JP5107732B2

JP5107732B2 - Laser oscillation apparatus and laser oscillation method

Info

Publication number: JP5107732B2
Application number: JP2008011761A
Authority: JP
Inventors: 沢明彦滝
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 2008-01-22
Filing date: 2008-01-22
Publication date: 2012-12-26
Anticipated expiration: 2028-01-22
Also published as: JP2009176830A

Description

本発明は、放電管から発生された励起光によってレーザ光を発振させるレーザ発振装置およびレーザ発振方法に関する。 The present invention relates to a laser oscillation device and a laser oscillation method for oscillating laser light by excitation light generated from a discharge tube.

従来一般的に広く用いられているレーザ発振装置は、放電管（ランプ）やレーザダイオードといった励起光源と、レーザ媒質とを備えている。そして、励起光源からの励起光をレーザ媒質に照射することによって、レーザ媒質からレーザ光を発振させている。 2. Description of the Related Art Conventionally, laser oscillation devices that are widely used include an excitation light source such as a discharge tube (lamp) and a laser diode, and a laser medium. The laser beam is oscillated from the laser medium by irradiating the laser medium with the excitation light from the excitation light source.

励起源として放電管を用いる際には、印加されるパルス状の加工電力（入力エネルギー）が小さい場合や、パルス幅が短い場合には、放電管における放電が不安定になり、放電管から励起光が発生しない(不点灯現象、または、ミストリガなどと呼ばれている)、あるいは、必要なエネルギー（光量）を出せないことなどが生じる。このため、安定な状態でレーザ媒質からレーザ光を発振させることができず、最終的にはレーザ発振装置としての安定性を維持することが困難となる。 When using a discharge tube as an excitation source, if the applied pulsed machining power (input energy) is small or the pulse width is short, the discharge in the discharge tube becomes unstable and excited from the discharge tube. There is a case where no light is generated (called a non-lighting phenomenon or mistrigger) or the necessary energy (light quantity) cannot be produced. For this reason, the laser beam cannot be oscillated from the laser medium in a stable state, and finally it becomes difficult to maintain the stability as the laser oscillation device.

従来のレーザ発振装置では、シンマー電源から微少電流（シンマー電流）を流し、ランプをグロー放電状態にすることが行われている（特許文献１参照）。また、別の態様では、レーザ媒質からのレーザ光の発振を不安定にさせないように、放電管に印加される加工電力（入力エネルギー）を大きくすることによって励起光の発光を安定させる方法もとられている。なおこの場合には、必要とするレーザ出力とするために、レーザ発振装置の外部に設けたアッテネータで、被処理体上の加工点におけるレーザ光のエネルギーを減衰させて制御される。
特開昭５６−０１２７８９号 In a conventional laser oscillation apparatus, a very small current (simmer current) is supplied from a simmer power source to bring the lamp into a glow discharge state (see Patent Document 1). In another aspect, the method of stabilizing the emission of excitation light by increasing the processing power (input energy) applied to the discharge tube so as not to make the oscillation of the laser light from the laser medium unstable. It has been. In this case, in order to obtain a necessary laser output, the attenuator provided outside the laser oscillation device is controlled by attenuating the energy of the laser beam at the processing point on the object to be processed.
JP 56-012789

しかしながら、特許文献１のようにシンマー電流を流した場合であっても、レーザ出力を放電管（ランプ）の励起光の光量（発光時間積）によって制御しようとすると、放電管に入力するエネルギー（電力時間積）が小さいときに発光ミスが生じることがある。 However, even if a simmer current is passed as in Patent Document 1, if the laser output is controlled by the light amount (light emission time product) of the excitation light of the discharge tube (lamp), the energy input to the discharge tube ( A light emission error may occur when the power time product is small.

また、放電管に印加される加工電力を大きくする方法では、エネルギー効率が悪化するため電力消費量が増加してランニングコストが上昇してしまうし、放電管に印加される電力（入力エネルギー）が大きくなるので、放電管の寿命が短くなってしまう。 Further, in the method of increasing the machining power applied to the discharge tube, the energy efficiency deteriorates, so that the power consumption increases and the running cost increases, and the power (input energy) applied to the discharge tube increases. Since it becomes large, the life of the discharge tube is shortened.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、エネルギー効率を悪化させず、かつ、放電管の寿命が短くなることなく、放電管における放電を確実に起こさせることができるレーザ発振装置およびレーザ発振方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such points, and a laser capable of reliably causing discharge in a discharge tube without deteriorating energy efficiency and without shortening the life of the discharge tube. An object is to provide an oscillation device and a laser oscillation method.

本発明によるレーザ発振装置は、
レーザ媒質と、
前記レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、
前記放電管へ電力を供給する電源と、を備え、
前記電源が、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加した後、該放電管に該プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させ、前記レーザ媒質からレーザ光を発振させる。 The laser oscillation device according to the present invention is:
A laser medium;
A discharge tube for irradiating the laser medium with excitation light;
A power source for supplying power to the discharge tube,
The power supply applies pulsed prepulse power to the discharge tube, and then applies processing power larger than the prepulse power to the discharge tube to generate excitation light, and oscillates laser light from the laser medium.

このような構成により、エネルギー効率を悪化させず、かつ、放電管の寿命が短くなることなく、放電管における放電を確実に起こさせることができる。 With such a configuration, it is possible to reliably cause discharge in the discharge tube without deteriorating energy efficiency and shortening the life of the discharge tube.

本発明によるレーザ発振装置において、
前記電源は、前記放電管に前記プリパルス電力を複数回、印加することが好ましい。 In the laser oscillation device according to the present invention,
It is preferable that the power source applies the prepulse power to the discharge tube a plurality of times.

このような構成により、放電管における放電をより確実に起こさせることができる。 With such a configuration, discharge in the discharge tube can be caused more reliably.

本発明によるレーザ発振装置において、
前記電源から前記放電管に印加される前記プリパルス電力のうち最後に印加されるプリパルス電力の大きさは、他のプリパルス電力の大きさよりも小さくなっていることが好ましい。 In the laser oscillation device according to the present invention,
Of the prepulse power applied from the power source to the discharge tube, the last applied prepulse power is preferably smaller than the other prepulse power.

