JP5084544B2

JP5084544B2 - Vibration isolator

Info

Publication number: JP5084544B2
Application number: JP2008036176A
Authority: JP
Inventors: 章松浦; 恒夫村田; 博哉坂本; 寛滝本
Original assignee: Tokkyokiki Corp
Current assignee: Tokkyokiki Corp
Priority date: 2008-02-18
Filing date: 2008-02-18
Publication date: 2012-11-28
Anticipated expiration: 2028-02-18
Also published as: JP2009192053A

Description

本発明は、クリーンルーム内に設けられた真空チャンバ(クラス１)内での使用を目的とし、半導体露光装置または電子顕微鏡等のような超精密機器に伝わる振動を除去するための除振装置に関し、特に、「空気ばね」を用いたアクティブ又はパッシブ除振装置に関する。 The present invention relates to a vibration isolator for removing vibration transmitted to an ultra-precision apparatus such as a semiconductor exposure apparatus or an electron microscope for use in a vacuum chamber (class 1) provided in a clean room. In particular, the present invention relates to an active or passive vibration isolator using an “air spring”.

従来からクリーンルーム内で使用されるような半導体露光装置または電子顕微鏡等のような精密機器は、床面等から伝わる外部振動或は精密機器そのものの可動部の稼動による振動(自家発生振動)の影響を受け易いため、精密機器そのものに加わる振動(微小振動も含めて)を効果的に除去することが重視されている。 Precision instruments such as semiconductor exposure equipment or electron microscopes that are conventionally used in clean rooms are affected by external vibrations transmitted from the floor or the like, or vibrations caused by the movement of moving parts of precision instruments themselves (self-generated vibrations). Therefore, it is important to effectively remove vibrations (including minute vibrations) applied to the precision instrument itself.

最近、半導体関係の生産設備では、生産性の極大化を計るため半導体基板の大型化、パターンの細密化に伴う超高精密化及びハンドリングを含めた自動化が急速に進行している。そして半導体関係の生産設備は自動化されたハンドリング装置も主装置と一体化されるに至り大型化していること、超精密化実現のため機器に加わる超微細振動まで効果的に除去すること求められ(アクティブ除振)、従来からこのような精密機器の除振に適した様々な除振装置が開発されている。その一例が特許文献１〜３などに開示されている。特許文献１〜３に開示された除振装置は、いずれも「空気ばね除振装置」によるアクティブ除振方法を使用しており、大型化、超精密化に対応できるようになってきている。(勿論、パッシブ除振方法の適用も可能である。） Recently, in semiconductor-related production facilities, in order to maximize productivity, automation including rapid enlargement of semiconductor substrates, ultra-high precision accompanying fine patterning, and handling has been progressing rapidly. The production facilities for semiconductors are required to have an automated handling device that is integrated with the main device and is enlarged, and it is required to effectively remove the ultra-fine vibration applied to the equipment to achieve ultra-precision. Various types of vibration isolation devices suitable for vibration isolation of such precision instruments have been developed. One example is disclosed in Patent Documents 1 to 3 and the like. All of the vibration isolators disclosed in Patent Documents 1 to 3 use an active vibration isolating method using an “air spring vibration isolator”, and can cope with an increase in size and super precision. (Of course, the passive vibration isolation method can be applied.)

しかしながら、現在では、前記更なる超精密化(即ち、サブミクロンクラスに及ぶパターンの超細密化)に伴い、スーパークリーンルームやクリーンルーム内に設けられる専用の真空チャンバ(例えばクラス１)にも対応できることが求められるようになってきている。
特開２００２−３６４７０２公報特開２００５−０６９３０３公報特開２００５−１０６１６６公報 However, at present, along with the further ultra-precision (that is, the ultra-fine pattern of the submicron class pattern), it is possible to cope with a super clean room and a dedicated vacuum chamber (for example, class 1) provided in the clean room. It is getting demanded.
JP 2002-364702 A JP 2005-0669303 A JP-A-2005-106166

従来の除振装置（特許文献１〜３）によれば、上述した効果（大型化、超精密除振）にある程度対応できるものの、「空気ばね除振装置」の空気溜まりとなる「ベローズ」は、伸縮性が要求されるため「ゴム」で構成されている。「ゴム」は種々の添加剤が含まれているため、このような「空気ばね除振装置」を使用すると、必然的に「ベローズ」を構成する「ゴム」から化学物質(添加物)を始め各種有害パーティクルがベローズ外、即ち、スーパークリーンルームや専用の真空チャンバ内に放出される。従って、スーパークリーンルームまたは真空チャンバ等のような高い清浄度(例えばクラス１)が要求されるような環境では、「ベローズ」を構成する「ゴム」から放出される化学物質(添加物)その他が内部環境を汚染してしまうので、このような除振装置では前記スーパークリーンルームなどのような環境下では使用し得ないという問題があった。また、アクティブ又はパッシブ除振に用いられる「空気ばね除振装置」は、外圧よりも圧力の方が高い空気溜まりとなる「ベローズ」を使用しているため、何らかの原因により「ベローズ」が破れ(ピンホールも含む。)、「ベローズ」から内圧空気が漏出した場合には、該内圧空気によってスーパークリーンルームなどの清浄周辺環境が汚染される。 According to the conventional vibration isolator (Patent Documents 1 to 3), although the above-described effects (enlargement, ultra-precision vibration isolation) can be accommodated to some extent, the “bellows” that becomes an air reservoir of the “air spring vibration isolator” Because it requires elasticity, it is made of “rubber”. Since "rubber" contains various additives, using such an "air spring vibration isolator" inevitably starts chemical substances (additives) from "rubber" that constitutes "bellows". Various harmful particles are discharged outside the bellows, that is, into a super clean room or a dedicated vacuum chamber. Therefore, in an environment where high cleanliness (for example, class 1) is required, such as a super clean room or a vacuum chamber, chemical substances (additives) etc. released from “rubber” constituting “bellows” are contained inside. Since the environment is contaminated, there is a problem that such a vibration isolator cannot be used in an environment such as the super clean room. In addition, since the `` air spring vibration isolator '' used for active or passive vibration isolation uses a `` bellows '' that becomes an air reservoir with a higher pressure than the external pressure, the `` bellows '' is broken for some reason ( (Including pinholes.)) When internal pressure air leaks from the “bellows”, clean internal environment such as a super clean room is contaminated by the internal pressure air.

それゆえに本発明の主たる課題は、スーパークリーンルームのような清浄周辺環境の汚染を防止できる「空気ばね除振装置」を用いたアクティブ又はパッシブ除振装置を提供することである。 Therefore, a main object of the present invention is to provide an active or passive vibration isolator using an “air spring vibration isolator” that can prevent contamination of a clean surrounding environment such as a super clean room.

