JP5171539B2 - 共鳴トンネル構造体 - Google Patents
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Description
・X線の代用として、物体の透視イメージングを安全に行う技術
・物質内部の吸収スペクトルや複素誘電率を求めて分子の結合状態を調べる分光技術
・超伝導材料のキャリア濃度や移動度を評価する技術
・生体分子(DNAやたんぱく質)の解析技術
上記技術を実用化していく上で必要不可欠な開発要素の一つとして、テラヘルツ光源の開発が挙げられる。これまでに、フェムト秒レーザ励起光伝導素子や、非線形光学結晶を用いたテラヘルツ波パラメトリック発振器といったレーザ装置を用いた発生方法が開発されてきている。また、BWOやジャイロトロンといった小型電子真空管や自由電子レーザなどの大型電子線加速器を用いた発生方法なども開発されてきている。これらの方法は、周波数可変且つ高出力であるため様々な材料の指紋スペクトル同定など特殊な用途に威力を発揮するが、大型の励起光源や真空管を必要とする為、装置の小型化や低消費電力化には限界がある。
(a)3つ以上のトンネル障壁層を有する共鳴トンネル構造層
(b)キャリアを有する第1及び第2の電気接点層
(c)前記第1の電気接点層、前記共鳴トンネル構造層、前記第2の電気接点層をこの順に含む
(d)前記共鳴トンネル構造層は、前記キャリアに対するエネルギーがそれぞれE1、E2、E3である第1サブバンド、第2サブバンド、第3サブバンドを有す
(e)前記第1及び第2の電気接点層におけるバンド端の前記キャリアに対するエネルギーをEb1、Eb2としたときに、
前記共鳴トンネル構造体に対して、無電界時には、
(Eb1、Eb2)<E1<E2<E3を満たす
(f)第1電界印加時には、前記第3サブバンドと前記第2サブバンドとにより共鳴トンネル現象が生じる
(g)前記第1電界と極性の異なる第2電界印加時には、前記第2サブバンドと前記第1サブバンドとにより共鳴トンネル現象が生じる。
本実施形態に係る共鳴トンネル構造体について、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態に係る共鳴トンネル構造体の伝導帯のエネルギーバンド構造を表している。
本実施形態の共鳴トンネル構造体の好ましい構成として、以下の構成がある。
本実施形態の共鳴トンネル構造体の好ましい構成として、以下の構成がある。
ここで、本発明は上記構成に限定されるものではない。
本実施形態に係る共鳴トンネル構造体の好ましい構成として、以下の構成がある。
実施例1について、図2から5を用いて説明する。
実施例2について、図6と図7を用いて説明する。
実施例3について、図8と図9を用いて説明する。
実施例4について、図11を用いて説明する。
102 第2のトンネル障壁層
103 第3のトンネル障壁層
104 第1の量子井戸層
105 第2の量子井戸層
106 第1の電気接点層
107 第2の電気接点層
Claims (14)
- 3つ以上のトンネル障壁層を有する共鳴トンネル構造層と、キャリアを有する第1及び第2の電気接点層と、を備え、且つ、前記第1の電気接点層、前記共鳴トンネル構造層、前記第2の電気接点層をこの順に含み構成される共鳴トンネル構造体であって、
前記共鳴トンネル構造層は、前記キャリアに対するエネルギーがそれぞれE1、E2、E3である第1サブバンド、第2サブバンド、第3サブバンドを有しており、
前記共鳴トンネル構造体は、
前記第1及び第2の電気接点層におけるバンド端の前記キャリアに対するエネルギーをEb1、Eb2としたときに、
前記共鳴トンネル構造体に対して、
無電界時には、(Eb1、Eb2)<E1<E2<E3を満たし、且つ、
第1電界印加時には、前記エネルギーE b1 と前記第1の電気接点層のフェルミレベル近傍のエネルギーとの間で、前記第3サブバンドと前記第2サブバンドとが共鳴し、且つ、
前記第1電界と極性の異なる第2電界印加時には、前記エネルギーE b2 と前記第2の電気接点層のフェルミレベル近傍のエネルギーとの間で、前記第2サブバンドと前記第1サブバンドとが共鳴する構造であることを特徴とする共鳴トンネル構造体。 - 前記第1の電気接点層と前記第2の電気接点層のフェルミレベル近傍のエネルギーを、それぞれE f1 、E f2 としたとき、無電界時に、(E b1 、E b2 )<(E f1 、E f2 )<E 1 <E 2 <E 3 を満たすことを特徴とする請求項1に記載の共鳴トンネル構造体。
- 前記第1サブバンド、第2サブバンド、第3サブバンドは、E 1 <E 2 <E 3 の順で連続するサブバンドであることを特徴とする請求項1又は2に記載の共鳴トンネル構造体。
- 前記共鳴トンネル構造層は、第1のトンネル障壁層と、第2のトンネル障壁層と、第3のトンネル障壁層と、該第1のトンネル障壁層と該第2のトンネル障壁層との間に介在する第1の量子井戸層と、該第2のトンネル障壁層と該第3のトンネル障壁層との間に介在する第2の量子井戸層とを含み構成し、
前記第1の量子井戸層は、前記第2サブバンドを少なくとも有し、且つ、
前記第2の量子井戸層は、前記第1及び第3サブバンドを少なくとも有することを特徴とする請求項1に記載の共鳴トンネル構造体。 - 前記第1の量子井戸層の膜厚と前記第2の量子井戸層の膜厚とが異なることを特徴とする請求項4に記載の共鳴トンネル構造体。
- 前記共鳴トンネル構造体に対して無電界時に、前記第1のトンネル障壁層又は前記第3のトンネル障壁層におけるバンド端の前記キャリアに対するエネルギーが、前記第2のトンネル障壁層におけるバンド端の前記キャリアに対するエネルギーよりも大きいことを特徴とする請求項4又は5に記載の共鳴トンネル構造体。
- 前記第1の電気接点層及び前記第2の電気接点層がn型半導体であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の共鳴トンネル構造体。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の共鳴トンネル構造体と、
前記第1電界と前記第2電界を印加するための電極対と、を備えていることを特徴とする共鳴トンネルダイオード。 - 請求項1から7のいずれか1項に記載の共鳴トンネル構造体を含み構成される活性層と、電磁波共振器とを備えていることを特徴とする電磁波発振器。
- 請求項8に記載の共鳴トンネルダイオードからなる活性層と、電磁波共振器とを備えていることを特徴とする電磁波発振器。
- 請求項9又は10に記載の電磁波発振器と、
第1基本発振周波数の電磁波を発振させるために印加する前記第1電界と、第2基本発振周波数の電磁波を発振させるために印加する前記第2電界とを切り替えるためのスイッチング素子とを備えることを特徴とする電磁波発振装置。 - 請求項9又は10に記載の電磁波発振器の駆動方法であって、