このような構成により、プリパルス電力に起因する励起光により、レーザ媒質から誤ってレーザ光が発振されることを防止することができる。 With such a configuration, it is possible to prevent laser light from being erroneously oscillated from the laser medium due to excitation light resulting from prepulse power.

本発明によるレーザ発振装置において、
前記放電管に流れる電流を観察する電流観察部をさらに備え、
前記プリパルス電力は、前記電流観察部からの情報に基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つが調整されることが好ましい。 In the laser oscillation device according to the present invention,
A current observation unit for observing a current flowing in the discharge tube;
It is preferable that at least one of the magnitude, number of times, pulse width, and pulse interval of the pre-pulse power is adjusted based on information from the current observation unit.

本発明によるレーザ発振装置において、
被処理体がレーザ加工されている加工状態において、前記電源から前記放電管に次回以降に印加されるプリパルス電力は、前記電流観察部からの情報に基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つが調整されることが好ましい。 In the laser oscillation device according to the present invention,
In the processing state in which the object to be processed is laser processed, the pre-pulse power applied from the power source to the discharge tube from the next time is based on the information from the current observation unit, the magnitude, the number of times, the pulse width and Preferably at least one of the pulse intervals is adjusted.

本発明によるレーザ発振装置において、
前記電源を制御する制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記電流観察部から前記放電管に電流が流れたという情報を受けた後に、前記電源によって前記放電管に加工電力を印加させることが好ましい。 In the laser oscillation device according to the present invention,
A control unit for controlling the power supply;
The control unit preferably applies processing power to the discharge tube by the power source after receiving information from the current observation unit that a current has flowed to the discharge tube.

このような構成により、放電管における放電をさらに確実に起こさせることができる。 With such a configuration, discharge in the discharge tube can be caused more reliably.

本発明によるレーザ発振装置において、
前記電源を制御する制御部をさらに備え、
当該制御部は、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整することが好ましい。 In the laser oscillation device according to the present invention,
A control unit for controlling the power supply;
The control unit, based on the information from the current observation unit, when the workpiece is not laser processed, based on the information from the current observation unit, at least one of the magnitude, the number of times, the pulse width, and the pulse interval It is preferable to adjust one.

本発明によるレーザ発振装置において、
前記制御部は、定期的に非加工状態を作りだし、当該非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整することが好ましい。 In the laser oscillation device according to the present invention,
The control unit periodically creates a non-machined state, and when in the non-machined state, based on information from the current observation unit, the pre-pulse power magnitude, number of times, pulse width, and pulse interval It is preferable to adjust at least one.

本発明によるレーザ発振装置において、
前記レーザ媒質から発振されるレーザ光を観察するレーザ観察部をさらに備え、
前記プリパルス電力は、前記レーザ観察部からの情報にも基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つが調整されることが好ましい。 In the laser oscillation device according to the present invention,
A laser observation unit for observing laser light oscillated from the laser medium;
It is preferable that at least one of the magnitude, number of times, pulse width, and pulse interval of the prepulse power is adjusted based on information from the laser observation unit.

本発明によるレーザ発振方法は、
レーザ媒質と、該レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、該放電管へ電力を供給する電源と、を備えたレーザ発振装置を用いたレーザ発振方法において、
前記電源によって、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加するプリパルス工程と、
前記電源によって、前記放電管に前記プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させる励起光発生工程と、
前記励起光を受けた前記レーザ媒質からレーザ光が発振されるレーザ光発振工程と、
を備えている。 The laser oscillation method according to the present invention includes:
In a laser oscillation method using a laser oscillation apparatus including a laser medium, a discharge tube that irradiates the laser medium with excitation light, and a power source that supplies power to the discharge tube,
A prepulse step of applying pulsed prepulse power to the discharge tube by the power source;
An excitation light generation step of generating excitation light by applying a processing power larger than the pre-pulse power to the discharge tube by the power source;
A laser light oscillation step in which laser light is oscillated from the laser medium that has received the excitation light;
It has.

このような方法により、エネルギー効率を悪化させず、かつ、放電管の寿命が短くなることなく、放電管における放電を確実に起こさせることができる。 By such a method, discharge in the discharge tube can be surely caused without deteriorating energy efficiency and shortening the life of the discharge tube.

本発明によれば、放電管にパルス状のプリパルス電力を印加した後、該放電管に該プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加するので、エネルギー効率を悪化させず、かつ、放電管の寿命が短くなることなく、放電管における放電を確実に起こさせることができる。 According to the present invention, after applying a pulsed prepulse power to the discharge tube, a machining power larger than the prepulse power is applied to the discharge tube, so that energy efficiency is not deteriorated and the life of the discharge tube is reduced. The discharge in the discharge tube can be surely caused without shortening.

発明を実施するための形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

第１の実施の形態
以下、本発明に係るレーザ発振装置およびレーザ発振方法の第１の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図１および図２は本発明の第１の実施の形態を示す図である。 First Embodiment Hereinafter, a first embodiment of a laser oscillation device and a laser oscillation method according to the present invention will be described with reference to the drawings. Here, FIG. 1 and FIG. 2 are views showing a first embodiment of the present invention.

レーザ発振装置は、ガラス基板などの被処理体（図示せず）にレーザ光Ｌを照射してレーザ加工するために用いられる。このようなレーザ加工としては、例えば、溶接、切断、マーキング、パターニングなどを挙げることができる。 The laser oscillation device is used for laser processing by irradiating a target object (not shown) such as a glass substrate with laser light L. Examples of such laser processing include welding, cutting, marking, and patterning.

このようなレーザ発振装置は、図１に示すように、レーザ媒質２０と、レーザ媒質２０に励起光Ｅを照射する放電管１と、放電管１へ電圧（電力）を供給する電圧源（電源）１０と、を備えている。このうち、電圧源１０は、放電管１にパルス状のプリパルス電圧（プリパルス電力）を印加した後、この放電管１に、プリパルス電圧よりも大きな加工電圧を印加して励起光Ｅを発生させるようになっている（図２参照）。 As shown in FIG. 1, such a laser oscillation device includes a laser medium 20, a discharge tube 1 that irradiates the laser medium 20 with excitation light E, and a voltage source (power source) that supplies voltage (power) to the discharge tube 1. 10). Among these, the voltage source 10 applies a pulsed prepulse voltage (prepulse power) to the discharge tube 1 and then applies a machining voltage larger than the prepulse voltage to the discharge tube 1 to generate the excitation light E. (See FIG. 2).

