JP5171490B2 - 集積型薄膜太陽電池 - Google Patents
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Description
また、特許文献1の図1には、集電電極を接合する薄膜光電変換素子における金属電極層と光電変換層を部分的に除去して溝を形成し、その溝内に集電電極を埋設して直接透明電極層を電気的に接続した構造の集積型薄膜太陽電池(従来技術2)も開示されており、これは特許文献2の図1にも開示されている。
また、特許文献3の図1に記載の集積型薄膜太陽電池(従来技術3)は、直列接続方向両側の薄膜光電変換素子の金属電極層上にのみ集電電極が接合されている。
なお、「中途半端に短絡する」とは、通常の電気的な短絡よりも電気抵抗が大きく(電気抵抗の範囲:10〜1000オーム)電流が流れる際に発熱を伴う様な状態を意味する。
また、図6および図7に示すように、素子直列接続構造のストリング内に、中間集電電極114が設けられた集積型薄膜太陽電池の場合、中間集電電極114の直下の光電変換層3内に短絡箇所が存在すると、この光電変換層3も局所的に発熱するおそれがある。なお、図6および図7において、符号101は透光性絶縁基板、102は透明電極層、104は金属電極層、104aは直列用導電部、105は薄膜光電変換素子、106および107は集電電極を表している。
前記ストリングにおける任意の前記薄膜光電変換素子の第2電極層上に電気的に接合された集電電極とを備え、
前記ストリングは、隣接する2つの薄膜光電変換素子の間に第2電極層および光電変換層が除去されて形成された素子分離溝を有し、
一の薄膜光電変換素子の第1電極層は、その一端が前記素子分離溝を横切って隣接する他の薄膜光電変換素子の領域まで延びた延出部を有し、かつ隣接する薄膜光電変換素子の第1電極層とは電極分離ラインによって電気的に絶縁され、
一の薄膜光電変換素子の第2電極層の一端は、光電変換層を貫通する直列用導電部を介して隣接する薄膜光電変換素子の第1電極層の前記延出部と電気的に接続し、
前記集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも集電電極直下部分は、第1電極層の他部分と絶縁分離されており、
前記集電電極が、第1集電電極および第2集電電極として、ストリングにおける直列接続方向の両端の薄膜光電変換素子の第2電極層上に接合されると共に、中間集電電極として、ストリングにおける直列接続方向の両端の薄膜光電変換素子を除く他の薄膜光電変換素子の第2電極層上に接合され、
前記第1集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも第1集電電極直下よりもストリングを流れる電流の電流方向下流側に絶縁ラインが形成され、
前記第2集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも第2集電電極直下よりも電流方向上流側に前記電極分離ラインが形成され、
前記中間集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも中間集電電極直下よりもストリングを流れる電流の電流方向上流側に前記電極分離ラインが配置され、かつ電流方向下流側に絶縁ラインが配置されている集積型薄膜太陽電池が提供される。
したがって、ストリングの任意の薄膜光電変換素子上に集電電極を接合する際の圧力あるいは熱によって、その直下の光電変換層内に中途半端な短絡が生じたとしても、第1電極層の集電電極直下部分は他部分と絶縁分離されているため電流が流れず、その結果、短絡箇所での局所的な発熱が防止される。
よって、本発明の集積型薄膜太陽電池は、局所的な発熱が原因で基板割れ、膜剥がれ、電極損傷、集電電極脱落等が発生することを防止することができる。
前記ストリングは、隣接する2つの薄膜光電変換素子の間に第2電極層および光電変換層が除去されて形成された素子分離溝を有する。
