JP5211415B2 - Glass - Google Patents

Description

本発明は、磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体、バンドパスフィルタ等の光回路部品、等の基板などに用いられるガラスに関する。  The present invention relates to glass used for substrates such as information recording media such as magnetic disks and optical disks, optical circuit components such as bandpass filters, and the like.

従来、情報記録媒体用基板、たとえば磁気ディスク（ハードディスク）用基板の材料としては、アルミニウム、ガラス、セラミックス、カーボンなどが知られている。現在では、サイズや用途に応じて主にアルミニウムおよびガラスが実用化されている。なかでもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れているため、その使用範囲が拡大している。  Conventionally, aluminum, glass, ceramics, carbon and the like are known as materials for information recording medium substrates, for example, magnetic disk (hard disk) substrates. Currently, aluminum and glass are mainly put into practical use according to size and application. Among them, the glass substrate is excellent in surface smoothness and mechanical strength, and thus its use range is expanded.

このような基板に従来使用されているガラスとして、モル％表示の組成が、ＳｉＯ₂：６５．３％、Ａｌ₂Ｏ₃：８．６％、ＺｒＯ₂：３．５％、Ｌｉ₂Ｏ：１２．５％、Ｎａ₂Ｏ：１０．１％、であるガラス（以下「従来ガラス」という。）が例示される。As glass conventionally used for such a substrate, the composition in terms of mol% is SiO ₂ : 65.3%, Al ₂ O ₃ : 8.6%, ZrO ₂ : 3.5%, Li ₂ O: An example of the glass is 12.5% and Na ₂ O: 10.1% (hereinafter referred to as “conventional glass”).

一方、情報記録媒体用基板のたわみや反りの問題を解決するために、高ヤング率のガラスが求められている。このような問題を解決するガラスとして、特開平１０−８１５４２号公報には、ヤング率が１００ＧＰａ以上であるガラスが開示されている。  On the other hand, a glass having a high Young's modulus is required in order to solve the problem of bending and warping of the information recording medium substrate. As a glass for solving such a problem, JP-A-10-81542 discloses a glass having a Young's modulus of 100 GPa or more.

また、バンドパスフィルタ等の光回路部品においては、ガラスまたは結晶化ガラスからなる基板が用いられている。たとえば、光回路の分波用または合波用バンドパスフィルタには、結晶化ガラス基板に種々のセラミックス薄膜またはガラス薄膜を積層したものが用いられてきている。このような基板用の結晶化ガラスとして、モル％表示の組成が、ＳｉＯ₂：７４．５％、Ａｌ₂Ｏ₃：３．８％、ＭｇＯ：１．１％、ＣａＯ：０．１％、ＺｎＯ：０．４％、ＺｒＯ₂：０．６％、Ｌｉ₂Ｏ：１８．１％、Ｎａ₂Ｏ：０．１％、Ｋ₂Ｏ：１．２％、Ｐ₂Ｏ₅：０．１％、である結晶化ガラス（以下「従来結晶化ガラス」という。）が例示される。この従来結晶化ガラスには、Ｌｉ₂Ｏ・２ＳｉＯ₂等の結晶が析出している。In optical circuit components such as bandpass filters, substrates made of glass or crystallized glass are used. For example, a bandpass filter for demultiplexing or multiplexing optical circuits has been used in which various ceramic thin films or glass thin films are laminated on a crystallized glass substrate. As a crystallized glass for such a substrate, the composition expressed in mol% is SiO ₂ : 74.5%, Al ₂ O ₃ : 3.8%, MgO: 1.1%, CaO: 0.1%, ZnO: 0.4%, ZrO ₂ : 0.6%, Li ₂ O: 18.1%, Na ₂ O: 0.1%, K ₂ O: 1.2%, P ₂ O ₅ : 0.1 % Of crystallized glass (hereinafter referred to as “conventional crystallized glass”). In this conventional crystallized glass, crystals such as Li ₂ O.2SiO ₂ are precipitated.

発明が解決しようとする課題Problems to be solved by the invention

磁気ディスクには多くの金属材料が用いられており、ガラス基板とその周囲で用いられる金属材料の膨張係数マッチングが重要である。たとえば、ガラス基板を固定しているクランプはステンレス鋼等の金属である。このガラス基板は磁気ディスク使用時には高速で回転し、その際、駆動モータ等の発熱によってクランプの温度は９０℃またはそれ以上に上昇する。  Many metal materials are used for the magnetic disk, and it is important to match the expansion coefficient between the glass substrate and the metal material used around it. For example, the clamp that fixes the glass substrate is a metal such as stainless steel. The glass substrate rotates at a high speed when the magnetic disk is used. At this time, the temperature of the clamp rises to 90 ° C. or higher due to heat generated by the drive motor or the like.

クランプとガラス基板の膨張係数の差が大きいほど、このクランプの温度上昇により次のような問題が生じる可能性が高くなる。すなわち、クランプによるガラス基板の固定が緩んだり、またはガラス基板に歪みやたわみが生じ、その結果、データ記録箇所の位置ずれが起って書き込みエラーまたは読み込みエラーが生じる。なお、金属材料の５０〜３５０℃における平均線膨張係数αは、典型的には１１０×１０^-7／℃程度である。The greater the difference between the expansion coefficient of the clamp and the glass substrate, the higher the possibility that the following problem will occur due to the temperature rise of the clamp. That is, the fixing of the glass substrate by the clamp is loosened, or the glass substrate is distorted or bent, and as a result, the position of the data recording position is shifted, resulting in a writing error or a reading error. The average linear expansion coefficient α of the metal material at 50 to 350 ° C. is typically about 110 × 10 ⁻⁷ / ° C.

また、磁気ディスクのたわみや反りの問題を解決するために、基板に用いられるガラスのヤング率が高いことが求められている。
前記従来ガラスのαは８７×１０^-7／℃であり、前記膨張係数マッチングの問題の解決が図られているが、ヤング率は８３ＧＰａであり磁気ディスク用ガラス基板としては決して高くはない。Further, in order to solve the problems of deflection and warpage of the magnetic disk, it is required that the glass used for the substrate has a high Young's modulus.
The α of the conventional glass is 87 × 10 ⁻⁷ / ° C., and the problem of the expansion coefficient matching is solved, but the Young's modulus is 83 GPa, which is not high as a glass substrate for a magnetic disk.