ここで、プリパルス電圧のパルス幅（電圧が印加されている時間）ｄ１および加工電圧のパルス幅ｄ２は、０．０１ｍｓ〜１ｍｓほどであり、プリパルス電圧が印加されてから加工電圧が印加されるまでの時間Ｄは、０．０１〜１ｍｓほどであり、通常は０．１ｍｓほどである（図２参照）。 Here, the pulse width (time during which the voltage is applied) d1 of the pre-pulse voltage and the pulse width d2 of the machining voltage are about 0.01 ms to 1 ms, from when the pre-pulse voltage is applied until the machining voltage is applied. The time D is about 0.01 to 1 ms, and usually about 0.1 ms (see FIG. 2).

なお、図２は、レーザ発振装置の放電管１に流れる電流を、時間を横軸にとって示したグラフ図である。そして、この図２において、プリパルス電圧に対応して放電管１を流れる電流はプリパルス電流Ｐとして示され、加工電圧に対応して放電管１を流れる電流は加工電流Ｍとして示されている。 FIG. 2 is a graph showing the current flowing through the discharge tube 1 of the laser oscillation device with time as the horizontal axis. In FIG. 2, the current flowing through the discharge tube 1 corresponding to the prepulse voltage is shown as a prepulse current P, and the current flowing through the discharge tube 1 corresponding to the machining voltage is shown as a machining current M.

また、プリパルス電圧の大きさは、プリパルス電圧が印加されて放電管１から励起光Ｅが発生した場合でも、当該励起光Ｅによってレーザ媒質２０からレーザ光Ｌが発振されない程度の大きさであるか、または、レーザ媒質２０からレーザ光Ｌが例え発振されたとしても、当該レーザ光Ｌによっては被処理体が加工されない程度の大きさからなっている。なお、このようなプリパルス電圧の大きさは、典型的には、加工電圧の大きさの１％〜５０％程度の大きさからなっている。 Also, the magnitude of the prepulse voltage is such that even when the excitation light E is generated from the discharge tube 1 when the prepulse voltage is applied, the laser light L is not oscillated from the laser medium 20 by the excitation light E. Or, even if the laser beam L is oscillated from the laser medium 20, the laser beam L has such a size that the object to be processed is not processed by the laser beam L. Note that the magnitude of such a pre-pulse voltage typically has a magnitude of about 1% to 50% of the magnitude of the machining voltage.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。 Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described.

まず、電圧源１０によって、放電管１にパルス幅ｄ１のプリパルス電圧が一回印加されて、放電管１にプリパルス電流Ｐが流れる（プリパルス工程）（図１および図２参照）。 First, a prepulse voltage having a pulse width d1 is applied once to the discharge tube 1 by the voltage source 10, and a prepulse current P flows through the discharge tube 1 (prepulse process) (see FIGS. 1 and 2).

そして、プリパルス電圧が印加されてから時間Ｄが経過した後、電圧源１０によって、放電管１にパルス幅ｄ２のプリパルス電圧よりも大きな加工電圧が印加されて、放電管１に加工電流Ｍが流れる。この結果、放電管１から励起光Ｅが照射される（励起光発生工程）（図１および図２参照）。 Then, after time D has elapsed since the prepulse voltage was applied, a processing voltage larger than the prepulse voltage having the pulse width d2 is applied to the discharge tube 1 by the voltage source 10, and the processing current M flows in the discharge tube 1. . As a result, excitation light E is emitted from the discharge tube 1 (excitation light generation step) (see FIGS. 1 and 2).

本実施の形態では、図２に示すように、励起光発生工程に先だって、プリパルス工程でプリパルス電圧を放電管１に印加しているので、放電管１における放電を確実に起こさせることができる。そして、本実施の形態によれば、放電管１に印加される加工電圧（入力エネルギー）を特に大きくする必要がないので、放電管１に印加される加工電圧（入力エネルギー）を大きくする従来技術と比較して、エネルギー効率良く、かつ、放電管１に過剰な負担をかけることなく、放電管１における放電を確実に起こさせることができる。 In the present embodiment, as shown in FIG. 2, since the prepulse voltage is applied to the discharge tube 1 in the prepulse step prior to the excitation light generation step, the discharge in the discharge tube 1 can be surely caused. And according to this Embodiment, since it is not necessary to enlarge especially the machining voltage (input energy) applied to the discharge tube 1, the prior art which makes the machining voltage (input energy) applied to the discharge tube 1 large. Compared to the above, it is possible to cause the discharge in the discharge tube 1 with high energy efficiency and without causing an excessive burden on the discharge tube 1.

上述のように放電管１から励起光Ｅが照射されると、励起光Ｅを受けたレーザ媒質２０から、レーザ光Ｌが発振される（レーザ光発振工程）。そして、このレーザ光Ｌによって、ガラス基板などからなる被処理体が処理される。 When the excitation light E is irradiated from the discharge tube 1 as described above, the laser light L is oscillated from the laser medium 20 that has received the excitation light E (laser light oscillation process). And the to-be-processed object which consists of a glass substrate etc. is processed with this laser beam L. FIG.

ここで、本実施の形態によれば、上述のように放電管１における放電を確実に起こさせることができるので、安定な状態でレーザ媒質２０からレーザ発振させることができる。このため、レーザ発振装置としての安定性を維持することができる。 Here, according to the present embodiment, the discharge in the discharge tube 1 can be surely caused as described above, so that laser oscillation can be performed from the laser medium 20 in a stable state. For this reason, stability as a laser oscillation device can be maintained.