一の薄膜光電変換素子の第1電極層は、その一端が前記素子分離溝を横切って隣接する他の薄膜光電変換素子の領域まで延びた延出部を有し、かつ隣接する薄膜光電変換素子の第1電極層とは電極分離ラインによって電気的に絶縁されている。
一の薄膜光電変換素子の第2電極層の一端は、光電変換層を貫通する直列用導電部を介して隣接する薄膜光電変換素子の第1電極層の前記延出部と電気的に接続している。
前記集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも集電電極直下部分は、第1電極層の他部分と絶縁分離されている。
前記集電電極が、第1集電電極および第2集電電極として、ストリングにおける直列接続方向の両端の薄膜光電変換素子の第2電極層上に接合されると共に、中間集電電極として、ストリングにおける直列接続方向の両端の薄膜光電変換素子を除く他の薄膜光電変換素子の第2電極層上に接合されている。
前記第1集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも第1集電電極直下よりもストリングを流れる電流の電流方向下流側に絶縁ラインが形成されている。
前記第2集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも第2集電電極直下よりも電流方向上流側に前記電極分離ラインが形成されている。
前記中間集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも中間集電電極直下よりもストリングを流れる電流の電流方向上流側に前記電極分離ラインが配置され、かつ電流方向下流側に絶縁ラインが配置されている。
以下、「集積型薄膜太陽電池」を「太陽電池」と略称し、「薄膜光電変換素子」を「セル」と称する場合がある。
以下、図面を参照しながら本発明の集積型薄膜太陽電池の実施形態を詳しく説明する。なお、実施形態は本発明の一例であり、本発明は実施形態によって限定されるものではない。
図1は本発明の集積型薄膜太陽電池の実施形態1を示す平面図である。図2(a)は図1の集積型薄膜太陽電池の直列接続方向に切断した断面図であり、図2(b)は図1の集積型薄膜太陽電池を直列接続方向から見た側面図であり、図2(c)は図1の集積型薄膜太陽電池の変形例を直列接続方向から見た側面図である。なお、図1および図2(a)において、矢印Eは電流が流れる方向(電流方向)を示し、本明細書において単に「上流」または「下流」と称する場合は電流方向の上流または下流を意味する。
さらに、この太陽電池は、ストリングSが、同一の絶縁基板1上に、直列接続方向Aに延びる複数(この場合11本)のストリング分離溝8を挟んで直列接続方向と直交する方向Bに複数(この場合12個)並列して配置され、かつ複数のストリングSが並列接続されている。
図1および図2(a)に示すように、ストリングSは、隣接する2つのセル(薄膜光電変換素子)5の間に第2電極層4および光電変換層3が除去されて形成された素子分離溝9を有している。この素子分離溝9は、一つのセル5の第2電極4および光電変換層3と、隣接する他のセル5の第2電極4および光電変換層3とを電気的に分離するよう、矢印B方向に延びて形成されている。
また、一つのセル5の第2電極層4の一端(電流方向Eの上流側端部)は、光電変換層3を貫通する直列用導電部4aを介して隣接するセル5の第1電極層2の延出部2aと電気的に接続している。なお、直列用導電部4aは、第2電極層4と同一工程にて同一材料で一体的に形成することができる。
さらに、このストリングSの第1集電電極6と接合したセル5aおよび第2集電電極7と接合したセル5bにおいて、第1電極層2の集電電極直下部分は他の部分と絶縁分離されている。
さらに、このセル5aの電流方向Eの上流側には他のセルが配置されていないため、セル5aは上流側の他のセルの第1電極層と電気的に絶縁されるための前記電極分離ライン10を有していないが、上流側に他のセルが無いことが電極分離ラインの機能を果たしている。
したがって、上述のように、セル5aにおける第1集電電極6の直下の光電変換層3内に中途半端な短絡が生じたとしても、短絡箇所を有する第1部分5a1には電流が流れないため、短絡箇所での局所的な発熱が防止され、その発熱が原因で第1集電電極6の脱落、基板割れ、膜剥がれ、電極損傷等が発生することを防止することができる。
