JP5090375B2 - カルコゲナイド膜の形成方法及び記録素子の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明はまた、上記カルコゲナイド膜の形成方法を含む記録素子の製造方法、特に、抵抗変化型記録素子の製造方法に関するものである。
本願は、2007年1月25日に、日本に出願された特願2007−15059号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
この抵抗変化型不揮発性メモリは、記録層となるカルコゲナイド膜を2つの電極で挟持した単純な構造で、室温にても記録状態を安定に維持することができるので、10年を越える記憶保持も十分可能な優れたメモリである。
また、カルコゲン化合物が揮発性のカルコゲン元素を含んでいるために、成膜過程で揮発性のカルコゲン元素の一部が揮発し、得られたカルコゲナイド膜の組成が化学量論的組成からずれてしまうために、化学量論的組成を維持した状態でカルコゲナイド膜を成膜することは難しい。
本発明のさらなる目的は、上記カルコゲナイド膜の形成方法を応用した記録素子の製造方法を提供することである。
Ds/Dt=(Ps×St)/(Pt×Ss)≦0.1 …(1)
を満たすようにする。
前記カルコゲナイド膜は、S、Se、Teからなる群から選択される少なくとも1種を含有してなるカルコゲン化合物からなることが好ましい。
前記カルコゲン化合物は、Teを30重量%以上かつ60重量%以下、Geを10重量%以上かつ70重量%以下、Sbを10重量%以上かつ40重量%以下、Seを10重量%以上かつ70重量%以下含有し、かつ、これらTe、Ge、Sb及びSeの含有率の合計が100重量%以下であることが好ましい。
また、前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加することにより、揮発性のカルコゲン元素を含む膜の組成を化学量論的組成に維持した状態で、緻密なカルコゲナイド膜を成膜することができる。
また、前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加することにより、揮発性のカルコゲン元素を含む膜の組成を化学量論的組成に維持した状態で、緻密なカルコゲナイド膜を成膜することができる。
したがって、記録層を、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜により構成した記録素子を提供することができる。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
このカルコゲン化合物としては、例えば、Ge2Sb2Te5、GeSb2Te5、GeSe等が挙げられる。
このシリコンウエハ11は、カルコゲナイド膜を記録層とする相変化型メモリ(抵抗変化型記録素子)を作製する際に用いられるウエハであり、シリコン基板の半導体回路等(図示略)の上に形成された酸化ケイ素からなる絶縁層12に、この半導体回路に達するコンタクトホール13が形成され、このコンタクトホール13の上部は拡径された拡径部13aとされている。この拡径部13aを除くコンタクトホール13内には、タングステン(W)14及び窒化チタン(TiN)15の2層構造からなる相変化型メモリの下部電極(第1の電極)16が形成されている。
この成膜に際しては、揮発性のカルコゲン元素を含む膜の組成を化学量論的組成に維持した状態で、緻密なカルコゲナイド膜を成膜するために、電源5を用いて試料2にバイアス電力Ps(W)を印加するとともに、電源6を用いてターゲット3にスパッタリング電力Pt(W)を印加する。
Ds/Dt=(Ps×St)/(Pt×Ss)≦0.1 …(1)を満たす必要がある。
これにより、図3に示すように、シリコンウエハ11の拡径部13a内に、空隙等の欠陥が極めて少なく、緻密であり、化学量論的組成が維持されたカルコゲナイド膜17が成膜される。このカルコゲナイド膜17は、相変化型メモリの場合、記録層となるもので、平坦性に優れているので、化学的機械研磨(CMP)等は不要である。
以上により、カルコゲナイド膜17を記録層とする相変化型メモリ19を作製することができる。
図4は、被覆率(tB/ti)及びスパッタリングレートと、ターゲット3と試料2との間の距離L(m)とターゲット3の直径T(m)との比L/Tとの関係を示す図である。ここで、被覆率(tB/ti)とは、コンタクトホール13を含む絶縁層12上にカルコゲナイド膜を成膜したとき、拡径部13aの底面に成膜されたカルコゲナイド膜の膜厚(tB)と、拡径部13a外の絶縁層12上に成膜されたカルコゲナイド膜の膜厚(ti)との比である。
ここでは、カルコゲナイド膜の組成を、Ge2Sb2Te5とした。
図5によれば、(Ps×St)/(Pt×Ss)が0.1を超えると、Ge、Te等のカルコゲン元素含有比が急激に低下し、さらに0.35を超えると、カルコゲン元素含有比が0.2以下と著しく低下することが分かる。
図7は、L/T=1.0の条件下にて、試料2にバイアス電力Ps(W)を印加せずにカルコゲナイド膜をスパッタリングにより形成した場合の拡径部13a内におけるカルコゲナイド膜の断面形状を示す走査型電子顕微鏡(SEM)像である。
