JP5077875B2 - Fine pattern observation device and fine pattern correction device using the same - Google Patents

Fine pattern observation device and fine pattern correction device using the same Download PDF

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本発明は微細パターンを観察する微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置に関し、特にＬＣＤ（液晶ディスプレイ）用カラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を観察するための微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置に関する。   The present invention relates to a fine pattern observation apparatus for observing a fine pattern and a fine pattern correction apparatus using the same, and more particularly to a fine pattern observation apparatus for observing defects occurring in a manufacturing process of a color filter for an LCD (liquid crystal display) and the same. The present invention relates to a fine pattern correction apparatus using the above.

近年、ＬＣＤの大型化、高精細化に伴い画素数も増大し、ＬＣＤを無欠陥で製造することは困難となり、欠陥の発生確率も増加してきている。このような状況下において歩留まり向上のために、ＬＣＤのカラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を修正する微細パターン修正装置が生産ラインに不可欠となってきている。   In recent years, with the increase in size and resolution of LCDs, the number of pixels has increased, making it difficult to manufacture LCDs without defects, and the probability of occurrence of defects has also increased. Under these circumstances, in order to improve the yield, a fine pattern correction device that corrects defects that occur in the manufacturing process of the color filter of the LCD has become indispensable for the production line.

図８（ａ）〜（ｃ）は、ＬＣＤのカラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を示す図である。図８（ａ）〜（ｃ）において、カラーフィルタは、ガラス基板の表面に形成され、ブラックマトリクス５０と呼ばれる格子状のパターンと、複数組のＲ（赤色）画素５１、Ｇ（緑色）画素５２、およびＢ（青色）画素５３とを含む。カラーフィルタの製造工程においては、図８（ａ）に示すように画素やブラックマトリクス５０の色が抜けてしまった白欠陥５４や、図８（ｂ）に示すように隣の画素と色が混色したり、ブラックマトリクス５０が画素にはみ出してしまった黒欠陥５５や、図８（ｃ）に示すように画素に異物が付着した異物欠陥５６などが発生する。   FIGS. 8A to 8C are diagrams showing defects that occur in the manufacturing process of the color filter of the LCD. 8A to 8C, the color filter is formed on the surface of the glass substrate, and has a lattice pattern called a black matrix 50, a plurality of sets of R (red) pixels 51, and G (green) pixels 52. , And B (blue) pixel 53. In the manufacturing process of the color filter, the white defect 54 in which the color of the pixel or the black matrix 50 is lost as shown in FIG. 8A, or the color of the adjacent pixel is mixed as shown in FIG. 8B. Or a black defect 55 in which the black matrix 50 protrudes from the pixel, or a foreign substance defect 56 in which a foreign substance adheres to the pixel as shown in FIG.

白欠陥５４を修正する方法としては、インク塗布機構により、白欠陥５４が存在する画素と同色のインクを塗布針の先端部に付着させ、塗布針の先端部に付着したインクを白欠陥５４に塗布して修正する方法がある（たとえば特許文献１参照）。また、黒欠陥５５や異物欠陥５６を修正する方法としては、欠陥部分をレーザカットして矩形の白欠陥５４を形成した後、インク塗布機構により、塗布針の先端部に付着したインクをその白欠陥５４に塗布して修正する方法がある（たとえば特許文献２参照）。   As a method for correcting the white defect 54, an ink having the same color as that of the pixel in which the white defect 54 exists is attached to the tip of the application needle by the ink application mechanism, and the ink attached to the tip of the application needle is applied to the white defect 54. There is a method of applying and correcting (see, for example, Patent Document 1). Further, as a method of correcting the black defect 55 and the foreign matter defect 56, the defective portion is laser-cut to form a rectangular white defect 54, and then the ink applied to the tip of the application needle is removed by the ink application mechanism. There is a method in which the defect 54 is applied and corrected (see, for example, Patent Document 2).

ＬＣＤのカラーフィルタの白欠陥５４を修正する場合、白欠陥５４がカラーフィルタのどの色部分に発生しているのかを観察する必要がある。また、白欠陥５４に修正インクを塗布して修正した後にも、修正状態を確認するためにその部分を観察する必要がある。カラーフィルタの色を観察する場合、落射照明光観察ではカラーフィルタの色状態を観察することはできないので、透過照明光観察をする必要がある。   When correcting the white defect 54 of the LCD color filter, it is necessary to observe in which color portion of the color filter the white defect 54 occurs. Further, even after correcting the white defect 54 by applying the correction ink, it is necessary to observe that portion in order to confirm the correction state. When observing the color of the color filter, it is necessary to observe the transmitted illumination light because the color state of the color filter cannot be observed by the observation of the incident illumination light.

透過照明光観察を行なう方法としては、図９に示すように、カラーフィルタが形成された被修正対象ガラス基板６０をガラス定盤６１上に搭載し、ガラス定盤６１の下方に配置された光源６２からレンズ６３を介して透過照明光を照射し、ガラス定盤６１の上方に配置された対物レンズ６４を介してガラス基板６０上の欠陥部６０ａを観察する方法がある。   As a method for observing transmitted illumination light, as shown in FIG. 9, a glass substrate 60 to be corrected on which a color filter is formed is mounted on a glass surface plate 61, and a light source disposed below the glass surface plate 61. There is a method of irradiating transmitted illumination light from 62 through a lens 63 and observing a defective portion 60 a on the glass substrate 60 through an objective lens 64 disposed above the glass surface plate 61.