このように、第2集電電極7と接合した最下流位置のセル5bにおいて、第2集電電極7の少なくとも直下部分の第1電極層2は、上流側のセル5の第1電極層2と電気的に絶縁分離しているため、上流側のセル5からの電流は、セル5bの第1電極層2へは流れず直列用導電部4aを介して第2電極層4および第2集電電極7へ流れる。つまり、最下流位置のセル5bは、実質的に発電に寄与しておらず、そのため、このセル5bの第2電極4は、隣接するセル5の第1電極2の引き出し電極として用いられている。
したがって、上述のように、セル5bにおける第2集電電極7の直下の光電変換層3内に中途半端な短絡が生じたとしても、短絡箇所には電流が流れないため、短絡箇所での局所的な発熱が防止され、その発熱が原因で第2集電電極7の脱落、基板割れ、膜剥がれ、電極損傷等が発生することを防止することができる。
図2(b)の場合、ストリング分離溝8は隣接する2つのストリングSを完全に分割しておらず、矢印A方向の両端のセル5a(少なくとも5a1)およびセル5bは矢印B方向に長く延びており、そのため、全てのストリングSの両端はそれぞれ共通の第2電極層4を介して第1集電電極6および第2集電電極7と電気的に並列接続されていることになる。
図2(c)の場合、ストリング分離溝8は隣接する2つのストリングSを完全に分割しているが、第1および第2集電電極6、7によって全てのストリングSは電気的に並列接続されている。
また、複数のストリングSは、透光性絶縁基板1の外周端面(四辺の端面)よりも内側に形成されている。つまり、絶縁基板1の表面の外周領域は、第1電極層2、光電変換層3および第2電極層4が形成されていない非導電性表面領域12とされており、その幅は太陽電池の出力電圧に応じた寸法範囲に設定されている。
透光性絶縁基板1としては、以降の膜形成プロセスにおける耐熱性および透光性を有するガラス基板、ポリイミド等の樹脂基板等が使用可能である。
また、第1電極層2は、透明導電膜からなり、好ましくは、ZnOまたはSnO2を含む材料からなる透明導電膜からなる。SnO2を含む材料は、SnO2自体であってもよく、SnO2と別の酸化物の混合物(例えば、SnO2とIn2O3の混合物であるITO)であってもよい。
光電変換層3を構成する各半導体層の材料は、特に限定されず、例えば、シリコン系半導体、CIS(CuInSe2)化合物半導体、CIGS(Cu(In,Ga)Se2)化合物半導体等からなる。以下、各半導体層がシリコン系半導体からなる場合を例にとって説明を進める。「シリコン系半導体」とは、非晶質又は微結晶シリコン、又は非晶質又は微結晶シリコンに炭素やゲルマニウム又はその他の不純物が添加された半導体(シリコンカーバイド、シリコンゲルマニウム等)を意味する。また、「微結晶シリコン」とは、結晶粒径が小さい(数十から千Å程度)結晶シリコンと、非晶質シリコンとの混合相の状態のシリコンを意味する。微結晶シリコンは、例えば、結晶シリコン薄膜をプラズマCVD法などの非平衡プロセスを用いて低温で作製した場合に形成される。
p型半導体層には、ボロン、アルミニウム等のp型不純物原子がドープされており、n型半導体層にはリン等のn型不純物原子がドープされている。i型半導体層は、完全にノンドープである半導体層であってもよく、微量の不純物を含む弱p型または弱n型で光電変換機能を十分に備えている半導体層であってもよい。なお、本明細書において、「非晶質層」及び「微結晶層」は、それぞれ、非晶質および微結晶の半導体層を意味する。