また、表面に積層薄膜が形成されている光回路部品用基板においても、基板とその積層薄膜との膨張係数マッチングが重要である。たとえば、該光回路部品を通過した光の中心波長（典型的には１５３０〜１５６０ｎｍ）の温度依存性を０．００３ｎｍ／℃以下にするためには、基板のαは８０×１０^-7／℃以上であることが求められる。また、基板は研磨加工されるので高強度したがって高ヤング率であることが求められている。Also, in an optical circuit component substrate having a laminated thin film formed on the surface, matching of expansion coefficients between the substrate and the laminated thin film is important. For example, in order to make the temperature dependence of the central wavelength (typically 1530 to 1560 nm) of the light that has passed through the optical circuit component 0.003 nm / ° C. or less, α of the substrate is 80 × 10 ⁻⁷ / ° C. That is required. Further, since the substrate is polished, it is required to have high strength and therefore high Young's modulus.

前記従来結晶化ガラスのαは８７×１０^-7／℃であり、またそのヤング率は９４ＧＰａであって比較的高いが、結晶化工程が必須であり、したがって製造工程がガラス基板に比べて多い問題がある。
本発明は、以上の課題を解決する、高ヤング率かつ高膨張係数のガラス、情報記録媒体基板および光回路部品基板の提供を目的とする。The α of the conventional crystallized glass is 87 × 10 ⁻⁷ / ° C., and its Young's modulus is 94 GPa, which is relatively high. However, the crystallization process is essential, and therefore the number of manufacturing processes is larger than that of the glass substrate. There's a problem.
An object of the present invention is to provide a glass having a high Young's modulus and a high expansion coefficient, an information recording medium substrate, and an optical circuit component substrate that solve the above problems.

課題を解決するための手段Means for solving the problem

本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、

からなるガラスを提供する。The present invention is substantially expressed in terms of mol% based on the following oxide,

A glass comprising:

また、ＣａＯが０〜２０モル％である前記ガラスを提供する。
また、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの含有量の合計が１０モル％以上である前記ガラスを提供する。
また、ＢａＯが３〜３０モル％である前記ガラスを提供する。
また、Ｎａ₂Ｏが１〜３０モル％である前記ガラスを提供する。
また、ＳｉＯ₂が１〜４０モル％、かつ、ＴｉＯ₂が２５〜５０モル％である前記ガラスを提供する。
また、液相温度が１４００℃以下である前記ガラスを提供する。
また、ヤング率が８０ＧＰａ以上である前記ガラスを提供する。
また、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が８０×１０^-7／℃以上である 前記ガラスを提供する。Moreover, the said glass whose CaO is 0-20 mol% is provided.
Also, SrO, BaO, the total content of Na ₂ O and K ₂ O to provide the glass is 10 mol% or more.
Moreover, the said glass whose BaO is 3-30 mol% is provided.
Further, Na ₂ O to provide the glass from 1 to 30 mol%.
Further, SiO ₂ is 1 to 40 mol%, and, providing the glass TiO ₂ is 25 to 50 mol%.
Moreover, the said glass whose liquidus temperature is 1400 degrees C or less is provided.
Further, the glass having a Young's modulus of 80 GPa or more is provided.
Moreover, the said glass whose average linear expansion coefficient in 50-350 degreeC is 80x10 < ^-7 > / degreeC or more is provided.

また、本発明は、前記ガラスであって基板用のガラスを提供する。
また、前記基板用のガラスであって、該基板用のガラスからなるガラス基板を１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ²以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０⁵個／ｃｍ²以下である基板用のガラスを提供する。In addition, the present invention provides the glass for a substrate.
In addition, the number of deposits having a size of 10 μm or more present on the surface of the glass for the substrate when the glass substrate made of the glass for a substrate is held in a steam atmosphere at 120 ° C. and 2 atm for 20 hours. Is 1 piece / cm ² or less, and the number of deposits having a size of 1 μm or more and less than 10 μm is 10 ⁵ pieces / cm ² or less.

また、前記基板用のガラスからなる情報記録媒体基板を提供する。
また、前記基板用のガラスからなる光回路部品基板を提供する（本発明の第１の光回路部品基板）。
また、前記ガラスであって光学レンズ用のガラスを提供する。Also provided is an information recording medium substrate made of glass for the substrate.
In addition, an optical circuit component substrate made of glass for the substrate is provided (first optical circuit component substrate of the present invention).
Moreover, the glass for optical lenses is provided.

また、ヤング率が１００ＧＰａ以上であり、かつ、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が９０×１０^-7／℃以上であるガラスからなる光回路部品基板を提供する（本発明の第２の光回路部品基板）。
また、前記本発明の第２の光回路部品基板であって、前記ガラスからなるガラス板を１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ²以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０⁵個／ｃｍ²以下である光回路部品基板を提供する。Also provided is an optical circuit component substrate made of glass having a Young's modulus of 100 GPa or more and an average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C. of 90 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more (second light of the present invention) Circuit component board).
Further, the second optical circuit component substrate of the present invention, wherein the glass plate made of the glass is present on the surface when held in a steam atmosphere at 120 ° C. and 2 atm for 20 hours, the size is 10 μm or more There are provided optical circuit component substrates in which the number of deposits is 1 / cm ² or less and the number of deposits having a size of 1 μm or more and less than 10 μm is 10 ⁵ / cm ² or less.

本発明者は、ＳｉＯ₂含有量が２５モル％超であるケイ酸塩ガラスにおいて高ヤング率および高膨張係数を同時に満たすことが困難であるのは、ケイ酸塩ガラスまたはケイ酸塩結晶化ガラスのガラス構造に由来することを見出し、本発明に至った。It is difficult for the inventor to satisfy the high Young's modulus and the high expansion coefficient at the same time in the silicate glass having a SiO ₂ content of more than 25 mol%. As a result, the present invention was found.

本発明のガラスは基板に好適に用いられる。以下では、本発明のガラスであって基板に用いられるガラス、すなわち本発明のガラスであって基板用のガラス（以下本発明の基板用ガラスという。）を例にとって説明する。  The glass of the present invention is suitably used for a substrate. Hereinafter, the glass of the present invention and used for a substrate, that is, the glass of the present invention and a glass for a substrate (hereinafter referred to as the glass for a substrate of the present invention) will be described as an example.

本発明の基板用ガラスは、所望の寸法に切断されたガラス板、すなわちガラス基板に用いられる。前記ガラス板は必要に応じて研磨される、または前記切断前に研磨される。  The glass for a substrate of the present invention is used for a glass plate cut into a desired size, that is, a glass substrate. The glass plate is polished as necessary, or polished before the cutting.