また、図１０に示すように、対物レンズ６４の先端部の周囲に配置したリング照明器６６からガラス基板６０に向けて照明光を照射し、ガラス定盤６１の下面に形成された反射膜６５で反射させて透過照明光を生成し、対物レンズ６４を介してガラス基板６０の表面を観察する方法もある（たとえば特許文献３参照）。
特開平９−２３６９３３号公報 特開平９−２６２５２０号公報 特開２００６−３８８２５号公報 As shown in FIG. 10, a reflective film 65 formed on the lower surface of the glass surface plate 61 is irradiated with illumination light from the ring illuminator 66 arranged around the tip of the objective lens 64 toward the glass substrate 60. There is also a method in which transmitted illumination light is generated by reflection and the surface of the glass substrate 60 is observed through the objective lens 64 (see, for example, Patent Document 3).
JP 9-236933 A JP-A-9-262520 JP 2006-38825 A

ところで、上記ガラス定盤６１には、ガラス基板６０を真空吸着するための複数の小孔や、ガラス基板６０の搬入および搬出時にガラス基板６０をリフトアップするための複数のリフタピンを通す複数のフィルタピン孔や、種々の切欠き部などが存在する。これらの被加工部に透過照明光が照射されると、光の屈折や乱反射が発生し、観察画像にムラが発生する。   By the way, a plurality of filters through which a plurality of small holes for vacuum adsorbing the glass substrate 60 and a plurality of lifter pins for lifting the glass substrate 60 when the glass substrate 60 is carried in and out are passed through the glass surface plate 61. There are pin holes and various notches. When transmitted illumination light is irradiated to these processed parts, light refraction and irregular reflection occur, and unevenness occurs in the observed image.

たとえば図１１（ａ）（ｂ）に示すように、透過照明光がリフタピン孔６１ａに照射されると、孔６１ａの縁で光が屈折し、観察画像にはリング状の影６７が発生してしまう。このような影６７が発生すると、カラーフィルタの色状態を正確に観察することができない。   For example, as shown in FIGS. 11A and 11B, when transmitted illumination light is irradiated to the lifter pin hole 61a, the light is refracted at the edge of the hole 61a, and a ring-shaped shadow 67 is generated in the observed image. End up. When such a shadow 67 occurs, the color state of the color filter cannot be observed accurately.

それゆえに、この発明の主たる目的は、ムラのない観察画像を得ることが可能な微細パターン観察装置およびそれを用いた微細パターン修正装置を提供することである。   Therefore, a main object of the present invention is to provide a fine pattern observation apparatus capable of obtaining an observation image without unevenness and a fine pattern correction apparatus using the same.

この発明に係る微細パターン観察装置は、透明基板上に形成され、少なくとも部分的に光を透過させる微細パターンを観察する微細パターン観察装置であって、微細パターンを観察するための観察光学系と、透明基板に照明光を出射する光源と、透明基板が載置される透明定盤と、透明定盤上における透明基板の位置をシフトさせるシフト手段とを備えたものである。透明定盤には孔のような被加工部が存在し、搬入された透明基板は透明定盤上の予め定められた第１の位置に載置される。シフト手段は、第１の位置に載置された透明基板を、微細パターンを観察するための基準位置である第２の位置にシフトさせる第１の副シフト手段と、微細パターンの観察したい部分が被加工部の上にある場合は、第２の位置から所定距離だけ離れた第３の位置に透明基板をシフトさせ、微細パターンの観察したい部分が被加工部の上にない場合は、透明基板をシフトさせない第２の副シフト手段とを含む。微細パターンの観察したい部分の透明基板上における第１の座標が外部から微細パターン観察装置に与えられる。シフト手段は、さらに、被加工部の透明定盤上における第２の座標を記憶した記憶部を含む。第２の副シフト手段は、第１および第２の座標を比較し、比較結果に基づいて、微細パターンの観察したい部分が被加工部の上にあるかどうかを判別する。 A fine pattern observation apparatus according to the present invention is a fine pattern observation apparatus for observing a fine pattern that is formed on a transparent substrate and at least partially transmits light, and an observation optical system for observing the fine pattern; a light source for emitting illumination light to the transparent substrate, a transparent platen transparent substrate is mounted, Ru Monodea that includes a shifting means for shifting the position of the transparent substrate in the transparent platen. A portion to be processed such as a hole exists in the transparent surface plate, and the transferred transparent substrate is placed at a predetermined first position on the transparent surface plate. The shift means includes a first sub-shift means for shifting the transparent substrate placed at the first position to a second position, which is a reference position for observing the fine pattern, and a portion for observing the fine pattern. If it is on the part to be processed, the transparent substrate is shifted to a third position that is a predetermined distance away from the second position, and if the portion to be observed of the fine pattern is not on the part to be processed, the transparent substrate And a second sub-shift means that does not shift. A first coordinate on the transparent substrate of a portion where the fine pattern is to be observed is given from the outside to the fine pattern observation apparatus. The shift means further includes a storage unit that stores the second coordinates on the transparent surface plate of the part to be processed. The second sub-shift means compares the first and second coordinates, and determines whether or not the portion of the fine pattern to be observed is on the workpiece based on the comparison result.

また好ましくは、シフト手段は、さらに、透明基板の搬出前に透明基板を第１の位置にシフトさせる第３の副シフト手段を含む。   Preferably, the shift means further includes third sub-shift means for shifting the transparent substrate to the first position before carrying out the transparent substrate.

また好ましくは、シフト手段はエアシリンダを含む。
また好ましくは、シフト手段は、駆動軸の停止位置がデータ信号で制御される電動シリンダと、電動シリンダにデータ信号を与える制御部とを含む。 Preferably, the shift means includes an air cylinder.
Preferably, the shift means includes an electric cylinder in which a stop position of the drive shaft is controlled by a data signal, and a control unit that provides the data signal to the electric cylinder.

