JP5101029B2 - 光電変換素子製造装置および光電変換素子製造方法 - Google Patents
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Description
具体的には、原料となる元素を含んだ材料ガスをプラズマで分解して化学反応を生じさせ、加熱された基材表面に高純度の薄膜を形成する。例えば、プラズマCVD装置の中に基板と電極を設置しておき、プラズマCVD装置内を真空にする。次に、アモルファスシリコンの原料となるSiH4/H2ガスをプラズマCVD装置内に注入し、同時に基板を200℃程度までヒータで温める。電極間に高周波電圧をかけることにより、材料ガスが電離してプラズマ状態となり、基板上にアモルファスシリコンの薄膜が蒸着され、光電変換層が形成される。
材料ガスが供給されると、SiH4と解離したHの反応によりSiH3が生成し、このSiH3が成膜に寄与する。したがって、上流60から下流62にかけてSiH4の密度が少なくなるに伴い、SiH3の濃度も小さくなる(図4(a))。
これに対して、H2の分子が解離してHが生成する。Hは、プラズマ反応により生成するため、ほぼプラズマ分布を反映した生成量となる。そうすると、Hの反応相手であるSiH4の数は上述のように下流62にかけて少なくなってくるために、Hが消費されずに下流62にかけて増加する(図4(b))。
その結果、例えば微結晶シリコン成膜の場合、Hの存在比が大きいほど結晶性は高くなるので、ガス供給路付近64では結晶性が低下し、ガス排気路付近66では結晶性が高い膜分布となる。
このように、局所ガス給排気方式においても、不均一な膜分布が生じる。
すなわち、本発明にかかる光電変換素子製造装置は、第一電極と、前記第一電極に対向するように基板を保持する第二電極と、を備え、前記基板に対向する前記第一電極の先端には、材料ガスを供給するガス供給路と、材料ガスを排気するためのガス排気路とに挟まれた電極面が設けられ、前記第一電極および前記第二電極によって、前記電極面と前記基板との間に供給された材料ガスをプラズマ化して前記基板上に微結晶シリコン層を含む光電変換層を化学蒸着させる光電変換素子製造装置において、前記電極面と前記基板との間における前記ガス供給路側と前記ガス排気路側との前記微結晶シリコン層の結晶性が略均等になるように、前記ガス排気路側の前記電極面と前記基板との距離が、ガス供給路側の前記電極面と前記基板との距離よりも大きく設けられていることを特徴とする。
これにより、ガス供給路側の基板へのHのフラックス量を増大させ、もともとH原子の量が多くなる傾向があるガス排気路側におけるHのフラックス量と同程度とすることができる。すなわち、ギャップ長の調整により、ガス供給路側の結晶性を高くすることで、元来結晶性が高くなる傾向があるガス排気路側とのバランスをとることができ、結果として膜分布を均一にすることができる。
なお、ガス排気路側のギャップ長をガス供給路側のギャップ長より大きくするために、例えば電極面を、ガス供給路側からガス排気路側にかけてギャップ長が大きくなるようにテーパとすればよい。または同様に、R(アール)形状や階段状にしてもよい。
なお、電極中央部から噴出されるガス流量を、該中央部の側方から噴出されるガスの流量よりも小さくするためには、例えば電極中央部のガス噴出口の穴数が該中央部の側方のガス噴出口の穴数より少ない多孔板、または電極中央部のガス噴出口の穴径が該中央部の側方のガス噴出口の穴径より小さい多孔板、あるいはこれらを組み合わせた多孔板を、基板に対向した第一電極の電極面に設置すればよい。
第一電極の中央部から噴出される材料ガスの水素含有量が、該中央部の側方から噴出される材料ガスの水素含有量よりも大きくされていることとしたので、電極中央部のH2の流量比が大きくなり、電極中央部の結晶性を高くすることができる。これにより、元来結晶性が高くなる傾向があるガス排気部とのバランスを取ることができ、結果として膜分布を均一にすることができる。
なお、電極中心部のH2流量比を大きくするために、例えば基板に対向した第一電極の電極面の材料ガスの流れ方向に、ガスの供給を独立にした少なくとも3つのガス噴出口を有する多孔版を設置する。そして、材料ガスとしてSiH4/H2の混合ガスを用いた場合に、電極中央部のガス噴出口にはH2を多めに供給し、該中央部の側方のガス噴出口にはややSiH4を多く供給すればよい。