第２の実施の形態
次に、図３および図４により、本発明の第２の実施の形態について説明する。図３および図４に示す第２の実施の形態は、電圧源１０が、放電管１にプリパルス電圧を一回だけ印加するのではなく、プリパルス電圧を複数回（本実施の形態では３回）印加するものであり、その他の構成は図１および図２に示す第１の実施の形態と略同一である。 Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4, the voltage source 10 does not apply the prepulse voltage to the discharge tube 1 only once, but the prepulse voltage is applied a plurality of times (in this embodiment, three times). The other configurations are substantially the same as those of the first embodiment shown in FIGS.

図３および図４に示す第２の実施の形態において、図１および図２に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 In the second embodiment shown in FIG. 3 and FIG. 4, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG. 1 and FIG.

図３に示すように、本実施の形態では、電圧源１０によって、プリパルス電圧が複数回印加されて、放電管１にプリパルス電流Ｐが流れる（図１参照）。このため、放電管１における放電をより確実に起こさせることができ、より安定な状態でレーザ媒質２０からレーザ発振させることができる。この結果、レーザ発振装置としての安定性をより確実に維持することができる。 As shown in FIG. 3, in this embodiment, a pre-pulse voltage is applied a plurality of times by the voltage source 10, and a pre-pulse current P flows through the discharge tube 1 (see FIG. 1). For this reason, discharge in the discharge tube 1 can be caused more reliably, and laser oscillation can be performed from the laser medium 20 in a more stable state. As a result, the stability as the laser oscillation device can be more reliably maintained.

なお、本発明者が実際に実験したところによると、第１の実施の形態の態様において、プリパルス電圧のパルス幅を大きくした場合よりも、本実施の形態のように、プリパルス電圧を複数回印加した場合の方が、加工電圧を印加した場合に放電管１から励起光Ｅが発生しない確率を、格段に小さくすることができた。 In addition, according to an actual experiment by the present inventor, in the aspect of the first embodiment, the prepulse voltage is applied a plurality of times as in the present embodiment, as compared with the case where the pulse width of the prepulse voltage is increased. In this case, the probability that the excitation light E is not generated from the discharge tube 1 when the machining voltage is applied can be significantly reduced.

ところで、本実施の形態の変形例として、最後に印加するプリパルス電圧の大きさを、他のプリパルス電圧（前２回のプリパルス電圧）の大きさよりも小さくしてもよい（図４参照）。このとき、図４に示すように、最後に印加するプリパルス電圧に対応するプリパルス電流Ｐの大きさは、他のプリパルス電圧（前２回のプリパルス電圧）に対応するプリパルス電流Ｐの大きさよりも小さくなっている。なお、このように最後に印加されるプリパルス電圧の大きさは、典型的には、他のプリパルス電圧の大きさに対して、概ね８０％以下の大きさになっている。 By the way, as a modification of the present embodiment, the magnitude of the pre-pulse voltage to be applied last may be smaller than the magnitudes of other pre-pulse voltages (pre-pulse voltages of the previous two times) (see FIG. 4). At this time, as shown in FIG. 4, the magnitude of the prepulse current P corresponding to the prepulse voltage to be applied last is smaller than the magnitude of the prepulse current P corresponding to the other prepulse voltages (pre-pulse voltages of the previous two times). It has become. Note that the magnitude of the pre-pulse voltage applied last in this way is typically about 80% or less of the magnitude of other pre-pulse voltages.

このように最後に印加するプリパルス電圧の大きさを、他のプリパルス電圧の大きさよりも小さくすることによって、最後のプリパルス電圧に起因する励起光Ｅにより、レーザ媒質２０から誤ってレーザ光Ｌが発振されることを防止することができる。 Thus, by making the magnitude of the pre-pulse voltage to be applied last smaller than the magnitude of the other pre-pulse voltages, the laser light L is oscillated accidentally from the laser medium 20 by the excitation light E resulting from the last pre-pulse voltage. Can be prevented.

すなわち、プリパルス電圧を印加する際に放電管１がわずかに放電して励起光Ｅが発生することによって、レーザ媒質２０にエネルギーが蓄積されることがある。そして、このような場合では、プリパルス電圧を繰り返し印加しているうちに、プリパルス電圧に起因する放電管１の放電によって、レーザ媒質２０からレーザ光Ｌが誤って発振されることがある。このため、本変形例のように、最後に印加するプリパルス電圧の大きさを、他のプリパルス電圧の大きさよりも小さくすることによって、このようなレーザ光Ｌの誤発振を防止することができる。 That is, when the prepulse voltage is applied, the discharge tube 1 is slightly discharged and the excitation light E is generated, so that energy may be accumulated in the laser medium 20. In such a case, while the prepulse voltage is repeatedly applied, the laser beam L may be erroneously oscillated from the laser medium 20 due to the discharge of the discharge tube 1 caused by the prepulse voltage. For this reason, such a false oscillation of the laser beam L can be prevented by making the magnitude of the pre-pulse voltage to be applied last smaller than the magnitudes of the other pre-pulse voltages as in this modification.

第３の実施の形態
次に、図５により、本発明の第３の実施の形態について説明する。図５に示す第３の実施の形態は、放電管１に流れる電流を観察する電流観察部３０と、当該電流観察部３０からの情報に基づいて、電圧源１０を制御する制御部５０と、をさらに備えたものであり、その他の構成は図３および図４に示す第２の実施の形態と略同一である。 Third Embodiment Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The third embodiment shown in FIG. 5 includes a current observation unit 30 that observes the current flowing through the discharge tube 1, a control unit 50 that controls the voltage source 10 based on information from the current observation unit 30, The other configurations are substantially the same as those of the second embodiment shown in FIGS.

図５に示す第３の実施の形態において、図３および図４に示す第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 In the third embodiment shown in FIG. 5, the same parts as those in the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図５において、制御部５０は、電流観察部３０からの情報に基づいて、電圧源１０が放電管１に印加するプリパルス電圧の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整する。より具体的には、制御部５０は、電流観察部３０からの情報に基づいて、被処理体がレーザ加工されている加工状態において、電圧源１０が放電管１に次回印加するプリパルス電圧の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整する。 In FIG. 5, the control unit 50 determines at least one of the magnitude, the number of times, the pulse width, and the pulse interval of the prepulse voltage that the voltage source 10 applies to the discharge tube 1 based on the information from the current observation unit 30. adjust. More specifically, based on information from the current observation unit 30, the control unit 50 determines the magnitude of the prepulse voltage that is next applied to the discharge tube 1 by the voltage source 10 in a processing state in which the object to be processed is laser processed. And adjusting at least one of the number of times, the pulse width, and the pulse interval.