また好ましくは、記憶部は、さらに、透明基板の品種に応じて予め求められたデータ信号を記憶し、制御部は、透明基板の品種に応じて記憶部から読み出したデータ信号を電動シリンダに与える。 Preferably, the storage unit further stores a data signal obtained in advance according to the type of the transparent substrate, and the control unit gives the data signal read from the storage unit to the electric cylinder according to the type of the transparent substrate. .

また好ましくは、記憶部は、さらに、透明基板のシフト後の位置に応じて予め求められたデータ信号を記憶し、制御部は、透明基板のシフト後の位置に応じて記憶部から読み出したデータ信号を電動シリンダに与える。 Preferably, the storage unit further stores a data signal obtained in advance according to the position after the shift of the transparent substrate, and the control unit reads the data read from the storage unit according to the position after the shift of the transparent substrate. A signal is given to the electric cylinder.

また、この発明に係る微細パターン修正装置は、上記微細パターン観察装置と、微細パターンの欠陥部に修正液を塗布する塗布手段とを備えたことを特徴とする。   According to another aspect of the present invention, there is provided a fine pattern correcting apparatus comprising the fine pattern observing apparatus and an application unit for applying a correction liquid to a defective portion of the fine pattern.

好ましくは、微細パターンは液晶ディスプレイ用カラーフィルタである。   Preferably, the fine pattern is a color filter for a liquid crystal display.

この発明に係る微細パターン観察装置および微細パターン修正装置では、微細パターンの観察したい部分が被加工部の上にある場合に、透明定盤上における透明基板の位置をシフトさせるシフト手段が設けられる。したがって、微細パターンの観察したい部分の下に透明定盤のリフタピン孔がある場合でも、透明基板の位置をシフトさせて、微細パターンの観察したい部分をリフタピン孔から離間させることができる。したがって、ムラのない観察画像を得ることができる。 In the fine pattern observing apparatus and the fine pattern correcting apparatus according to the present invention, a shift means is provided for shifting the position of the transparent substrate on the transparent surface plate when the portion where the fine pattern is to be observed is on the workpiece . Therefore, even when the lifter pin hole of the transparent surface plate is under the part where the fine pattern is to be observed, the position of the transparent substrate can be shifted to separate the part where the fine pattern is to be observed from the lifter pin hole. Therefore, an observation image without unevenness can be obtained.

図１は、この発明の一実施の形態による微細パターン修正装置の要部を示す図である。図１において、この微細パターン修正装置は、カラーフィルタが形成された被修正対象ガラス基板１が載置されるガラス定盤２と、ガラス定盤２を図中のＹ軸方向に移動させるＹステージ３と、ガラス定盤２の下方に図中のＸ軸方向に向けて配置されたラインライト４とを備える。   FIG. 1 is a diagram showing a main part of a fine pattern correction apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, this fine pattern correction apparatus includes a glass surface plate 2 on which a glass substrate 1 to be corrected on which a color filter is formed, and a Y stage that moves the glass surface plate 2 in the Y-axis direction in the figure. 3 and a line light 4 arranged below the glass surface plate 2 in the X-axis direction in the figure.

ガラス定盤２には、被修正対象ガラス基板１を真空吸着したり、ガラス基板１をシフトさせるときにエアを噴出させるための複数の小孔２ａと、ガラス基板１の搬入および搬出時に複数のリフタピンを突出させるための複数のリフタピン孔２ｂとが開口されている。ラインライト４は、ガラス定盤２上に載置されたガラス基板１に透過照明光を照射する。   The glass surface plate 2 has a plurality of small holes 2a for vacuum-adsorbing the glass substrate 1 to be corrected or for jetting air when the glass substrate 1 is shifted, and a plurality of holes when the glass substrate 1 is carried in and out. A plurality of lifter pin holes 2b for projecting the lifter pins are opened. The line light 4 irradiates the glass substrate 1 placed on the glass surface plate 2 with transmitted illumination light.

また、この微細パターン修正装置は、上方からガラス基板１の表面を観察するための観察光学系５と、ガラス基板１の表面に形成されたカラーフィルタの白欠陥に塗布針を用いて修正インクを塗布するインク塗布機構６と、観察光学系５およびインク塗布機構６を図中のＸ軸方向に移動させるＸステージ７とを備える。   The fine pattern correction apparatus also uses an observation optical system 5 for observing the surface of the glass substrate 1 from above, and applies correction ink to the white defects of the color filter formed on the surface of the glass substrate 1 using an application needle. An ink coating mechanism 6 for coating, and an X stage 7 for moving the observation optical system 5 and the ink coating mechanism 6 in the X-axis direction in the figure are provided.

Ｘステージ７およびＹステージ３を制御することにより、観察光学系５およびインク塗布機構６をガラス基板１の表面の所望の位置に移動させることが可能となっている。したがって、操作者は、ガラス基板１の表面の任意の位置の欠陥を観察し、その欠陥を修正することができる。   By controlling the X stage 7 and the Y stage 3, the observation optical system 5 and the ink application mechanism 6 can be moved to desired positions on the surface of the glass substrate 1. Therefore, the operator can observe a defect at an arbitrary position on the surface of the glass substrate 1 and correct the defect.

図２は、この微細パターン修正装置の構成を示すブロック図である。図２において、この微細パターン修正装置は、図１に示した構成に加え、複数の小孔２ａに接続された真空ポンプ８およびエア供給装置９と、ガラス定盤２上における被修正対象ガラス基板１の位置をシフトさせるためのシリンダ１０〜１９およびピン２０〜２９とを備える。 FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of the fine pattern correction apparatus. In FIG. 2, this fine pattern correction device includes a vacuum pump 8 and an air supply device 9 connected to a plurality of small holes 2 a and a glass substrate to be corrected on the glass surface plate 2 in addition to the configuration shown in FIG. 1 . And cylinders 10 to 19 and pins 20 to 29 for shifting the position of 1.

