JP5197829B2 - プライミング処理方法及びプライミング処理装置 - Google Patents
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Description
図1に、本発明の一実施形態におけるプライミング処理装置の構成を示す。このプライミング処理装置は、たとえばLCD製造プロセス用のフォトリソグラフィー工程においてスピンレス法のレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置(図示せず)に組み込まれ、レジスト塗布処理のために被処理基板を載置あるいは浮上搬送する塗布ステージ(図示せず)の近くに配置される。
次に、図2〜図8につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の第1の方式を説明する。
次に、図9〜図12につき、このプライミング処理装置で実施可能なプライミング処理方法の一実施例を説明する。
上述した実施例においても、プライミングローラ14の外周面上に一周に亘って巻き取られる第1層の複数のレジスト乾燥膜[RMi]の個数および巻き取り順序を任意に選択できるだけでなく、たとえば図13に示すように、第1層のレジスト乾燥膜[RMi]上に巻き取られる第2層のレジスト液膜rmiの個数および巻き取り順序も任意に選択できる。
12 開口部
14 プライミングローラ
16 洗浄機構
18 2流体ジェットノズル
36 バキューム口
38 強制乾燥部
45 排気機構
60 モータ
62 回転制御部
65 回転機構
70 主制御部
72 スリットノズル
74 ノズル移動機構
Claims (23)
- 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取る第1の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の乾燥膜とする第2の工程と、
1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第3の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第4の工程と
を有するプライミング処理方法。 - 前記第1の工程が、1回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る、請求項1に記載のプライミング処理方法。
- 前記第2の工程が、前記第1の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項1または請求項2に記載のプライミング処理方法。
- 前記第2の工程と前記第3の工程との間で、
前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第5の工程と、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第3の工程の実行を許可する旨の判定結果を出し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第3の工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第6の工程と
を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 - 前記第3の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが、前記第1の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの1/2未満である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 前記第3の工程と前記第4の工程との間で、
前記第3の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の第1乾燥膜とする第7の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の第1乾燥膜を外して前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の第1乾燥膜とは異なる領域で前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第8の工程と
を有する請求項5に記載のプライミング処理方法。 - 前記第3の工程と前記第4の工程との間で、
前記第3の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の乾燥膜とする第7の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第8の工程と
を有する請求項1〜5のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 - 前記第4の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 前記第4の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の範囲および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第4の工程における洗浄液の使用量を決定する第9の工程を有する、請求項6〜8のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構が設けられ、前記排気機構を前記第1、第2および第3の工程では止めておいて前記第4の工程で作動させる、請求項1〜9のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として塗布液の液膜を形成するためのプライミング処理方法であって、
1回分のプライミング処理のために、水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第1の工程と、
前記第1の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とする第2の工程と、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第3の工程と、
前記第3の工程で前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とする第4の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第5の工程と、
前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する第6の工程と
を有するプライミング処理方法。 - 前記第2の工程が、前記第1の工程で開始した前記プライミングローラの回転をそのまま継続させて、前記塗布液の液膜を自然乾燥させる、請求項11に記載のプライミング処理方法。
- 前記第2の工程と前記第3の工程との間で、
前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定する第7の工程と、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第3の工程の実行を許可する旨の判定結果を出し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第3の工程の実行を中止すべき旨の判定結果を出す第8の工程と
を有する、請求項11または請求項12に記載のプライミング処理方法。 - 前記第5の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズが前記第1および第3の工程における周回方向の塗布液巻き取りサイズの1/2未満である、請求項11〜13のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 前記第5の工程と前記第6の工程との間で、
前記第5の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の第1乾燥膜とする第9の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の第1乾燥膜を外して前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の第1乾燥膜とは異なる領域で前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第10の工程と
を有する請求項14に記載のプライミング処理方法。 - 前記第5の工程と前記第6の工程との間で、