このため、本実施の形態によれば、具体的な状況に応じて、プリパルス電圧を調整することができるので、放電管１における放電をより確実に起こさせることができる。この結果、より安定な状態でレーザ媒質２０からレーザ発振させることができ、レーザ発振装置としての安定性をより確実に維持することができる。 For this reason, according to the present embodiment, the pre-pulse voltage can be adjusted according to a specific situation, so that the discharge in the discharge tube 1 can be caused more reliably. As a result, laser oscillation can be performed from the laser medium 20 in a more stable state, and the stability as the laser oscillation device can be more reliably maintained.

なお、上記では、制御部５０によって、電圧源１０が放電管１に次に印加するプリパルス電圧を調整する態様を用いて説明したが、これに限られることなく、制御部５０は、次々回以降に電圧源１０から放電管１に印加されるプリパルス電圧を調整してもよい。 In the above description, the control unit 50 has been described using the mode in which the voltage source 10 adjusts the prepulse voltage that is next applied to the discharge tube 1. However, the present invention is not limited to this, and the control unit 50 may The prepulse voltage applied to the discharge tube 1 from the voltage source 10 may be adjusted.

また、上記では、図３および図４に示す第２の実施の形態を基準として、当該第２の実施の形態を変形した態様を用いて説明したが、これに限られることなく、図１および図２に示す第１の実施の形態を基準としてもよい。 In the above description, the second embodiment shown in FIG. 3 and FIG. 4 is used as a reference, but the second embodiment is modified. However, the present invention is not limited to this, and FIG. The first embodiment shown in FIG. 2 may be used as a reference.

第３の実施の形態の変形例
次に、図６により、本発明の第３の実施の形態の変形例について説明する。図６に示す変形例は、制御部５０が、電流観察部３０からの情報に基づいて、電圧源１０が放電管１に印加するプリパルス電圧の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整する代わりに、制御部５０が、電流観察部３０からの情報に基づいて放電管１に電流が流れたことを確認した後に、電圧源１０によって放電管１に加工電圧を印加させるものであり、その他の構成は図５に示す第３の実施の形態と略同一である。 Modification of Third Embodiment Next, a modification of the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the modification shown in FIG. 6, the control unit 50 is based on the information from the current observation unit 30, and includes the prepulse voltage magnitude, number of times, pulse width, and pulse interval that the voltage source 10 applies to the discharge tube 1. Instead of adjusting at least one, the control unit 50 applies a machining voltage to the discharge tube 1 by the voltage source 10 after confirming that a current flows through the discharge tube 1 based on information from the current observation unit 30. The other configurations are substantially the same as those of the third embodiment shown in FIG.

図６に示す第３の実施の形態の変形例において、図５に示す第３の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 In the modification of the third embodiment shown in FIG. 6, the same parts as those of the third embodiment shown in FIG.

本変形例によれば、制御部５０は、電流観察部３０からの情報に基づいて放電管１にプリパルス電流Ｐが流れたことを確認した後に、電圧源１０によって放電管１に加工電圧を印加させる（図６参照）。このため、放電管１における放電をさらに確実に起こさせることができる。 According to this modification, the control unit 50 applies the machining voltage to the discharge tube 1 by the voltage source 10 after confirming that the prepulse current P has flowed to the discharge tube 1 based on the information from the current observation unit 30. (See FIG. 6). For this reason, the discharge in the discharge tube 1 can be caused more reliably.

すなわち、電圧源１０が放電管１にプリパルス電圧を印加した場合であっても、加工電圧を印加した際に放電管１における放電が起こらないこともある（このとき、プリパルス電圧を印加した際に、放電管１にはプリパルス電流Ｐが流れていない）。これに対して、本変形例では、電流観察部３０によって放電管１に電流が流れたことを確認することで、放電管１が放電可能な状態であることを確認してから、加工電圧を印加する。なお、図６において波線で示したものは、プリパルス電圧を印加したものの、放電管１にプリパルス電流Ｐが流れなかった状態を示している。 That is, even when the voltage source 10 applies a prepulse voltage to the discharge tube 1, the discharge in the discharge tube 1 may not occur when the machining voltage is applied (at this time, when the prepulse voltage is applied). The prepulse current P does not flow through the discharge tube 1). On the other hand, in this modification, it is confirmed that the discharge tube 1 is in a dischargeable state by confirming that the current has flowed to the discharge tube 1 by the current observation unit 30, and then the machining voltage is changed. Apply. 6 indicates a state in which the pre-pulse current P does not flow through the discharge tube 1 although the pre-pulse voltage is applied.

このため、本変形例によれば、放電管１における放電をさらに確実に起こさせることができ、さらに安定な状態でレーザ媒質２０からレーザ発振させることができる。この結果、レーザ発振装置としての安定性をさらに確実に維持することができる。 For this reason, according to this modification, the discharge in the discharge tube 1 can be caused more reliably, and laser oscillation can be performed from the laser medium 20 in a more stable state. As a result, the stability as the laser oscillation device can be more reliably maintained.

第４の実施の形態
次に、図７（ａ）（ｂ）を参照として、本発明の第４の実施の形態について説明する。第４の実施の形態は、制御部５０が、被処理体がレーザ加工されている加工状態において、電圧源１０が放電管１に次回印加するプリパルス電圧を調整する代わりに、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときに、電圧源１０が放電管１に印加するプリパルス電圧を調整するものであり、その他の構成は図５に示す第３の実施の形態と略同一である。なお、この非加工状態においては、レーザ媒質２０と被処理体との間に配置されたシャッター（図示せず）が閉じられており、レーザ媒質２０から発振されるレーザ光Ｌによって被処理体が加工されないようになっている。 Fourth Embodiment Next, with reference to FIGS. 7A and 7B, a fourth embodiment of the present invention will be described. In the fourth embodiment, in the processing state in which the object to be processed is laser processed, the control unit 50 adjusts the prepulse voltage that the voltage source 10 applies to the discharge tube 1 next time, and the object to be processed is a laser. The voltage source 10 adjusts the pre-pulse voltage applied to the discharge tube 1 in a non-machined non-machined state, and other configurations are substantially the same as those of the third embodiment shown in FIG. In this unprocessed state, a shutter (not shown) disposed between the laser medium 20 and the object to be processed is closed, and the object to be processed is caused by the laser light L oscillated from the laser medium 20. It is not processed.