請求項１に記載した発明は、「除振対象物Ｍ（例えば半導体基板の露光装置）を支持する空気ばね除振装置１０と、空気ばね除振装置１０を気密的に囲繞し、かつ、前記除振対象物Ｍの移動方向への伸縮可能な、金属ベローズで構成された無塵カバー３４と、前記無塵カバー３４の内部空間Ａを減圧源２４に接続する排気管５６とで構成されており、前記無塵カバー３４の内部空間Ａの圧力は、前記無塵カバー３４の外部空間Ｂの圧力よりも低圧に設定されることを特徴とする除振装置１０，６４」である。
According to the first aspect of the present invention, “the air spring vibration isolator 10 that supports the vibration isolation object M (for example, an exposure apparatus for a semiconductor substrate) and the air spring vibration isolator 10 are hermetically surrounded, and possible expansion and contraction of the moving direction of the object to be vibration-isolated M, a dust-free cover 34 made of a metal bellows, the interior space a of the dust-free cover 34 is composed of an exhaust pipe 56 to be connected to a vacuum source 24 In the vibration isolator 10, 64 ”, the pressure in the inner space A of the dustless cover 34 is set to be lower than the pressure in the outer space B of the dustless cover 34 .

本発明では、空気ばね除振装置１０，６４を囲繞するものが無塵カバー３４であるから、それ自体、発塵せず、清浄周辺環境内での使用が可能であり、しかも無塵カバー３４によって空気ばね除振装置１０，６４を気密的に囲繞するとともに、無塵カバー３４の内部空間Ａと減圧源２４とを排気管５６にて接続しているので、空気ばね除振装置１０の「ベローズ」から化学物質などが放出されたり、「ベローズ」の破損によって「ベローズ」の内圧空気が漏出したりした場合でも、それらの化学物質などを含む内圧空気は無塵カバー３４の存在よって洩れることはなく、且つ、直ちに排気管５６の存在によって無塵カバー３４外に確実に吸引排出することができ、除振装置１０の清浄周辺環境への放散が確実に防止できる。 In the present invention, the dust-free cover 34 surrounds the air spring vibration isolator 10, 64. Therefore, the dust-free cover 34 does not generate dust and can be used in a clean surrounding environment. The air spring vibration isolator 10, 64 is hermetically surrounded by the air flow and the internal space A of the dust-free cover 34 and the pressure reducing source 24 are connected by the exhaust pipe 56. Even if chemical substances are released from the “bellows” or the internal pressure air of the “bellows” leaks due to the damage of the “bellows”, the internal pressure air containing such chemical substances leaks due to the presence of the dust-free cover 34. In addition, since the exhaust pipe 56 is immediately present, it can be reliably sucked and discharged out of the dust-free cover 34, and the vibration isolation device 10 can be reliably prevented from being diffused into the clean surrounding environment.

加えて、「無塵カバー３４の内部空間Ａの圧力が無塵カバー３４の外部空間Ｂの圧力よりも低圧に設定される」ことにより、無塵カバー３４そのものに破損が生じたとしても、その破損がピンホール程度の軽微なもので、無塵カバー３４内の減圧状態が破られない程度のものであれば、減圧源２４に接続された排気管５６によって無塵カバー３４の内部空間Ａの汚染空気を確実に吸引排出することができ、パーティクルのような有害塵埃がスーパークリーンルームなどの超清浄内部環境へ放散されるのを確実に防止できる。
In addition, even if the dust-free cover 34 itself is damaged by “the pressure of the inner space A of the dust-free cover 34 is set lower than the pressure of the outer space B of the dust-free cover 34” If the damage is minor such as a pinhole and the decompressed state in the dust-free cover 34 is not broken, the exhaust pipe 56 connected to the decompression source 24 can remove the internal space A of the dust-free cover 34. Contaminated air can be reliably sucked and discharged, and harmful dust such as particles can be reliably prevented from being diffused into an ultra-clean internal environment such as a super clean room.

また、減圧源２４に接続された排気管５６で無塵カバー３４の内部空間Ａを減圧することによって、空気ばね除振装置１０の「ベローズ」の外部圧力（Ｐａ；即ち、無塵カバー３４の内圧）を低くするようにしているので、無塵カバー３４の内圧を減圧しない場合に比べてより大きな荷重（Ｍ）を支持することができる。なお、この点については、後に[数１]式を参照しながら詳述する。 Further, the internal space A of the dust-free cover 34 is decompressed by the exhaust pipe 56 connected to the decompression source 24, so that the external pressure (Pa; that is, the dust-free cover 34 of the air spring vibration isolator 10 is reduced). Since the internal pressure is reduced, a larger load (M) can be supported than when the internal pressure of the dust-free cover 34 is not reduced. This point will be described in detail later with reference to the formula [1].

請求項１に記載した発明によれば、
(イ)無塵カバー３４の使用により、空気ばね除振装置自体の清浄周辺環境内での使用が可能となる。
(ロ)パーティクルのような有害塵埃の放散を確実に防止できるので、トラブル発生時でもスーパークリーンルームのような清浄周辺環境を汚染するようなことがない。
(ハ)無塵カバー３４の内圧を減圧しない場合に比べてより大きな荷重（Ｍ）を支持することができ、より小型の空気ばね除振装置を使用することができて除振装置の小型軽量化を達成できる。 According to the invention described in claim 1 ,
(A) By using the dust-free cover 34, the air spring vibration isolator itself can be used in a clean surrounding environment.
(B) Since it is possible to reliably prevent harmful dust such as particles from escaping, there is no possibility of polluting the clean surrounding environment such as a super clean room even when trouble occurs.
(C) A larger load (M) can be supported compared to the case where the internal pressure of the dust-free cover 34 is not reduced, and a smaller air spring vibration isolator can be used. Can be achieved.

図１は、本発明が適用された除振装置１０を示す断面図であり、図２は、除振装置１０の使用状態を示す正面図であり、図３は、除振装置１０の使用状態を示す平面図である。なお、図において矢印で示した「ＸＹＺ方向」は、以下の説明で用いる「ＸＹＺ方向」に対応している。 1 is a cross-sectional view showing a vibration isolator 10 to which the present invention is applied, FIG. 2 is a front view showing a usage state of the vibration isolation device 10, and FIG. 3 is a usage state of the vibration isolation device 10. FIG. The “XYZ directions” indicated by arrows in the figure correspond to the “XYZ directions” used in the following description.

