JP5157217B2 - 半導体装置とその製造方法 - Google Patents
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Description
この問題を解決するために、分離範囲近傍のボディ領域及びトレンチゲート電極を覆う範囲に、拡散領域を形成した半導体装置が知られている。拡散領域は、ボディ領域と同じ導電型の不純物を拡散させた領域である。このように拡散領域を形成すると、分離範囲近傍のトレンチゲート電極の下端、ボディ領域の縁部等への電界の集中を抑制することができる。
なお、特許文献1には、半導体基板の縁部近傍に絶縁体領域を形成することによって半導体装置の耐圧を向上させる技術が開示されている。
なお、トレンチ絶縁体は、少なくとも半導体基板と絶縁されているトレンチ形状の部分であり、トレンチ絶縁体の内部等に導体が存在していてもよい。例えば、トレンチゲート電極と同様に、トレンチ絶縁体が内部に電極を備えており、その電極がトレンチゲート電極と導通していてもよい。
また、トレンチ絶縁体群は、トレンチゲート電極群とともに形成することが可能である。したがって、この半導体装置は、非常に効率よく製造することができる。
このような構成によれば、ゲート配線が極端に長く引き回されることがなくなり、ゲート配線上での信号の遅延を抑制することができる。
このような構成によれば、分離範囲近傍で電界が集中することを好適に抑制することができる。
このような構成によっても、分離範囲近傍で電界が集中することを好適に抑制することができる。
このような構成によれば、半導体基板に各トレンチ絶縁体を容易に形成することができる。
この半導体装置は、第1ボディ領域と、第2ボディ領域と、ドリフト領域と、第1トレンチゲート電極群と、第2トレンチゲート電極群を備えている。前記第1ボディ領域は、半導体基板を平面視したときの第1範囲において半導体基板表面から第1深さにまで至る第1島状範囲に形成されているとともに、第1導電型である。前記第2ボディ領域は、前記半導体基板を平面視したときに前記第1範囲に分離範囲を隔てて隣接している第2範囲において前記半導体基板表面から第2深さにまで至る第2島状範囲に形成されているとともに、第1導電型である。前記ドリフト領域は、前記分離範囲から前記第1ボディ領域の下部及び前記第2ボディ領域の下部に亘って形成されているとともに、第2導電型である。前記第1トレンチゲート電極群は、前記半導体基板表面から前記第1ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に達しており、少なくとも前記第1範囲内において所定の間隔を隔てて規則的に配置されている第1トレンチ群内に絶縁層に覆われた状態で存在しており、前記第1トレンチ群は前記分離範囲に向けて伸びているとともに、前記第1範囲と前記分離範囲との境界近傍において前記第2範囲に近づくほど浅くなるという関係を満たして終端している。前記第2トレンチゲート電極群は、前記半導体基板表面から前記第2ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に達しており、少なくとも前記第2範囲内において所定の間隔を隔てて規則的に配置されている第2トレンチ群内に絶縁層に覆われた状態で存在している。
前記半導体基板を平面視したときに、前記第1トレンチ群を構成する各第1トレンチの長手方向は、前記第2トレンチ群を構成する各第2トレンチの長手方向と一致する。前記第1範囲と前記第2範囲と前記分離範囲とを含む範囲で切り取った断面において、前記第1範囲と前記第2範囲は、前記長手方向に沿って、前記分離範囲を隔てて隣接している。前記長手方向における前記分離範囲の中央の前記半導体基板表面上には、絶縁膜が形成されており、その絶縁膜上に、前記第1トレンチゲート電極群及び前記第2トレンチゲート電極群と接続されているゲート配線が形成されている。前記長手方向は、前記ゲート配線に対して直交する方向である。前記各第1トレンチは、その長手方向端部が分離範囲と重なっており、かつ、前記分離範囲に向けて伸びているとともに、前記長手方向端部の深さが、前記第2範囲に近づくほどより浅くなるという関係を満たして終端している。前記各第2トレンチは、その長手方向端部が分離範囲と重なっており、かつ、前記分離範囲に向けて伸びているとともに、前記長手方向端部の深さが、前記第1範囲に近づくほどより浅くなるという関係を満たして終端している。
この半導体装置では、第1トレンチゲート電極群が、前記第1範囲と前記分離範囲との境界近傍において前記第2範囲に近づくほど浅くなるという関係を満たして終端している。また、第2トレンチゲート電極群が、前記第2範囲と前記分離範囲との境界近傍において前記第1範囲に近づくほど浅くなるという関係を満たして終端している。したがって、第1及び第2トレンチゲート電極群の分離範囲側の終端部近傍に電界が集中することが抑制されている。この半導体装置は耐圧が高い。
