JP5194975B2 - イオン注入装置 - Google Patents
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Description
12 ビーム走査器
12a 走査中心
14 ビーム平行化器
40 ユニポテンシャルレンズ
41 第1電極
42 第2電極
43 第3電極
44 第4電極
51 第1ギャップ
51a 曲率中心
52 第2ギャップ
52a 曲率中心
53 第3ギャップ
53a 曲率中心
60 直流電源
V1 第1直流電圧
V2 第2直流電圧
Claims (3)
- イオンビームの進行方向Zと実質的に直交する平面内において互いに実質的に直交する2方向をX方向およびY方向とすると、イオンビームをX方向において走査するビーム走査器と、このビーム走査器からのイオンビームをXZ平面内で所定の基準軸に対して実質的に平行になるように曲げて平行ビーム化するビーム平行化器とを備えているイオン注入装置において、
前記ビーム走査器とビーム平行化器との間に設けられていて、そこを通過するイオンビームをY方向において絞る働きをするものであって、イオンビーム進行方向に、XZ平面内の形状がいずれも円弧状をしている第1ギャップ、第2ギャップおよび第3ギャップをそれぞれあけて並べられた第1電極、第2電極、第3電極および第4電極を有していて、第1電極および第4電極は電気的に接地されているユニポテンシャルレンズと、
前記ユニポテンシャルレンズの第2電極および第3電極に第1直流電圧および第2直流電圧をそれぞれ印加する電圧可変の直流電源とを備えており、
前記ユニポテンシャルレンズの第1ギャップおよび第3ギャップの曲率中心の位置を、前記ビーム走査器の走査中心の位置と実質的に一致させており、
前記ユニポテンシャルレンズの第2ギャップの曲率中心の位置を、前記ビーム走査器の走査中心の位置よりもイオンビーム進行方向の下流側または上流側にずらしていることを特徴とするイオン注入装置。 - 前記ユニポテンシャルレンズの第1電極、第2電極、第3電極および第4電極は、それぞれ、イオンビームが通過する空間を挟んでY方向において相対向しておりかつ互いに同電位である一対の電極から成る請求項1記載のイオン注入装置。
- 前記ユニポテンシャルレンズの第2ギャップの曲率中心の位置を、前記ビーム走査器の走査中心の位置よりもイオンビーム進行方向の下流側にずらしている請求項1または2記載のイオン注入装置。
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