JP5217337B2 - 酸化物半導体電極用積層体、酸化物半導体電極、色素増感型太陽電池、酸化物半導体電極用積層体の製造方法、および、酸化物半導体電極の製造方法 - Google Patents
酸化物半導体電極用積層体、酸化物半導体電極、色素増感型太陽電池、酸化物半導体電極用積層体の製造方法、および、酸化物半導体電極の製造方法 Download PDFInfo
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Description
このような色素増感型太陽電池には、金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層を有する酸化物半導体電極が用いられている。
以下、これらについて順に説明する。
まず、本発明の酸化物半導体電極用積層体について説明する。本発明の酸化物半導体電極用積層体は、耐熱基板と、上記耐熱基板上に形成され、第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層と、上記多孔質層上に形成され、第2金属酸化物からなる第1電極層と、を有するものであって、上記多孔質層と上記第1電極層との間に、上記第1金属酸化物および上記第2金属酸化物を含有する混合酸化物層が形成されており、かつ、上記多孔質層および上記第1電極層が上記混合酸化物層に接するように形成されていることを特徴とするものである。
このような例において本発明の酸化物半導体電極用積層体10は、上記混合酸化物層3が、上記多孔質層2中に含有される金属酸化物半導体微粒子を構成する第1金属酸化物と、上記第1電極層4を構成する第2金属酸化物とを含有するものであることを特徴とするものである。
このため、本発明によれば多孔質層と第1電極層との密着性に優れた酸化物半導体電極用積層体を得ることができる。
以下、本発明の酸化物半導体電極に用いられる各構成について順に説明する。
まず、本発明に用いられる混合酸化物層について説明する。本発明に用いられる混合酸化物層は、後述する多孔質層と後述する第1電極層との間に形成され、上記多孔質層に含まれる金属酸化物半導体微粒子を構成する第1金属酸化物および上記第1電極層を構成する第2金属酸化物を含有するものである。また、本発明に用いられる混合酸化物層は、上記多孔質層と上記第1電極層とを接着する機能を有するものである。
以下、このような混合酸化物層について説明する。
本発明に用いられる第1金属酸化物は、後述する多孔質層に含まれる金属酸化物半導体微粒子の構成材料である。したがって、本発明に用いられる第1金属酸化物は、上記金属酸化物半導体微粒子の種類によって必然的に決定されるものである。
なお、上記金属酸化物半導体微粒子として2種類以上の第1金属酸化物から構成されたものを用いる場合、多孔質層に含まれる第1金属酸化物は、上記金属酸化物半導体微粒子を構成する第1金属酸化物のうち少なくとも一種類であればよい。
ここで、本発明に用いられる第1金属酸化物については後述する「2.多孔質層」の項において詳述するため、ここでの説明は省略する。
なお、上記第1電極層として2種類以上の第2金属酸化物から構成されたものを用いる場合、多孔質層に含まれる第2金属酸化物は、上記第1電極層を構成する第2金属酸化物のうち少なくとも一種類であればよい。
ここで、本発明に用いられる第2金属酸化物については後述する「3.第1電極層」の項において詳述するため、ここでの説明は省略する。
本発明に用いられる混合酸化物層は、上記第1金属酸化物および上記第2金属酸化物を含有するものであれば特に限定されるものではないが、なかでもスプレー熱分解法によって形成されたものであることが好ましい。スプレー熱分解法によって形成された混合酸化物層は、緻密性が高く導電性に優れるからである。
ここで、スプレー熱分解法とは、上記第1金属酸化物を構成する第1金属元素を含有する第1金属化合物と、上記第2金属酸化物を構成する第2金属元素を含有する第2金属化合物とを含む溶液を、加熱された多孔質層上に噴霧することにより、上記第1金属元素および上記第2金属元素を上記多孔質層上で酸化させることにより混合酸化物層を形成する方法である。
すなわち、上述したようにスプレー熱分解法によって多孔質層上に混合酸化物層を形成する場合、混合酸化物層を構成する材料が一部上記多孔質層中に浸透することは避けれられないため、浸透した領域に混合酸化物層を構成する材料と多孔質層を構成する材料とが混合された領域が形成されることになる。これは、第1電極層上にスプレー熱分解法によって混合酸化物層を形成する場合も同様である。したがって、この領域の存在を確認することによって、上記混合酸化物層がスプレー熱分解法によって形成されたものであることを特定することができる。
