JP5126845B2 - 半導体材料とその製造方法 - Google Patents
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Description
コーン・エミッターを有しないアモルファスBN薄膜を形成する従来周知の方法を用いることが可能である。代表例としては、プラズマCVD,熱CVD等により、ホウ素原料ガスとしてB2H6、BCl3等、窒素原料ガスとしてNH3等を用いる。
基板としては、Siを用いると、下記するようにp型半導体BNが得られ、Cを含む材質(グラファイト、B4Cなど)等を用いると、n型半導体BNが得られる。ここで、BNはsp3−結合性nH−BN(nは2以上の自然数)というBN高密度相の多形である。
基板上に作製された上記アモルファスBN薄膜を、光導入用光学窓を持つ合成チャンバーに設置し、チャンバー内雰囲気を不活性ガス(Arなど)、又は、不活性ガスにNH3ガスなどを混入したもので満たし、チャンバー外から光学窓を通して紫外光(代表的にはArFレーザ光:波長193nm)を薄膜表面に照射する。この際、NH3等の窒素を含有するガスを推奨するのはBNの組成変化(Nが抜けやすい)を抑制する効果があるためである。又、これらの雰囲気は、プラズマ化することで、プロセス時間の短縮などの効果がある。図1は、以下の実施例を実施するために使用した装置の概略図である。
ガスプラズマとレーザ照射とは異なるタイミングで行われ、アモルファスBN薄膜を生成するときにガスプラズマを使用し、コーン・エミッターを生成するときにレーザ照射を行えるようにしてある。
そして、これらの操作を、チャンバー内から基板を出し入れしなくとも連続して順次行えるようにしてある。
なお、アモルファスBN薄膜とレーザ照射とを別個の装置で行うことを妨げるものではない。
アモルファスBN薄膜の作成
本実施例では、表1に示す条件にてアモルファスBN薄膜を得た。
Lot No.1のAFM像を図5に示す。 他のロットのアモルファスBN薄膜も同様な表面であった。
前記表1にて得られたアモルファスBN薄膜を表2に示すようにして、薄膜の改質を行った。
n型Si基板上に得られたp型BN薄膜は、pn接合を形成し、整流特性を示していることが判明した(図2)。
前記表2−1、2に示す光起電力を有するpn接合を、n型GaNなどとのヘテロ接合として、あるいは、C等のドープによるn型BNと上記p型BNとのホモ接合として、ガラスなどの透明基板上に作製すれば、光透過性(透明な)太陽電池が作成でき、窓ガラスなどへの応用が可能になる。
サファイア基板上に作成した透明なsp3−結合性nH−BN薄膜で、基板を回転しながら成長したため、図7に示すとおり円盤状に形成されている。又、レーザ光の不均一性を反映して、中心部分と、円盤周縁部分では透明性が落ちて、多少の着色が見られる。
導電性発現の解釈として、レーザ光が十分なエネルギー密度を持つ場合、基板材料自体が成長しつつあるBN薄膜とミキシングを生じてドーピングされることが考えられ、表2-1、2、3などの例では、シリコンがBNにドープされ、p型半導体化したことが考えられる。
その太陽電池能は、100Wの電球による光照射により測定した。その結果を図10に示す。ここで、実線は、光照射無しの場合、点線は光照射有りの場合で、Voc=0.17Vが確認できた。測定は、1MΩの抵抗を直列に入れて行っている。
このように、この半導体材料は太陽電池としての応用が可能である。
Claims (2)
- 基板とその表面に形成した薄膜とからなる半導体特性を有する半導体材料であって、
前記薄膜がsp3−結合性nH−BN(nは2以上の自然数)であり、
前記基板を構成する材料が前記薄膜にドープされ、半導体化されていることを特徴とする半導体材料。 - 請求項1に記載の半導体材料の製造方法であって、不活性ガスにNH 3 ガスを混入したガス雰囲気中で、半導体基板にアモルファスBN薄膜が形成してある前駆体の薄膜方面に紫外光を照射して、前記薄膜をsp3−結合性nH−BN(nは2以上の自然数)に変性することを特徴とする半導体材料の製造方法。
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