これにより、ガス供給路側の基板へのHのフラックス量を増大させ、もともとH原子の量が多くなる傾向があるガス排気路側におけるHのフラックス量と同程度とすることができる。すなわち、ギャップ長の調整により、ガス供給路側の結晶性を高くすることで、元来結晶性が高くなる傾向があるガス排気路側とのバランスをとることができ、結果として膜分布を均一にすることができる。
なお、ガス排気路側のギャップ長をガス供給路側のギャップ長より大きくするために、例えば電極面を、ガス供給路側からガス排気路側にかけてギャップ長が大きくなるようにテーパとすればよい。または同様に、R(アール)形状や階段状にしてもよい。
なお、電極中央部から噴出されるガス流量を、該中央部の側方から噴出されるガスの流量よりも小さくするためには、例えば電極中央部のガス噴出口の穴数が該中央部の側方のガス噴出口の穴数より少ない多孔板、または電極中央部のガス噴出口の穴径が該中央部の側方のガス噴出口の穴径より小さい多孔板、あるいはこれらを組み合わせた多孔板を、基板に対向した第一電極の電極面に設置すればよい。
第一電極の中央部から噴出される材料ガスの水素含有量が、該中央部の側方から噴出される材料ガスの水素含有量よりも大きくされていることとしたので、電極中央部のH2の流量比が大きくなり、電極中央部の結晶性を高くすることができる。これにより、元来結晶性が高くなる傾向があるガス排気部とのバランスを取ることができ、結果として膜分布を均一にすることができる。
なお、電極中心部のH2流量比を大きくするために、例えば基板に対向した第一電極の電極面の材料ガスの流れ方向に、ガスの供給を独立にした少なくとも3つのガス噴出口を有する多孔版を設置する。そして、材料ガスとしてSiH4/H2の混合ガスを用いた場合に、電極中央部のガス噴出口にはH2を多めに供給し、該中央部の側方のガス噴出口にはややSiH4を多く供給すればよい。
以下に、本発明にかかる実施形態について、図面を参照して説明する。
図5には、本実施形態にかかるプラズマCVD装置(光電変換素子製造装置)10(図6参照)によって製造される太陽電池(光電変換装置)1が示されている。
太陽電池1は、図において下方から、基板2(ガラス基板)、透明電極3、p層4、i層5、n層6及び裏面電極7が順に積層された構造とされている。
透明電極3は、例えば、約500〜1000nmの厚さを有するSnO2とされている。
p層4は、例えば、約20〜50nmの厚さを有するp型半導体とされている。
i層5は、例えば、約1.2〜1.6μmの厚さを有する微結晶シリコンとされている。
n層6は、例えば、約20〜50nmの厚さを有するn型半導体とされている。
これらp層4、i層5及びn層6がpin接合を形成し、光電変換層として機能する。
裏面電極7は、例えば、約200〜500nmの厚さを有するAg(銀)またはAl(アルミニウム)とされている。裏面電極7としてAgを用いる場合には、変質防止のために表面に約10〜30nmの厚さを有するTi(チタン)を積層することが望ましい。また、n層6と裏面電極7との間に約50〜150nmの厚さを有する第2の透明電極(GZO)を設け、裏面電極7側からの光反射を増加させるようにしても良い。
また、pin構造またはnip構造の微結晶シリコン層と、pin構造またはnip構造のアモルファスシリコン層とを積層して2層構造としたいわゆるタンデム型としてもよい。さらに、微結晶シリコン層とアモルファスシリコン層との間に、適正な電流バランスを得るためにGZO等の中間層を設けても良い。
また、pin構造またはnip構造のアモルファスシリコン層、pin構造またはnip構造の微結晶シリコン層、pin構造またはnip構造の別の微結晶シリコン層を積層して3層構造としたいわゆるトリプル型としてもよい。さらに、各シリコン層間に、適正な電流バランスを得るためにGZO等の中間層を設けても良い。
プラズマCVD装置10は、反応容器26と、放電電極(第一電極)12と、放電電極12に対向するように基板16を保持する第二電極14と、プラズマ励起電源31を主に備えている。
反応容器26は、内部が真空可能となるように気密に形成された容器となっており、図において上部に設けられたガス排気管24を介して内部ガスが排気されるようになっている。この反応容器26内に、基板16が設置され、プラズマCVDによって光電変換層がこの基板16上に蒸着される。