次に、本発明に用いられる多孔質層について説明する。本発明に用いられる多孔質層は、上記混合酸化物層に接するように形成され、第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含有するものである。また、本発明に用いられる多孔質層は、本発明の酸化物半導体電極用積層体を用いて作製される酸化物半導体電極に半導体特性を付与する性質を有するものである。
以下、このような多孔質層について詳細に説明する。
本発明に用いられる金属酸化物半導体微粒子としては、半導体特性を備える第1金属酸化物からなるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の酸化物半導体電極用積層体の用途等に応じて適宜選択して用いることができる。本発明に用いられる金属酸化物半導体微粒子を構成する第1金属酸化物としては、例えば、TiO2、ZnO、SnO2、ITO、ZrO2、MgO、Al2O3、CeO2、Bi2O3、Mn3O4、Y2O3、WO3、Ta2O5、Nb2O5、La2O3等を挙げることができる。これらの第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子は、多孔性の多孔質層を形成するのに適しており、エネルギー変換効率の向上、コストの削減を図ることができるため本発明に好適に用いられる。
なかでも本発明においては、上記半導体酸化物微粒子としてTiO2からなるものを用いることが最も好ましい。TiO2は特に半導体特性に優れるからである。
なお、粒径の異なる金属酸化物半導体微粒子を併用することにより、多孔質層における光散乱効果を高めることができるため、例えば、本発明の酸化物半導体電極用積層体を用いて色素増感型太陽電池を作製した場合に、色素増感剤による光吸収を効率的に行うことが可能となるという利点がある。
本発明に用いられる多孔質層には、上記金属酸化物半導体微粒子の他に任意の成分が含まれていてもよい。本発明に用いられる任意の成分としては、本発明の酸化物半導体電極用積層体に所望の機能を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる多孔質層には、任意成分として色素増感剤が含まれることが好ましい。すなわち、上記多孔質層に含まれる金属酸化物半導体微粒子の表面に色素増感剤が付着していることが好ましい。上記多孔質層に色素増感剤が含まれることにより、本発明の酸化物半導体電極用積層体を色素増感型太陽電池を作製するために用いる場合に、色素増感型太陽電池セルの製造工程を簡易化できるからである。
本発明用いられる多孔質層の厚みは、本発明の酸化物半導体電極用積層体の用途に応じて、多孔質層に所望の機械強度を付与できる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本発明における多孔質層の厚みは、通常、1μm〜100μmの範囲内であることが好ましく、特に5μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。多孔質層の厚みが上記範囲よりも厚いと、多孔質層自体の凝集破壊が起りやすく、膜抵抗となりやすくなってしまう場合があるからである。また、上記範囲よりも薄いと厚みが均一な多孔質層を形成するのが困難となったり、例えば、本発明の酸化物半導体電極用積層体を用いて色素増感型太陽電池を作製した場合に、色素増感剤を含んだ多孔質層が太陽光などを十分に吸収できないために、性能不良になる可能性があるからである。
次に、本発明に用いられる第1電極層について説明する。本発明に用いられる第1電極層は、上記混合酸化物層上に接するように形成されたものであり、第2金属酸化物からなるものである。
以下、このような第1電極層について説明する。
なお、上記厚みは、第1電極層が複数の層が積層された構成される場合には、すべての層の厚みを合計した総厚みを指すものとする。
次に、本発明に用いられる耐熱基板について説明する。本発明に用いられる耐熱基板としては、所望の耐熱性を有するものであれば特に限定されない。なかでも、本発明の電極用積層体は、耐熱基板上に多孔質層が形成される過程において高温の焼成処理がなされることが一般的であることから、本発明に用いられる耐熱基板としては、上記多孔質層を形成する際に行われる焼成処理時の加熱温度に耐え得る耐熱性を有することが好ましい。このような十分な耐熱性を備える耐熱基板を用いることにより、本発明の酸化物半導体電極用積層体を製造する過程において、多孔質層を形成する際に焼成処理を充分に高温で行うことができるため、多孔質層を形成する金属酸化物半導体微粒子間の結着性を高くすることができるという利点がある。