第１実施例である除振装置１０（図１〜３）は、除振対象物、例えば半導体装置の製造プロセスで使用される半導体露光装置或は電子顕微鏡の除振に適用されるものであり、超微小振動を含め、外部振動や除振対象物が有する可動部の稼動によって発生した振動を打ち消すように積極的に動作する「アクティブ形」として構成されている。 The vibration isolator 10 (FIGS. 1 to 3) according to the first embodiment is applied to a vibration isolation object such as a semiconductor exposure apparatus used in a semiconductor device manufacturing process or an electron microscope. In addition, it is configured as an “active type” that actively operates so as to cancel external vibrations and vibrations generated by the operation of the movable part of the vibration isolation object, including ultra-fine vibrations.

前記半導体露光装置は、例えば、未処理半導体基板を収容するローダ、処理済み半導体基板を収容するアンローダ、露光部において半導体基板を載置し、マスターパターンとの位置合わせを行うＸＹステージと、露光光（紫外線等）を出射する光源と、光源から出射された露光光（紫外線等）を半導体基板へ導く光学系、半導体基板を自動ローディング、自動アンローディングするロボットアーム(自走可能のものもある。)、その他付属設備などによって構成されており、「塵または埃等の微細粒子(パーティクル)が半導体基板上に落下することによる露光不良＝断線の原因」を防止するために、例えば、クリーンルームの真空チャンバ内に設置されている。従って、真空チャンバの内部は減圧状態にある。本実施例では真空チャンバの内部空間(即ち、清浄周辺環境)をＢで表す。 The semiconductor exposure apparatus includes, for example, a loader that accommodates an unprocessed semiconductor substrate, an unloader that accommodates a processed semiconductor substrate, an XY stage that mounts the semiconductor substrate in an exposure unit and performs alignment with a master pattern, and exposure light A light source that emits (ultraviolet rays, etc.), an optical system that guides exposure light (ultraviolet rays, etc.) emitted from the light source to the semiconductor substrate, and a robot arm that automatically loads and unloads the semiconductor substrate (some of which can be self-propelled). ), And other accessory equipment, etc., in order to prevent “exposure failure = cause of disconnection due to fine particles (particles) such as dust or dust falling on the semiconductor substrate”, for example, vacuum in a clean room It is installed in the chamber. Therefore, the inside of the vacuum chamber is in a reduced pressure state. In this embodiment, B represents the internal space of the vacuum chamber (ie, the clean ambient environment).

ＸＹステージは可動部のひとつで、半導体基板を載置してマスターパターンとの位置合わせを行うためにこれをＸＹ方向へ移動させるものであるが、最近では配線パターンがサブミクロンという超細密状態にあり、装置に伝わる振動(装置の可動部分からの振動も含む。)が当該装置の性能を左右するというような状況に至っている。通常、除振対象物Ｍである半導体露光装置を支持する除振装置１０の数は、除振対象物Ｍの４隅に設けられているが、勿論、４個に限定されるものではなく、３個であってもよいし、５個以上であってもよい。 The XY stage is one of the movable parts, and it is used to place the semiconductor substrate and move it in the XY direction in order to align it with the master pattern. There is a situation in which vibration (including vibration from a movable part of the apparatus) transmitted to the apparatus affects the performance of the apparatus. Usually, the number of the vibration isolator 10 that supports the semiconductor exposure apparatus that is the vibration isolation object M is provided at the four corners of the vibration isolation object M, but of course is not limited to four. Three may be sufficient and five or more may be sufficient.

除振装置１０は、図１に示すように、除振装置本体２０と、圧縮空気源２２と、減圧源２４である例えば真空ポンプ或いは工場減圧配管と、空圧制御装置２６とを備えており、除振装置本体２０が除振装置１０の主要部として支持台１８を介して(或は直接)支持床１５と除振対象物Ｍである半導体露光装置との間に配設されている。 As shown in FIG. 1, the vibration isolator 10 includes a vibration isolator body 20, a compressed air source 22, a decompression source 24 such as a vacuum pump or a factory decompression pipe, and an air pressure control device 26. The vibration isolation device main body 20 is disposed as a main part of the vibration isolation device 10 via the support base 18 (or directly) between the support floor 15 and the semiconductor exposure apparatus as the vibration isolation object M.

除振装置本体２０は、図１および図３に示すように、下側固定プレート２８と、上側固定プレート３０と、空気ばねユニット３２と、無塵カバー３４とによって構成されている。 As shown in FIGS. 1 and 3, the vibration isolator body 20 includes a lower fixing plate 28, an upper fixing plate 30, an air spring unit 32, and a dust-free cover 34.

下側固定プレート２８は、除振装置本体２０の下面を構成する円盤状部材であり、上側固定プレート３０は、除振装置本体２０の上面を構成する円盤状部材であり、下側固定プレート２８が固定ボルト等を用いて支持台１８の上面に固定されており、かつ、上側固定プレート３０が固定ボルト等を用いて除振対象物Ｍの下面に固定されている。そして、下側固定プレート２８には、３つの貫通孔２８ａ，２８ｂ，２８ｃが形成されており、これらの貫通孔２８ａ，２８ｂ，２８ｃが支持台１８の天板３６に形成された貫通孔１８ａ，１８ｂ，１８ｃに連通されている。なお、下側固定プレート２８および上側固定プレート３０の形状は、特に限定されるものではなく、本実施例のような円盤状（図３）の他、四角盤状等であってもよい。また、支持台１８の内部には後述する除振装置本体２０用の配管系、即ち、排気処理源５７となる例えば工場時配管や圧縮空気源２２となる圧縮ポンプ及び減圧源２４となる真空ポンプ或はこれらに相当する工場配管などが収容されている。 The lower fixed plate 28 is a disk-shaped member that forms the lower surface of the vibration isolation device main body 20, and the upper fixed plate 30 is a disk-shaped member that forms the upper surface of the vibration isolation device main body 20, and the lower fixed plate 28 Is fixed to the upper surface of the support base 18 using fixing bolts or the like, and the upper fixing plate 30 is fixed to the lower surface of the vibration isolation object M using fixing bolts or the like. The lower fixing plate 28 is formed with three through holes 28 a, 28 b and 28 c, and these through holes 28 a, 28 b and 28 c are formed in the through holes 18 a and 28 b formed in the top plate 36 of the support base 18. It communicates with 18b and 18c. The shapes of the lower fixing plate 28 and the upper fixing plate 30 are not particularly limited, and may be a disc shape (FIG. 3) as in this embodiment, a square disc shape, or the like. In addition, a pipe system for an anti-vibration device body 20 to be described later, that is, an exhaust processing source 57, for example, a factory-time piping, a compression pump that serves as a compressed air source 22, and a vacuum pump that serves as a decompression source 24 are provided inside the support base 18. Or the factory piping etc. which correspond to these are accommodated.