図７（ａ）（ｂ）は、プリパルス数を横軸にとり、放電管１に流れる電流を縦軸にとったグラフ図である。このような図７（ａ）（ｂ）において、黒丸（●）で示した条件は、加工電圧を加えた場合であっても放電管１が放電しなかった条件であり、白丸（○）で示した条件は、加工電圧を加えると確実に放電管１が放電した条件である。また、バツ（×）で示した条件は、プリパルス電圧が大きすぎて、プリパルス電圧による放電管１の放電で、レーザ媒質２０からレーザ光Ｌが発振されてしまった条件を示している。 7A and 7B are graphs in which the number of prepulses is taken on the horizontal axis and the current flowing through the discharge tube 1 is taken on the vertical axis. 7A and 7B, the conditions indicated by black circles (●) are conditions in which the discharge tube 1 did not discharge even when a machining voltage was applied, and white circles (◯). The conditions shown are those in which the discharge tube 1 is reliably discharged when a machining voltage is applied. Further, the condition indicated by the cross (x) indicates a condition in which the laser light L is oscillated from the laser medium 20 due to the discharge of the discharge tube 1 by the prepulse voltage because the prepulse voltage is too large.

そして、図７（ａ）はある状況におけるグラフ図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）と異なる状況（放電管１が劣化した場合、レーザ加工条件を変えた場合、周辺環境が変化した場合など）におけるグラフ図である。 7A is a graph in a certain situation, and FIG. 7B is a situation different from that in FIG. 7A (when the discharge tube 1 is deteriorated, the laser processing conditions are changed, the surrounding environment is changed). FIG.

このような図７（ａ）（ｂ）に示すように、放電管１の劣化、レーザ加工条件の変化、周辺環境の変化などの状況が変わることにより、最適なプリパルス電圧の条件が変わることがある。 As shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b), the conditions of the optimum prepulse voltage may change due to changes in conditions such as deterioration of the discharge tube 1, changes in laser processing conditions, changes in the surrounding environment, and the like. is there.

このため、本実施の形態のように、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のとき（レーザ発振装置のウォームアップ時間や、レーザ発振装置の稼動時間の合間や、レーザ発振装置のメンテナンス時間など）に、プリパルス電圧の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整することによって、状況に応じて変化する最適なプリパルス電圧の条件を追随することができる。 For this reason, as in the present embodiment, when the object to be processed is in a non-machined state where laser processing is not performed (the warm-up time of the laser oscillation device, the interval between operation times of the laser oscillation device, the maintenance of the laser oscillation device) By adjusting at least one of the magnitude, the number of times, the pulse width, and the pulse interval of the pre-pulse voltage, the optimum pre-pulse voltage condition that changes depending on the situation can be followed.

従って、本実施の形態によれば、放電管１における放電をより確実に起こさせることができ、より安定な状態でレーザ媒質２０からレーザ発振させることができる。この結果、レーザ発振装置としての安定性をより確実に維持することができる。 Therefore, according to the present embodiment, discharge in the discharge tube 1 can be caused more reliably, and laser oscillation can be performed from the laser medium 20 in a more stable state. As a result, the stability as the laser oscillation device can be more reliably maintained.

なお、制御部５０は、定期的に非加工状態を作りだすようにしてもよい。このように定期的に非加工状態を作りだすことによって、定期的に、電圧源１０が放電管１に印加するプリパルス電圧を調整することができる。このため、放電管１における放電をさらに確実に起こさせることができる。 Note that the control unit 50 may periodically create a non-processed state. Thus, the pre-pulse voltage that the voltage source 10 applies to the discharge tube 1 can be adjusted periodically by creating a non-processed state periodically. For this reason, the discharge in the discharge tube 1 can be caused more reliably.

第５の実施の形態
次に、図８により、本発明の第５の実施の形態について説明する。図８に示す第５の実施の形態は、レーザ媒質２０から発振されるレーザ光Ｌを観察するレーザ光観察部３５と、当該レーザ光観察部３５からの情報に基づいて、電圧源１０を制御する制御部５０と、をさらに備えたものであり、その他の構成は図３および図４に示す第２の実施の形態と略同一である。 Fifth Embodiment Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the fifth embodiment shown in FIG. 8, the laser light observation unit 35 that observes the laser light L oscillated from the laser medium 20 and the voltage source 10 are controlled based on the information from the laser light observation unit 35. And the other configuration is substantially the same as that of the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4.

図８に示す第５の実施の形態において、図３および図４に示す第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 In the fifth embodiment shown in FIG. 8, the same parts as those in the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図８において、制御部５０は、レーザ光観察部３５からの情報に基づいて、電圧源１０が放電管１に印加するプリパルス電圧の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整する。より具体的には、制御部５０は、レーザ光観察部３５から得られるレーザ光Ｌに関する情報に基づいて、被処理体がレーザ加工されている加工状態において、電圧源１０が放電管１に次回印加するプリパルス電圧の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整する。 In FIG. 8, the control unit 50 is based on information from the laser beam observation unit 35, and at least one of the magnitude, number of times, pulse width, and pulse interval of the prepulse voltage that the voltage source 10 applies to the discharge tube 1. Adjust. More specifically, the control unit 50 sets the voltage source 10 next to the discharge tube 1 in the processing state in which the object to be processed is laser processed based on the information regarding the laser light L obtained from the laser light observation unit 35. At least one of the magnitude, the number of times, the pulse width, and the pulse interval of the pre-pulse voltage to be applied is adjusted.