また、上記耐熱基板は、可撓性を有することが好ましい。Roll to Roll方式により酸化物半導体電極用積層体を製造することが可能となるからである。
本発明の酸化物半導体電極用積層体は、上記第1金属酸化物および上記第2金属酸化物の少なくとも2種類の金属酸化物が用いられたものであるが、本発明に用いられる第1金属酸化物および第2金属酸化物の組み合わせとしては、所望の性能を有する多孔質層および第1電極層を形成可能であり、かつ、両金属酸化物を含有する混合金属酸化物を形成可能なものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられる第1金属酸化物と第2金属酸化物との組み合わせ(第1金属酸化物/第2金属酸化物)としては、例えば、TiO2/ITO、TiO2/FTO、TiO2/SnO2、TiO2/ZnO、TiO2/AtO、SnO2/ITO、SnO2/FTO、SnO2/ZnO、SnO2/AtO、ZnO/ITO、ZnO/FTO、ZnO/SnO2、および、ZnO/AtO等を挙げることができる。
本発明の酸化物半導体電極用積層体の用途は特に限定されるものではないが、特に色素増感型太陽電池等に用いられる酸化物半導体電極を作製するために用いられる。すなわち、色素増感型太陽電池等に用いられる酸化物半導体電極は、基材上に、第1電極層と多孔質層とがこの順で積層された構成を有するものであるが、本発明の酸化物半導体電極用積層体を用いれば、耐熱基板上に形成された多孔質層および第1電極層を、任意の基材上に転写することによって容易に酸化物半導体電極を作製するため、このような用途に好適に用いられる。
本発明の酸化物半導体電極用積層体は、一般的に公知の手法を用いて製造することができる。なかでも本発明の酸化物半導体電極用積層体は、後述する「D.酸化物半導体電極用積層体の製造方法」の項において説明する方法によって高効率で製造することができる。
次に、本発明の酸化物半導体電極について説明する。本発明の酸化物半導体電極は、基材と、上記基材上に形成され、第2金属酸化物からなる第1電極層と、上記第1電極層上に形成され、第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層と、を有するものであって、上記多孔質層と上記第1電極層との間に、上記第1金属酸化物および上記第2金属酸化物を含有する混合酸化物層が形成されており、かつ、上記多孔質層および上記第1電極層が上記混合酸化物層に接するように形成されていることを特徴とするものである。
このような例において、本発明の酸化物半導体電極11は、上記混合酸化物層3が、上記多孔質層2中に含有される金属酸化物半導体微粒子を構成する第1金属酸化物と、上記第1電極層4を構成する第2金属酸化物とを含有するものであることを特徴とするものである。
以下、本発明の酸化物半導体電極に用いられる各構成について順に説明する。
まず、本発明に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材としては、本発明に用いられる第1電極層および多孔質層を支持することが可能な程度の自己支持性を有するものであれば特に限定されるものではない。したがって、本発明に用いられる基材は可撓性を有するフレキシブル材であってもよく、または、石英ガラス、パイレックス(登録商標)、合成石英板等の可撓性を有さないリジッド材であってもよい。なかでも本発明に用いられる基材はフレキシブル材であることが好ましく、上記フレキシブル材のなかでもフィルム基材であることが好ましい。フィルム基材は加工性に優れ、製造コストの低減ができるからである。
本発明の酸化物半導体電極は、少なくとも上記基材、第1電極層および多孔質層とを有するものであるが、必要に応じて他の任意の構成を有するものであってもよい。本発明に用いられる任意の構成は特に限定されるものではなく、本発明の酸化物半導体電極の用途や、本発明の酸化物半導体電極の製造方法に応じて任意の機能を有するものを用いることができる。なかでも本発明の酸化物半導体電極は、上記任意の構成として、上記基材と上記第1電極層との間に形成され、接着性樹脂を含む接着層を有することが好ましい。このような接着層が形成されていることにより、本発明の酸化物半導体電極を、上述した転写方式によって製造することが容易になるからである。