このような構成によれば、分離範囲近傍の第1ボディ領域の縁部に電界が集中することを抑制することができる。
このような構成によれば、半導体基板に第1トレンチ群を容易に形成することができる。
この製造方法は、エッチングマスク配置工程と、エッチング工程を有する。エッチングマスク配置工程では、第1トレンチゲート電極群形成用の開口群と、第2トレンチゲート電極群形成用の開口群と、第1トレンチ絶縁体群形成用の開口群と、第2トレンチ絶縁体群形成用の開口群を備えており、第1トレンチ絶縁体群形成用の開口群を構成する複数の開口は前記第2範囲に近い開口の方が幅が狭いという関係を満たしており、第2トレンチ絶縁体群形成用の開口群を構成する複数の開口は前記第1範囲に近い開口の方が幅が狭いという関係を満たしているエッチングマスクを前記半導体基板上に配置する。エッチング工程では、配置したエッチングマスクを介して前記半導体基板表面をエッチングすることによって、前記第1トレンチゲート電極群用のトレンチ群と、前記第2トレンチゲート電極群用のトレンチ群と、第1トレンチ絶縁体群用のトレンチ群と、第2トレンチ絶縁体群用のトレンチ群を形成する。
半導体基板のエッチング速度は、エッチングマスクの開口の幅が広いほど早くなる。したがって、この製造方法によれば、第1トレンチゲート電極群用のトレンチ群と第2トレンチゲート電極群用のトレンチ群の深さを第1トレンチ絶縁体群用のトレンチ群及び第2トレンチ絶縁体群用のトレンチ群より深くすることができる。また、第1トレンチ絶縁体群用のトレンチ群を構成する各トレンチを、前記第2範囲に近いトレンチの方が浅いという関係で形成することができる。また、第2トレンチ絶縁体群用のトレンチ群を構成する各トレンチを、前記第1範囲に近いトレンチの方が浅いという関係で形成することができる。すなわち、一度のエッチングで各トレンチを形成することができ、効率的に半導体装置を製造することができる。
この製造方法は、エッチングマスク配置工程と、エッチング工程を有する。エッチング工程では、前記長手方向において前記第2範囲に近づくほど幅がより狭く形成されている第1トレンチゲート電極群形成用の開口群と、前記長手方向において前記第1範囲に近づくほど幅がより狭く形成されている第2トレンチゲート電極群形成用の開口群を備えているエッチングマスクを前記半導体基板上に配置する。エッチング工程では、配置したエッチングマスクを介して前記半導体基板表面をエッチングすることによって、前記第1トレンチゲート電極群用のトレンチ群と、前記第2トレンチゲート電極群用のトレンチ群を形成する。
この製造方法によれば、第1トレンチゲート電極群用のトレンチ群を構成する各トレンチの分離範囲近傍部分を、第2範囲に近づくほど浅く形成することができる。また、第2トレンチゲート電極群用のトレンチ群を構成する各トレンチの分離範囲近傍部分を、第1範囲に近づくほど浅く形成することができる。すなわち、一度のエッチングで第1トレンチ群及び第2トレンチ群を形成することができ、効率的に半導体装置を製造することができる。
(特徴2)各トレンチゲート型チャネル構造は、ボディ領域と、ボディ領域を貫通してドリフト領域に達しているトレンチゲート電極群を有している。
(特徴3)全てのトレンチゲート電極は互いに平行に形成されている。
(特徴4)各トレンチゲート型チャネル構造は、半導体基板を平面視したときに、分離範囲によって互いに分離されている複数の範囲にそれぞれ形成されている。
(特徴5)第1範囲と、第1範囲に第1分離範囲を隔ててトレンチゲート電極の幅方向に隣接している第2範囲との境界領域においては、第1範囲と第1分離範囲の境界近傍にその境界に沿って第1トレンチ絶縁体群が形成されており、第2範囲と第1分離範囲の境界近傍にその境界に沿って第2トレンチ絶縁体群が形成されている。
(特徴6)トレンチゲート電極群と、第1トレンチ絶縁体群と、第2トレンチ絶縁体群は、互いに平行に形成されている。
(特徴7)第1範囲の第1ボディ領域は、第1範囲と第1分離範囲との境界近傍では、第2範囲の第2ボディ領域に近づくほど浅くなっている。
(特徴8)第1トレンチ絶縁体群を構成する複数本の第1トレンチ絶縁体のうち、前記第2範囲から遠い側の1つまたは複数の第1トレンチ絶縁体は、前記第1ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に突出している。
(特徴9)第1トレンチ絶縁体群を構成する複数本の第1トレンチ絶縁体のうち、前記第2範囲に近い側の1つまたは複数の第1トレンチ絶縁体は、分離範囲に位置するドリフト領域に形成されている。
