〜Ｓ２０，Ｓ１５１，Ｓ１５２ ステップ

Claims (9)

1. 基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
   基板を保持する基板保持部と、
   前記基板の主面に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、
   前記複数のノズルを前記基板の前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記複数のノズルに対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動するノズル走査機構と、
   前記基板への非塗布時に前記複数のノズルからの流動性材料が試験塗布される試験塗布面を有する試験塗布部と、
   前記試験塗布部を前記複数のノズルの前記主走査方向における相対移動の経路に対して進退させる試験塗布部進退機構と、
   前記複数のノズルの前記主走査方向への相対移動により前記試験塗布面に塗布された流動性材料のパターンの画像を取得する撮像部と、
   前記撮像部により取得された画像に基づいて前記複数のノズルの前記副走査方向におけるピッチを検出するピッチ検出部と、
   前記複数のノズルの前記副走査方向におけるピッチを調整するピッチ調整機構と、
   前記試験塗布部の前記試験塗布面を新たな試験塗布面と交換する試験塗布面交換機構と、
   を備え、
   前記試験塗布面が、樹脂テープの一部の主面であり、
   前記試験塗布部が、
   前記樹脂テープの前記一部を保持するテープ保持部と、
   前記樹脂テープの前記試験塗布面を前記基板の前記主面に平行な保持平面上に固定するテープ固定部と、
   を備え、
   試験塗布時における前記複数のノズルと前記テープ固定部により固定された前記試験塗布面との間の距離が、塗布時の前記複数のノズルと前記基板の前記主面との間の距離に等しいことを特徴とする塗布装置。
2. 請求項１に記載の塗布装置であって、
   試験塗布時に、前記試験塗布面が前記複数のノズルの前記主走査方向における相対移動の経路の一部のみと重なっていることを特徴とする塗布装置。
3. 請求項１または２に記載の塗布装置であって、
   前記基板保持部を前記基板の前記主面に垂直な回転軸を中心に回転する基板回転機構と、
   前記主走査方向において前記試験塗布面から離間して設けられるもう１つの試験塗布面に塗布された流動性材料のパターンの画像を取得するもう１つの撮像部と、
   前記撮像部および前記もう１つの撮像部により取得された流動性材料のパターンの画像、並びに、前記撮像部および前記もう１つの撮像部により取得された前記基板の前記主面上の位置決め用目印の画像に基づいて前記ノズル走査機構および前記基板回転機構を制御することにより前記基板の前記複数のノズルに対する相対位置を調整する基板位置調整部と、
   をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
4. 請求項３に記載の塗布装置であって、
   前記もう１つの試験塗布面を、前記試験塗布面とは個別に新たな試験塗布面と交換するもう１つの試験塗布面交換機構をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
5. 請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、
   前記ピッチ調整機構を駆動する駆動部と、
   前記ピッチ検出部の検出結果に基づいて前記駆動部を制御する調整機構制御部と、
   をさらに備えることを特徴とする塗布装置。
6. 請求項１ないし５のいずれかに記載の塗布装置であって、
   前記ピッチ検出部により、前記副走査方向に関して互いに隣接する２つのノズル間の各距離が検出され、
   前記ピッチ調整機構により、前記複数のノズルの全てまたは１つを除く他の全てが前記副走査方向に個別に移動されることにより前記各距離が調整されることを特徴とする塗布装置。
7. 請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、
   前記試験塗布面交換機構が、前記樹脂テープを前記試験塗布部へと繰り出すテープ供給部を備えることを特徴とする塗布装置。
8. 基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
   基板を保持する基板保持部と、
   前記基板の主面に向けて流動性材料を連続的に吐出する複数のノズルと、
   前記複数のノズルを前記基板の前記主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記複数のノズルに対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動するノズル走査機構と、
   前記基板への非塗布時に前記複数のノズルからの流動性材料が試験塗布される試験塗布面を有する試験塗布部と、
   前記試験塗布部を前記複数のノズルの前記主走査方向における相対移動の経路に対して進退させる試験塗布部進退機構と、
   前記複数のノズルの前記主走査方向への相対移動により前記試験塗布面に塗布された流動性材料のパターンの画像を取得する撮像部と、
   前記撮像部により取得された画像に基づいて前記複数のノズルの前記副走査方向におけるピッチを検出するピッチ検出部と、
   前記複数のノズルの前記副走査方向におけるピッチを調整するピッチ調整機構と、
   前記試験塗布部の前記試験塗布面を新たな試験塗布面と交換する試験塗布面交換機構と、
   を備え、
   前記試験塗布面が、流動性材料に対する濡れ性が前記基板の前記主面と同等とされた試験片の主面であり、
   前記試験塗布部が、前記試験片を保持する試験片保持部であり、
   試験塗布時における前記複数のノズルと前記試験片保持部により保持された前記試験片の前記試験塗布面との間の距離が、塗布時の前記複数のノズルと前記基板の前記主面との間の距離に等しいことを特徴とする塗布装置。
9. 請求項８に記載の塗布装置であって、
   前記試験塗布部が、前記試験片の前記試験塗布面に当接して前記試験塗布面に垂直な方向における前記試験塗布面の位置を決定する試験塗布面当接部を備え、
   前記試験塗布面交換機構が、
   前記試験片の前記試験塗布面とは反対側において複数の待機試験片を保持するとともに前記試験片を前記複数の待機試験片を介して前記試験塗布面当接部に向けて付勢する試験片収容部と、
   前記試験塗布部から前記試験片を取り出す試験片取出部と、
   を備えることを特徴とする塗布装置。

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