本発明の酸化物半導体電極における多孔質層は、パターニングされていることが好ましい。多孔質層がパターニングされていることにより、本発明の酸化物半導体電極を、モジュール起電力の高い色素増感型太陽電池を作製するのに好適なものにできるからである。本発明における多孔質層のパターニングは、少なくとも多孔質層がパターニングされていればよい。また、多孔質層が、上記酸化物半導体層と、上記介在層とからなる場合には、両層が同一形状でパターニングされていることが好ましい。
本発明の酸化物半導体電極は、色素増感型光充電キャパシタに用いられる色素増感型光充電キャパシタ用基材、エレクトロクロミックディスプレイに用いられるエレクトロクロミックディスプレイ用基材、光触媒反応を用いて大気中の汚染物質を分解できる汚染物質分解基板、および色素増感型太陽電池に用いられる色素増感型太陽電池用基材等として用いることができるが、なかでも色素増感型太陽電池に用いられる色素増感型太陽電池用基材として好適に用いられる。
本発明の酸化物半導体電極は、一般的に公知の手法を用いて製造することができる。なかでも本発明の酸化物半導体電極は、後述する「D.酸化物半導体電極の製造方法」の項において説明する方法によって高効率で製造することができる。
次に、本発明の色素増感型太陽電池について説明する。本発明の色素増感型太陽電池は、上記本発明に係る酸化物半導体電極、および、対向基材と、上記対向基材上に形成され、金属酸化物からなる第2電極層とを有する対電極基材が、上記多孔質層と、上記第2電極層とが対向するように配置されており、上記酸化物半導体電極と、上記対電極基材との間に酸化還元対を含む電解質層が形成された構成を有することを特徴とするものである。
以下、本発明の色素増感型太陽電池に用いられる各構成について順に説明する。
まず、本発明に用いられる酸化物半導体電極について説明する。本発明に用いられる酸化物半導体電極は、上記本発明に係る酸化物半導体電極であり、多孔質層に色素増感剤が含まれるものである。
このような酸化物半導体電極については、上記「B.酸化物半導体電極」の項において説明したものと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。
次に、本発明に用いられる電解質層について説明する。本発明における電解質層は、酸化還元対を含むものである。
さらに、上記臭素および臭化物の組合せとしては、例えば、LiBr、NaBr、KBr、CaBr2等の金属臭化物と、Br2との組合せを挙げることができる。
また、電解質層を液体状とした場合には、例えば、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、炭酸プロピレンなどを溶媒とし、酸化還元対を含んだものや、同じくイミダゾリウム塩をカチオンとするイオン性液体を溶媒とすることができる。
さらに、電解質層を固体状とした場合には、酸化還元対を含まずにそれ自身が正孔輸送剤として機能するものであればよく、例えばCuI、ポリピロール、ポリチオフェンなどを含む正孔輸送剤であってもよい。
次に本発明に用いられる対電極基材について説明する。本発明における対電極基材は、第2電極層および対向基材からなるものである。
本発明に用いられる第2電極層としては、所望の導電性を有する金属酸化物からなるものであれば特に限定されるものではない。なお、上述したように本発明に用いられる酸化物半導体電極が有する第1電極層は、同じく金属酸化物からなるものであり、スプレー熱分解法によって上記多孔質層上に形成されたものであるが、本発明に用いられる第2電極層は、スプレー熱分解法によって形成されたものに限定されるものではない点において、上記第1電極層と異なるものである。
本発明における対向基材は、上記「B.酸化物半導体電極」の、基材の項において説明したものと同様のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明に用いられる対電極基材には必要に応じて、上記第2電極層および対向基材以外のその他の構成を有するものであってもよい。本発明に用いられるその他の構成としては、触媒層を挙げることができる。本発明においては、上記第2電極層上に触媒層が形成されていることにより、本発明の色素増感型太陽電池をより発電効率に優れたものにできる。このような触媒層の例としては、上記第2電極層上にPtを蒸着した態様を挙げることができるが、この限りではない。
本発明の色素増感型太陽電池は、上記酸化物半導体電極の多孔質層等、および、上記対電極基材の第2電極層等がパターニングされていることにより、一対の酸化物半導体電極および対電極基材に複数のセルが連結された構成を有するものであってもよい。このような構成を有することにより、本発明の色素増感型太陽電池を起電力の高いものにできるからである。