ガス供給路18は、図6(a)に示すように、基板16側に開口を有する凹所となっている。ガス供給路18の上部にはガス導入路28が紙面垂直方向に形成されている。ガス供給路18とガス導入路28との間には、複数のガス供給孔29が所定の間隔にて形成されており(図6(b)参照)、このガス供給孔29を介して、ガス導入路28からガス供給路18へと材料ガスが流れるようになっている。図6(b)に示すように、ガス供給路18は、図において上下方向(例えば基板16の幅方向)に延在している。
ガス排気路20は、図6(a)に示すように、放電電極12の厚さ方向に貫通したスリットとなっている。このスリットとされたガス排気路20を通って、反応後のガスが反応容器26の外部へと排出される。図6(b)に示すように、ガス排気路20は、ガス供給路18と同様に、図において上下方向(例えば基板16の幅方向)に延在している。
プラズマ起動電源31は、放電電極12に接続されており、例えばVHF(30MHz〜300MHz)レベルの高周波電源とされている。
ガス排気路20の図において下端が、プラズマ領域から排出される排出ガスを吸入するガス吸入口とされている。なお、吸入される排出ガスは、反応後のガスに加えて、未反応の材料ガスも含まれる。
放電電極12の先端には、ガス供給路18とガス排気路20との間に挟まれた電極面32が形成されている。この電極面32は、ガス供給路18側からガス排気路20側にかけて、基板16との距離(ギャップ長)が大きくなるように、テーパ形状となっている。すなわち、ガス供給路18側におけるギャップ長L1が、ガス排気路20側におけるギャップ長L2よりも小さくなるように電極面32が設定されている。
これにより、ガス供給路18側の基板16へのHのフラックス量が増大し、元来H原子の量が多くなる傾向があるガス排気路20側におけるHのフラックス量と同程度となる。このように、ギャップ長の調整により、ガス供給路18側の結晶性を高くすることで、元来結晶性が高くなる傾向があるガス排気路20側とのバランスをとることができる。その結果、均一な成膜を実現し、ガス利用効率を向上させることができる。
次に、本発明の第二実施形態について、図2を用いて説明する。本実施形態は、第一実施形態に対して、放電電極の先端の構造が異なる。その他の点については同様であるので、その説明を省略する。
図2(a)に示すように、放電電極12の先端部には、多孔板42が設けられている。具体的には、ガス供給路18とされる凹所の開口部を塞ぐように、多孔板42が配置されている。多孔板42には、図2(b)に示すように、複数の噴出口44,46が形成されている。材料ガスは、各噴出口44,46を介して、ガス供給路18から基板16側へと流れる。
多孔板42に形成された噴出口は、放電電極12の略中央に位置するように形成された中央噴出口44と、この中央噴出口44の両側に配置された側部噴出口46とから構成されている。中央噴出口44は、側部噴出口46に比べて、小さな径とされている。
したがって、電極中央部の結晶性と元来結晶性が高くなる傾向があるガス排気部とのバランスをとることができる。その結果、均一な成膜を実現し、ガス利用効率を向上させることができる。
次に、本発明の第三実施形態について、図3を用いて説明する。本実施形態は、第一実施形態に比べて、放電電極の材料ガス供給方式が異なる。その他の点については同様であるので、その説明を省略する。
図3に示すように、放電電極12には、複数のガス供給路48,50,52が形成されている。具体的には、放電電極12の略中央部に設けられた中央ガス供給路48と、中央ガス供給路48の両側に設けられた側部ガス供給路50,52とが設けられている。各ガス供給路48,50,52には、それぞれ、ガス導入路28a,28b,28c及びガス供給孔29a,29b,29cが設けられている。これにより、各ガス供給路48,50,52から供給される材料ガスの混合比や組成が独立して制御できるようになっている。
例えば、中央ガス供給路48からは、側部ガス供給路50,52よりもH2が多い材料ガスを供給する。したがって、側部ガス供給路50,52からは、中央ガス供給路48よりもSiH4が多い材料ガスを供給する。
これにより、電極中央部の結晶性と元来結晶性が高くなる傾向のあるガス排気部とのバランスをとることができる。その結果、均一な成膜を実現し、ガス利用効率を向上させることができる。
2 基板(ガラス基板)
10 プラズマCVD装置(光電変換素子製造装置)
12 放電電極(第一電極)
14 第二電極
16 基板
18 ガス供給路
20 ガス排気路
32 電極面
42 多孔板
48,50,52 ガス供給路
L1,L2 ギャップ長
Claims (6)
- 第一電極と、
前記第一電極に対向するように基板を保持する第二電極と、を備え、