本発明の基板用ガラスの液相温度Ｔ_Lは１４００℃以下であることが好ましい。１４００℃超ではガラス製造時に失透するおそれがある。より好ましくは１３５０℃以下、特に好ましくは１３００℃以下、最も好ましくは１２５０℃以下である。The liquidus temperature _TL of the glass for a substrate of the present invention is preferably 1400 ° C. or lower. If it exceeds 1400 ° C, there is a risk of devitrification during glass production. More preferably, it is 1350 degrees C or less, Most preferably, it is 1300 degrees C or less, Most preferably, it is 1250 degrees C or less.

本発明の基板用ガラスのヤング率Ｅは８０ＧＰａ以上であることが好ましい。８０ＧＰａ未満では、基板がたわんだり反ったりするおそれがある、または基板の強度が低くなりすぎるおそれがある。より好ましくは９０ＧＰａ以上、さらに好ましくは１００ＧＰａ以上、特に好ましくは１０５ＧＰａ以上、最も好ましくは１１０ＧＰａ以上である。情報記録媒体基板として用いる場合は１００ＧＰａ以上であることが好ましい。また、Ｅは１５０ＧＰａ以下であることが好ましい。１５０ＧＰａ超ではガラス研磨が困難になるおそれがある。より好ましくは１４０ＧＰａ以下、特に好ましくは１３０ＧＰａ以下である。  The Young's modulus E of the glass for a substrate of the present invention is preferably 80 GPa or more. If it is less than 80 GPa, the substrate may bend or warp, or the strength of the substrate may be too low. More preferably, it is 90 GPa or more, More preferably, it is 100 GPa or more, Especially preferably, it is 105 GPa or more, Most preferably, it is 110 GPa or more. When used as an information recording medium substrate, it is preferably 100 GPa or more. E is preferably 150 GPa or less. If it exceeds 150 GPa, glass polishing may be difficult. More preferably, it is 140 GPa or less, Especially preferably, it is 130 GPa or less.

本発明の基板用ガラスの５０〜３５０℃における平均線膨張係数αは８０×１０^-7／℃以上であることが好ましい。８０×１０^-7／℃未満では、磁気ディスクの金属製クランプ、バンドパスフィルタの積層薄膜、等との膨張係数マッチングが困難になるおそれがある。より好ましくは９０×１０^-7／℃以上、さらに好ましくは９５×１０^-7／℃以上、さらに好ましくは１００×１０^-7／℃以上、特に好ましくは１０５×１０^-7／℃以上、最も好ましくは１１０×１０^-7／℃以上である。The average linear expansion coefficient α at 50 to 350 ° C. of the glass for a substrate of the present invention is preferably 80 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more. If it is less than 80 × 10 ⁻⁷ / ° C., it may be difficult to perform expansion coefficient matching with a metal clamp of a magnetic disk, a laminated thin film of a bandpass filter, and the like. More preferably 90 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more, further preferably 95 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more, further preferably 100 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more, particularly preferably 105 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more, most preferably Is 110 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more.

本発明の基板用ガラスをバンドパスフィルタ等の光回路部品の基板として用いる場合、−３０〜＋７０℃における平均線膨張係数α’は９０×１０^-7／℃以上であることが好ましい。より好ましくは９５×１０^-7／℃以上、特に好ましくは１００×１０^-7／℃以上である。When the glass for a substrate of the present invention is used as a substrate for an optical circuit component such as a bandpass filter, the average linear expansion coefficient α ′ at −30 to + 70 ° C. is preferably 90 × 10 ⁻⁷ / ° C. or higher. More preferably, it is 95 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more, and particularly preferably 100 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more.

本発明の基板用ガラスは、本発明の基板用ガラスからなるガラス基板を１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数Ｎ_Lが１個／ｃｍ²以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数Ｎ_Sが１０⁵個／ｃｍ²以下であるものであることが好ましい。The glass for a substrate of the present invention is the number N _{L of} deposits having a size of 10 μm or more existing on the surface of a glass substrate made of the glass for a substrate of the present invention when held in a steam atmosphere at 120 ° C. and 2 atm for 20 hours. There is 1 / cm ² or less, it is preferable that the size is of adhering the number N _S of less than 10μm or 1μm is 10 ⁵ / cm ² or less.

Ｎ_Lが１個／ｃｍ²超またはＮ_Sが１０⁵個／ｃｍ²超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなる。この付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス基板に生成付着した反応生成物であると考えられ、拭いても除去できないものである。Ｎ_Lはより好ましくは０．５個／ｃｍ²以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ²以下である。Ｎ_Sはより好ましくは０．８×１０⁵個／ｃｍ²以下、特に好ましくは０．６×１０⁵個／ｃｍ²以下である。The N _L is 1 / cm ² or greater than N _S 10 ⁵ cells / cm ^2, greater than the base film which deposits on the surface of the glass substrate in the glass substrate stock (dimming) is generated, are formed on a glass substrate In addition, films such as magnetic films and protective films are easily peeled off. This deposit is considered to be a reaction product produced and adhered to the glass substrate due to the influence of moisture and carbon dioxide in the air, and cannot be removed by wiping. N _L is more preferably 0.5 piece / cm ² or less, particularly preferably 0.2 piece / cm ² or less. N _S is more preferably 0.8 × 10 ⁵ / cm ² or less, particularly preferably 0.6 × 10 ⁵ / cm ² or less.

本発明の基板用ガラスは、「ＪＩＳ Ｒ３５０２ ３．１ アルカリ溶出試験」に規定されている試験方法によって測定されたアルカリ溶出量Ｑ（Ｎａ₂Ｏｍｇ数換算）が０．９０ｍｇ以下であることが好ましい。０．９０ｍｇ超ではガラス基板上に形成される膜の性能が劣化する、または前記膜がはがれやすくなるおそれがある。より好ましくは０．８０ｍｇ以下である。The glass for a substrate of the present invention preferably has an alkali elution amount Q (Na ₂ Omg number conversion) measured by a test method specified in “JIS R3502 3.1 Alkaline Elution Test” of 0.90 mg or less. . If it exceeds 0.90 mg, the performance of the film formed on the glass substrate may be deteriorated or the film may be easily peeled off. More preferably, it is 0.80 mg or less.

本発明の基板用ガラスは、下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、

からなることが好ましい。The glass for a substrate of the present invention is substantially expressed in terms of mol% based on the following oxide,

Preferably it consists of.

下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、

からなり、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの含有量の合計が１２〜３０モル％であることがより好ましい。In terms of mol% based on the following oxide,

More preferably, the total content of SrO, BaO, Na ₂ O and K ₂ O is 12 to 30 mol%.