１台の空気ばねユニット３２は、下側構成部材３８と、上側構成部材４０と、５個の空気ばね４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ，４２ｅとを備えている。 One air spring unit 32 includes a lower constituent member 38, an upper constituent member 40, and five air springs 42a, 42b, 42c, 42d, and 42e.

下側構成部材３８は、Ｘ方向において対向する２つの側板３８ａ，３８ｂ（図１、図３(b)）と、Ｙ方向において対向する２つの側板３８ｃ，３８ｄ（図３(b)）と、水平面を構成する平面視四角形の底板３８ｅ（図１）とによって、上面が開放された箱状に構成されており、底板３８ｅ（図１）が下側固定プレート２８の上面に固定ボルト等を用いて固定されている。 The lower component member 38 includes two side plates 38a and 38b (FIGS. 1 and 3 (b)) that face each other in the X direction, and two side plates 38c and 38d (FIG. 3 (b)) that face each other in the Y direction, A bottom plate 38e (FIG. 1) having a rectangular shape in plan view that constitutes a horizontal plane is formed in a box shape having an open upper surface, and the bottom plate 38e (FIG. 1) uses a fixing bolt or the like on the upper surface of the lower fixing plate 28. Is fixed.

上側構成部材４０は、下側構成部材３８の上方からその中央部に挿入された角柱状の棒状部材４４を備えており、棒状部材４４の側面には、下側構成部材３８の側板３８ａ，３８ｂ，３８ｃ，３８ｄと対向する対向面４４ａ，４４ｂ，４４ｃ，４４ｄが形成されており、棒状部材４４の下面には、下側構成部材３８の底板３８ｅと対向する対向面４４ｅが形成されている。また、棒状部材４４の上端部には、鍔状の固定部４６が形成されており、固定部４６が上側固定プレート３０の下面に固定ボルト等を用いて固定されている。 The upper component member 40 includes a prismatic rod-like member 44 inserted into the central portion from above the lower component member 38, and the side plates 38 a and 38 b of the lower component member 38 are disposed on the side surfaces of the rod-like member 44. , 38c and 38d are formed opposite surfaces 44a, 44b, 44c and 44d. On the lower surface of the rod-shaped member 44, an opposite surface 44e which is opposed to the bottom plate 38e of the lower component member 38 is formed. Further, a hook-shaped fixing portion 46 is formed at the upper end portion of the rod-shaped member 44, and the fixing portion 46 is fixed to the lower surface of the upper fixing plate 30 using a fixing bolt or the like.

そして、下側構成部材３８の側板３８ａ，３８ｂ，３８ｃ，３８ｄと上側構成部材４０の対向面４４ａ，４４ｂ，４４ｃ，４４ｄとの間に空気ばね４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄが配設されており、底板３８ｅと対向面４４ｅとの間に空気ばね４２ｅが配設されている。また、各空気ばね４２ａ〜４２ｅに対して給排気管４８を介してサーボバルブ５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ，５０ｅ(サーボバルブ５０ｃ，５０ｄは図示せず。)が接続されており、各サーボバルブ５０ａ〜５０ｅに対して給気管５２および排気管５４が接続されている。 Air springs 42a, 42b, 42c, and 42d are disposed between the side plates 38a, 38b, 38c, and 38d of the lower component member 38 and the opposing surfaces 44a, 44b, 44c, and 44d of the upper component member 40. An air spring 42e is disposed between the bottom plate 38e and the facing surface 44e. Servo valves 50a, 50b, 50c, 50d, and 50e (servo valves 50c and 50d are not shown) are connected to the air springs 42a to 42e via the air supply / exhaust pipe 48. An air supply pipe 52 and an exhaust pipe 54 are connected to 50a to 50e.

空気ばね４２ａ〜４２ｅは、圧縮空気の弾力性を利用したばね装置であり、ゴム膜によって風船状に形成されている。したがって、空気ばねに空気を供給すると、体積が膨張するとともに内部圧力が高くなり、空気ばねから空気を抜くと、体積が収縮するとともに内部圧力が低くなる。 The air springs 42a to 42e are spring devices using the elasticity of compressed air, and are formed in a balloon shape by a rubber film. Therefore, when air is supplied to the air spring, the volume expands and the internal pressure increases, and when air is extracted from the air spring, the volume contracts and the internal pressure decreases.

サーボバルブ５０ａ〜５０ｅは、空圧制御装置２６のバルブ制御回路６２から出力された制御信号に基づいて空気ばね４２ａ〜４２ｅに対する「給気量」と「排気量」とを制御してそのバランスで空気ばね４２ａ〜４２ｅの内圧を制御するものであり、除振対象物Ｍに装備された除振装置１０…の全てのサーボバルブ５０ａ…が統一的に制御されることによって、換言すれば、空気ばね４２ａ…へ供給・排気される空気量調整による内圧調整によって超微小振動を含め除振対象物Ｍに入力又は除振対象物Ｍ自体が発生したした全ての振動をアクティブに打ち消すように制御が行われる。 The servo valves 50a to 50e control the “air supply amount” and “exhaust amount” with respect to the air springs 42a to 42e based on the control signal output from the valve control circuit 62 of the pneumatic control device 26. The internal pressures of the air springs 42a to 42e are controlled, and all the servo valves 50a of the vibration isolation devices 10 mounted on the vibration isolation object M are controlled in a unified manner. Control is performed so as to actively cancel all vibrations that are input to the vibration isolation object M or generated by the vibration isolation object M itself, including ultra-fine vibrations, by adjusting the internal pressure by adjusting the amount of air supplied and exhausted to the springs 42a. Is done.

給気管５２は、圧縮空気源２２の圧縮空気を各サーボバルブ５０ａ…へ供給するための通気路であり、シールの使用により、給気管５２の入口側端部は、貫通孔２８ａ，１８ａから除振装置本体２０の外部へ気密的に引き出されて圧縮空気源２２に接続されており、出口側端部は、複数に分岐されて各サーボバルブ５０ａ…に接続されている。 The air supply pipe 52 is a ventilation path for supplying the compressed air of the compressed air source 22 to each servo valve 50a, and the inlet side end of the air supply pipe 52 is removed from the through holes 28a and 18a by using a seal. It is airtightly drawn out of the vibration device main body 20 and connected to the compressed air source 22, and the outlet side end portion is branched into a plurality and connected to the servo valves 50a.