また、光電変換層3は、pin構造が複数重ねられたタンデム型でもよく、例えば、第1電極2上にa-Si:Hp層、a-Si:Hi層、a-Si:Hn層をこの順に積層した上部半導体層と、上部半導体層上にμc-Si:Hp層、μc-Si:Hi層、μc-Si:Hn層をこの順に積層した下部半導体層とから構成されてもよい。また、pin構造を上部半導体層、中部半導体層および下部半導体層からなる3層構造の光電変換層3としてもよく、例えば、上部および中部半導体層にアモルファスシリコン(a-Si)、下部半導体層に微結晶シリコン(μc-Si)を用いた3層構造でも構わない。光電変換層3の材料および積層構造の組み合わせは、特に限定されるものではない。なお、本願の実施形態および実施例においては、薄膜太陽電池の光入射側に位置する半導体層を上部半導体層とし、光入射側と反対側に位置する半導体層を下部半導体層とし、図2(a)〜(c)中の光電変換層3内に記された直線は上部半導体層と下部半導体層との境界を表している。
第2電極層4の構成や材料は、特に限定されないが、一例では、第2電極4は、透明導電膜と金属膜とが光電変換層上に積層した積層構造を有する。透明導電膜は、ZnO、ITO、SnO2などからなる。金属膜は、銀、アルミニウム等の金属からなる。なお、第2電極層4はAg、Al等の金属膜のみでも良いが、ZnO、ITO、SnO2等の透明導電膜を光電変換層3側に配置した方が、光電変換層3で吸収されなかった光を裏面電極層4で反射する反射率が向上し、高い変換効率の薄膜太陽電池を得ることができる点で好ましい。
図示しないが、この太陽電池において、透光性絶縁基板1上にはストリングSおよび非導電性表面領域8を完全に覆うように裏面封止材が接着層を介して積層されている。接着層としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)からなる封止樹脂シートを用いることができる。裏面封止材としては、例えば、PET/アルミニウム/PETの積層フィルムを用いることができる。なお、接着層および裏面封止材には、各集電電極と接続される取り出し線13の先端を外部へ導出するための小孔が予め形成されている。
また、裏面封止材上には、各取り出し線13と電気的に接続される出力線および端子を有する端子ボックスが取り付けられる。
また、裏面封止材および接着層にて封止された太陽電池の外周部にはフレーム(例えば、アルミニウム製)が取り付けられる。
この集積型薄膜太陽電池は、透光性絶縁基板1の一表面上に第1電極層2、光電変換層3および第2電極層4が順次積層されてなるセル5が複数個互いに電気的に直列接続された分割前ストリングを形成する成膜工程と、絶縁基板1の一表面の外周部に形成されているセル部分および分割前ストリングの所定箇所を光ビームによって除去して、非導電性表面領域12およびストリング分離溝8を形成することにより複数のストリングSを形成する膜除去工程と、複数のストリングSにおける少なくとも直列接続方向Aの両端のセル5a、5bの第2電極層4上にろう材を介して第1集電電極6および第2集電電極7を電気的に接合する集電電極接合工程とを含む製造方法により製造することができる。
成膜工程では、まず、透光性絶縁基板1の一表面全面に、CVD、スパッタ、蒸着等の方法により膜厚600〜1000nmの透明導電膜を形成し、透明導電膜を部分的に光ビームによって除去して、矢印B方向に延びる平行な複数本の電極分離ライン10を形成することにより、所定パターンの第1電極層2を形成する。この際、YAGレーザの基本波(波長:1064nm)を透光性絶縁基板1側から照射することにより、透明導電膜は所定幅で短冊状に分離されて複数本の電極分離ライン10が所定間隔で形成され、かつ、最上流位置のセル形成領域には電極分離ライン10と同条件で絶縁ライン11が1本形成される。
その後、タンデム構造の光電変換膜を部分的に光ビームによって除去して、直列用導電部4aを形成するための、コンタクトラインを形成することにより所定パターンの光電変換層3を形成する。この際、YAGレーザの第二高調波(波長:532nm)を透光性絶縁基板1側から照射することにより、光電変換膜は所定幅で短冊状に分離される。なお、レーザとしてYAGレーザの第二高調波の代りにYVO4レーザの第二高調波(波長:532nm)を用いても構わない。
また、第2電極層4のパターニングでは、光ビームによる第1電極層2へのダメージを避けるため、第1導電層2に対する透過性が高いYAGレーザの第二高調波またはYVO4レーザの第二高調波を透光性絶縁基板1側から照射することにより、導電膜は所定幅で短冊状に分離され、素子分離溝9が形成される。この際、第1電極層2へのダメージを最小限に抑え、かつ、第2電極層4の加工後の銀電極のバリ発生を抑制する加工条件を選択することが好ましい。