次に、本発明の基板用ガラスの組成について、モル％を単に％と表示して説明する。
ＳｉＯ₂はガラスを安定化させ、またＴ_Lを低下させる成分であり、必須である。４５％超ではＥおよび／またはαが小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは４０％以下、より好ましくは３８％以下、特に好ましくは３４％以下である。１％未満ではガラスが不安定になる、またはＴ_Lが高くなりすぎる。好ましくは１０％以上、より好ましくは２０％以上である。光回路部品基板に用いる場合、特に好ましくは２５％以上、最も好ましくは２７％以上である。Next, the composition of the glass for a substrate of the present invention will be described by simply indicating mol% as%.
SiO ₂ is an essential component that stabilizes the glass and lowers _TL . If it exceeds 45%, E and / or α may be too small. It is preferably 40% or less, more preferably 38% or less, and particularly preferably 34% or less. If it is less than 1%, the glass becomes unstable or _TL becomes too high. Preferably it is 10% or more, more preferably 20% or more. When used for an optical circuit component substrate, it is particularly preferably 25% or more, most preferably 27% or more.

ＴｉＯ₂はＥを大きくし、また化学的耐久性を高くする成分であり、必須である。５０％超ではＴ_Lが高くなりすぎる。好ましくは４５％以下、より好ましくは４２％以下である。２０％未満では、Ｅが小さくなりすぎる、または化学的耐久性が低下する。好ましくは２３％以上、より好ましくは２５％以上、特に好ましくは２８％以上である。
ＳｉＯ₂が１〜４０モル％、かつ、ＴｉＯ₂が２５〜５０モル％であることが、特に光回路部品基板に用いる場合、好ましい。TiO ₂ is a component that increases E and increases chemical durability, and is essential. If it exceeds 50%, T _L becomes too high. Preferably it is 45% or less, More preferably, it is 42% or less. If it is less than 20%, E becomes too small, or chemical durability decreases. It is preferably 23% or more, more preferably 25% or more, and particularly preferably 28% or more.
SiO ₂ is 1 to 40 mol%, and that TiO ₂ is 25 to 50 mol%, in particular when used in optical circuit component substrate, preferred.

Ｂ₂Ｏ₃は必須ではないが、ガラスを安定化させるために、またはＴ_Lを低下させるために３０％まで含有してもよい。３０％超ではＥおよび／またはαが小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下、最も好ましくは５％以下である。Ｂ₂Ｏ₃を含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。なお、化学的耐久性をより向上させたい場合はＢ₂Ｏ₃を含有しないことが好ましい。B ₂ O ₃ is not essential, but may be contained up to 30% in order to stabilize the glass or lower T _L. If it exceeds 30%, E and / or α may be too small. It is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, particularly preferably 10% or less, and most preferably 5% or less. When B ₂ O ₃ is contained, the content is preferably 1% or more. More preferably, it is 3% or more, and particularly preferably 5% or more. In order to further improve the chemical durability, it is preferable not to contain B ₂ O ₃ .

Ａｌ₂Ｏ₃は必須ではないが、ガラスを安定化させるために、またはＴ_Lを低下させるために２０％まで含有してもよい。２０％超ではかえってＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある、または、αまたはα’が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下である。Ａｌ₂Ｏ₃を含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。αまたはα’をより高くしたい場合はＡｌ₂Ｏ₃を含有しないことが好ましい。Al ₂ O ₃ is not essential, but may be contained up to 20% in order to stabilize the glass or to lower _TL . If it exceeds 20%, _TL may be too high, or α or α ′ may be too small. Preferably it is 15% or less, More preferably, it is 10% or less, Most preferably, it is 5% or less. When Al ₂ O ₃ is contained, the content is preferably 1% or more. More preferably, it is 3% or more, and particularly preferably 5% or more. In order to make α or α ′ higher, it is preferable not to contain Al ₂ O ₃ .

ＭｇＯは必須ではないが、Ｅを大きくするために、またはＴ_Lを低下させるために、２０％まで含有してもよい。２０％超ではかえってＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下である。ＭｇＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。MgO is not essential, but may be contained up to 20% in order to increase E or decrease _TL . If it exceeds 20%, _TL may be too high. Preferably it is 15% or less, More preferably, it is 10% or less. When MgO is contained, the content is preferably 1% or more. More preferably, it is 2% or more, and particularly preferably 3% or more.

ＣａＯは必須ではないが、ガラスを安定化させために、またはＴ_Lを低下させるために３０％まで含有してもよい。３０％超ではかえってＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下である。ＣａＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。CaO is not essential, but may be contained up to 30% in order to stabilize the glass or reduce _TL . If it exceeds 30%, _TL may be too high. It is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, and particularly preferably 10% or less. When CaO is contained, the content is preferably 1% or more. More preferably, it is 3% or more, and particularly preferably 5% or more.

ＳｒＯは必須ではないが、溶融ガラスの粘度を小さくするために、またはＴ_Lを低下させるために、２０％まで含有してもよい。２０％超ではかえってＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下である。ＳｒＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。SrO is not essential, but may be contained up to 20% in order to reduce the viscosity of the molten glass or to reduce _TL . If it exceeds 20%, _TL may be too high. Preferably it is 15% or less, More preferably, it is 10% or less. When SrO is contained, the content is preferably 1% or more. More preferably, it is 3% or more, and particularly preferably 5% or more.

ＢａＯは必須ではないが、ガラスを安定化させるために、αまたはα’を高くするために、またはＴ_Lを低下させるために３０％まで含有してもよい。３０％超ではＥが小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは２５％以下、より好ましくは２０％以下、特に好ましくは１６％以下である。ＢａＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。BaO is not essential, but may be contained up to 30% in order to stabilize the glass, increase α or α ′, or decrease _TL . If it exceeds 30%, E may be too small. Preferably it is 25% or less, more preferably 20% or less, particularly preferably 16% or less. When BaO is contained, the content is preferably 1% or more. More preferably, it is 3% or more, and particularly preferably 5% or more.

ＺｎＯは必須ではないが、Ｅを大きくするために、またはＴ_Lを低下させるために、２０％まで含有してもよい。２０％超ではかえってＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下である。ＺｎＯを含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。ZnO is not essential, but may be contained up to 20% in order to increase E or decrease T _L. If it exceeds 20%, _TL may be too high. Preferably it is 15% or less, More preferably, it is 10% or less, Most preferably, it is 5% or less. When it contains ZnO, it is preferable that the content is 0.1% or more. More preferably, it is 2% or more, and particularly preferably 3% or more.