真空ポンプ８は、複数の小孔２ａを介してガラス基板１およびガラス定盤２間の空気を吸引し、ガラス基板１をガラス定盤２に密着させて固定する。エア供給装置９は、ガラス基板１の位置をシフトさせるときに、複数の小孔２ａを介してガラス基板１の裏面にエアを噴射し、ガラス基板１およびガラス定盤２間の摩擦を軽減させる。シリンダ１０〜１９は、ピン２０〜２９を介してガラス基板１の側面を押圧し、ガラス基板１の位置をシフトさせる。   The vacuum pump 8 sucks air between the glass substrate 1 and the glass surface plate 2 through the plurality of small holes 2a, and fixes the glass substrate 1 in close contact with the glass surface plate 2. When the position of the glass substrate 1 is shifted, the air supply device 9 injects air to the back surface of the glass substrate 1 through the plurality of small holes 2 a to reduce friction between the glass substrate 1 and the glass surface plate 2. . The cylinders 10 to 19 press the side surface of the glass substrate 1 via the pins 20 to 29 and shift the position of the glass substrate 1.

また、この微細パターン修正装置は、種々の情報を記憶する記憶部３０と、微細パターン修正装置を操作するためのボタン、ハンドルなどからなる操作部３１と、記憶部３０に記憶された情報や操作部３１からの信号に従って微細パターン修正装置全体を制御する制御部３２とを備える。   The fine pattern correction device includes a storage unit 30 for storing various information, an operation unit 31 including buttons and handles for operating the fine pattern correction device, and information and operations stored in the storage unit 30. And a control unit 32 that controls the entire fine pattern correction device in accordance with a signal from the unit 31.

図３〜図６は、ガラス定盤２上における被修正対象ガラス基板１の位置をシフトさせる方法を示す図である。図３〜図６において、シリンダ１０〜１９およびピン２０〜２９は、ガラス定盤２の外周に沿って配置される。シリンダ１０，１１およびピン２０，２１はガラス定盤２の図中の上辺に沿って配置され、シリンダ１２，１３およびピン２２，２３はガラス定盤２の図中の右辺に沿って配置される。また、シリンダ１４〜１７およびピン２４〜２７はガラス定盤２の図中の下辺に沿って配置され、シリンダ１８，１９およびピン２８，２９はガラス定盤２の図中の左辺に沿って配置される。   3-6 is a figure which shows the method of shifting the position of the to-be-corrected glass substrate 1 on the glass surface plate 2. FIG. 3 to 6, the cylinders 10 to 19 and the pins 20 to 29 are arranged along the outer periphery of the glass surface plate 2. The cylinders 10 and 11 and the pins 20 and 21 are arranged along the upper side of the glass surface plate 2 in the drawing, and the cylinders 12 and 13 and the pins 22 and 23 are arranged along the right side of the glass surface plate 2 in the drawing. . The cylinders 14 to 17 and the pins 24 to 27 are arranged along the lower side of the glass surface plate 2 in the drawing, and the cylinders 18 and 19 and the pins 28 and 29 are arranged along the left side of the glass surface plate 2 in the drawing. Is done.

ピン２０〜２９はそれぞれシリンダ１０〜１９の駆動軸の先端に設けられ、シリンダ１０〜１９の各々は対応の辺に直交する方向に伸縮する。ピン２０〜２９の各々は、ガラス定盤２の外周部に形成された切欠き部（図示せず）内をガラス基板１の側面に向かって進退可能に設けられている。   The pins 20 to 29 are provided at the tips of the drive shafts of the cylinders 10 to 19, respectively, and each of the cylinders 10 to 19 expands and contracts in a direction orthogonal to the corresponding side. Each of the pins 20 to 29 is provided so as to be able to advance and retreat in a notch (not shown) formed in the outer peripheral portion of the glass surface plate 2 toward the side surface of the glass substrate 1.

基板搬入時は、図３に示すように、全てのピン２０〜２９は後退位置に退避しており、ガラス基板１はロボットハンドによってガラス定盤２の中央部に載置される。このとき、ガラス基板１の中心点Ｐ１とガラス定盤２の中心点Ｐ２とは一致している。   When the substrate is carried in, as shown in FIG. 3, all the pins 20 to 29 are retracted to the retracted position, and the glass substrate 1 is placed on the central portion of the glass surface plate 2 by the robot hand. At this time, the center point P1 of the glass substrate 1 and the center point P2 of the glass surface plate 2 coincide.

基板クランプ動作時は、エア供給装置９が駆動されてガラス基板１およびガラス定盤２間の摩擦が軽減され、図４に示すように、位置決めピン２４，２７，２９が所定の前進位置まで前進し、クランプピン２０，２３がガラス基板１を押圧する。これにより、ガラス基板１は図中の斜め下方向に平行移動され、ガラス基板１の中心点Ｐ１は、ガラス定盤２の中心点Ｐ２から図中の斜め下方向にずれる。次いで、真空ポンプ８が駆動され、ガラス基板１がガラス定盤２にチャックされる。通常のカラーフィルタの欠陥の観察および修正は、この状態で行なわれる。   During the substrate clamping operation, the air supply device 9 is driven to reduce the friction between the glass substrate 1 and the glass surface plate 2, and the positioning pins 24, 27, 29 are advanced to a predetermined advance position as shown in FIG. Then, the clamp pins 20 and 23 press the glass substrate 1. Thereby, the glass substrate 1 is translated in the diagonally downward direction in the figure, and the center point P1 of the glass substrate 1 is shifted from the central point P2 of the glass surface plate 2 in the diagonally downward direction in the figure. Next, the vacuum pump 8 is driven and the glass substrate 1 is chucked to the glass surface plate 2. Observation and correction of normal color filter defects are performed in this state.