次に本発明の色素増感型太陽電池の作製方法の一例について説明する。本発明の色素増感型太陽電池は、上記本発明の酸化物半導体電極が有する多孔質層と、上記対電極基材が有する第2電極基材との間に電解質層を形成することにより製造することができる。
次に、本発明の酸化物半導体電極用積層体の製造方法について説明する。本発明の酸化物半導体電極用積層体の製造方法は、耐熱基板を用い、上記耐熱基板上に第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層を形成する多孔質層形成工程と、上記多孔質層上に、上記第1金属酸化物と、第2金属酸化物とを含有する混合酸化物層を形成する混合酸化物層形成工程と、上記混合酸化物層上に上記第2金属酸化物からなる第1電極層を形成する第1電極層形成工程と、を有することを特徴とするものである。
以下、本発明に用いられる各工程について順に説明する。
まず、本発明に用いられる混合酸化物層形成工程について説明する。本工程は後述する多孔質層形成工程によって形成される多孔質層上に第1金属酸化物および第2金属酸化物を含有する多孔質層を形成する工程である。
まず、本工程に用いられる混合酸化物層形成用塗工液について説明する。本工程に用いられる混合酸化物層形成用塗工液は、上記第1金属化合物および第2金属化合物と、溶媒とを含むものであり必要に応じて他の化合物を含むものである。
本工程に用いられる第1金属化合物としては、多孔質層上で酸化されることにより、多孔質層中に含まれる金属酸化物半導体微粒子を構成する第1金属酸化物を形成可能なものであれば特に限定されるものではない。したがって、本工程に用いられる第1金属化合物は、上記第1金属酸化物の種類に応じて適宜選択されるものである。本工程に用いられる第1金属化合物の具体例としては、目的とする第1金属酸化物を構成する物質の前駆体である、アルコキシド、無機化合物、錯体等を挙げることができる。本工程においては上記のいずれの第1金属化合物であっても好適に用いることができる。
本工程に用いられる第2金属化合物としても、多孔質層上で酸化されることにより、第1電極層を構成する第2金属酸化物を形成可能なものであれば特に限定されるものではない。したがって、本工程に用いられる第2金属化合物は、上記第2金属酸化物の種類に応じて適宜選択されるものである。本工程に用いられる第2金属化合物の具体例としては、その具体例としては、トリス(アセチルアセトナート)インジウム(III)、2−エチルヘキサン酸インジウム(III)、テトラエチルすず、酸化ジブチルすず(IV)、トリシクロヘキシルすず(IV)ヒドロキシド、亜鉛アセチルアセトナート、乳酸亜鉛三水和物、サリチル酸亜鉛三水和物、ステアリン酸亜鉛、テトラエチルすず、酸化ジブチルすず(IV)、トリシクロヘキシルすず(IV)ヒドロキシド、フッ化アンモニウム、アンチモン(III)ブトキシド、アンチモン(III)エトキシド、テトラエチルすず、酸化ジブチルすず(IV)、トリシクロヘキシルすず(IV)ヒドロキシド、テトラエチルすず、酸化ジブチルすず(IV)、トリシクロヘキシルすず(IV)ヒドロキシド等を挙げることができる。
混合酸化物層形成用塗工液に用いられる溶媒としては、上記第1金属化合物および第2金属化合物を所望の濃度で溶解することができるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えば、上記第1金属化合物および第2金属化合物として金属塩を用いる場合は、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、プロパノール、ブタノール等の総炭素数が5以下の低級アルコール、トルエン、およびこれらの混合溶媒等を挙げることができる。一方、上記第1金属化合物および第2金属化合物として金属錯体を用いる場合は、上述した低級アルコール、トルエン、およびこれらの混合溶媒を挙げることができる。
本工程に用いられる混合酸化物層形成用塗工液には、上記第1金属化合物および第2金属化合物以外に任意の添加剤が含有されていてもよい。このような任意の添加剤としては、例えば、酸化剤、還元剤、補助イオン源や界面活性剤等を挙げることができる。
上記還元剤は、分解反応により電子を放出し、水の電気分解によって水酸化物イオンを発生させ、混合酸化物層形成用塗工液のpHを上げる性質を有するものである。このような還元剤を混合酸化物層形成用塗工液に含ませることにより、本工程において混合酸化物層を形成しやすい環境にすることができる。