ＺｒＯ₂は必須ではないが、ガラスを安定化させるために、またはＥを大きくするために、２０％まで含有してもよい。２０％超ではＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％以下である。ＺｒＯ₂を含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。より好ましくは１％以上、特に好ましくは２％以上である。ZrO ₂ is not essential, but may be contained up to 20% in order to stabilize the glass or increase E. If it exceeds 20%, T _L may be too high. Preferably it is 15% or less, More preferably, it is 10% or less, Most preferably, it is 8% or less. When ZrO ₂ is contained, the content is preferably 0.1% or more. More preferably, it is 1% or more, and particularly preferably 2% or more.

ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂の含有量の合計は、光回路部品基板に用いる場合、３０％以上であることが好ましい。３０％未満ではＥが小さくなりすぎるおそれがある。より好ましくは３２％以上である。The total content of TiO ₂ and ZrO ₂ is preferably 30% or more when used for an optical circuit component substrate. If it is less than 30%, E may be too small. More preferably, it is 32% or more.

Ｌｉ₂Ｏは必須ではないが、溶融ガラスの粘度を小さくするために、またはＥを大きくするために、または、αまたはα’を大きくするために、１５％まで含有してもよい。１５％超では分相するおそれがある、またはＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、特に好ましくは５％以下である。Ｌｉ₂Ｏを含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。より好ましくは１％以上、特に好ましくは２％以上である。Ｔ_Lをより低下させたい場合はＬｉ₂Ｏを含有しないことが好ましい。Li ₂ O is not essential, but may be contained up to 15% in order to reduce the viscosity of the molten glass, to increase E, or to increase α or α ′. If it exceeds 15%, phase separation may occur, or _TL may become too high. Preferably it is 10% or less, More preferably, it is 8% or less, Most preferably, it is 5% or less. When Li ₂ O is contained, the content is preferably 0.1% or more. More preferably, it is 1% or more, and particularly preferably 2% or more. When it is desired to further reduce _TL , it is preferable not to contain Li ₂ O.

Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏはいずれも必須ではないが、ガラスを安定化させるために、αまたはα’を大きくするために、またはＴ_Lを低下させるために、それぞれ３０％まで含有してもよい。３０％超ではＥが小さくなりすぎるおそれがある。好ましくはそれぞれ２５％以下、より好ましくはそれぞれ２０％以下、特に好ましくはそれぞれ１６％以下である。Ｅを高くしたい場合、Ｋ₂Ｏ含有量は好ましくは１１％以下、より好ましくは８％以下である。Ｎａ₂Ｏを含有する場合、またはＫ₂Ｏを含有する場合、それぞれの含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上である。なお、Ｔ_Lをより低下させたい場合はＮａ₂Ｏを含有することが好ましく、その含有量を１〜３０％とすることがより好ましい。Both Na ₂ O and K ₂ O are not essential, but may be added up to 30% in order to stabilize the glass, increase α or α ′, or decrease _TL , respectively. Good. If it exceeds 30%, E may be too small. Each is preferably 25% or less, more preferably 20% or less, and particularly preferably 16% or less. When it is desired to increase E, the K ₂ O content is preferably 11% or less, more preferably 8% or less. When Na ₂ O is contained or when K ₂ O is contained, each content is preferably 1% or more. More preferably, it is 3% or more, and particularly preferably 4% or more. In addition, when it is desired to further reduce _TL , it is preferable to contain Na ₂ O, and the content is more preferably 1 to 30%.

ＢａＯおよびＮａ₂Ｏの含有量の合計は、光回路部品基板に用いる場合、１５％以上であることが好ましい。１５％未満ではαまたはα’が小さくなりすぎるおそれがある。より好ましくは１８％以上、特に好ましくは２０％以上、最も好ましくは２５％以上である。The total content of BaO and Na ₂ O is preferably 15% or more when used for an optical circuit component substrate. If it is less than 15%, α or α ′ may be too small. More preferably, it is 18% or more, particularly preferably 20% or more, and most preferably 25% or more.

ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの含有量の合計は１０％以上であることが好ましい。１０％未満では、溶融ガラスの粘度が大きくなりすぎるおそれがある、αまたはα’が小さくなりすぎるおそれがある、またはＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１２％以上、より好ましくは１５％以上、特に好ましくは１７％以上、最も好ましくは２０％以上である。また、前記含有量の合計は３０％以下であることが好ましい。より好ましくは２５％以下である。なお、光回路部品基板に用いる場合、前記含有量の合計は１７〜５０％であることが好ましい。より好ましくは２０〜４５％、特に好ましくは２５％〜４０％である。
本発明の基板用ガラスは実質的に上記成分からなるが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。前記その他成分の含有量の合計は２５モル％以下であることが好ましい。より好ましくは１５モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下である。The total content of SrO, BaO, Na ₂ O and K ₂ O is preferably 10% or more. If it is less than 10%, the viscosity of the molten glass may be too high, α or α ′ may be too small, or _TL may be too high. Preferably it is 12% or more, more preferably 15% or more, particularly preferably 17% or more, and most preferably 20% or more. The total content is preferably 30% or less. More preferably, it is 25% or less. In addition, when using for an optical circuit component board | substrate, it is preferable that the sum total of the said content is 17 to 50%. More preferably, it is 20 to 45%, and particularly preferably 25 to 40%.
The glass for a substrate of the present invention consists essentially of the above components, but may contain other components as long as the object of the present invention is not impaired. The total content of the other components is preferably 25 mol% or less. More preferably, it is 15 mol% or less, Most preferably, it is 10 mol% or less.