カラーフィルタの欠陥が小孔２ａまたはリフタピン孔２ｂの上に位置している場合は、画像にムラが発生するので、ガラス基板１の位置をシフトさせる。基板シフト動作時は、エア供給装置９が駆動されてガラス基板１およびガラス定盤２間の摩擦が軽減され、図５に示すように、センタリングピン２６，２８が後退位置に停止し、位置決めピン２５がセンタリングピン２６の後退位置まで前進し、クランプピン２０，２３がさらにガラス基板１を押圧する。これにより、ガラス基板１は図中の斜め下方向にさらに平行移動され、ガラス基板１の中心点Ｐ１は、ガラス定盤２の中心点Ｐ２から図中の斜め下方向にさらにずれる。次いで、真空ポンプ８が駆動され、ガラス基板１がガラス定盤２にチャックされる。この状態では、カラーフィルタの欠陥が小孔２ａまたはリフタピン孔２ｂから離間しており、画像にムラは発生しないので、カラーフィルタの欠陥を正確に観察し、修正することができる。   When the defect of the color filter is located on the small hole 2a or the lifter pin hole 2b, unevenness occurs in the image, so that the position of the glass substrate 1 is shifted. During the substrate shift operation, the air supply device 9 is driven to reduce the friction between the glass substrate 1 and the glass surface plate 2, and the centering pins 26 and 28 are stopped at the retracted position as shown in FIG. 25 advances to the retracted position of the centering pin 26, and the clamp pins 20 and 23 further press the glass substrate 1. As a result, the glass substrate 1 is further translated in the diagonally downward direction in the figure, and the center point P1 of the glass substrate 1 is further shifted from the central point P2 of the glass surface plate 2 in the obliquely downward direction in the figure. Next, the vacuum pump 8 is driven and the glass substrate 1 is chucked to the glass surface plate 2. In this state, the defect of the color filter is separated from the small hole 2a or the lifter pin hole 2b, and no unevenness occurs in the image. Therefore, the defect of the color filter can be observed and corrected accurately.

ガラス基板１のシフト動作は、操作者が操作部３１を操作してシフト動作を指示した場合に実行される。また、記憶部３０に小孔２ａやリフタピン孔２ｂなどの被加工部のガラス定盤２上における座標を記憶しておき、制御部３２が、それらの座標と前段の検査装置から入力された欠陥部のガラス基板１上における座標とを比較し、両者が一致した場合にシフト動作を自動的に行なうようにしてもよい。また、図５では、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にガラス基板１をシフトさせたが、Ｘ軸方向のみ、またはＹ軸方向のみにシフトさせてもよい。 The shift operation of the glass substrate 1 is executed when the operator operates the operation unit 31 to instruct the shift operation. Also, the storage unit 3 0 stores the coordinates in the small holes 2a and lifter hole 2b workpiece portion of the glass plate on 2 such as, the control unit 32, is input from these coordinates and preceding inspection device The coordinates of the defective portion on the glass substrate 1 may be compared, and the shift operation may be automatically performed when the two match. In FIG. 5, the glass substrate 1 is shifted in the X-axis direction and the Y-axis direction, but may be shifted only in the X-axis direction or only in the Y-axis direction.

カラーフィルタの欠陥の修正が終了すると、図６に示すように、センタリングピン２１，２２，２６，２８が前進位置に前進し、ガラス基板１がガラス定盤２の中央に移動する。このとき、ガラス基板１の中心点Ｐ１とガラス定盤２の中心点Ｐ２とは一致している。したがって、ガラス基板１は搬入時と同じ位置に位置決めされ、ロボットハンドで搬出される。   When the correction of the defect of the color filter is completed, the centering pins 21, 22, 26, and 28 are advanced to the advance position, and the glass substrate 1 is moved to the center of the glass surface plate 2 as shown in FIG. At this time, the center point P1 of the glass substrate 1 and the center point P2 of the glass surface plate 2 coincide. Therefore, the glass substrate 1 is positioned at the same position as when it is carried in and is carried out by the robot hand.

なお、図７（ａ）〜（ｆ）は、被修正対象ガラス基板１の搬入方法を示す図である。図７（ａ）〜（ｆ）において、ガラス定盤２の各リフタピン孔２ｂにはリフタピン４０が挿入され、リフタピン４０はガラス定盤２の下方に水平に配置されたテーブル４１の表面に垂直に立設され、テーブル４１の下には昇降装置４２が設けられている。昇降装置４２は、被修正ガラス基板１の搬入および搬出時にテーブル４１およびリフタピン４０を介してガラス基板１を上下方向に移動させる。   7A to 7F are diagrams illustrating a method for carrying in the glass substrate 1 to be corrected. 7A to 7F, a lifter pin 40 is inserted into each lifter pin hole 2b of the glass surface plate 2, and the lifter pin 40 is perpendicular to the surface of a table 41 disposed horizontally below the glass surface plate 2. An elevating device 42 is provided below the table 41. The elevating device 42 moves the glass substrate 1 up and down via the table 41 and the lifter pins 40 when the glass substrate 1 to be corrected is carried in and out.