具体的な状況に応じた対応としては、例えば、レーザ媒質２０からレーザ発振しなかった場合には、被処理体に対するレーザ発振装置の相対的な移動を停止させた後、プリパルス電圧の大きさを大きくしたり、プリパルス電圧の回数を多くしたり、プリパルス電圧のパルス幅を長くしたり、パルス間隔を短くしたりして、調整した後、電圧源１０から放電管１に再度加工電圧を印加する。 For example, when the laser medium 20 does not oscillate, the relative movement of the laser oscillation device with respect to the object to be processed is stopped, and then the magnitude of the pre-pulse voltage is set as a measure corresponding to the specific situation. After adjusting by increasing, increasing the number of pre-pulse voltages, increasing the pulse width of the pre-pulse voltage, or shortening the pulse interval, the machining voltage is applied again from the voltage source 10 to the discharge tube 1. .

逆に、プリパルス電圧によって、レーザ媒質２０から予期せぬレーザ発振が生じてしまった場合には、プリパルス電圧の大きさを小さくしたり、プリパルス電圧の回数を少なくしたり、プリパルス電圧のパルス幅を短くしたり、プリパルス電圧のパルス間隔を長くしたりして、調整した後、電圧源１０から放電管１に再度加工電圧を印加する。 Conversely, when unexpected laser oscillation occurs from the laser medium 20 due to the prepulse voltage, the prepulse voltage is reduced, the number of prepulse voltages is reduced, or the pulse width of the prepulse voltage is reduced. After adjusting by shortening or increasing the pulse interval of the pre-pulse voltage, the machining voltage is applied again from the voltage source 10 to the discharge tube 1.

さらに、上記では、制御部５０が、被処理体がレーザ加工されている加工状態において、電圧源１０が放電管１に次回印加するプリパルス電圧を調整する態様を用いて説明したが、これに限られることなく、第４の実施の形態で示したように、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときに、電圧源１０が放電管１に印加するプリパルス電圧を調整するようにしてもよい。 Furthermore, in the above description, the control unit 50 has been described using the mode in which the voltage source 10 adjusts the prepulse voltage to be applied next time to the discharge tube 1 in the processing state in which the workpiece is laser processed. As shown in the fourth embodiment, the pre-pulse voltage applied to the discharge tube 1 by the voltage source 10 is adjusted when the object to be processed is in a non-processed state that is not laser processed. Also good.

このように被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときにプリパルス電圧を調整する場合には、制御部５０が定期的に非加工状態を作りだすようにしてもよい。 As described above, when the prepulse voltage is adjusted when the object to be processed is in a non-processed state where the laser processing is not performed, the control unit 50 may periodically create a non-processed state.

本発明の第１の実施の形態によるレーザ発振装置の構成を示す概略図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Schematic which shows the structure of the laser oscillation apparatus by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第１の実施の形態によるレーザ発振装置の放電管に流れる電流を、時間を横軸にとって示したグラフ図。The graph which showed the current which flows into the discharge tube of the laser oscillation apparatus by the 1st Embodiment of this invention on the horizontal axis. 本発明の第２の実施の形態によるレーザ発振装置の放電管に流れる電流を、時間を横軸にとって示したグラフ図。The graph which showed the electric current which flows into the discharge tube of the laser oscillation apparatus by the 2nd Embodiment of this invention on the horizontal axis. 本発明の第２の実施の形態の変形例によるレーザ発振装置の放電管に流れる電流を、時間を横軸にとって示したグラフ図。The graph which showed the electric current which flows into the discharge tube of the laser oscillation apparatus by the modification of the 2nd Embodiment of this invention on the horizontal axis. 本発明の第３の実施の形態によるレーザ発振装置の構成を示す概略図。Schematic which shows the structure of the laser oscillation apparatus by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第３の実施の形態の変形例によるレーザ発振装置の放電管に流れる電流を、時間を横軸にとって示したグラフ図。The graph which showed the electric current which flows into the discharge tube of the laser oscillation apparatus by the modification of the 3rd Embodiment of this invention on the horizontal axis. プリパルス数を横軸にとり、放電管に流れる電流を縦軸にとったグラフ図。The graph which took the pre-pulse number on the horizontal axis and took the electric current which flows into a discharge tube on the vertical axis. 本発明の第５の実施の形態によるレーザ発振装置の構成を示す概略図。Schematic which shows the structure of the laser oscillation apparatus by the 5th Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１放電管
１０電圧源
２０レーザ媒質
３０電流観察部
３５レーザ光観察部
５０制御部
Ｅ励起光
Ｌレーザ光
Ｍ加工電流
Ｐプリパルス電流 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Discharge tube 10 Voltage source 20 Laser medium 30 Current observation part 35 Laser light observation part 50 Control part E Excitation light L Laser light M Processing current P Prepulse current

Claims

レーザ媒質と、
前記レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、
前記放電管へ電力を供給する電源と、を備え、
前記電源は、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加した後、該放電管に該プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させ、前記レーザ媒質からレーザ光を発振させ、
前記電源は、前記放電管に前記プリパルス電力を複数回、印加し、
前記電源から前記放電管に印加される前記プリパルス電力のうち最後に印加されるプリパルス電力の大きさは、他のプリパルス電力の大きさよりも小さくなっていることを特徴とするレーザ発振装置。 A laser medium;
A discharge tube for irradiating the laser medium with excitation light;
A power source for supplying power to the discharge tube,
The power source applies pulsed prepulse power to the discharge tube, then applies processing power larger than the prepulse power to the discharge tube to generate excitation light, and oscillates laser light from the laser medium ,
The power source applies the prepulse power to the discharge tube a plurality of times,
Of the prepulse power applied from the power source to the discharge tube, the prepulse power applied last is smaller than the other prepulse power .

レーザ媒質と、
前記レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、
前記放電管へ電力を供給する電源と、
前記放電管に流れる電流を観察する電流観察部と、
を備え、
前記電源は、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加した後、該放電管に該プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させ、前記レーザ媒質からレーザ光を発振させ、
被処理体がレーザ加工されている加工状態において、前記電源から前記放電管に次回以降に印加されるプリパルス電力は、前記電流観察部からの情報に基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つが調整されることを特徴とするレーザ発振装置。 A laser medium;
A discharge tube for irradiating the laser medium with excitation light;
A power supply for supplying power to the discharge tube;
A current observation unit for observing a current flowing in the discharge tube;
With
The power source applies pulsed prepulse power to the discharge tube, then applies processing power larger than the prepulse power to the discharge tube to generate excitation light, and oscillates laser light from the laser medium ,
In the processing state in which the object to be processed is laser processed, the pre-pulse power applied from the power source to the discharge tube from the next time is based on the information from the current observation unit, the magnitude, the number of times, the pulse width and A laser oscillation device characterized in that at least one of pulse intervals is adjusted .