(特徴10)第1範囲と、第1範囲に第2分離範囲を隔ててトレンチゲート電極の長さ方向に隣接している第3範囲との境界領域においては、第2分離範囲とトレンチゲート電極群が直交している。
後に詳述するが、シリコン基板12の各エミッタ電極20の下部には、複数のゲート電極22、ボディ層26等によって構成されるトレンチゲート型チャネル構造がそれぞれ形成されている。各トレンチゲート型チャネル構造は、他のトレンチゲート型チャネル構造から離間している。
トレンチ絶縁体52a〜52eは、トレンチの壁面(側面及び底面)に形成されている絶縁膜と、トレンチの内部に形成されているpoly−Siの導体によって構成されている。したがって、各導体は、絶縁膜によって半導体基板12から絶縁されている。各導体の上面は、層間絶縁膜55によって覆われている。なお、図示していない部分で、導体はゲート配線40に接続されている。
なお、分離範囲58においては、ゲート配線40の周囲の層間絶縁膜42、絶縁膜44中に形成されているコンタクトホール46によって、ゲート電極22がゲート配線40と接続されている。
図5に示すように、従来のIGBTでは、ボディ層26の角部近傍領域100と、分離範囲50に最も近いゲート電極22の下端近傍領域102で等電位線が密となっている。すなわち、領域100、102に電界が集中する。
図3に示すように、本実施例のIGBT10では、分離範囲50とボディ層26の境界近傍に、トレンチ絶縁体52a〜52eが形成されている。したがって、図示するように等電位線が分離範囲50内に大きく伸びる。これによって、ボディ層26の角部近傍及びゲート電極22の下端近傍に電界が集中することが抑制される。また、トレンチ絶縁体52a〜52eは、ゲート電極22より浅く、他方のエミッタ電極20に近いトレンチ絶縁体ほど(例えば、エミッタ電極20a側のトレンチ絶縁体52a〜52eの場合、エミッタ電極20bに近いトレンチ絶縁体ほど)浅くなっている。したがって、図示するように、等電位線が滑らかに変化している。すなわち、トレンチ絶縁体52a〜52eに電界が分散する。したがって、分離領域50に最も近いゲート電極22に電界が集中することが抑制される。また、トレンチ絶縁体52a〜52eの下端近傍に電界集中が発生することもない。すなわち、IGBT10の分離範囲50近傍での電界集中の発生が抑制されている。
図6に示すように、従来のIGBTでは、ゲート電極22の角部近傍領域104で等電位線が密となっている。すなわち、角部近傍領域104に電界が集中する。
図4に示すように、本実施例のIGBT10では、ゲート電極22が他方のエミッタ電極20に近づくほど(例えば、エミッタ電極20a側のゲート電極22の場合、エミッタ電極20cに近づくほど)浅くなっている。したがって、ゲート電極22の近傍に電界が集中することが抑制される。また、分離範囲58との境界近傍において、ゲート電極22はボディ層26より下側に突出している(すなわち、ゲート電極22が全長に亘ってボディ層26の下側に突出している)。したがって、ボディ層26の近傍に電界が集中することも抑制される。すなわち、IGBT10の分離範囲58近傍での電界集中の発生が抑制されている。
図9は、シリコン基板12の上面12aをエッチングするときに、上面12aに配置するエッチングマスクの開口の形状を示している。なお、図9は、エッチングマスクの開口のうちの一部のみを示している。
開口124は、トレンチ24と略同等の幅を有している。開口152a〜152eは、開口124よりも幅が狭い。開口152a〜152eは、トレンチ絶縁体52a〜52eと略同等の幅を有している。すなわち、開口152aの幅が最も広く、開口152e側の開口ほど幅が狭くなっている。また、開口124、152a〜152eは、端部近傍の幅が端部に近づくにつれて細くなっている。
エッチングマスクを配置したら、ドライエッチングにより、配置したエッチングマスクを介してシリコン基板12の上面12aをエッチングする。したがって、各開口内のシリコン基板12がエッチングされる。このとき、幅が広い開口内では、エッチングガスの流入量が多いので、エッチング速度が速くなる。幅が狭い開口内では、エッチングガスの流入量が少なく、エッチング速度が遅くなる。したがって、エッチング後に、図10に示すようにシリコン基板12に深さの異なるトレンチが形成される。すなわち、トレンチ252a〜252eは、トレンチ24よりも浅くなる。また、トレンチ252a〜252eは、トレンチ252aが最も深く、トレンチ252aから遠いトレンチほど浅くなる。また、開口124、152a〜152eの端部近傍は端部に近づくほど幅が狭くなっているので、トレンチ24、252a〜252eの端部近傍は端部に近づくほど浅くなる。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
12:シリコン基板
20:エミッタ電極