まず図７（ａ）に示すように、昇降装置４２によってテーブル４１を上昇させ、各リフタピン４０の先端をガラス定盤２の表面上に突出させる。次いで図７（ｂ）に示すように、ロボットハンド４３によってガラス基板１を搬入し、ガラス定盤２および複数のリフタピン４０上の所定位置に位置決めする。   First, as shown in FIG. 7A, the table 41 is lifted by the lifting device 42, and the tip of each lifter pin 40 is projected on the surface of the glass surface plate 2. Next, as shown in FIG. 7B, the glass substrate 1 is carried in by the robot hand 43 and positioned at predetermined positions on the glass surface plate 2 and the plurality of lifter pins 40.

次に図７（ｃ）に示すように、ロボットハンド４３を下降させて複数のリフタピン４０上にガラス基板１を載置する。次いで図７（ｄ）に示すように、ロボットハンド４３をさらに下降させ、ロボットハンド４３をガラス基板１とガラス定盤２との間に停止させる。次いで図７（ｅ）に示すように、ロボットハンド４３を後退させ、ロボットハンド４３をガラス基板１とガラス定盤２との間から抜き取る。最後に図７（ｆ）に示すように、昇降装置４２によってテーブル４１を下降させ、ガラス基板１をガラス定盤２上に載置する。ガラス基板１を搬出する場合は、図７（ａ）〜（ｆ）で示した動作を逆に行なえばよい。   Next, as shown in FIG. 7C, the robot hand 43 is lowered and the glass substrate 1 is placed on the plurality of lifter pins 40. Next, as shown in FIG. 7D, the robot hand 43 is further lowered, and the robot hand 43 is stopped between the glass substrate 1 and the glass surface plate 2. Next, as shown in FIG. 7E, the robot hand 43 is retracted, and the robot hand 43 is extracted from between the glass substrate 1 and the glass surface plate 2. Finally, as shown in FIG. 7 (f), the table 41 is lowered by the elevating device 42, and the glass substrate 1 is placed on the glass surface plate 2. When the glass substrate 1 is unloaded, the operations shown in FIGS. 7A to 7F may be performed in reverse.

また、シリンダ１０〜１９は、エアシリンダでもよいし、電動シリンダでもよい。ただし、エアシリンダは電動シリンダよりも安価であるし、エアシリンダのエア供給源として、ガラス定盤２の小孔２ａにエアを供給するためのエア供給装置９を使用することができる。このため、上記実施の形態では、シリンダ１０〜１９としてエアシリンダを使用した。   Further, the cylinders 10 to 19 may be air cylinders or electric cylinders. However, the air cylinder is less expensive than the electric cylinder, and an air supply device 9 for supplying air to the small hole 2a of the glass surface plate 2 can be used as an air supply source of the air cylinder. For this reason, in the said embodiment, the air cylinder was used as the cylinders 10-19.

ただし、エアシリンダでは、駆動軸の停止位置が前進および後退の２点か、前進、中間、および後退の３点程度に限られる。このため、シリンダ数（実施の形態では１０個）が多くなるという問題がある。また、ガラス基板１のシフト量を所望の値に変更することはできないので、ガラス基板１を必要以上にシフトさせてしまう。また、寸法の異なる多品種のガラス基板１に対応するためには、品種に応じてピン２０〜２９の治具を交換する必要がある。また、クランプあるいはシフトされたガラス基板１の１辺の方向と図１中のＸ軸方向またはＹ軸方向とを一致させるためには、シリンダ１０〜１９およびピン２０〜２９の取り付け精度を調整する必要があり、その手間が大きい。   However, in the air cylinder, the stop position of the drive shaft is limited to two points of forward and backward, or about three points of forward, intermediate, and backward. For this reason, there is a problem that the number of cylinders (10 in the embodiment) increases. Moreover, since the shift amount of the glass substrate 1 cannot be changed to a desired value, the glass substrate 1 is shifted more than necessary. Further, in order to cope with various types of glass substrates 1 having different dimensions, it is necessary to replace the jigs of the pins 20 to 29 in accordance with the types. Further, in order to make the direction of one side of the clamped or shifted glass substrate 1 coincide with the X-axis direction or the Y-axis direction in FIG. 1, the mounting accuracy of the cylinders 10 to 19 and the pins 20 to 29 is adjusted. There is a need and a lot of trouble.

一方、電動シリンダは、エアシリンダよりも高価であるが、駆動軸の停止位置を所定の範囲で所望の位置に設定することが可能である。たとえば８ビットのデータ信号で電動シリンダを制御すれば、駆動軸の停止位置を２５６点のうちのいずれかの位置に設定することができる。したがって、たとえば５組のピン２０，２３，２４，２７，２９およびシリンダ１０，１３，１４，１７，１９のみで、実施の形態と同様にガラス基板１をシフトさせることができる。   On the other hand, although the electric cylinder is more expensive than the air cylinder, the stop position of the drive shaft can be set to a desired position within a predetermined range. For example, if the electric cylinder is controlled by an 8-bit data signal, the stop position of the drive shaft can be set to any one of 256 positions. Therefore, for example, the glass substrate 1 can be shifted in the same manner as in the embodiment by using only the five sets of pins 20, 23, 24, 27, 29 and the cylinders 10, 13, 14, 17, 19.

また、ガラス基板１の位置を高精度で設定することができ、ガラス基板１を必要最小限の所望の距離だけシフトさせることができる。シフト量の指示は、操作部３１で行なえばよい。制御部３２は、操作部３１で指示されたシフト量に応じた値のデータ信号をシリンダ１０，１３，１４，１７，１９の各々に与える。   Further, the position of the glass substrate 1 can be set with high accuracy, and the glass substrate 1 can be shifted by a necessary minimum distance. The shift amount may be instructed by the operation unit 31. The control unit 32 provides each of the cylinders 10, 13, 14, 17, and 19 with a data signal having a value corresponding to the shift amount instructed by the operation unit 31.

