JP5103769B2 - 再生水製造装置の洗浄方法 - Google Patents
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Description
(1)被処理水を活性汚泥処理する生物処理槽、該生物処理槽内に浸漬設置した平膜エレメントから構成される分離膜モジュール、及び、前記活性汚泥処理水を前記分離膜モジュールによって膜ろ過して得られた膜ろ過水を逆浸透処理する逆浸透膜モジュールを備えてなる再生水の製造装置において、前記分離膜モジュールの膜ろ過水流路に、膜ろ過水の流向とは逆方向に、濃度が1〜100mg/Lの範囲にある薬液を送液し、薬液の一部は膜をしみ出し、大部分は膜ろ過水流路に保持されつつ、前記分離膜モジュールの膜ろ過水流路を殺菌する殺菌処理を1時間に1度の頻度から1週間に1度の頻度で実施し、殺菌後はろ過を再開することによって膜ろ過水流路から薬液が排出されることを特徴とする再生水製造装置の洗浄方法。
(3)前記殺菌処理の後に、前記活性汚泥処理水の膜ろ過を開始して、前記分離膜モジュールの膜ろ過水流路に残留する薬液混合ろ過液を、前記分離膜モジュールの膜ろ過水流路から下流側の配管へと流下させ、前記分離膜モジュールと前記逆浸透膜モジュールとを接続する配管内を殺菌する配管殺菌処理を行うことを特徴とする前記(1)または(2)に記載の再生水製造装置の洗浄方法。
(5)前記逆浸透膜モジュールに供給される前の膜ろ過水に、殺菌剤を間歇間欠的に添加することを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれかに記載の再生水製造装置の洗浄方法。
(6)間欠的に添加する殺菌剤として酸を用い、かつ、前記逆浸透膜モジュールに供給される前の膜ろ過水の、酸添加直後のpHを4以下にすることを特徴とする前記(5)に記載の再生水製造装置の洗浄方法。
3日に1回の頻度で、分離膜モジュール2の膜ろ過、逆浸透膜モジュール13の逆浸透処理を停止し、薬液槽24に貯留した薬液(濃度100mg/Lの次亜塩素酸ナトリウム水溶液)を、薬液配管23、薬液弁22、膜ろ過水配管4を介して分離膜モジュール2の膜ろ過水流路に送液して、薬液を30分間保持する殺菌処理を実施した。次いで、膜ろ過を再開して、薬液混合ろ過液を膜ろ過水配管4、混合ろ過液弁35、混合ろ過液配管36を介して実験装置の系外に排出し、30分経過後に、膜ろ過水を膜ろ過水槽5に供給して、逆浸透膜処理を再開した。
逆浸透処理して得られた逆浸透処理水の量は、25℃において、実験開始時には0.80g/分であったものが、30日経過後でも0.75g/分と、高い処理能力を維持することができた。
硫酸を添加したときの逆浸透膜供給水のpHを2.5に調整したこと以外は、実施例1とまったく同様の条件で再生水の製造を行ったところ、逆浸透処理して得られた逆浸透処理水の量は、25℃において、実験開始時には0.80g/分であったものが、30日経過後に0.77g/分と、高い処理能力を維持することができた。
殺菌処理の頻度を1週間に1回の頻度にしたこと以外は、実施例1とまったく同様の条件で再生水の製造を行ったところ、逆浸透処理して得られた逆浸透処理水の量は、25℃において、実験開始時には0.80g/分であったものが、30日経過後に0.67g/分になった。
殺菌処理における薬液、次亜塩素酸ナトリウム水溶液の濃度を5mg/Lにしたこと以外は、実施例1とまったく同様の条件で再生水の製造を行ったところ、逆浸透処理して得られた逆浸透処理水の量は、25℃において、実験開始時には0.80g/分であったものが、30日経過後に0.67g/分になった。
殺菌処理を行わなかったこと以外は、実施例1とまったく同様の条件で再生水の製造を行ったところ、逆浸透処理して得られた逆浸透処理水の量は、25℃において、実験開始時には0.80g/分であったものが、30日経過後に0.58g/分と、処理能力が大きく低下した。
2:分離膜モジュール
3:ろ過ポンプ
4:膜ろ過水配管
5:膜ろ過水槽
6:エアブロワ
7:曝気配管
8:散気管
9:ドレン弁
10:ドレン配管
11:高圧ポンプ
12:逆浸透膜供給水配管
13:逆浸透膜モジュール
14:処理水配管
15:濃縮水配管
21:膜ろ過水弁
22:薬液弁
23:薬液配管
24:薬液貯槽
31:中和薬液槽
32:中和薬液ポンプ
33:中和薬液配管
34:膜ろ過水切替弁
35:混合ろ過液弁
36:混合ろ過液配管
37:殺菌剤貯槽
38:殺菌剤ポンプ
39:殺菌剤配管
Claims (6)
- 被処理水を活性汚泥処理する生物処理槽、該生物処理槽内に浸漬設置した平膜エレメントから構成される分離膜モジュール、及び、前記活性汚泥処理水を前記分離膜モジュールによって膜ろ過して得られた膜ろ過水を逆浸透処理する逆浸透膜モジュールを備えてなる再生水の製造装置において、前記分離膜モジュールの膜ろ過水流路に、膜ろ過水の流向とは逆方向に、濃度が1〜100mg/Lの範囲にある薬液を送液し、薬液の一部は膜をしみ出し、大部分は膜ろ過水流路に保持されつつ、前記分離膜モジュールの膜ろ過水流路を殺菌する殺菌処理を1時間に1度の頻度から1週間に1度の頻度で実施し、殺菌後はろ過を再開することによって膜ろ過水流路から薬液が排出されることを特徴とする再生水製造装置の洗浄方法。
- 前記殺菌処理において用いられる薬液が、塩素水、次亜塩素酸ナトリウム水溶液、及び二酸化塩素水のうちのいずれか1種以上であることを特徴とする請求項1に記載の再生水製造装置の洗浄方法。
- 前記殺菌処理の後に、前記活性汚泥処理水の膜ろ過を開始して、前記分離膜モジュールの膜ろ過水流路に残留する薬液混合ろ過液を、前記分離膜モジュールの膜ろ過水流路から下流側の配管へと流下させ、前記分離膜モジュールと前記逆浸透膜モジュールとを接続する配管内を殺菌する配管殺菌処理を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の再生水製造装置の洗浄方法。
- 前記配管殺菌処理する際、及び、流下する膜ろ過水中の薬液濃度が低減されるまで、前記配管内を通過した薬液混合ろ過液を含む配管内流下液を、前記逆浸透膜モジュールに到る前に、前記再生水製造装置外に排出すること、及び/又は、中和処理することを特徴とする請求項3に記載の再生水製造装置の洗浄方法。
- 前記逆浸透膜モジュールに供給される前の膜ろ過水に、殺菌剤を間欠的に添加することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の再生水製造装置の洗浄方法。
- 間欠的に添加する殺菌剤として酸を用い、かつ、前記逆浸透膜モジュールに供給される前の膜ろ過水の、酸添加直後のpHを4以下にすることを特徴とする請求項5に記載の再生水製造装置の洗浄方法。
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