次に、本工程において混合酸化物層形成用塗工液と上記多孔質層とを接触させる方法について説明する。本工程において混合酸化物層形成用塗工液と上記多孔質層とを接触させる方法としては、上記多孔質層上に混合酸化物層形成用塗工液を均一に接触させることができる方法であれば特に限定されるものではないが、なかでも上記混合酸化物層形成用塗工液と上記多孔質層とが接触する際に、加熱された多孔質層の温度を低下させない方法であることが好ましい。多孔質層の温度が低下すると所望の混合酸化物層を得ることができない可能性があるからである。
次に、本発明に用いられる多孔質層形成工程について説明する。本工程は、耐熱基板を用い、上記耐熱基板上に第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層を形成する工程である。
以下、このような方法で多孔質層を形成する方法について詳細に説明する。
まず、上記多孔質層形成用層形成工程について説明する。本工程は耐熱基板を用い、上記耐熱基板上に金属酸化物半導体微粒子および樹脂を含有する多孔質層形成用層を形成する工程である。
本工程に用いられる耐熱基板としては、後述する焼成工程における焼成温度に対する耐熱性を有するものであれば特に限定されない。このような耐熱基板としては、上記「A.酸化物半導体電極用積層体」の項において説明したものと同様のものを用いることができる。
本工程に用いられる多孔質層形成用塗工液は、少なくとも金属酸化物半導体微粒子と、樹脂とを含有するものである。ここで、上記金属酸化物半導体微粒子については、上記「A.酸化物半導体電極用積層体」の項において説明したものと同様であるため、ここで説明は省略する。
次に、上記多孔質層形成用塗工液を上記耐熱基板上に塗布する方法について説明する。本工程に用いられる塗布方法としては膜厚が均一で、平面性に優れた塗膜を形成できる方法であれば特に限定されない。このような方法としては、例えば、ダイコート、グラビアコート、グラビアリバースコート、ロールコート、リバースロールコート、バーコート、ブレードコート、ナイフコート、エアナイフコート、スロットダイコート、スライドダイコート、ディップコート、マイクロバーコート、マイクロバーリバースコート、オフセットコート、スクリーン印刷(ロータリー方式)等を挙げることができる。
次に、上記焼成工程について説明する。本工程は上記多孔質層形成工程によって形成された多孔質層形成用層を焼成することにより多孔質体である多孔質層にする工程である。
本工程においては、上記多孔質層形成用層形成工程を、耐熱基板上に介在層形成用層を形成する介在層形成用層形成工程と、上記介在層形成用層上に酸化物半導体層形成用層を形成する酸化物半導体層形成用層形成工程と、上記介在層形成用層および上記酸化物半導体層形成用層を焼成して、多孔質である介在層および酸化物半導体層からなる多孔質層を形成する焼成工程とを用いることにより、本工程により形成される多孔質層を酸化物半導体層および介在層の2層からなる構成を有するものとすることができる。
次に、本発明に用いられる第1電極層形成工程について説明する。本工程は、上記混合酸化物層形成工程によって形成された混合酸化物層上に、第2金属酸化物からなる第1電極層を形成する工程である。
次に、本発明の酸化物半導体電極の製造方法について説明する。本発明の酸化物半導体電極の製造方法は、耐熱基板を用い、上記耐熱基板上に第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層を形成する多孔質層形成工程と、上記多孔質層上に、上記第1金属酸化物と、第2金属酸化物とを含有する混合酸化物層を形成する混合酸化物層形成工程と、上記混合酸化物層上に、第2金属酸化物からなる第1電極層を形成する第1電極層形成工程と、上記第1電極層上に基材を接着する基材接着工程と、上記耐熱基板を上記多孔質層から剥離する耐熱基板剥離工程と、を有することを特徴とするものである。
以下、本発明に用いられる各工程について順に説明する。
まず、本発明に用いられる基材接着工程について説明する。本工程は、上記第1電極層形成工程によって形成された第1電極層上に基材を接着する工程である。
なお、このような方法によって上記第1電極層と基材とを接着した場合、本発明によって製造される酸化物半導体電極は、基材と、第1電極層との間に接着層が形成された構成を有するものになる。
次に、本発明に用いられる耐熱基板剥離工程について説明する。本工程は上記基材接着工程の後、多孔質層上に接着された耐熱基板を、上記多孔質層から剥離する工程である。
(1)多孔質層形成用層の作製
介在層形成用塗工液として一次粒径20nmのTiO2微粒子(日本アエロジル社製P25)1質量%、主成分がポリメチルメタクリレートであるアクリル樹脂(分子量25000、ガラス転移温度105℃)(三菱レーヨン社製BR87)10質量%となるようにホモジナイザーを用いてメチルエチルケトンおよびトルエンにアクリル樹脂を溶解させた後、TiO2微粒子を分散させることにより介在層形成用塗工液を調整した。当該塗工液を耐熱基材として用意した青板ガラス上にワイヤーバーにて塗工し乾燥させた。