また、寸法の異なる多品種のガラス基板１のそれぞれについて、シリンダ１０，１３，１４，１７，１９の駆動軸の停止位置を示すデータ信号を記憶部３０に予め格納しておけば、ガラス基板１の品種が変更される場合でも、そのガラス基板１用のデータ信号を記憶部３０から読み出して使用すればよく、容易に対応できる。ガラス基板１の品種の選択は、操作部３１で行なえばよい。制御部３２は、操作部３１で選択された品種に応じたデータ信号を記憶部３０から読み出してシリンダ１０，１３，１４，１７，１９の各々に与える。   If a data signal indicating the stop position of the drive shafts of the cylinders 10, 13, 14, 17, 19 is stored in the storage unit 30 in advance for each of various types of glass substrates 1 having different dimensions, the glass substrate 1 Even if the product type is changed, the data signal for the glass substrate 1 may be read out from the storage unit 30 and used, which can be easily handled. The type of the glass substrate 1 may be selected by the operation unit 31. The control unit 32 reads out a data signal corresponding to the product type selected by the operation unit 31 from the storage unit 30 and gives it to each of the cylinders 10, 13, 14, 17 and 19.

また、クランプあるいはシフトされたガラス基板１の１辺の方向と図１中のＸ軸方向またはＹ軸方向とを一致させるためには、ポイントティーチングを行なってデータ信号を記憶すればよい。すなわち、ガラス基板１の１辺の方向と図１中のＸ軸方向またはＹ軸方向とが一致するようにシリンダ１０，１３，１４，１７，１９を駆動させ、そのときのシリンダ１０，１３，１４，１７，１９の各々のデータ信号を記憶部３０に記憶しておく。再度、その位置にガラス基板１を配置したい場合は、その旨を操作部３１を用いて指示する。制御部３２は、それらのデータ信号を記憶部３０から読み出してシリンダ１０，１３，１４，１７，１９に与える。   Further, in order to make the direction of one side of the clamped or shifted glass substrate 1 coincide with the X-axis direction or the Y-axis direction in FIG. 1, it is only necessary to perform point teaching and store the data signal. That is, the cylinders 10, 13, 14, 17, 19 are driven so that the direction of one side of the glass substrate 1 coincides with the X-axis direction or the Y-axis direction in FIG. The data signals 14, 17, and 19 are stored in the storage unit 30. If it is desired to place the glass substrate 1 again at that position, this is indicated using the operation unit 31. The control unit 32 reads out these data signals from the storage unit 30 and gives them to the cylinders 10, 13, 14, 17 and 19.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

この発明の一実施の形態による微細パターン修正装置の要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of the fine pattern correction apparatus by one Embodiment of this invention. 図１に示した微細パターン修正装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the fine pattern correction apparatus shown in FIG. 図２に示したシリンダおよびピンの基板搬入時の動作を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement at the time of board | substrate carrying-in of the cylinder and pin shown in FIG. 図２に示したシリンダおよびピンの基板クランプ時の動作を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement at the time of the board | substrate clamp of the cylinder and pin shown in FIG. 図２に示したシリンダおよびピンの基板シフト時の動作を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement at the time of the board | substrate shift of the cylinder and pin shown in FIG. 図２に示したシリンダおよびピンの基板搬出時の動作を示す図である。It is a figure which shows the operation | movement at the time of board | substrate carrying-out of the cylinder and pin shown in FIG. 図１に示した被修正対象ガラス基板の搬入方法を示す図である。It is a figure which shows the carrying-in method of the glass substrate to be corrected shown in FIG. ＬＣＤのカラーフィルタの製造工程において発生する欠陥を示す図である。It is a figure which shows the defect which generate | occur | produces in the manufacturing process of the color filter of LCD. 従来の透過光観察方法を示す図である。It is a figure which shows the conventional transmitted light observation method. 従来の他の透過光観察方法を示す図である。It is a figure which shows the other conventional transmitted light observation method. 図９に示した透過光観察方法の問題点を示す図である。It is a figure which shows the problem of the transmitted light observation method shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１ 被修正対象ガラス基板、２，６１ ガラス定盤、２ａ 小孔、２ｂ，６１ａ リフタピン孔、３ Ｙステージ、４ ラインライト、５ 観察光学系、６ インク塗布機構、７ Ｘステージ、８ 真空ポンプ、９ エア供給装置、１０〜１９ シリンダ、２０〜２９ ピン、３０ 記憶部、３１ 操作部、３２ 制御部、Ｐ１，Ｐ２ 中心点、４０ リフタピン、４１ テーブル、４２ 昇降装置、４３ ロボットハンド、５０ ブラックマトリクス、５１ Ｒ画素、５２ Ｇ画素、５３ Ｂ画素、５４ 白欠陥、５５ 黒欠陥、５６ 異物欠陥、６０ 被修正対象ガラス基板、６０ａ 欠陥部、６２ 光源、６３ レンズ、６４ 対物レンズ、６５ 反射膜、６６ リング照明器、６７ 影。   1. Glass substrate to be corrected, 2, 61 glass surface plate, 2a small hole, 2b, 61a lifter pin hole, 3 Y stage, 4 line light, 5 observation optical system, 6 ink application mechanism, 7 X stage, 8 vacuum pump, 9 Air supply device, 10 to 19 cylinders, 20 to 29 pins, 30 storage unit, 31 operation unit, 32 control unit, P1, P2 center point, 40 lifter pins, 41 table, 42 lifting device, 43 robot hand, 50 black matrix 51 R pixel, 52 G pixel, 53 B pixel, 54 white defect, 55 black defect, 56 foreign object defect, 60 glass substrate to be corrected, 60 a defect portion, 62 light source, 63 lens, 64 objective lens, 65 reflective film, 66 Ring illuminator, 67 Shadow.