前記その他成分について以下に述べる。
Ｅを大きくするために、Ｖ₂Ｏ₅、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＭｎＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ₂Ｏ₃、ＧｅＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、ＣｅＯ₂、Ｐｒ₂Ｏ₃、Ｎｄ₂Ｏ₃、Ｐｍ₂Ｏ₃、Ｓｍ₂Ｏ₃、Ｅｕ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、Ｔｂ₂Ｏ₃、Ｄｙ₂Ｏ₃、Ｈｏ₂Ｏ₃、Ｅｒ₂Ｏ₃、Ｔｍ₂Ｏ₃、Ｙｂ₂Ｏ₃、ＨｆＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅およびＷＯ₃からなる群（以下この群を群Ａという。）から選ばれる１種以上の成分を含有してもよい。群Ａの成分の含有量の合計は２０モル％以下であることが好ましい。２０モル％超では、Ｔ_Lが高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは１５モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下、最も好ましくは３モル％以下である。また、群Ａの成分を含有する場合、それらの含有量の合計は０．１モル％以上であることが好ましい。より好ましくは１モル％以上、特に好ましくは２モル％以上である。The other components will be described below.
To increase E, V ₂ O ₅ , Cr ₂ O ₃ , MnO, Fe ₂ O ₃ , CoO, NiO, CuO, Ga ₂ O ₃ , GeO ₂ , Y ₂ O ₃ , Nb ₂ O ₅ , MoO ₃ La ₂ O ₃ , CeO ₂ , Pr ₂ O ₃ , Nd ₂ O ₃ , Pm ₂ O ₃ , Sm ₂ O ₃ , Eu ₂ O ₃ , Gd ₂ O ₃ , Tb ₂ O ₃ , Dy ₂ O ₃ , Ho One or more components selected from the group consisting of ₂ O ₃ , Er ₂ O ₃ , Tm ₂ O ₃ , Yb ₂ O ₃ , HfO ₂ , Ta ₂ O ₅ and WO ₃ (hereinafter this group is referred to as Group A). It may contain. The total content of Group A components is preferably 20 mol% or less. If it exceeds 20 mol%, _TL may be too high. More preferably, it is 15 mol% or less, Most preferably, it is 10 mol% or less, Most preferably, it is 3 mol% or less. Moreover, when it contains the component of group A, it is preferable that the sum total of those content is 0.1 mol% or more. More preferably, it is 1 mol% or more, Most preferably, it is 2 mol% or more.

ガラス溶解を促進するために、またはガラスを安定化させるために、Ｐ₂Ｏ₅、ＴｅＯ₂、ＰｂＯ、Ｂｉ₂Ｏ₃等を含有してもよい。これらの含有量の合計は１０モル％以下であることが好ましい。
ガラスの清澄促進のために、ＳＯ₃、Ａｓ₂Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₅等を含有してもよい。これらの含有量の合計は２モル％以下であることが好ましい。P ₂ O ₅ , TeO ₂ , PbO, Bi ₂ O _{3 and the} like may be contained in order to promote glass melting or stabilize the glass. The total of these contents is preferably 10 mol% or less.
In order to promote clarification of glass, SO ₃ , As ₂ O ₅ , Sb ₂ O _{5 and the} like may be contained. The total of these contents is preferably 2 mol% or less.

以上、本発明のガラスを本発明の基板用ガラスを用いて説明したが、本発明のガラスは基板用に限定されるわけではなく、その他の用途、たとえば光学レンズにも使用できる。
本発明の基板用ガラスは溶融後板状に成形され、その後、徐冷工程、切断工程を経てガラス基板とされる。本発明においては結晶化工程は不要である。As mentioned above, although the glass of this invention was demonstrated using the glass for substrates of this invention, the glass of this invention is not necessarily limited to board | substrate use, For example, it can be used also for an optical lens.
The glass for a substrate of the present invention is formed into a plate shape after being melted, and is then formed into a glass substrate through a slow cooling step and a cutting step. In the present invention, the crystallization step is unnecessary.

次に、本発明の情報記録媒体用基板および光回路部品用基板について説明する。
本発明の情報記録媒体基板は、本発明の基板用ガラスからなり、所望の寸法に切断されているガラス板であって、情報記録媒体の基板に用いられる。ここでいう情報記録媒体として、磁気ディスク、光ディスク等が例示される。Next, the information recording medium substrate and the optical circuit component substrate of the present invention will be described.
The information recording medium substrate of the present invention is a glass plate made of the glass for a substrate of the present invention and cut to a desired size, and is used as a substrate for an information recording medium. Examples of the information recording medium here include a magnetic disk and an optical disk.

本発明の第１の光回路部品基板は、本発明の基板用ガラスからなり、所望の寸法に切断されているガラス板であって、光回路部品の基板に用いられる。該本発明の基板用ガラスは、Ｅが８０ＧＰａ以上かつα’が１００×１０^-7／℃以上、または、Ｅが８０ＧＰａ以上かつαが１１５×１０^-7／℃以上であることが好ましい。ここでいう光回路部品として、高密度波長分割多重（ＤＷＤＭ）光通信システムで使用される光合波用／光分波用バンドパスフィルタ、利得平坦化フィルタ等が例示される。The first optical circuit component substrate of the present invention is a glass plate made of the substrate glass of the present invention and cut to a desired size, and is used as a substrate for an optical circuit component. The glass for a substrate of the present invention preferably has E of 80 GPa or more and α ′ of 100 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more, or E of 80 GPa or more and α of 115 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more. Examples of the optical circuit component herein include an optical multiplexing / demultiplexing band-pass filter and a gain flattening filter used in a high-density wavelength division multiplexing (DWDM) optical communication system.

本発明の第２の光回路部品基板は、Ｅが１００ＧＰａ以上であり、かつ、αが９０×１０^-7／℃以上であるガラスからなる。該ガラスのＮ_Lは１個／ｃｍ²以下であり、Ｎ_Sは１０⁵個／ｃｍ²以下であることが好ましい。このようなガラスとして本発明の基板用ガラスが例示される。
本発明の第１および第２の光回路部品基板の表面には、通常、積層薄膜が形成される。The second optical circuit component substrate of the present invention is made of glass having E of 100 GPa or more and α of 90 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more. N _L of the glass is preferably 1 piece / cm ² or less, and N _S is preferably 10 ⁵ pieces / cm ² or less. An example of such glass is the glass for a substrate of the present invention.
A laminated thin film is usually formed on the surfaces of the first and second optical circuit component substrates of the present invention.

次に、光学レンズ、特に金型を用いる加熱成形によって製造される光学レンズに用いる場合の本発明のガラスの好ましい態様について述べる。
αは１１０×１０^-7／℃以上であることが好ましい。１１０×１０^-7／℃未満では、超硬合金等の低膨張金属からなる金型を用いないかぎり、加熱成形後冷却されたガラスを金型から外すことが困難になる。なお、超硬合金等の低膨張金属には、精密加工が難しい、したがって金型の精度向上が困難という問題があり、前記金型には使用しないことが好ましい。より好ましくはαは１１５×１０^-7／℃以上である。Next, a preferred embodiment of the glass of the present invention when used for an optical lens, particularly an optical lens produced by heat molding using a mold will be described.
α is preferably 110 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more. If it is less than 110 × 10 ⁻⁷ / ° C., it is difficult to remove the glass cooled after the heat forming from the mold unless a mold made of a low expansion metal such as cemented carbide is used. Note that low expansion metals such as cemented carbide have a problem that precision machining is difficult, and therefore it is difficult to improve the precision of the mold, and it is preferable not to use the mold. More preferably, α is 115 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more.