成膜工程後、透光性絶縁基板1の外周端面から内側へ所定幅で、透光性絶縁基板1の表面の外周部に形成されている薄膜光電変換素子部分である第1電極層2、光電変換層3および第2電極層4をYAGレーザの基本波を用いて除去して非導電性表面領域12を全周に形成する。
また、この工程の後または前に、分割前ストリングを複数に分割すべく分割部分を除去してストリング分離溝8を複数本形成する。この際、まず、YAGレーザの基本波(波長:1064nm)を透光性絶縁基板1側から照射することにより、第1電極層2、光電変換層3および第2電極層4を部分的に除去して第1溝8aを形成し、その後、第1導電層2に対する透過性が高いYAGレーザの第二高調波またはYVO4レーザの第二高調波を透光性絶縁基板1側から照射することにより、光電変換層3および第2電極4を第1溝8aの幅よりも広い幅で部分的に除去して第2溝8bを形成することにより、ストリング分離溝8を形成することができる。第1溝8aより幅広い第2溝8bを後から形成することにより、第1溝8aの形成によって飛散して溝内面に付着した導電材料を除去することができ、第1電極層2と第2電極層4との短絡を回避することができる。
この膜除去工程によって、非導電性表面領域12に囲まれた複数列のストリングSが形成される。なお、分割前ストリングを分割しない場合、膜除去工程では非導電性表面領域12を形成するレーザ加工のみ行われる。
各ストリングSの直列接続方向Aの両端の第2電極層4上にろう材(例えば、銀ペースト)を塗布し、第1および第2集電電極6、7を加圧接着しかつ加熱することにより、第1および第2集電電極6、7を第2電極層4に電気的に接続して、電流の取り出し部を作製する。この際、押力としては、例えば60N程度、熱エネルギーとしては、例えば300℃程度であるが、セル5a、5bは薄いため、第1および第2集電電極6、7の直下部分に短絡箇所が形成される場合がある。
次に、太陽電池の裏面側(非受光面側)に接着層の材料として透明なEVAシートおよび裏面封止材を重ね、真空ラミネート装置を用いて接着層を介して裏面封止材を太陽電池に接着して封止する。この時、裏面封止材として、PET/Al/PETの積層フィルムを用いることが好ましい。
その後、前記取り出し線13を端子ボックスの出力線と電気的に接続し、端子ボックスを裏面封止材に接着し、シリコーン樹脂で端子ボックス内を充填する。そして、薄膜太陽電池の外周部にアルミフレームを取り付けて製品化を完了させる。
図3は本発明の集積型薄膜太陽電池の実施形態2を示す平面図である。なお、図3中の構成要素において、図1および図2中の構成要素と同様のものには同一の符号を付している。
実施形態2の太陽電池は、ストリングSが、同一の透光性絶縁基板1上に、直列接続方向に延びる1本以上のストリング分離溝を挟んで直列接続方向Aと直交する方向Bに複数並列して配置され、少なくとも1本のストリング分離溝によって複数のストリングSがグループ毎に完全に分離され、分離されたストリングSの各グループが第1集電電極16および第2集電電極17によって並列接続され、並列接続された複数のストリングSのグループが直列接続されている。
また、各グループにおけるストリング分離溝18Bは隣接する2つのストリングSを完全には分離しておらず、各グループの3つのストリングSにおける直列接続方向Aの両端のセル5a、5bは一体化しており、それらの上に個別に第1および第2集電電極16、17が接合されている。したがって、各グループの3つのストリングSは電気的に並列接続されているが、第1グループと第2グループは電気的に並列接続されていない。
この実施形態2によれば、第1グループおよび第2グループで発生した電流はそれぞれ電流方向Eへ流れ、かつ第1グループと第2グループは直列接続されているため、1つの太陽電池で高電圧の電流を出力することができる構成とするのに有効である。