Claims (8)

透明基板上に形成され、少なくとも部分的に光を透過させる微細パターンを観察する微細パターン観察装置であって、
前記微細パターンを観察するための観察光学系と、
前記透明基板に照明光を出射する光源と、
前記透明基板が載置される透明定盤と、
前記透明定盤上における前記透明基板の位置をシフトさせるシフト手段とを備え、
前記透明定盤には孔のような被加工部が存在し、
搬入された前記透明基板は前記透明定盤上の予め定められた第１の位置に載置され、
前記シフト手段は、
前記第１の位置に載置された前記透明基板を、前記微細パターンを観察するための基準位置である第２の位置にシフトさせる第１の副シフト手段と、
前記微細パターンの観察したい部分が前記被加工部の上にある場合は、前記第２の位置から所定距離だけ離れた第３の位置に前記透明基板をシフトさせ、前記微細パターンの観察したい部分が前記被加工部の上にない場合は、前記透明基板をシフトさせない第２の副シフト手段とを含み、
前記微細パターンの観察したい部分の前記透明基板上における第１の座標が外部から前記微細パターン観察装置に与えられ、
前記シフト手段は、さらに、前記被加工部の前記透明定盤上における第２の座標を記憶した記憶部を含み、
前記第２の副シフト手段は、前記第１および第２の座標を比較し、比較結果に基づいて、前記微細パターンの観察したい部分が前記被加工部の上にあるかどうかを判別することを特徴とする、微細パターン観察装置。 A fine pattern observation apparatus for observing a fine pattern formed on a transparent substrate and transmitting light at least partially.
An observation optical system for observing the fine pattern;
A light source that emits illumination light to the transparent substrate;
A transparent surface plate on which the transparent substrate is placed;
Shift means for shifting the position of the transparent substrate on the transparent surface plate ,
The transparent surface plate has a processed part such as a hole,
The carried transparent substrate is placed at a predetermined first position on the transparent surface plate,
The shifting means is
A first sub-shift means for shifting the transparent substrate placed at the first position to a second position which is a reference position for observing the fine pattern;
When the portion to be observed of the fine pattern is on the workpiece, the transparent substrate is shifted to a third position that is a predetermined distance away from the second position, and the portion to be observed of the fine pattern is A second sub-shift means that does not shift the transparent substrate when not on the workpiece,
The first coordinates on the transparent substrate of the portion to be observed of the fine pattern are given to the fine pattern observation device from the outside,
The shift means further includes a storage unit that stores second coordinates on the transparent surface plate of the workpiece.
The second sub-shift means compares the first and second coordinates, and determines whether or not a portion of the fine pattern to be observed is on the workpiece based on the comparison result. A fine pattern observation device. 前記シフト手段は、さらに、前記透明基板の搬出前に前記透明基板を前記第１の位置にシフトさせる第３の副シフト手段を含むことを特徴とする、請求項１に記載の微細パターン観察装置。 2. The fine pattern observation apparatus according to claim 1 , wherein the shift unit further includes a third sub-shift unit that shifts the transparent substrate to the first position before unloading the transparent substrate. . 前記シフト手段はエアシリンダを含むことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の微細パターン観察装置。 It said shift means is characterized in that it comprises an air cylinder, a fine pattern observation device according to claim 1 or claim 2. 前記シフト手段は、
駆動軸の停止位置がデータ信号で制御される電動シリンダと、
前記電動シリンダに前記データ信号を与える制御部とを含むことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の微細パターン観察装置。 The shifting means is
An electric cylinder in which the stop position of the drive shaft is controlled by a data signal;
Characterized in that it comprises a control unit providing said data signal to the electric cylinder, a fine pattern observation device according to claim 1 or claim 2. 前記記憶部は、さらに、前記透明基板の品種に応じて予め求められた前記データ信号を記憶し、
前記制御部は、前記透明基板の品種に応じて前記記憶部から読み出した前記データ信号を前記電動シリンダに与えることを特徴とする、請求項４に記載の微細パターン観察装置。 Wherein the storage unit further stores the data signal obtained in advance according to varieties of the transparent substrate,
The fine pattern observation apparatus according to claim 4 , wherein the control unit gives the data signal read from the storage unit to the electric cylinder according to the type of the transparent substrate. 前記記憶部は、さらに、前記透明基板のシフト後の位置に応じて予め求められた前記データ信号を記憶し、
前記制御部は、前記透明基板のシフト後の位置に応じて前記記憶部から読み出した前記データ信号を前記電動シリンダに与えることを特徴とする、請求項４に記載の微細パターン観察装置。 Wherein the storage unit further stores the data signal obtained in advance according to the position after the shift of the transparent substrate,
The fine pattern observation apparatus according to claim 4 , wherein the control unit gives the data signal read from the storage unit to the electric cylinder in accordance with the shifted position of the transparent substrate. 請求項１から請求項６までのいずれかに記載の微細パターン観察装置と、
前記微細パターンの欠陥部に修正液を塗布する塗布手段とを備えたことを特徴とする、微細パターン修正装置。 The fine pattern observation apparatus according to any one of claims 1 to 6 ,
An apparatus for correcting a fine pattern, comprising: application means for applying a correction liquid to a defective portion of the fine pattern. 前記微細パターンは液晶ディスプレイ用カラーフィルタであることを特徴とする、請求項７に記載の微細パターン修正装置。 The fine pattern correction apparatus according to claim 7 , wherein the fine pattern is a color filter for a liquid crystal display.
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