ガラス転移点Ｔ_Gは５３０℃以下であることが好ましい。５３０℃超では加熱成形温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは５１０℃以下である。 波長５８７ｎｍでの屈折率ｎは１．７０以上であることが好ましい。１．７０未満ではレンズ設計が困難になるおそれがある。より好ましくは１．７５以上である。The glass transition point _TG is preferably 530 ° C. or lower. If it exceeds 530 ° C, the thermoforming temperature may be too high. More preferably, it is 510 degrees C or less. The refractive index n at a wavelength of 587 nm is preferably 1.70 or more. If it is less than 1.70, the lens design may be difficult. More preferably, it is 1.75 or more.

ＴｉＯ₂含有量およびＺｒＯ₂含有量は、ｎを大きくするためにそれぞれ２３モル％以上、１モル％以上とすることが好ましい。
ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂の含有量の合計は、ｎを大きくするために３０モル％以上とすることが好ましい。より好ましくは３５モル％以上である。The TiO ₂ content and the ZrO ₂ content are preferably 23 mol% or more and 1 mol% or more, respectively, in order to increase n.
The total content of TiO ₂ and ZrO ₂ is preferably 30 mol% or more in order to increase n. More preferably, it is 35 mol% or more.

Ｎａ₂ＯまたはＫ₂Ｏは、Ｔ_Gを低下させるために、少なくともいずれか一方を含有することが好ましい。この場合、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの含有量の合計は１０モル％以上であることが好ましい。より好ましくは１５モル％以上である。Na ₂ O or K ₂ O preferably contains at least one of them in order to lower _TG . In this case, the total content of Na ₂ O and K ₂ O is preferably 10 mol% or more. More preferably, it is 15 mol% or more.

表のＳｉＯ₂〜Ｙ₂Ｏ₃の欄にモル％表示で示した組成となるように原料を調合して白金るつぼに入れ、１４５０〜１６５０℃に加熱し３〜５時間溶融した。この際白金スターラにより２時間撹拌し溶融ガラスを均質化した。なお、ＳｒＢａＮａＫの欄にＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの含有量の合計を示す。The raw materials were prepared so as to have a composition expressed by mol% in the column of SiO _{2 to} Y ₂ O _{3 in} the table, put in a platinum crucible, heated to 1450 to 1650 ° C. and melted for 3 to 5 hours. At this time, the molten glass was homogenized by stirring with a platinum stirrer for 2 hours. Incidentally, it is shown SrO, BaO, the total content of Na ₂ O and K ₂ O in the column of SrBaNaK.

次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形後、徐冷を行った。例１〜５６は実施例、例５７および例５８は比較例である。なお、例５７は前記従来ガラス、例５８は特開平１０−８１５４２号公報に実施例３として開示されているガラスである。  Next, molten glass was poured out and formed into a plate shape, and then slowly cooled. Examples 1 to 56 are examples, and examples 57 and 58 are comparative examples. In addition, Example 57 is the said conventional glass, and Example 58 is the glass currently disclosed as Example 3 by Unexamined-Japanese-Patent No. 10-81542.

得られたガラスについて、密度ｄ（単位：ｇ／ｃｍ³）、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、５０〜３５０℃における平均線膨張係数α（単位：１０^-7／℃）、−３０〜＋７０℃における平均線膨張係数α’、液相温度Ｔ_L（単位：℃）、前記Ｎ_L（単位：個／ｃｍ²）およびＮ_S（単位：１０⁵個／ｃｍ²）を測定した。ｄ、Ｅ、α、α’、Ｔ_L、Ｎ_L、Ｎ_Sの測定方法は以下のとおりである。測定結果を表に示す。なお、表中の「−」は未測定であることを示す。About the obtained glass, density d (unit: g / cm ³ ), Young's modulus E (unit: GPa), average linear expansion coefficient α (unit: 10 ⁻⁷ / ° C.) at 50 to 350 ° C., −30 to +70 Average linear expansion coefficient α ′ at ° C., liquidus temperature T _L (unit: ° C.), N _L (unit: pieces / cm ² ) and N _S (unit: 10 ⁵ pieces / cm ² ) were measured. The measurement methods of d, E, α, α ′, T _L , N _L , and N _S are as follows. The measurement results are shown in the table. In addition, "-" in a table | surface shows having not measured.

ｄ：約２０ｇのガラスについて、アルキメデス法により測定した。ｄは３．９ｇ／ｃｍ³以下であることが好ましい。より好ましくは３．８ｇ／ｃｍ³以下である。
Ｅ：４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面が平行になるように研磨して、厚さを１０〜２０ｍｍとした試料について、超音波パルス法により測定した。d: About 20 g of glass was measured by Archimedes method. d is preferably 3.9 g / cm ³ or less. More preferably, it is 3.8 g / cm ³ or less.
E: It measured by the ultrasonic pulse method about the sample which grind | polished so that both surfaces of a 4 cm x 4 cm glass plate might become parallel, and made thickness 10-20 mm.

α、α’：直径５ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状に加工し、熱機械分析装置（リガク（株）製、商品名ＴＭＡ８１４０）を用いて５℃／分の昇温速度で測定し、５０〜３５０℃、−３０〜＋７０℃における平均線膨張係数を算出した。なお、例３６〜４６のαは組成から計算によって求めた。
Ｔ_L：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートの上に並べて置いた。この白金ボートを温度傾斜炉に入れて２４時間熱処理し、結晶が析出しているガラス粒が位置していた部分の温度の最高値を液相温度とした。α, α ′: processed into a cylindrical shape having a diameter of 5 mm and a length of 20 mm, and measured at a heating rate of 5 ° C./min using a thermomechanical analyzer (trade name TMA8140, manufactured by Rigaku Corporation) The average coefficient of linear expansion at 350 ° C. and −30 to + 70 ° C. was calculated. In addition, (alpha) of Examples 36-46 was calculated | required by calculation from the composition.
T _L : The glass was crushed into about 2 mm glass particles with a mortar, and the glass particles were placed side by side on a platinum boat. This platinum boat was put into a temperature gradient furnace and heat-treated for 24 hours, and the maximum value of the temperature of the portion where the glass grains where crystals were deposited was located was defined as the liquidus temperature.

Ｎ_L、Ｎ_S：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントした。これらの個数からＮ_LおよびＮ_Sを算出した。N _L , N _S : After polishing both surfaces of a glass plate having a thickness of 1 to 2 mm and a size of 4 cm × 4 cm and cleaning with calcium carbonate and a neutral detergent, a super accelerated life tester (unsaturated) Was placed in a mold pressure cooker TPC-410, Tabai Espec Co., Ltd.) and allowed to stand in a steam atmosphere at 120 ° C. and 2 atmospheres for 20 hours. The surface of the surface of the glass plate taken out was observed with a differential interference microscope, and the number of deposits having a size of 10 μm or more and the number of deposits having a size of 1 μm or more and less than 10 μm were counted. N _L and N _S were calculated from these numbers.