なお、実施形態2において、その他の構成および効果は実施形態1と同様であり、第1および第2集電電極6、7の脱落が防止される。
図4は本発明の集積型薄膜太陽電池の実施形態3を示す平面図であり、図5は図4の集積型薄膜太陽電池の直列接続方向に切断した断面図である。なお、図4および図5中の構成要素において、図1および図2中の構成要素と同様のものには同一の符号を付している。
実施形態3が実施形態1と異なる点は、太陽電池が、第1集電電極6および第2集電電極7と接合した2つのセル5a、5bの間の1つ以上のセル5cの第2電極層4上に中間集電電極14が接合した点と、中間集電電極14と接合したセル5cにおいて、中間集電電極14の少なくとも直下および近傍部分の第1電極2dが、その下流側に形成された絶縁ライン11によって他部分の第1電極層2eと絶縁分離されている点である。
さらに、各ストリングSの直列接続方向Aのほぼ中間位置のセル5c上に1本の中間集電電極14がろう材(例えば、銀ペースト)を介して接合されている。なお、中間集電電極14と接合される各セル5cは、図2(c)に示すように、ストリング分離溝8によって相互に分離されているが、図2(b)に示すように、一体状に繋がっていてもよい。
つまり、中間集電電極14の直下の第1電極層2dは、分離ライン10によって上流側のセル5の第1電極層2と絶縁分離され、かつ絶縁ライン11によって同じセル5c内の下流側の第1電極層2eと絶縁分離されている。
したがって、中間集電電極14と接合したセル5cの上流側のセル5からの電流は、セル5cの直列用導電部4aおよび第2電極層4を介して一部が中間集電電極14へ流れ、一部が光電変換層3を通って第1電極層2eへ流れ、中間集電電極14の直下の第1電極層2dには流れない。よって、セル5cにおける中間集電電極14の直下の光電変換層3内に中途半端な短絡が生じたとしても、短絡箇所には電流が流れないため、短絡箇所での局所的な発熱が防止され、その発熱が原因で中間集電電極14の脱落、基板割れ、膜剥がれ、電極損傷等が発生することを防止することができる。
なお、実施形態3において、このような構成以外は実施形態1と同様であり、実施形態1の製造方法に準じて製造することができる。
1.非導電性表面領域12の形成の際のトリミング(セル部分の除去)が万が一不十分であった場合、第2集電電極と接合したセル5bの第1電極層2が、太陽電池の金属フレームに短絡する可能性がある。そのため、図2で示した構造の太陽電池(実施形態1)において、最下流側のセル5bの第1電極層2の第2集電電極7よりも上流側に、絶縁ラインを形成することにより、万が一セル5bの第1電極層2が金属フレームに短絡しても、太陽電池からの電流が金属フレームへ流れることを防止することができる。
2.ストリングの数、集電電極の取り付け位置および数等は、上述の実施形態に限定されず、例えば、中間集電電極を残し、直列接続方向両端の第1および第2集電電極を第1電極層(p側電極、n側電極)に接続してもよい。また、ストリングの直列接続方向の複数箇所に中間集電電極を設けてもよい。また、同一の透光性絶縁基板のストリング形成領域を4区画とし、各区画にストリングのグループを形成し、複数のグループを所望の形態に接続してもよい。
2、2b、2c、2d、2e 透光性第1電極層
2a 延出部
3 光電変換層
4 第2電極層
4a 直列用導電部
5、5a、5b、5c 薄膜光電変換素子(セル)
6 第1集電電極
7 第2集電電極
8、18A、18B ストリング分離溝
9 素子分離溝
10 電極分離ライン
11 絶縁ライン
14 中間集電電極
A 直列接続方向
B 直列接続方向と直交する方向
D バイパスダイオード
E 電流方向
S ストリング
Claims (7)
- 透光性絶縁基板上に透光性第1電極層、光電変換層および第2電極層が順次積層されてなる薄膜光電変換素子が複数互いに電気的に直列接続されたストリングと、
前記ストリングにおける任意の前記薄膜光電変換素子の第2電極層上に電気的に接合された集電電極とを備え、
前記ストリングは、隣接する2つの薄膜光電変換素子の間に第2電極層および光電変換層が除去されて形成された素子分離溝を有し、