前記基板に対向する前記第一電極の先端には、材料ガスを供給するガス供給路と、材料ガスを排気するためのガス排気路とに挟まれた電極面が設けられ、前記第一電極および前記第二電極によって、前記電極面と前記基板との間に供給された材料ガスをプラズマ化して前記基板上に微結晶シリコン層を含む光電変換層を化学蒸着させる光電変換素子製造装置において、
前記電極面と前記基板との間における前記ガス供給路側と前記ガス排気路側との前記微結晶シリコン層の結晶性が略均等になるように、前記ガス排気路側の前記電極面と前記基板との距離が、ガス供給路側の前記電極面と前記基板との距離よりも大きく設けられていることを特徴とする光電変換素子製造装置。 - 第一電極と、
前記第一電極に対向するように基板を保持する第二電極と、を備え、
前記基板に対向する前記第一電極の先端には、材料ガスを供給するガス供給路と、材料ガスを排気するためのガス排気路とに挟まれた電極面が設けられ、前記第一電極および前記第二電極によって、前記電極面と前記基板との間に供給された材料ガスをプラズマ化して前記基板上に微結晶シリコン層を含む光電変換層を化学蒸着させる光電変換素子製造装置において、
前記電極面と前記基板との間における前記ガス供給路側と前記ガス排気路側との前記微結晶シリコン層の結晶性が略均等になるように、前記第一電極の中央部から噴出される材料ガスの流量が、該中央部の側方から噴出されるガスの流量よりも小さくされていることを特徴とする光電変換素子製造装置。 - 第一電極と、
前記第一電極に対向するように基板を保持する第二電極と、を備え、
前記基板に対向する前記第一電極の先端には、材料ガスを供給するガス供給路と、材料ガスを排気するためのガス排気路とに挟まれた電極面が設けられ、前記第一電極および前記第二電極によって、前記電極面と前記基板との間に供給された材料ガスをプラズマ化して前記基板上に微結晶シリコン層を含む光電変換層を化学蒸着させる光電変換素子製造装置において、
前記電極面と前記基板との間における前記ガス供給路側と前記ガス排気路側との前記微結晶シリコン層の結晶性が略均等になるように、前記第一電極の中央部から噴出される材料ガスの水素含有量が、該中央部の側方から噴出される材料ガスの水素含有量よりも大きくされていることを特徴とする光電変換素子製造装置。 - 第一電極と、
前記第一電極に対向するように基板を保持する第二電極と、を備え、
前記基板に対向する前記第一電極の先端には、材料ガスを供給するガス供給路と、材料ガスを排気するためのガス排気路とに挟まれた電極面が設けられ、前記第一電極および前記第二電極によって、前記電極面と前記基板との間に供給された材料ガスをプラズマ化して前記基板上に微結晶シリコン層を含む光電変換層を化学蒸着させる光電変換素子製造方法において、
前記電極面と前記基板との間における前記ガス供給路側と前記ガス排気路側との前記微結晶シリコン層の結晶性が略均等になるように、前記ガス排気路側の前記電極面と前記基板との距離が、ガス供給路側の前記電極面と前記基板との距離よりも大きく設けられていることを特徴とする光電変換素子製造方法。 - 第一電極と、
前記第一電極に対向するように基板を保持する第二電極と、を備え、
前記基板に対向する前記第一電極の先端には、材料ガスを供給するガス供給路と、材料ガスを排気するためのガス排気路とに挟まれた電極面が設けられ、前記第一電極および前記第二電極によって、前記電極面と前記基板との間に供給された材料ガスをプラズマ化して前記基板上に微結晶シリコン層を含む光電変換層を化学蒸着させる光電変換素子製造方法において、
前記電極面と前記基板との間における前記ガス供給路側と前記ガス排気路側との前記微結晶シリコン層の結晶性が略均等になるように、前記第一電極の中央部から噴出される材料ガスの流量が、該中央部の側方から噴出されるガスの流量よりも小さくされていることを特徴とする光電変換素子製造方法。 - 第一電極と、
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前記電極面と前記基板との間における前記ガス供給路側と前記ガス排気路側との前記微結晶シリコン層の結晶性が略均等になるように、前記第一電極の中央部から噴出される材料ガスの水素含有量が、該中央部の側方から噴出される材料ガスの水素含有量よりも大きくされていることを特徴とする光電変換素子製造方法。
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