22:ゲート電極
23:ゲート絶縁膜
24:トレンチ
25:エミッタ領域
26:ボディ層
28:ドリフト層
30:コレクタ層
32:コレクタ電極
40:ゲート配線
46:コンタクトホール
50:分離範囲
52:トレンチ絶縁体
58:分離範囲
Claims (9)
- 第1ボディ領域と、第2ボディ領域と、ドリフト領域と、第1トレンチゲート電極群と、第2トレンチゲート電極群と、第1トレンチ絶縁体群と、第2トレンチ絶縁体群を備えている半導体装置であって、
前記第1ボディ領域は、半導体基板を平面視したときの第1範囲において半導体基板表面から第1深さにまで至る第1島状範囲に形成されているとともに、第1導電型であり、
前記第2ボディ領域は、前記半導体基板を平面視したときに前記第1範囲に分離範囲を隔てて隣接している第2範囲において前記半導体基板表面から第2深さにまで至る第2島状範囲に形成されているとともに、第1導電型であり、
前記ドリフト領域は、前記分離範囲から前記第1ボディ領域の下部及び前記第2ボディ領域の下部に亘って形成されているとともに、第2導電型であり、
前記第1トレンチゲート電極群は、前記半導体基板表面から前記第1ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に達するとともに、少なくとも前記第1範囲内において所定の間隔を隔てて規則的に配置されている第1トレンチ群内に絶縁層に覆われた状態で存在しており、
前記第2トレンチゲート電極群は、前記半導体基板表面から前記第2ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に達するとともに、少なくとも前記第2範囲内において所定の間隔を隔てて規則的に配置されている第2トレンチ群内に絶縁層に覆われた状態で存在しており、
前記半導体基板を平面視したときに、前記第1トレンチゲート電極群を構成する複数本の第1トレンチゲート電極の配置方向は、前記第2トレンチゲート電極群を構成する複数本の第2トレンチゲート電極の配置方向と一致し、
前記第1範囲と前記第2範囲と前記分離範囲とを含む範囲で切り取った断面において、前記第1範囲と前記第2範囲は、前記配置方向に沿って、前記分離範囲を隔てて隣接しており、
前記配置方向における前記分離範囲の中央の前記半導体基板表面上には、絶縁膜が形成されており、
その絶縁膜上に、前記第1トレンチゲート電極群及び前記第2トレンチゲート電極群と接続されているゲート配線が形成されており、
前記第1トレンチ絶縁体群は、前記配置方向において、前記複数本の第1トレンチゲート電極のうち最も前記分離範囲寄りの第1トレンチゲート電極と、前記ゲート配線の中央と、の間の第1特定範囲内に、前記半導体基板表面における前記第1範囲と前記分離範囲との境界に沿って形成されており、前記第1トレンチゲート電極群より浅く、かつ、少なくともトレンチの先端部が前記第1ボディ領域の外側にまで伸びており、前記第1トレンチ絶縁体群を構成する複数本の第1トレンチ絶縁体のそれぞれは前記第2範囲に近い第1トレンチ絶縁体の方がより浅いという関係を満たしており、
前記第2トレンチ絶縁体群は、前記配置方向において、前記複数本の第2トレンチゲート電極のうち最も前記分離範囲寄りの第2トレンチゲート電極と、前記ゲート配線の中央と、の間の第2特定範囲内に、前記半導体基板表面における前記第2範囲と前記分離範囲との境界に沿って形成されており、前記第2トレンチゲート電極群より浅く、かつ、少なくともトレンチの先端部が前記第2ボディ領域の外側にまで伸びており、前記第2トレンチ絶縁体群を構成する複数本の第2トレンチ絶縁体のそれぞれは前記第1範囲に近い第2トレンチ絶縁体の方がより浅いという関係を満たしている、
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記第1ボディ領域は、前記第1特定範囲内では第2ボディ領域に近づくほどより浅くなっており、
前記第1トレンチ絶縁体群は、前記第1ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に突出していることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1トレンチ絶縁体群は、前記分離範囲に位置する前記ドリフト領域に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 各トレンチ絶縁体は、浅いトレンチ絶縁体ほど幅がより狭いことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体装置。
- 第1ボディ領域と、第2ボディ領域と、ドリフト領域と、第1トレンチゲート電極群と、第2トレンチゲート電極群を備えている半導体装置であって、
