JP5196351B2 - パターンの高さを測定する方法及び装置 - Google Patents
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Description
少なくとも一つの対象波長のための対象伝搬モードの伝搬を許容する外方ガイド手段を通じて多色光を発する工程と、
前記光によって、対象物のパターンを覆うように前記対象物の表面を照射する工程と、
前記対象物の前記表面によって前記光を反射させる工程と、
前記反射された光をリターンガイド手段によって集光する工程を含んだ、対象物のパターンの高さを測定するための方法であって、
照射された前記表面の前記光で覆われたパターンによって前記反射光の波面を分割成分に分割する工程と、
集光された光をフィルタリングする工程と、
対象波長のために、前記フィルタリングされた光から、前記分割成分間の位相差に関する情報を抽出する工程を更に含み、上記位相差が、分割成分間の段階差(step differences)を表現し、従って、照射されたパターンの高低差を表現するようになっていることを特徴とする。
多色光を発する手段と、
少なくとも一つの対象波長のための対象伝搬モードの伝搬を許容する、前記光を外方へガイドするための手段と、
前記光が対象物のパターンを覆うように前記光を前記対象物の表面に照射させるための手段と、
前記対象物から反射した光を集光するための手段と、
前記集光された光をリターンガイドするための手段を有する測定装置であって、
集光された光をフィルタリングする手段と、
対象波長のために、フィルタリングされた光から、前記パターンから反射した光の波面の分割成分間の位相差に関する情報を抽出する手段を更に含み、上記位相差が、分割成分間の段階差を表現し、従って、照射されたパターンの高低差を表現するようになっていることを特徴とする。
Claims (17)
- 少なくとも一つの対象波長のための対象伝搬モードの伝搬を許容する外方ガイド手段(2)を通じて多色光(4)を発する工程と、
前記光(4)によって、対象物(14)のパターン(5)を覆うように前記対象物(14)の表面(18)を照射する工程と、
前記対象物(14)の前記表面(18)によって前記光(4)を反射させる工程と、
前記反射された光(7)をリターンガイド手段(8)によって集光する工程を含んだ、対象物のパターンの高さを測定するための方法であって、
照射された前記表面(18)の前記光で覆われたパターン(5)によって前記反射光(7)の波面を分割成分(16,17)に分割する工程と、
前記分割成分(16,17)によって生成される波の伝搬のみを、該波の平均位相のみを保持する対象伝搬モードで、許容するモーダルフィルタリング手段として機能するように構成された前記リターンガイド手段(8)によって、前記集光された光をフィルタリングする工程であって、対象波長のために、対象伝搬モード以外の全てのモードを除去するモーダルフィルタリングを含んでいる、前記集光された光をフィルタリングする工程と、
対象波長のために、光学的相関計(10)を用いて、前記フィルタリングされた光から、前記分割成分(16,17)間の位相差に関する情報を抽出する工程を更に含んでいることを特徴とする、対象物のパターンの高さを測定するための方法。 - 対象伝搬モードが、基本横モードTEM00であることを特徴とする、請求項1に記載の測定方法。
- 光による前記照射が、前記対象物の表面に対する法線入射であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の測定方法。
- 前記対象物の表面上で光の照射を変位させる工程を更に含んでいることを特徴とする、請求項1〜3の何れか一項に記載の測定方法。
- 光を発する前記工程が、複数の波長のための複数の伝搬モードを発することと、対象波長のための対象伝搬モード以外の全てのモードを取り除くモードフィルタリングを含んでいることを特徴とする、請求項1〜4の何れか一項に記載の測定方法。
- 前記対象物上にパターンをエッチングする最中に実施することを特徴とする、請求項1〜5の何れか一項に記載の測定方法。
- エッチング終了時間を決定する工程を更に含んでいることを特徴とする、請求項6に記載の測定方法。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載の方法を用いて、対象物のパターンの高さを測定するための測定装置であって、
多色光を発する手段(1)と、
少なくとも一つの対象波長のための対象伝搬モードの伝搬を許容する、前記光を外方へガイドするための手段(2)と、
前記光が対象物のパターンを覆うように前記光を前記対象物の表面に照射させるための手段(3)と、
前記対象物から反射した光を集光するための手段(6)と、
前記集光された光をリターンガイドするための手段(8)を有して、請求項1〜7の何れか一項に記載の方法を用いた、対象物のパターンの高さを測定するための測定装置であって、
前記光が照射された前記対象物の前記光で覆われた前記パターンによって反射光の波面の分割された成分によって生成される波の伝搬のみを、該波の平均位相のみを保持する対象伝搬モードで、許容するモーダルフィルタリング手段として機能する前記リターンガイド手段(8)を含み、対象波長のために、対象伝搬モード以外の全てのモードを除去する、前記集光された光をフィルタリングするための手段と、
対象波長のために、フィルタリングされた光から、前記パターンから反射した光の波面の前記分割成分(16,17)間の位相差に関する情報を抽出するための手段(10,11,12,13)であって、光学的相関計(10)を含んでいる前記位相差に関する情報を抽出するための手段(10,11,12,13)を更に有していることを特徴とする、対象物のパターンの高さを測定するための測定装置。 - 前記対象物の表面上で光照射を変位させるための手段(15)を更に含んでいることを特徴とする、請求項8に記載の測定装置。
- 光を外方へガイドするための手段(2)と光をリターンガイドするための手段(8)が、モノモード光ファイバーを含んでいることを特徴とする、請求項8又は9に記載の測定装置。
- 前記照射手段(3)と前記集光手段(6)が結合され、発せられた光と集光された光とを分離させるためのカプラー,Y字状ジャンクション又はサーキュレータ(9)を更に含んでいることを特徴とする、請求項8〜10の何れか一項に記載の測定装置。
- 前記抽出手段が、マイケルソン型干渉計を含んでいることを特徴とする、請求項8〜11の何れか一項に記載の測定装置。
- 前記対象物上に焦点合わせされるカメラと、
前記対象物を白色光で照らすための手段と、
測定領域をポイントするレーザービームを可視範囲内で発する手段を更に有することを特徴とする、請求項8〜12の何れか一項に記載の測定装置。 - パターンをエッチングするための手段(25,27,28)と接続されていることを特徴とする、請求項8〜13の何れか一項に記載の測定装置。
- エッチングの終了時間を決定するための手段(26)を更に有していることを特徴とする、請求項14に記載の測定装置。
- 前記エッチングするための手段が、プラズマエッチング装置であることを特徴とする、請求項14又は15に記載の測定装置。
- 区分されたミラーのミラー区分間の段の高さを測定するために適用されることを特徴とする、請求項8〜16の何れか一項に記載の測定装置。
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