排気管５４は、空気ばね４２ａ…側から各サーボバルブ５０ａ…に与えられた排気を排出するための排気路であり、排気管５４の入口側端部は、複数に分岐されて各サーボバルブ５０ａ…に接続されており、出口側端部は、貫通孔２８ｂ，１８ｂから除振装置本体２０の外部へ気密的に引き出されて例えば工場排気配管のような排気処理源５７に接続されている。 The exhaust pipe 54 is an exhaust path for exhausting the exhaust given to each servo valve 50a ... from the air spring 42a ... side, and the inlet side end of the exhaust pipe 54 is branched into a plurality of parts, and the servo valves 50a ... Are connected to an exhaust processing source 57 such as a factory exhaust pipe. The outlet side end portion is airtightly drawn out of the vibration isolation device main body 20 from the through holes 28b and 18b.

無塵カバー３４は、空気ばねユニット３２（空気ばね４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ，４２ｅを含む。）を気密的に囲繞する例えばステンレスのような金属製ベローズからなる円又は角筒状部材であり、無塵カバー３４の下端部全周が下側固定プレート２８の上面に気密的に接続されており、かつ、上端部全周が上側固定プレート３０の下面に気密的に接続されている。したがって、空気ばね４２ａ…の周囲には、下側固定プレート２８と上側固定プレート３０と無塵カバー３４とによって密閉空間(即ち、後述する内部空間Ａ)が構成されている。 The dust-free cover 34 is a circular or square cylindrical member made of a metal bellows such as stainless steel that hermetically surrounds the air spring unit 32 (including air springs 42a, 42b, 42c, 42d, and 42e). The entire periphery of the lower end of the dust-free cover 34 is airtightly connected to the upper surface of the lower fixing plate 28, and the entire periphery of the upper end is airtightly connected to the lower surface of the upper fixing plate 30. Therefore, a sealed space (that is, an internal space A described later) is formed around the air springs 42a by the lower fixing plate 28, the upper fixing plate 30, and the dust-free cover 34.

ここで、「金属製ベローズ」とは、ステンレス等のような金属からなる「蛇腹状」または「ふいご状」の筒状部材であり、側壁に設けられた山谷が軸方向へ交互に連続している。したがって、無塵カバー３４は、大きくは除振対象物Ｍその物の重量による荷重方向(上下方向)に伸縮すると同時に除振対象物Ｍに対する入力縦波外乱と入力横波外乱(上下方向及び水平方向)に合わせて殆ど抵抗なく伸縮する。換言すれば、除振対象物Ｍの上下・水平振動に伴って空気ばねユニット３２の高さ・水平位置が変動すると、それに追従して無塵カバー３４の高さや水平方向のズレ量が３次元的に殆ど抵抗なく変動する。 Here, the “metal bellows” is a “bellows-like” or “fluff-like” cylindrical member made of a metal such as stainless steel, and the peaks and valleys provided on the side walls are alternately continuous in the axial direction. ing. Accordingly, the dust-free cover 34 expands or contracts in the load direction (vertical direction) depending on the weight of the vibration isolation object M itself, and at the same time, the input longitudinal wave disturbance and the input transverse wave disturbance (vertical direction and horizontal direction) with respect to the vibration isolation object M. ) To expand and contract with little resistance. In other words, if the height / horizontal position of the air spring unit 32 fluctuates in accordance with the vertical / horizontal vibration of the vibration isolation object M, the height of the dust-free cover 34 and the amount of horizontal displacement are three-dimensionally following this. It fluctuates almost without resistance.

なお、本実施例では、無塵カバー３４を金属製(例えばステンレス製)ベローズで構成することによって、無塵カバー３４自体から化学物質が放出されるのを防止しているが、無塵カバー３４の材質は、化学物質を始めとするスーパークリーンルーム環境汚染有害パーティクル(微小塵埃)を放出しないものであればよく、金属に限定されるものではない。また、無塵カバー３４の形状は、除振対象物Ｍから受ける荷重の方向及び水平方向へ伸縮可能なものであればよく、ベローズに限定されるものではない。 In this embodiment, the dust-free cover 34 is made of a metal (for example, stainless steel) bellows to prevent chemical substances from being released from the dust-free cover 34 itself. The material is not limited to metal as long as it does not release harmful particles (fine dust) of super clean room environment pollution including chemical substances. The shape of the dust-free cover 34 is not limited to the bellows as long as it can expand and contract in the direction of the load received from the vibration isolation object M and in the horizontal direction.

圧縮空気源２２は、「圧縮空気が充填されたタンク」または「圧縮空気を発生させるコンプレッサ」又は「圧縮工場配管」等であり、この圧縮空気源２２が給気管５２の入口側端部に接続されている。 The compressed air source 22 is a “tank filled with compressed air”, a “compressor that generates compressed air”, a “compressed factory pipe”, or the like, and this compressed air source 22 is connected to the inlet side end of the air supply pipe 52. Has been.

減圧源２４(例えば真空ポンプ又は減圧工場配管)は、無塵カバー３４の内部空間Ａを減圧することによって、空気ばね４２ａ，４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ，４２ｅの外部圧力（Ｐａ）を低くするものであり、減圧源２４と無塵カバー３４の内部空間Ａとが排気管５６を介して連通されている。つまり、排気管５６の出口側端部が減圧源２４の吸引口に接続されており、かつ、入口側端部が支持床１８の貫通孔１８ｃを通して下側固定プレート２８の貫通孔２８ｃに気密的に接続されている。 The decompression source 24 (for example, a vacuum pump or a decompression factory pipe) lowers the external pressure (Pa) of the air springs 42a, 42b, 42c, 42d, 42e by decompressing the internal space A of the dust-free cover 34. Yes, the decompression source 24 and the interior space A of the dust-free cover 34 are communicated with each other via an exhaust pipe 56. That is, the outlet side end portion of the exhaust pipe 56 is connected to the suction port of the decompression source 24, and the inlet side end portion is airtight to the through hole 28 c of the lower fixed plate 28 through the through hole 18 c of the support floor 18. It is connected to the.