レーザ媒質と、
前記レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、
前記放電管へ電力を供給する電源と、
前記放電管に流れる電流を観察する電流観察部と、
前記電源を制御する制御部と、
を備え、
前記電源は、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加した後、該放電管に該プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させ、前記レーザ媒質からレーザ光を発振させ、
当該制御部は、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整することを特徴とするレーザ発振装置。 A laser medium;
A discharge tube for irradiating the laser medium with excitation light;
A power supply for supplying power to the discharge tube;
A current observation unit for observing a current flowing in the discharge tube;
A control unit for controlling the power source;
With
The power source applies pulsed prepulse power to the discharge tube, then applies processing power larger than the prepulse power to the discharge tube to generate excitation light, and oscillates laser light from the laser medium ,
The control unit, based on the information from the current observation unit, when the workpiece is not laser processed, based on the information from the current observation unit, at least one of the magnitude, the number of times, the pulse width, and the pulse interval A laser oscillation device characterized by adjusting one .

前記制御部は、定期的に非加工状態を作りだし、当該非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整することを特徴とする請求項３記載のレーザ発振装置。 The control unit periodically creates a non-machined state, and when in the non-machined state, based on information from the current observation unit, the pre-pulse power magnitude, number of times, pulse width, and pulse interval 4. The laser oscillation apparatus according to claim 3, wherein at least one is adjusted.

前記レーザ媒質から発振されるレーザ光を観察するレーザ観察部をさらに備え、
前記プリパルス電力は、前記レーザ観察部からの情報にも基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つが調整されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のレーザ発振装置。 A laser observation unit for observing laser light oscillated from the laser medium;
The pre-pulse power is adjusted based on information from the laser observation unit, and at least one of the magnitude, the number of times, the pulse width, and the pulse interval is adjusted . 2. A laser oscillation device according to item 1 .

レーザ媒質と、該レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、該放電管へ電力を供給する電源と、を備えたレーザ発振装置を用いたレーザ発振方法において、
前記電源によって、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を複数回印加するプリパルス工程と、
前記電源によって、前記放電管に前記プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させる励起光発生工程と、
前記励起光を受けた前記レーザ媒質からレーザ光が発振されるレーザ光発振工程と、
を備え、
前記電源から前記放電管に印加される前記プリパルス電力のうち最後に印加されるプリパルス電力の大きさは、他のプリパルス電力の大きさよりも小さくなっていることを特徴とするレーザ発振方法。 In a laser oscillation method using a laser oscillation apparatus including a laser medium, a discharge tube that irradiates the laser medium with excitation light, and a power source that supplies power to the discharge tube,
A pre-pulse step of applying pulsed pre-pulse power to the discharge tube a plurality of times by the power source;
An excitation light generation step of generating excitation light by applying a processing power larger than the pre-pulse power to the discharge tube by the power source;
A laser light oscillation step in which laser light is oscillated from the laser medium that has received the excitation light;
With
Of the prepulse power applied from the power source to the discharge tube, the last applied prepulse power is smaller than the other prepulse power .

レーザ媒質と、該レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、該放電管へ電力を供給する電源と、を備えたレーザ発振装置を用いたレーザ発振方法において、
前記電源によって、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加するプリパルス工程と、
前記電源によって、前記放電管に前記プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させる励起光発生工程と、
前記励起光を受けた前記レーザ媒質からレーザ光が発振されるレーザ光発振工程と、
前記放電管に流れる電流を電流観察部で観察する電流観察工程と、
を備え、
被処理体がレーザ加工されている加工状態において、前記電源から前記放電管に次回以降に印加されるプリパルス電力は、前記電流観察部からの情報に基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つが調整されることを特徴とするレーザ発振方法。 In a laser oscillation method using a laser oscillation apparatus including a laser medium, a discharge tube that irradiates the laser medium with excitation light, and a power source that supplies power to the discharge tube,
A prepulse step of applying pulsed prepulse power to the discharge tube by the power source;
An excitation light generation step of generating excitation light by applying a processing power larger than the pre-pulse power to the discharge tube by the power source;
A laser light oscillation step in which laser light is oscillated from the laser medium that has received the excitation light;
A current observation step of observing the current flowing through the discharge tube with a current observation unit;
With
In the processing state in which the object to be processed is laser processed, the pre-pulse power applied from the power source to the discharge tube from the next time is based on the information from the current observation unit, the magnitude, the number of times, the pulse width and A laser oscillation method, wherein at least one of pulse intervals is adjusted .

レーザ媒質と、該レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、該放電管へ電力を供給する電源と、を備えたレーザ発振装置を用いたレーザ発振方法において、
前記電源によって、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加するプリパルス工程と、
前記電源によって、前記放電管に前記プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させる励起光発生工程と、
前記励起光を受けた前記レーザ媒質からレーザ光が発振されるレーザ光発振工程と、
前記放電管に流れる電流を電流観察部で観察する電流観察工程と、
を備え、
当該制御部は、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも１つを調整することを特徴とするレーザ発振方法。 In a laser oscillation method using a laser oscillation apparatus including a laser medium, a discharge tube that irradiates the laser medium with excitation light, and a power source that supplies power to the discharge tube,
A prepulse step of applying pulsed prepulse power to the discharge tube by the power source;
An excitation light generation step of generating excitation light by applying a processing power larger than the pre-pulse power to the discharge tube by the power source;
A laser light oscillation step in which laser light is oscillated from the laser medium that has received the excitation light;
A current observation step of observing the current flowing through the discharge tube with a current observation unit;
With
The control unit, based on the information from the current observation unit, when the workpiece is not laser processed, based on the information from the current observation unit, at least one of the magnitude, the number of times, the pulse width, and the pulse interval A laser oscillation method characterized by adjusting one .