前記第1ボディ領域は、半導体基板を平面視したときの第1範囲において半導体基板表面から第1深さにまで至る第1島状範囲に形成されているとともに、第1導電型であり、
前記第2ボディ領域は、前記半導体基板を平面視したときに前記第1範囲に分離範囲を隔てて隣接している第2範囲において前記半導体基板表面から第2深さにまで至る第2島状範囲に形成されているとともに、第1導電型であり、
前記ドリフト領域は、前記分離範囲から前記第1ボディ領域の下部及び前記第2ボディ領域の下部に亘って形成されているとともに、第2導電型であり、
前記第1トレンチゲート電極群は、前記半導体基板表面から前記第1ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に達しており、少なくとも前記第1範囲内において所定の間隔を隔てて規則的に配置されている第1トレンチ群内に絶縁層に覆われた状態で存在しており、
前記第2トレンチゲート電極群は、前記半導体基板表面から前記第2ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に達しており、少なくとも前記第2範囲内において所定の間隔を隔てて規則的に配置されている第2トレンチ群内に絶縁層に覆われた状態で存在しており、
前記半導体基板を平面視したときに、前記第1トレンチ群を構成する各第1トレンチの長手方向は、前記第2トレンチ群を構成する各第2トレンチの長手方向と一致し、
前記第1範囲と前記第2範囲と前記分離範囲とを含む範囲で切り取った断面において、前記第1範囲と前記第2範囲は、前記長手方向に沿って、前記分離範囲を隔てて隣接しており、
前記長手方向における前記分離範囲の中央の前記半導体基板表面上には、絶縁膜が形成されており、
その絶縁膜上に、前記第1トレンチゲート電極群及び前記第2トレンチゲート電極群と接続されているゲート配線が形成されており、
前記長手方向は、前記ゲート配線に対して直交する方向であり、
前記各第1トレンチは、その長手方向端部が分離範囲と重なっており、かつ、前記分離範囲に向けて伸びているとともに、前記長手方向端部の深さが、前記第2範囲に近づくほどより浅くなるという関係を満たして終端しており、
前記各第2トレンチは、その長手方向端部が分離範囲と重なっており、かつ、前記分離範囲に向けて伸びているとともに、前記長手方向端部の深さが、前記第1範囲に近づくほどより浅くなるという関係を満たして終端している、
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記第1ボディ領域は、前記長手方向端部の深さが、前記第2ボディ領域に近づくほどより浅くなっており、
前記第1トレンチゲート電極群は、全長に亘って前記第1ボディ領域を貫通して前記ドリフト領域に突出していることを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。 - 前記各第1トレンチは、前記長手方向端部の幅が、前記第2ボディ領域に近づくほどより狭くなっていることを特徴とする請求項5または6に記載の半導体装置。
- 請求項4の半導体装置の製造方法であって、
第1トレンチゲート電極群形成用の開口群と、第2トレンチゲート電極群形成用の開口群と、第1トレンチ絶縁体群形成用の開口群と、第2トレンチ絶縁体群形成用の開口群を備えており、第1トレンチ絶縁体群形成用の開口群を構成する複数の開口は前記第2範囲に近い開口の方が幅が狭いという関係を満たしており、第2トレンチ絶縁体群形成用の開口群を構成する複数の開口は前記第1範囲に近い開口の方が幅が狭いという関係を満たしているエッチングマスクを前記半導体基板上に配置するエッチングマスク配置工程と、
配置したエッチングマスクを介して前記半導体基板表面をエッチングすることによって、前記第1トレンチゲート電極群用のトレンチ群と、前記第2トレンチゲート電極群用のトレンチ群と、第1トレンチ絶縁体群用のトレンチ群と、第2トレンチ絶縁体群用のトレンチ群を形成するエッチング工程を有する半導体装置の製造方法。 - 請求項7の半導体装置の製造方法であって、
前記長手方向において、前記第2範囲に近づくほど幅がより狭く形成されている第1トレンチゲート電極群形成用の開口群と、前記長手方向において、前記第1範囲に近づくほど幅がより狭く形成されている第2トレンチゲート電極群形成用の開口群を備えているエッチングマスクを前記半導体基板上に配置するエッチングマスク配置工程と、
配置したエッチングマスクを介して前記半導体基板表面をエッチングすることによって、前記第1トレンチゲート電極群用のトレンチ群と、前記第2トレンチゲート電極群用のトレンチ群を形成するエッチング工程を有する半導体装置の製造方法。
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