なお、無塵カバー３４の内部空間Ａは減圧源２４によって減圧されており、無塵カバー３４の外部空間Ｂもクリーンルームの真空チャンバ内であることから減圧されているが、これらの圧力関係は優先すべき事項に応じて適宜設定される。つまり、（ａ）「圧力差による無塵カバー３４の変形を防止すること」を優先する場合には、内部空間Ａと外部空間Ｂとの圧力差が０．２気圧以下に設定される。また、（ｂ）「無塵カバー３４の座屈を防止してその形状を維持すること」を優先する場合には、内部空間Ａの圧力が外部空間Ｂの圧力よりも０．２気圧程度高くなるように設定される。そして、（ｃ）「内部空間Ａに存在する化学物質や空気が周辺環境へ放散されるのを防止すること」を優先する場合には、内部空間Ａの圧力が外部空間Ｂの圧力よりも低くなるように設定される。 The internal space A of the dust-free cover 34 is decompressed by the decompression source 24, and the external space B of the dust-free cover 34 is decompressed because it is in the clean room vacuum chamber. It is set appropriately according to the matters to be done. That is, when priority is given to (a) “preventing the deformation of the dust-free cover 34 due to the pressure difference”, the pressure difference between the internal space A and the external space B is set to 0.2 atm or less. In addition, when giving priority to (b) “preventing buckling of the dust-free cover 34 and maintaining its shape”, the pressure in the internal space A is about 0.2 atm higher than the pressure in the external space B. Is set to be When (c) priority is given to “preventing chemical substances and air existing in the internal space A from being released into the surrounding environment”, the pressure in the internal space A is lower than the pressure in the external space B. Is set to be

いずれの場合でも、内部空間Ａと外部空間Ｂとの圧力差が０．２気圧以下であれば、無塵カバー３４に作用する応力が小さくなるため、無塵カバー３４を薄肉に形成することが可能となり、無塵カバー３４を設けたことによる空気ばね４２ａ〜４２ｅの固有振動数の上昇率を５％以下に抑えて除振性能の著しい低下を防止することができる。換言すれば、ほぼ設計値通りの除振性能を発揮させることが出来る。 In any case, if the pressure difference between the internal space A and the external space B is 0.2 atm or less, the stress acting on the dust-free cover 34 is reduced, so that the dust-free cover 34 can be formed thin. It becomes possible, and the increase rate of the natural frequency of the air springs 42a to 42e due to the provision of the dust-free cover 34 can be suppressed to 5% or less to prevent a significant decrease in the vibration isolation performance. In other words, vibration isolation performance almost as designed can be achieved.

空圧制御装置２６は、除振対象物の上下(Ｚ)方向への変位を検出する変位センサ５８と、除振対象物の水平(ＸＹ)方向への振動状態を検出する少なくとも２個の加速度センサ６０と、サーボバルブ５０ａ〜５０ｅを制御するバルブ制御回路６２とによって構成されており、変位センサ５８が無塵カバー３４の内部空間Ａ内において上側固定プレート３０の下面に対向して配設されており、水平(ＸＹ) 方向の少なくとも２個の加速度センサ６０が空気ばねユニット３２の上側構成部材４０に取り付けられている。 The pneumatic control device 26 includes a displacement sensor 58 that detects the displacement of the vibration isolation object in the vertical (Z) direction and at least two accelerations that detect the vibration state of the vibration isolation object in the horizontal (XY) direction. The sensor 60 and a valve control circuit 62 that controls the servo valves 50 a to 50 e are configured. A displacement sensor 58 is disposed in the inner space A of the dust-free cover 34 so as to face the lower surface of the upper fixed plate 30. At least two acceleration sensors 60 in the horizontal (XY) direction are attached to the upper component member 40 of the air spring unit 32.

バルブ制御回路６２は、変位センサ５８および加速度センサ６０から与えられた信号に基づいて振動の「大きさ」および「方向」等を算出し、前述の振動を打ち消し、かつ、除振対象物Ｍを一定の高さに保持出来るようにするための制御信号をサーボバルブ５０ａ〜５０ｅに出力するものであり、真空チャンバに設けられた制御盤（図示省略）内に収容されている。なお、当然のことであるが、制御盤と前記センサ５８、６０とを繋ぐコードは、無塵カバー３４から引き出される場合、気密を保つように処理されている。 The valve control circuit 62 calculates the “magnitude” and “direction” of the vibration based on the signals given from the displacement sensor 58 and the acceleration sensor 60, cancels the above-described vibration, and sets the vibration isolation object M to the vibration isolation object M. A control signal for allowing a constant height to be maintained is output to the servo valves 50a to 50e, and is accommodated in a control panel (not shown) provided in the vacuum chamber. As a matter of course, the cord connecting the control panel and the sensors 58 and 60 is processed so as to be airtight when pulled out from the dustless cover 34.

このような機能を持つ本実施例の除振装置１０によれば、空気ばね４２ａ〜４２ｅを用いて空気ばねユニット３２を構成しているので、「ゴム」製の各空気ばねから化学物質その他が放出されたり、ピンホールのような欠損でも発生するとここから空気が漏出したりするが、空気ばねユニット３２を無塵カバー３４によって気密的に囲繞するとともに、無塵カバー３４の内部空間Ａと真空ポンプのような減圧源２４とを排気管５６にて連通しているので、化学物質などや漏洩空気を減圧源２４によって確実に吸引排出することができ、これらが無塵カバー３４外の清浄周辺環境Ｂへ放散されるのを防止できる。なお、ゴム製空気ばねの欠損量が問題となるが、極く小さい場合、ゴム製空気ばねへの空気供給量が漏洩空気量より大きい場合には、修理までの間、除振対象物Ｍの姿勢制御や除振性能に影響を殆ど及ぼさない。 According to the vibration isolator 10 of the present embodiment having such a function, the air spring unit 32 is configured by using the air springs 42a to 42e. Although air leaks out when it is released or even when a defect such as a pinhole occurs, the air spring unit 32 is hermetically surrounded by the dust-free cover 34, and the internal space A of the dust-free cover 34 and the vacuum are sealed. Since the pressure reducing source 24 such as a pump communicates with the exhaust pipe 56, chemical substances and leaked air can be reliably sucked and discharged by the pressure reducing source 24, and these are clean surroundings outside the dust-free cover 34. Dissipation to environment B can be prevented. Note that the amount of loss of the rubber air spring becomes a problem. If the amount of air supplied to the rubber air spring is larger than the leakage air amount, Has little effect on attitude control and vibration isolation performance.

また、サーボバルブ５０ａ〜５０ｅを無塵カバー３４の内部空間Ａに収容している場合には、サーボバルブ５０ａ〜５０ｅから漏出した空気が清浄周辺環境Ｂへ放散されるのを防止できる。 Further, when the servo valves 50a to 50e are accommodated in the internal space A of the dust-free cover 34, it is possible to prevent air leaked from the servo valves 50a to 50e from being diffused into the clean surrounding environment B.

そして、減圧源２４で無塵カバー３４の内部空間Ａを減圧することによって、空気ばね４２ａ…の清浄周辺環境Ｂの外部圧力(Ｐａ)を低くするようにしているので、減圧しない場合に比べてより大きな荷重(Ｍ)を支持することができる。 Then, the external pressure (Pa) of the clean surrounding environment B of the air springs 42a... Is reduced by reducing the pressure in the inner space A of the dust-free cover 34 with the reduced pressure source 24. A larger load (M) can be supported.