前記第5の工程で前記第1層の乾燥膜の上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第2層の乾燥膜とする第9の工程と、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第2層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記プライミングローラを回転させて、前記第2層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取る第10の工程と
を有する請求項11〜14のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。 - 前記第6の工程は、前記プライミングローラを回転させながら、前記プライミングローラの外周面のうち液膜または乾燥膜が付着している領域のみに洗浄液を噴き付ける、請求項11〜16のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 前記第6の工程に先立って、前記プライミングローラの外周面上に付着している各液膜または乾燥膜の面積および膜厚を測定し、その測定結果に基づいて前記第6の工程における洗浄液の使用量を決定する第11の工程を有する、請求項11〜17のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構が設けられ、前記排気機構を前記第1ないし第5の工程では止めておいて前記第6の工程で作動させる、請求項11〜18のいずれか一項に記載のプライミング処理方法。
- 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部と
を有し、
前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記塗布処理用のスリットノズルもしくは非塗布処理用の別のスリットノズルを平行に対向させ、当該スリットノズルに塗布液を吐出させるとともに前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部または全部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の乾燥膜とし、
1回分のプライミング処理のために、前記第1層の乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する、
プライミング処理装置。 - 前記プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有し、
前記膜厚測定部により前記第1層の乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは前記第1層の乾燥膜上でのプライミング処理を実行し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは前記第1層の乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
請求項20に記載のプライミング処理装置。 - 長尺型のスリットノズルを用いて被処理基板上に塗布液を塗布する塗布処理において前記スリットノズルの吐出口付近に塗布処理の下準備として処理液の液膜を形成するためのプライミング処理装置であって、
所定位置に水平に配置された円筒状または円柱状のプライミングローラと、
前記プライミングローラをその中心軸の回りに回転させる回転機構と、
前記プライミングローラの外周面を洗浄するために洗浄液を噴き付ける洗浄機構と、
前記プライミングローラの周囲を強制的に排気するための排気機構と、
前記回転機構、前記洗浄機構および前記排気機構の各動作を制御する制御部と
を有し、
1回分のプライミング処理のために、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラの回転を継続させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第1乾燥膜とし、
別の1回分のプライミング処理のために、前記第1乾燥膜を外して前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1乾燥膜とは異なる領域で前記プライミングローラの外周面上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
前記排気機構を止めたまま、前記回転機構により前記塗布液の巻き取り後も前記プライミングローラを回転させて、前記プライミングローラの外周面上に巻き取られた塗布液の液膜を乾燥させて第1層の第2乾燥膜とし、
更に別の1回分のプライミング処理のために、前記第1層の第1または第2乾燥膜を前記プライミングローラの頂部に位置させて、前記プライミングローラの頂部に対して所定のギャップを隔てて前記スリットノズルの吐出口を平行に対向させ、前記スリットノズルに一定量の塗布液を吐出させてから前記回転機構により前記プライミングローラを回転させて、前記第1層の第1または第2乾燥膜の上に前記吐出された塗布液の一部を巻き取り、
所望回数の前記プライミング処理が終了した後に、前記回転機構によりプライミングローラを回転させながら前記洗浄機構および前記排気機構を作動させて、前記プライミングローラの外周面上に付着している液膜または乾燥膜を洗浄によって一括除去する、
プライミング処理装置。 - 前記プライミングローラ上の乾燥膜の膜厚を測定するための膜厚測定部を有し、
前記膜厚測定部により前記第1層の第1または第2乾燥膜の膜厚分布特性を測定し、
前記膜厚分布特性の測定結果に基づき、前記第1層の第1または第2乾燥膜の膜厚均一性が一定の基準を超えるときは当該乾燥膜上でのプライミング処理を実行し、前記第1層の乾燥膜の膜厚均一性が前記基準を超えないときは当該乾燥膜上でのプライミング処理を中止する、
請求項22に記載のプライミング処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011240089A JP5197829B2 (ja) | 2011-11-01 | 2011-11-01 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011240089A JP5197829B2 (ja) | 2011-11-01 | 2011-11-01 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009135634A Division JP5154510B2 (ja) | 2009-06-05 | 2009-06-05 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012061466A JP2012061466A (ja) | 2012-03-29 |
JP5197829B2 true JP5197829B2 (ja) | 2013-05-15 |
Family
ID=46057754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011240089A Expired - Fee Related JP5197829B2 (ja) | 2011-11-01 | 2011-11-01 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5197829B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4541690B2 (ja) * | 2003-12-04 | 2010-09-08 | 平田機工株式会社 | 流体塗布装置及び流体塗布制御方法 |
JP4429073B2 (ja) * | 2004-05-20 | 2010-03-10 | 東京応化工業株式会社 | スリットコータの予備吐出装置 |
JP4676359B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2011-04-27 | 東京エレクトロン株式会社 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 |
JP2009154106A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置並びに液晶ディスプレイ用部材の製造方法 |
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2011
- 2011-11-01 JP JP2011240089A patent/JP5197829B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JP2012061466A (ja) | 2012-03-29 |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121016 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121130 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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