次に、酸化物半導体層形成用塗工液としてSolaronix SA社製Ti Nanoxide Dを準備し、剥離層形成用層上にドクターブレード(5mil)にて塗布した。室温下にて20分放置した後、100℃で30分間乾燥させた。
その後、電気マッフル炉(デンケン社製P90)を用い500℃、30分間、大気圧雰囲気下にて焼成した。これにより、介在層と酸化物半導体層とが積層された構成を有する多孔質層を形成した。
次に、多孔質層上に、エタノールに塩化インジウム0.1mol/L、塩化スズ0.005mol/L、チタンアセチルアセトナート0.1mol/Lを溶解させることによって混合酸化物層形成用塗工液を調整した。上記多孔質層が形成された耐熱基板を、多孔質層を上向きにした状態でホットプレート(400℃)上へ設置して多孔質を加熱し、加熱された多孔質層上に、上記混合酸化物層形成用塗工液を超音波噴霧器によって噴霧し、透明電極である厚み100nmの混合酸化物層を形成した。
次に、エタノールに塩化インジウム0.1mol/L、塩化スズ0.005mol/Lを溶解した第1電極層形成用塗工液を調整し、当該塗工液を上記混合酸化物層上に、上述の溶液を超音波噴霧器により噴霧し、厚み500nmのITOからなる第1電極層を形成した。これにより酸化物半導体電極形成用転写体を得た。
対向基材としてPETフィルム(東洋紡A5100 厚み125μm)を用い、その表面にヒートシール剤(東洋紡 MD1985)を塗布、風乾させることより接着層を形成した。上記基材を、接着層が上記第1電極層に接するように上記酸化物半導体電極用積層体と120℃で貼り合せた。
次に、上記耐熱基板を物理的に剥離した。これらの工程によって酸化物半導体電極を得た。
色素増感剤としてルテニウム錯体(小島化学株式会社RuL2(NCS)2)を無水エタノール溶液に濃度3×10−4mol/Lとなるように溶解させることによって吸着用色素溶液を調整した。次に、当該吸着用色素溶液中に酸化物半導体電極を浸漬し、その後乾燥することによって上記多孔質層中に色素増感剤を担持させた。
メトキシアセトニトリルを溶媒とし、濃度0.1mol/Lのヨウ化リチウム、濃度0.05mol/Lのヨウ素、濃度0.3mol/Lのジメチルプロピルイミダゾリウムアイオダイド、濃度0.5mol/Lのターシャリーブチルピリジンを溶解させたものを電解質層形成用塗工液とした。次に、上記酸化物半導体電極の多孔質層を1cm×1cmにトリミングした後、対電極基材を厚さ20μmのサーリンによって貼り合せ、その間に電解質層形成用塗工液を含浸させることによって色素増感型太陽電池を作製した。上記対電極基材としては、膜厚150nmを有し、表面抵抗7Ω/□である、ITOスパッタ層を有する対向基材上に膜厚50nmの白金膜をスパッタリングにて付与したものを用いた。
作製した色素増感型太陽電池の評価は、AM1.5、擬似太陽光(入射光強度100mW/cm2)を光源として、色素吸着させた酸化物半導体層を有する基材側から入射させ、ソースメジャーユニット(ケースレー2400型)にて電圧印加により電流電圧特性を測定した。その結果、短絡電流14、5mA/cm2、開放電圧710mV、変換効率6.8%であった。また、密着性評価するためにφ8mmのマンドレル試験機により100回屈曲試験を行ったが、先述の素子性能に変化はなかった。
混合酸化物層を形成しなかったこと以外は実施例1と同様の方法により色素増感型太陽電池を作成した。
作製した色素増感型太陽電池の評価は、AM1.5、擬似太陽光(入射光強度100mW/cm2)を光源として、色素吸着させた酸化物半導体層を有する基材側から入射させ、ソースメジャーユニット(ケースレー2400型)にて電圧印加により電流電圧特性を測定した。その結果、短絡電流13、8mA/cm2、開放電圧700mV、変換効率6.0%であった。また、密着性評価するためにφ8mmのマンドレル試験機により100回屈曲試験を行ったところ、第1電極層から多孔質層が剥離することにより素子性能が著しく低下し、短絡電流1.8mA/cm2、開放電圧120mV、変換効率0.1%となった。
2 … 多孔質層
3 … 混合酸化物層
4 … 第1電極層
5 … 基材
6 … 接着層
10 … 酸化物半導体電極用積層体
11,11’ … 酸化物半導体電極
20,20’ … 色素増感型太陽電池
21 … 対電極基材
21a … 対向基材
21b … 第2電極層
22 … 電解質層
23 … シール材
24 … 配線