すなわち、空気ばねの有効受圧面積をＳ(＝空気圧力が作用する面積：図１参照）、空気ばねの内部絶対圧力をＰｏ、空気ばねの外部圧力をＰａ、ポリトロピクス指数をμ、空気ばねの内容積をＶとすると、支持可能な荷重（Ｍ）は、以下の［数１］式で表すことができ、空気ばねのばね定数（ｋ）は、以下の［数２］式で表すことができる。 That is, the effective pressure receiving area of the air spring is S (= the area where the air pressure acts: see FIG. 1), the internal absolute pressure of the air spring is Po, the external pressure of the air spring is Pa, the polytropic index is μ, and the contents of the air spring When the product is V, the load (M) that can be supported can be expressed by the following [Equation 1], and the spring constant (k) of the air spring can be expressed by the following [Equation 2]. .

［数１］式より、空気ばねの外部圧力（Ｐａ）が小さいほど支持可能な荷重（Ｍ）は大きくなることが分かる。つまり、空気ばね４２ａ〜４２ｅの外部圧力（Ｐａ）を真空ポンプ２４によって減圧している本実施例（Ｐａ＜１）によれば、減圧していない場合（Ｐａ＝１）に比べて（Ｐｏ−Ｐａ）の値が大きくなることから、支持可能な荷重（Ｍ）が大きくなることが分かる。したがって、同じ大きさの荷重（Ｍ）を支持することを前提にすると、「有効断面積（Ｓ）の小さい空気ばね」または「内部絶対圧力（Ｐｏ）の低い空気ばね」を使用することができ、除振装置１０の小型軽量化を達成できる。 It can be seen from the formula [1] that the load (M) that can be supported increases as the external pressure (Pa) of the air spring decreases. That is, according to the present embodiment (Pa <1) in which the external pressure (Pa) of the air springs 42a to 42e is reduced by the vacuum pump 24, (Po−) compared to the case where the pressure is not reduced (Pa = 1). It can be seen that the load (M) that can be supported increases because the value of Pa) increases. Therefore, assuming that the same load (M) is supported, an “air spring with a small effective cross-sectional area (S)” or an “air spring with a low internal absolute pressure (Po)” can be used. Thus, the size and weight reduction of the vibration isolator 10 can be achieved.

また、「有効断面積（Ｓ）の小さい空気ばね」または「内部絶対圧力（Ｐｏ）の低い空気ばね」を使用した場合には、［数２］式より、ばね定数（ｋ）が小さくなることが分かる。したがって、ばね質量系の固有振動数を低くすることができ、除振性能を高めることができる。 In addition, when “an air spring having a small effective cross-sectional area (S)” or “an air spring having a low internal absolute pressure (Po)” is used, the spring constant (k) is reduced from the formula [2]. I understand. Therefore, the natural frequency of the spring mass system can be lowered, and the vibration isolation performance can be improved.

図４に示す他の実施例の除振装置６４は、主として上下方向の前記外部振動などに対して受動的に動作する「パッシブ形」として構成されたものであり、除振装置１０（図１）の空気ばねユニット３２に代えて、空気ばねユニット６６を用いたものである。 The vibration isolator 64 of another embodiment shown in FIG. 4 is configured as a “passive type” that operates passively mainly with respect to the external vibration in the vertical direction, and the vibration isolator 10 (FIG. 1). The air spring unit 66 is used instead of the air spring unit 32.

空気ばねユニット６６は、下側構成部材６８と、上側構成部材７０と、空気ばね７２とを備えている。 The air spring unit 66 includes a lower component member 68, an upper component member 70, and an air spring 72.

下側構成部材６８は、空気室Ｃを構成する箱状部材であり、下側構成部材６８の天板６８ａには通気孔７４が形成されており、下側構成部材６８の底板６８ｂが下側固定プレート２８の上面に固定ボルト等を用いて固定されている。上側構成部材７０は、下側構成部材６８の天板６８ａと対向する板状部材であり、上側構成部材７０が上側固定プレート３０の下面に固定ボルト等を用いて固定されている。 The lower component member 68 is a box-shaped member that constitutes the air chamber C. The top plate 68a of the lower component member 68 is formed with a vent hole 74, and the bottom plate 68b of the lower component member 68 is on the lower side. The fixing plate 28 is fixed to the upper surface using fixing bolts or the like. The upper component member 70 is a plate-like member that faces the top plate 68 a of the lower component member 68, and the upper component member 70 is fixed to the lower surface of the upper fixing plate 30 using a fixing bolt or the like.

そして、下側構成部材６８の天板６８ａと上側構成部材７０との間に空気ばね７２が配設されており、空気ばね７２の通気口７２ａが下側構成部材６８の通気孔７４に接続されている。したがって、下側構成部材６８の通気孔７４が「オリフィス」となって、空気の粘性抵抗による減衰を得ることができる。また、空気ばね７２には、給排気管７６を介してレべリングバルブ７８が接続されており、レべリングバルブ７８に対して給気管８０および排気管８２が接続されている。 An air spring 72 is disposed between the top plate 68 a of the lower component member 68 and the upper component member 70, and the vent 72 a of the air spring 72 is connected to the vent hole 74 of the lower component member 68. ing. Therefore, the ventilation hole 74 of the lower component member 68 becomes an “orifice”, and attenuation due to the viscous resistance of air can be obtained. Further, a leveling valve 78 is connected to the air spring 72 via a supply / exhaust pipe 76, and an air supply pipe 80 and an exhaust pipe 82 are connected to the leveling valve 78.

レべリングバルブ７８は、前記「給気」または「排気」を切り換えるとともに、空気の流量を制御するものであり、給排気管７６、給気管８０および排気管８２が接続されたバルブ本体７８ａを有している。そして、バルブ本体７８ａの内部には、弁体が収容されており、この弁体には、操作棒７８ｂが接続されており、操作棒７８ｂの先端（入力端）が上側固定プレート３０の下面に当接されている。 The leveling valve 78 switches the “air supply” or “exhaust” and controls the flow rate of the air. The leveling valve 78 controls the valve main body 78a to which the air supply / exhaust pipe 76, the air supply pipe 80 and the exhaust pipe 82 are connected. Have. A valve body is housed inside the valve body 78 a, and an operation rod 78 b is connected to the valve body, and the tip (input end) of the operation rod 78 b is on the lower surface of the upper fixing plate 30. It is in contact.