一の薄膜光電変換素子の第1電極層は、その一端が前記素子分離溝を横切って隣接する他の薄膜光電変換素子の領域まで延びた延出部を有し、かつ隣接する薄膜光電変換素子の第1電極層とは電極分離ラインによって電気的に絶縁され、
一の薄膜光電変換素子の第2電極層の一端は、光電変換層を貫通する直列用導電部を介して隣接する薄膜光電変換素子の第1電極層の前記延出部と電気的に接続し、
前記集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも集電電極直下部分は、第1電極層の他部分と絶縁分離されており、
前記集電電極が、第1集電電極および第2集電電極として、ストリングにおける直列接続方向の両端の薄膜光電変換素子の第2電極層上に接合されると共に、中間集電電極として、ストリングにおける直列接続方向の両端の薄膜光電変換素子を除く他の薄膜光電変換素子の第2電極層上に接合され、
前記第1集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも第1集電電極直下よりもストリングを流れる電流の電流方向下流側に絶縁ラインが形成され、
前記第2集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも第2集電電極直下よりも電流方向上流側に前記電極分離ラインが形成され、
前記中間集電電極と接合した薄膜光電変換素子において、第1電極層の少なくとも中間集電電極直下よりもストリングを流れる電流の電流方向上流側に前記電極分離ラインが配置され、かつ電流方向下流側に絶縁ラインが配置されていることを特徴とする集積型薄膜太陽電池。 - 前記ストリングが、同一の前記透光性絶縁基板上に、直列接続方向に延びる1本以上のストリング分離溝を挟んで直列接続方向と直交する方向に複数並列して配置され、複数のストリングが並列あるいは直列接続された請求項1に記載の集積型薄膜太陽電池。
- 前記ストリングが、同一の前記透光性絶縁基板上に、直列接続方向に延びる1本以上のストリング分離溝を挟んで直列接続方向と直交する方向に複数並列して配置され、
少なくとも1本の前記ストリング分離溝によって複数のストリングがグループ毎に完全に分離され、分離されたストリングの各グループが前記第1集電電極および第2集電電極によって並列接続され、並列接続された複数のストリングのグループが直列接続された請求項1に記載の集積型薄膜太陽電池。 - 複数のストリングからなるグループにおいて、各ストリングの直列接続方向両側の薄膜光電変換素子がストリング分離溝によって分離されずに繋がっている請求項3に記載の集積型薄膜太陽電池。
- 前記ストリングが、同一の前記透光性絶縁基板上に、直列接続方向に延びる1本以上のストリング分離溝を挟んで直列接続方向と直交する方向に複数並列して配置され、
前記第1集電電極、中間集電電極および第2集電電極によって複数のストリングが並列接続され、並列接続された複数のストリングにバイパスダイオードが並列接続され、それらのバイパスダイオードが複数直列接続された請求項1に記載の集積型薄膜太陽電池。 - 複数のストリングにおいて、直列接続方向両側の薄膜光電変換素子がストリング分離溝によって分離されずに繋がっている請求項5に記載の集積型薄膜太陽電池。
- 前記ストリング分離溝が、第1電極層を除去して形成された第1溝と、光電変換層および第2電極層を前記第1溝の幅よりも広い幅で除去して形成された第2溝とからなる請求項2〜6のいずれか1つに記載の集積型薄膜太陽電池。
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EP1079441A3 (en) * | 1999-08-25 | 2007-12-26 | Kaneka Corporation | Thin film photoelectric conversion module and method of manufacturing the same |
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