図8は、従来のスパッタリング方法であるL/T=0.2の条件下にて、試料2上にカルコゲナイド膜をスパッタリングにより形成した場合の拡径部13a内におけるカルコゲナイド膜の断面形状を示す走査型電子顕微鏡(SEM)像である。
また、試料2にバイアス電力Ps(W)を印加しなかった場合、拡径部13a内に成膜されたカルコゲナイド膜の表面には円錐状の突起が形成されているものの、所定の厚みが確保され、しかも表面が平坦化されており、膜質が良好であることが分かった。
一方、従来例の場合、拡径部13a内に成膜されたカルコゲナイド膜の厚みは極めて薄く、膜の電気的特性についてもバラツキが大きく、膜質に劣るものであった。
したがって、記録層を、内部に空隙やクラック等の欠陥が無く、緻密かつ化学量論的組成のカルコゲナイド膜により構成した抵抗変化型記録素子を提供することができる。
Claims (9)
- 基板上の絶縁層に形成されたコンタクトホール内にカルコゲナイド膜を形成する方法であって、
前記カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットを準備する段階と、
前記ターゲットの直径をT(m)、前記ターゲットと前記基板との間の距離をL(m)とした場合に、前記距離Lと前記ターゲットの直径Tとの比L/Tを、0.5以上かつ1.5以下に設定する段階と、
前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加するスパッタリング工程により、前記コンタクトホール内にカルコゲナイド膜を形成する段階と、を含み、
前記基板の表面積をS s (cm 2 )、前記基板に印加するバイアス電力をP s (W)、前記ターゲットの表面積をS t (cm 2 )、前記ターゲットに印加するスパッタリング電力をP t (W)としたとき、前記基板のパワー密度Dsの前記ターゲットのパワー密度Dtに対する比Ds/Dtは、下記の式(1)
Ds/Dt=(P s ×S t )/(P t ×S s )≦0.1 …(1)
を満たすカルコゲナイド膜の形成方法。 - 前記基板のパワー密度Ds及び前記ターゲットのパワー密度Dtを最適化することにより、前記コンタクトホール内に前記カルコゲナイド膜をその化学量論的組成を維持しつつ密に充填する、請求項1記載のカルコゲナイド膜の形成方法。
- 前記カルコゲナイド膜は、S、Se、Teからなる群から選択される少なくとも1種を含有してなるカルコゲン化合物からなることを特徴とする請求項1記載のカルコゲナイド膜の形成方法。
- 前記カルコゲン化合物は、Teを30重量%以上かつ60重量%以下、Geを10重量%以上かつ70重量%以下、Sbを10重量%以上かつ40重量%以下、Seを10重量%以上かつ70重量%以下含有し、かつ、これらTe、Ge、Sb及びSeの含有率の合計が100重量%以下である、請求項3記載のカルコゲナイド膜の形成方法。
- カルコゲナイド膜を含む記録素子の製造方法であって、
基板上に、上部が拡径されたコンタクトホールを有する絶縁層を形成する段階と、
前記コンタクトホール内に第1の電極を形成する段階と、
前記カルコゲナイド膜と同一組成のターゲットを準備する段階と、
前記ターゲットの直径をT(m)、前記ターゲットと前記基板との間の距離をL(m)とした場合に、前記距離Lと前記ターゲットの直径Tとの比L/Tを、0.5以上かつ1.5以下に設定する段階と、
前記基板にバイアス電力を印加し、前記ターゲットにスパッタリング電力を印加するスパッタリング工程により、前記第1の電極上であり、かつ、前記コンタクトホール内に記録層となるカルコゲナイド膜を形成する段階と、
前記カルコゲナイド膜上に第2の電極を形成する段階と、を含み、
前記基板の表面積をS s (cm 2 )、前記基板に印加するバイアス電力をP s (W)、前記ターゲットの表面積をS t (cm 2 )、前記ターゲットに印加するスパッタリング電力をP t (W)としたとき、前記基板のパワー密度Dsの前記ターゲットのパワー密度Dtに対する比Ds/Dtは、下記の式(1)
Ds/Dt=(P s ×S t )/(P t ×S s )≦0.1 …(1)
を満たす記録素子の製造方法。 - 前記基板のパワー密度Ds及び前記ターゲットのパワー密度Dtを最適化することにより、前記コンタクトホール内に前記カルコゲナイド膜をその化学量論的組成を維持しつつ密に充填する、請求項5記載の記録素子の製造方法。
- 前記カルコゲナイド膜は、S、Se、Teからなる群から選択される少なくとも1種を含有してなるカルコゲン化合物からなることを特徴とする請求項5記載の記録素子の製造方法。
- 前記カルコゲン化合物は、Teを30重量%以上かつ60重量%以下、Geを10重量%以上かつ70重量%以下、Sbを10重量%以上かつ40重量%以下、Seを10重量%以上かつ70重量%以下含有し、かつ、これらTe、Ge、Sb及びSeの含有率の合計が100重量%以下である、請求項7記載の記録素子の製造方法。
- 前記第1及び第2の電極は、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ru、Pt、Irからなる群から選択される少なくとも1種を含有してなる、請求項5記載の記録素子の製造方法。
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