また、例３９、４０についてはＴ_G、ｎおよびＱも測定した。例３９、４０のＴ_Gはそれぞれ５１０℃、４９７℃、例３９、４０のｎはそれぞれ１．７９、１．７８、例３９、４０のＱはそれぞれ０．３６ｍｇ、０．６１ｍｇであった。For Examples 39 and 40, T _G , n and Q were also measured. _TG of Examples 39 and 40 was 510 ° C. and 497 ° C., respectively, n of Examples 39 and 40 was 1.79 and 1.78, and Q of Examples 39 and 40 were 0.36 mg and 0.61 mg, respectively.

発明の効果Effect of the invention

本発明により、書き込みエラーまたは読み込みエラー等のトラブルが起りにくい磁気ディスク等の情報記録媒体を提供できる。また、強度が大きく温度依存性の小さいバンドパスフィルタ等の光回路部品を提供できる。
また、結晶化工程が不要であり、結晶化ガラス基板に比べて製造工程が少ない情報記録媒体用ガラス基板または光回路部品用ガラス基板を提供できる。According to the present invention, it is possible to provide an information recording medium such as a magnetic disk in which a trouble such as a writing error or a reading error hardly occurs. Further, it is possible to provide an optical circuit component such as a band-pass filter having high strength and low temperature dependency.
Further, it is possible to provide a glass substrate for an information recording medium or a glass substrate for an optical circuit component, which does not require a crystallization step and has fewer manufacturing steps than a crystallized glass substrate.

また、耐候性に優れ、在庫中に付着物が発生しにくく、したがってこの付着物に起因する、下地膜、磁性膜、保護膜等の膜はがれが起こりにくい情報記録媒体用ガラス基板または光回路部品用ガラス基板を提供できる。
さらに、低膨張金属ではない金属からなる金型によっても加熱成形可能な光学レンズ用ガラスを提供できる。In addition, glass substrates or optical circuit components for information recording media that have excellent weather resistance and are less likely to cause deposits in stock, and therefore are less likely to be peeled off due to such deposits, such as base films, magnetic films, and protective films. A glass substrate can be provided.
Furthermore, the glass for optical lenses which can be heat-molded also by the metal mold | die which consists of a metal which is not a low expansion metal can be provided.

Claims (4)

下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、
ＳｉＯ_２ ２０〜４５、
ＴｉＯ_２ ２０〜５０、
Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０、
Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０、
ＭｇＯ ０〜２０、
ＣａＯ ０〜３０、
ＳｒＯ ０〜２０、
ＢａＯ ０〜３０、
ＺｎＯ ０〜２０、
ＺｒＯ_２ ０〜２０、
Ｌｉ_２Ｏ ０〜１５、
Ｎａ_２Ｏ ０〜３０、
Ｋ_２Ｏ ０〜３０、
からなり、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量合計が９．５モル％以上かつＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ _２ ＯおよびＫ _２ Ｏの含有量合計が１０モル％以上であり、ヤング率が９０ＧＰａ以上、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が８０×１０^−７／℃以上であるガラスからなる情報記録媒体基板。
In terms of mol% based on the following oxide,
SiO ₂ 20~45,
TiO ₂ 20-50,
B ₂ O ₃ 0-30,
Al ₂ O ₃ 0-20,
MgO 0-20,
CaO 0-30,
SrO 0-20,
BaO 0-30,
ZnO 0-20,
ZrO ₂ 0-20,
Li ₂ O 0~15,
Na ₂ O 0 to 30,
K ₂ O 0-30,
The total content of MgO, CaO, SrO and BaO is 9.5 mol% or more, the total content of SrO, BaO, Na ₂ O and K ₂ O is 10 mol% or more, and the Young's modulus is 90 GPa or more. An information recording medium substrate made of glass having an average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C. of 80 × 10 ⁻⁷ / ° C. or higher.
下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、
ＳｉＯ_２ ２０〜４５、
ＴｉＯ_２ ２０〜５０、
Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０、
Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０、
ＭｇＯ ０〜２０、
ＣａＯ ０〜３０、
ＳｒＯ ０〜２０、
ＢａＯ ０〜３０、
ＺｎＯ ０〜２０、
ＺｒＯ_２ ０〜２０、
Ｌｉ_２Ｏ ０〜１５、
Ｎａ_２Ｏ ０〜３０、
Ｋ_２Ｏ ０〜３０、
からなり、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量合計が９．５モル％以上かつＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ _２ ＯおよびＫ _２ Ｏの含有量合計が１０モル％以上であり、ヤング率が８０ＧＰａ以上、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が９０×１０^−７／℃以上であるガラスからなる光回路部品基板。
In terms of mol% based on the following oxide,
SiO ₂ 20~45,
TiO ₂ 20-50,
B ₂ O ₃ 0-30,
Al ₂ O ₃ 0-20,
MgO 0-20,
CaO 0-30,
SrO 0-20,
BaO 0-30,
ZnO 0-20,
ZrO ₂ 0-20,
Li ₂ O 0~15,
Na ₂ O 0 to 30,
K ₂ O 0-30,
The total content of MgO, CaO, SrO and BaO is 9.5 mol% or more, the total content of SrO, BaO, Na ₂ O and K ₂ O is 10 mol% or more, and the Young's modulus is 80 GPa or more. An optical circuit component substrate made of glass having an average linear expansion coefficient at 50 to 350 ° C. of 90 × 10 ⁻⁷ / ° C. or higher.
前記ガラスのヤング率が１００ＧＰａ以上であり、かつ、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が９０×１０^−７／℃以上である請求項２に記載の光回路部品基板。
The optical circuit component substrate according to claim 2 , wherein the glass has a Young's modulus of 100 GPa or more and an average coefficient of linear expansion at 50 to 350 ° C. of 90 × 10 ⁻⁷ / ° C. or more.
請求項３に記載の光回路部品基板であって、前記ガラスからなるガラス板を１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ^２以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０^５個／ｃｍ^２以下である光回路部品基板。 4. The optical circuit component substrate according to claim 3 , wherein the number of deposits having a size of 10 μm or more present on the surface of the glass plate made of glass when held in a steam atmosphere at 120 ° C. and 2 atm for 20 hours. Is 1 piece / cm ² or less, and the number of deposits having a size of 1 μm or more and less than 10 μm is 10 ⁵ pieces / cm ² or less.