JP5172328B2 - 浸漬液を用いた広帯域顕微鏡観察用カタジオプトリック結像系 - Google Patents
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Description
乾式結像用対物系を用いた広帯域紫外域高補正型高NAカタジオプトリック系を開示する特許としては、Shafer et al.に付与された米国特許(特許文献1及び2)がある。特許文献1及び2に開示されている乾式結像用の構成は、何れも、ある種の優良な検査能力を有しまたある種の優良な結像特性を呈するものである。特許文献1による教示に基づくカタジオプトリック系の例100を図1に、特許文献2による教示に基づくカタジオプトリック系の例200を図2に、それぞれ示す。図1に示した構成は特許文献1の図1に示されているものと、また図2に示した構成は特許文献2の図4に示されているものと、それぞれ同様の構成である。
本発明に係る構成は、一種類(状況によっては複数種類)のガラス素材を用いて形成され、広い波長域に亘り収差補正された高性能の浸漬結像用のカタジオプトリック対物系である。以下に記載の通り、本発明に係る対物系は、とりわけ顕微鏡観察の分野において有用である。図3に、本発明の第1実施形態に係るカタジオプトリック対物系を示す。この図の対物系は紫外光及び可視光が属するスペクトル域、即ち約0.266〜0.436μmの波長域における広帯域結像向けに最適化されており、本対物系では0.95という高いNAが得られる。但しこのNAは浸漬媒として純水を用いた場合の値であり、純水よりも高い屈折率を有する他の物質を浸漬媒として用いれば更に高いNAが得られる。また、本実施形態では、Schupmannの原理とOffner型の視野レンズとを組み合わせて使用することによって、軸方向色収差及び一次の横方向色収差(lateral color)を補正している。即ち、この図に示されているように、視野レンズ群302を中間像315の位置から僅かにずらすことによって性能を向上させると共に、浸漬液層313として示される液体を使用している。
Claims (21)
- 標本の検査に用いられる対物系であって、
266から800nmの範囲の波長の光を受け取って合焦光を生成するよう構成された少なくとも1個の合焦レンズを含む合焦レンズ群と、
上記合焦レンズ群から上記合焦光を受け取って中間光を供給するよう方向設定された複数の視野レンズと、
上記複数の視野レンズから上記中間光をその背面側から受け取って正面側から制御光を生成するよう位置設定されたマンジャンミラー配列であって、少なくとも3つの素子を含み、2つの素子は反射面を有するマンジャンミラー配列と、
上記マンジャンミラー配列と上記標本の間にある浸漬媒であって、前記マンジャンミラー配列の3つ目の素子が接する浸漬媒と、
を備え、上記合焦レンズ群、上記複数の視野レンズ及び上記マンジャンミラー配列を構成する全レンズが、一種類のガラス素材で形成されている対物系。 - 請求項1記載の対物系であって、上記マンジャンミラー配列が、
湾曲した複数個の凹面を有し第2面反射を呈する第1レンズ/ミラー素子と、
上記第1レンズ/ミラー素子の凹面よりも曲率半径が大きい複数個の凹面を有し第2面反射を呈する第2レンズ/ミラー素子と、
を含む対物系。 - 請求項1記載の対物系であって、0.9超の開口率を呈するよう構成された対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、上記合焦レンズ群に属する個々のレンズの直径及び上記複数の視野レンズの直径が、何れも25mm未満である対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、上記ガラス素材が熔融シリカである対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、上記標本から45mmの場所に配置できるフランジを有する顕微鏡にて使用される対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、上記合焦レンズ及び上記視野レンズが当該視野レンズと上記マンジャンミラー配列の間に中間像を形成する対物系。
- 標本の検査に用いられる対物系であって、
266から800nmの範囲の波長の光を受け取って合焦光を生成するように構成された少なくとも1個の合焦レンズを含む合焦レンズ群と、
上記合焦レンズ群から上記合焦光を受け取って中間光を供給するよう方向設定された複数の視野レンズと、
上記複数の視野レンズから上記中間光をその背面側から受け取り正面側から制御光を生成するよう位置設定されたマンジャンミラー配列であって、湾曲した複数個の凹面を有し第2面反射を呈する第1及び第2レンズ/ミラー素子と第3レンズ素子とを有するマンジャンミラー配列と、
上記マンジャンミラー配列と上記標本の間に位置する浸漬媒であって、上記マンジャンミラー配列の上記第3レンズ素子が接する浸漬媒と、
を備え、上記合焦レンズ群、上記複数の視野レンズ及び上記マンジャンミラー配列を構成する全レンズが、一種類のガラス素材で形成されている対物系。 - 請求項8記載の対物系であって、
上記第2レンズ/ミラー素子は、上記第1レンズ/ミラー素子の凹面よりも曲率半径が大きい複数個の凹面を有し第2面反射を呈する対物系。 - 請求項8記載の対物系であって、各レンズの直径が25mm未満である対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、その開口率が0.9超である対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、上記ガラス素材が熔融シリカである対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、通常動作中に上記標本から45mm以内に配置されるフランジを備えた顕微鏡にてそのフランジ内に配置できる対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、上記浸漬媒の主成分が水である対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、上記浸漬媒の主成分が油である対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、上記浸漬媒の主成分がシリコーンゲルである対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、各レンズの直径が35mm未満である対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、通常動作中に上記標本から45mm以内に配置できるフランジを有する顕微鏡と併用できる対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、上記浸漬媒が、水、油及びシリコーンゲルのうち一種類を含む対物系。
- 請求項1記載の対物系であって、上記浸漬媒の屈折率が純水の屈折率より高い対物系。
- 請求項8記載の対物系であって、上記浸漬媒の屈折率が純水の屈折率より高い対物系。
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Family Cites Families (23)
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US2801570A (en) * | 1952-05-29 | 1957-08-06 | Centre Nat Rech Scient | Mirror type optical objectives for microscopes |
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US5159495A (en) * | 1990-12-11 | 1992-10-27 | Eastman Kodak Company | Graded index optical elements and catadioptric optical systems |
JPH06167653A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-14 | Olympus Optical Co Ltd | 液浸油 |
JPH06175034A (ja) * | 1992-12-10 | 1994-06-24 | Olympus Optical Co Ltd | 長作動距離対物レンズ |
US6512631B2 (en) * | 1996-07-22 | 2003-01-28 | Kla-Tencor Corporation | Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system |
JP3123457B2 (ja) * | 1996-05-13 | 2001-01-09 | 株式会社ニコン | 顕微鏡 |
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US6483638B1 (en) * | 1996-07-22 | 2002-11-19 | Kla-Tencor Corporation | Ultra-broadband UV microscope imaging system with wide range zoom capability |
US5717518A (en) * | 1996-07-22 | 1998-02-10 | Kla Instruments Corporation | Broad spectrum ultraviolet catadioptric imaging system |
US6064517A (en) * | 1996-07-22 | 2000-05-16 | Kla-Tencor Corporation | High NA system for multiple mode imaging |
US5825043A (en) * | 1996-10-07 | 1998-10-20 | Nikon Precision Inc. | Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus |
JP2002082285A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
US7136159B2 (en) * | 2000-09-12 | 2006-11-14 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Excimer laser inspection system |
JP2003015046A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-15 | Nikon Corp | 液浸系顕微鏡対物レンズ |
JP2003029162A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Nikon Corp | 顕微鏡用対物レンズおよび顕微鏡 |
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US8675276B2 (en) * | 2003-02-21 | 2014-03-18 | Kla-Tencor Corporation | Catadioptric imaging system for broad band microscopy |
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