除振対象物の平行が保たれた状態において、レべリングバルブ７８は、所定量の空気が空気ばね７２に供給されるように流量調整されている。そして、振動が発生した際に除振対象物の降下に伴って上側固定プレート３０が下がると、操作棒７８ｂが押し下げられて弁体が「給気方向」へ開かれる。すると、空気ばね７２の内部圧力が上昇して除振対象物が持ち上げられ、除振対象物の平行が回復される。一方、除振対象物の上昇に伴って上側固定プレート３０が上がると、操作棒７８ｂがバルブ本体７８ａに内蔵された「ばね」に押し上げられて弁体が「排気方向」へ開かれる。すると、空気ばね７２の内部圧力が低下して除振対象物が降下し、除振対象物の平行が回復される。 The leveling valve 78 is adjusted in flow rate so that a predetermined amount of air is supplied to the air spring 72 in a state where the object of vibration isolation is kept parallel. When the vibration is generated, when the upper fixed plate 30 is lowered as the vibration isolation object is lowered, the operation rod 78b is pushed down to open the valve body in the “air supply direction”. Then, the internal pressure of the air spring 72 rises, the vibration isolation object is lifted, and the parallelism of the vibration isolation object is recovered. On the other hand, when the upper fixed plate 30 is raised as the vibration isolation object is raised, the operating rod 78b is pushed up by the “spring” built in the valve body 78a, and the valve body is opened in the “exhaust direction”. Then, the internal pressure of the air spring 72 is lowered, the vibration isolation object is lowered, and the parallelism of the vibration isolation object is recovered.

この除振装置６４（図４）においても、無塵カバー３４によって空気ばね７２を気密的に囲繞しているので、空気ばね７２から化学物質が放出されたり、空気が漏出したりした場合でも、それらの化学物質や空気が周辺環境へ放散されるのを防止できる。また、レべリングバルブ７８を無塵カバー３４の内部空間Ａに収容しているので、レべリングバルブ７８から漏出した空気が周辺環境へ放散されるのを防止できる。さらに、真空ポンプ２４で無塵カバー３４の内部空間Ａを減圧することによって、空気ばね７２の外部圧力（Ｐａ）を低くするようにしているので、除振装置１０（図１）と同様に、小型軽量化を達成でき、かつ、除振性能を高めることができる（［数１］、［数２］参照）。 Also in the vibration isolator 64 (FIG. 4), since the air spring 72 is hermetically surrounded by the dust-free cover 34, even when a chemical substance is released from the air spring 72 or air leaks, These chemical substances and air can be prevented from being released to the surrounding environment. Further, since the leveling valve 78 is accommodated in the internal space A of the dust-free cover 34, it is possible to prevent the air leaked from the leveling valve 78 from being diffused to the surrounding environment. Furthermore, since the external pressure (Pa) of the air spring 72 is lowered by reducing the pressure in the internal space A of the dust-free cover 34 with the vacuum pump 24, similarly to the vibration isolator 10 (FIG. 1), A reduction in size and weight can be achieved, and vibration isolation performance can be improved (see [Equation 1] and [Equation 2]).

なお、本発明では「空気ばね」を用いていることから以下の効果（ａ）〜（ｄ）も奏する。
（ａ）固有振動数を低周波（１〜２Ｈｚ程度）に設定できるので外部振動に対して十分な除振性能を発揮できる。
（ｂ）圧縮空気を利用した簡単な構造で大きな耐荷重を得ることができる。
（ｃ）レべリングバルブを併用することで精密機器の水平状態を簡単に保持できる。
（ｄ）発熱を伴わないので真空環境または減圧環境で使用した場合でも熱破壊は生じない。 In the present invention, since the “air spring” is used, the following effects (a) to (d) are also obtained.
(A) Since the natural frequency can be set to a low frequency (about 1 to 2 Hz), sufficient vibration isolation performance can be exhibited against external vibration.
(B) A large load resistance can be obtained with a simple structure using compressed air.
(C) By using the leveling valve in combination, the horizontal state of the precision instrument can be easily maintained.
(D) Since no heat is generated, thermal destruction does not occur even when used in a vacuum environment or a reduced pressure environment.

除振装置（アクティブ方式）を示す断面図Sectional view showing vibration isolator (active method) 除振装置の使用状態を示す正面図Front view showing usage of vibration isolator 除振装置の使用状態を示す平面図Plan view showing usage of vibration isolator 他の除振装置（パッシブ方式）を示す断面図Sectional view showing another vibration isolator (passive method)

符号の説明Explanation of symbols

１０，６４… 除振装置
１２… 半導体基板
１４… ＸＹステージ
１６… 搭載盤
１８… 支持床
２０… 除振装置本体
２２… 圧縮空気源
２４… 真空ポンプ
２６… 制御装置
２８… 下側固定プレート
３０… 上側固定プレート
３２，６６… 空気ばねユニット
３４… 無塵カバー
３８，６８… 下側構成部材
３８ａ〜３８ｄ… 側板
３８ｅ… 底板
４０，７０… 上側構成部材
４２ａ〜４２ｅ，７２… 空気ばね
４４… 棒状部材
４４ａ〜４４ｅ… 対向面
４８，７６… 給排気管
５０ａ〜５０ｅ… サーボバルブ
５２，８０… 給気管
５４，５６，８２… 排気管
５８… 変位センサ
６０… 加速度センサ
６２… バルブ制御回路 10, 64 ... Vibration isolator 12 ... Semiconductor substrate 14 ... XY stage 16 ... Mounting board 18 ... Support floor 20 ... Vibration isolator body 22 ... Compressed air source 24 ... Vacuum pump 26 ... Controller 28 ... Lower fixed plate 30 ... Upper fixed plate 32, 66 ... Air spring unit 34 ... Dust-free cover 38, 68 ... Lower structural member 38a-38d ... Side plate 38e ... Bottom plate 40, 70 ... Upper structural member 42a-42e, 72 ... Air spring 44 ... Rod-shaped member 44a to 44e ... opposing surfaces 48, 76 ... air supply / exhaust pipes 50a-50e ... servo valves 52, 80 ... air supply pipes 54, 56, 82 ... exhaust pipe 58 ... displacement sensor 60 ... acceleration sensor 62 ... valve control circuit

Claims

除振対象物を支持する空気ばね除振装置と、
空気ばね除振装置を気密的に囲繞し、かつ、前記除振対象物の移動方向への伸縮可能な、金属製ベローズで構成された無塵カバーと、
前記無塵カバーの内部空間を減圧源に接続する排気管とで構成されており、
前記無塵カバーの内部空間の圧力は、前記無塵カバーの外部空間の圧力よりも低圧に設定されることを特徴とする除振装置。 An air spring vibration isolator for supporting a vibration isolation object;
A dust-free cover composed of a metal bellows, which hermetically surrounds the air spring vibration isolator, and can be expanded and contracted in the moving direction of the vibration isolation object;
It is composed of an exhaust pipe that connects the internal space of the dust-free cover to a decompression source ,
The anti-vibration device according to claim 1, wherein the pressure in the inner space of the dust-free cover is set lower than the pressure in the outer space of the dust-free cover .