前記共鳴トンネル構造層に、第1サブバンドと第2サブバンドの間のフォトンアシストトンネルを誘起する第1電気信号を印加することにより、第1基本発振周波数の電磁波を発振させ、
且つ、第2サブバンドと第3サブバンドの間のフォトンアシストトンネルを誘起する前記第1電気信号と極性が異なる第2電気信号を印加することにより、第2基本発振周波数の電磁波を発振させることを特徴とする駆動方法。 - 請求項9又は10に記載の電磁波発振器とミキサーとを備え、
少なくとも2つの波長の電磁波をヘテロダイン検波することを特徴とする電磁波検出器。 - 請求項11に記載の電磁波発振装置から構成される局部発振器とミキサーとを備え、
少なくとも2つの波長の電磁波をヘテロダイン検波することを特徴とする電磁波検出器。
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US8368380B2 (en) * | 2010-03-31 | 2013-02-05 | General Electric Company | Devices and methods for electric field sensing |
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US9548590B2 (en) | 2011-11-29 | 2017-01-17 | Thorlabs Quantum Electronics, Inc. | Quantum cascade laser design with stepped well active region |
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US9088243B2 (en) * | 2012-09-10 | 2015-07-21 | Indian Institute Of Technology Bombay | Magnetic field feedback based spintronic oscillator |
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CN106374033B (zh) * | 2015-07-20 | 2018-12-14 | 中国科学院物理研究所 | 具有负微分电阻的磁性隧道结及包括其的自旋电子学器件 |
JP6623863B2 (ja) * | 2016-03-14 | 2019-12-25 | 富士通株式会社 | 半導体装置及び半導体回路 |
WO2019036640A1 (en) * | 2017-08-18 | 2019-02-21 | Resonance Hrt Inc. | RESONANT TUNNELLIZATION WITH HIGH DENSITY |
JP7157995B2 (ja) * | 2018-03-01 | 2022-10-21 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 量子カスケードレーザー素子 |
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Family Cites Families (15)
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---|---|---|---|---|
JPH0630399B2 (ja) * | 1986-11-14 | 1994-04-20 | 日本電気株式会社 | 共鳴トンネル・ダイオ−ド |
JP2690922B2 (ja) | 1987-12-25 | 1997-12-17 | 株式会社日立製作所 | 共鳴トンネリング素子 |
US5047810A (en) * | 1989-01-09 | 1991-09-10 | At&T Bell Laboratories | Optically controlled resonant tunneling electronic devices |
JPH0437069A (ja) * | 1990-06-01 | 1992-02-07 | Hitachi Ltd | 共鳴トンネリング素子及びそれを用いた可変コンダクタンス回路 |
DE4322343C2 (de) * | 1992-07-06 | 1996-10-02 | Mitsubishi Electric Corp | Mittel zum Erfassen eines Bewegungsvektors und Verfahren zum Bestimmen eines Bewegungsvektors |
JPH0630399A (ja) | 1992-07-06 | 1994-02-04 | Mitsubishi Electric Corp | 動きベクトル検出方法および検出装置 |
KR0170473B1 (ko) * | 1995-12-21 | 1999-02-01 | 양승택 | 공진 터널링 전자장치 |
CN1195895A (zh) * | 1997-04-10 | 1998-10-14 | 李炳辉 | 半导体量子振荡器件 |
US6133593A (en) * | 1999-07-23 | 2000-10-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Channel design to reduce impact ionization in heterostructure field-effect transistors |
JP4250573B2 (ja) * | 2004-07-16 | 2009-04-08 | キヤノン株式会社 | 素子 |
JP4390147B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2009-12-24 | キヤノン株式会社 | 周波数可変発振器 |
JP4250603B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2009-04-08 | キヤノン株式会社 | テラヘルツ波の発生素子、及びその製造方法 |
JP2007124250A (ja) * | 2005-10-27 | 2007-05-17 | Tokyo Institute Of Technology | テラヘルツ発振素子 |
JP4481946B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2010-06-16 | キヤノン株式会社 | 検出素子及び画像形成装置 |
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