Claims (6)
- 耐熱基板と、前記耐熱基板上に形成され、第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層と、前記多孔質層上に形成され、第2金属酸化物からなる第1電極層と、を有する酸化物半導体電極用積層体であって、
前記多孔質層と前記第1電極層との間に、前記第1金属酸化物および前記第2金属酸化物を含有する単層からなる混合酸化物層が形成されており、
前記混合酸化物層が緻密な層であり、
前記多孔質層および前記第1電極層が前記混合酸化物層に接するように形成されており、
前記混合酸化物層の前記多孔質層との前記混合酸化物層側の界面付近において前記第1金属酸化物の含有比が高く、かつ、前記第1電極層との前記混合酸化物層側の界面付近において前記第2金属酸化物の含有比が高いことを特徴とする、酸化物半導体電極用積層体。 - 基材と、前記基材上に形成され、第2金属酸化物からなる第1電極層と、前記第1電極層上に形成され、第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含む多孔質層と、を有する酸化物半導体電極であって、
前記多孔質層と前記第1電極層との間に、前記第1金属酸化物および前記第2金属酸化物を含有する単層からなる混合酸化物層が形成されており、
前記混合酸化物層が緻密な層であり、
前記多孔質層および前記第1電極層が前記混合酸化物層に接するように形成されており、
前記混合酸化物層の前記多孔質層との前記混合酸化物層側の界面付近において前記第1金属酸化物の含有比が高く、かつ、前記第1電極層との前記混合酸化物層側の界面付近において前記第2金属酸化物の含有比が高いことを特徴とする、酸化物半導体電極。 - 前記基材と、前記第1電極層との間に接着性樹脂を含む接着層が形成されていることを特徴とする、請求項2に記載の酸化物半導体電極。
- 請求項2または請求項3に記載の酸化物半導体電極、および、対向基材と、前記対向基材上に形成され、金属酸化物からなる第2電極層とを有する対電極基材が、前記多孔質層と、前記第2電極層とが対向するように配置されており、前記酸化物半導体電極と、前記対電極基材との間に酸化還元対を含む電解質層が形成された構成を有することを特徴とする、色素増感型太陽電池。
- 耐熱基板を用い、前記耐熱基板上に第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層を形成する多孔質層形成工程と、
前記多孔質層上に、前記第1金属酸化物と、第2金属酸化物とを含有する単層からなる混合酸化物層を形成する混合酸化物層形成工程と、
前記混合酸化物層上に、前記第2金属酸化物からなる第1電極層を形成する第1電極層形成工程と、を有する酸化物半導体電極用積層体の製造方法であって、
前記混合酸化物層形成工程が、前記第1金属酸化物を構成する金属元素を有する第1金属化合物と、前記第2金属酸化物を構成する金属元素を有する第2金属化合物と、を含有する混合酸化物層形成用塗工液を用い、前記混合酸化物層の前記多孔質層との前記混合酸化物層側の界面付近において前記第1金属酸化物の含有比が高く、かつ、前記第1電極層との前記混合酸化物層側の界面付近において前記第2金属酸化物の含有比が高くなるように、スプレー熱分解法によって緻密な混合酸化物層を形成するものであることを特徴とする酸化物半導体電極用積層体の製造方法。 - 耐熱基板を用い、前記耐熱基板上に第1金属酸化物からなる金属酸化物半導体微粒子を含有する多孔質層を形成する多孔質層形成工程と、
前記多孔質層上に、前記第1金属酸化物と、第2金属酸化物とを含有する単層からなる混合酸化物層を形成する混合酸化物層形成工程と、
前記混合酸化物層上に、前記第2金属酸化物からなる第1電極層を形成する第1電極層形成工程と、
前記第1電極層上に、基材を接着する基材接着工程と、
前記耐熱基板を前記多孔質層から剥離する耐熱基板剥離工程と、を有する酸化物半導体電極の製造方法であって、
前記混合酸化物層形成工程が、前記第1金属酸化物を構成する金属元素を有する第1金属化合物と、前記第2金属酸化物を構成する金属元素を有する第2金属化合物と、を含有する混合酸化物層形成用塗工液を用い、前記混合酸化物層の前記多孔質層との前記混合酸化物層側の界面付近において前記第1金属酸化物の含有比が高く、かつ、前記第1電極層との前記混合酸化物層側の界面付近において前記第2金属酸化物の含有比が高くなるように、スプレー熱分解法によって緻密な混合酸化物層を形成するものであることを特徴とする酸化物半導体電極の製造方法。
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