JP5071315B2 - 地紋画像生成プログラム及び地紋画像生成装置 - Google Patents

Description

本発明は，地紋画像生成プログラム及び地紋画像生成装置に関し，特に，印刷媒体に印刷されるための地紋画像データを生成するプログラム及び装置に関する。さらに，地紋画像データに基づいて地紋画像を印刷した印刷媒体（原本）の複写を抑止する効果，あるいは原本と複写物とを区別する効果を有する地紋画像データの生成プログラム及び地紋画像生成装置に関する。

地紋は，原本の本来の画像に背景として合成され，印刷された文書が原本か複写物かを区別することを可能にする。地紋は，原本では識別することが難しいが，複写すると地紋の文字や画像が浮かび上がる。それを利用して，原本と複写物とを容易に区別することが可能になる。また，複写によって地紋の文字や画像が浮かび上がるので，地紋を合成して原本を生成すれば，心理的に原本の複写を抑止する効果が得られる。

地紋については，特許文献１に記載され，この記載によれば以下の通りである。

地紋の一般的な構成は，複写によって原本のドットが残るまたは減少が少ない「潜像部」と，複写によって原本のドットが消失または大きく減少する「背景部」の２つの領域からなる。つまり，潜像部は複写による濃度変化が少なく原本の画像がそのまま再現され，背景部は複写による濃度変化が大きく原本の画像が消失する。この２つの領域により地紋の文字や画像が形成され，この地紋の文字や画像を「潜像」と称する。

この潜像部と背景部の２つの領域は濃度がほぼ同等であり，原本の状態では一見すると「複写」などの地紋の文字や画像が隠れていることが判別困難であるが，ミクロ的には各々異なる特性を持っている。そして，複写されるとそれらの濃度変化の差により，潜像部と背景部との間に濃度差が生じてこの２つの領域で形成された地紋の文字や画像の判別が容易になる。

潜像部は複写時(コピーによるスキャニング時)にドットを読み取り易くするために，集中したドットの固まりで構成し，逆に背景部は複写時にドットを読み取り難くするために分散したドットで構成する。このようにすることで，潜像部は複写後にドットが残り易く，背景部は潜像部よりもドットが消え易い特性になる。集中したドットや分散したドットは，異なる線数の網点を用いた網点処理によって実現することができる。すなわち，集中したドット配置を得るためには低い線数の網点を用い，分散したドット配置を得るためには高い線数の網点を用いる。

一般に複写機には，複写対象の原稿の微小なドットをスキャナーで読み取る工程での入力解像度と，スキャナーで読み取った微小なドットを印刷エンジンで再現する工程での出力解像度とに依存した画像再現能力の限界が存在する。従って，複写機の画像再現能力の限界を超えた孤立した微小なドットが原稿中に存在すると，その複写物では微小なドットを完全には再現できず，孤立した微小なドットの部分が消失する。即ち，地紋の背景部が複写機で再現できるドットの限界を超えるように作成されている場合，地紋の大きなドット(集中したドット)は複写によって再現できるが，小さなドット(分散したドット)は複写によって再現できず，複写原稿に隠された潜像が浮かび上がる。また，複写により背景部の分散したドットが完全に消えなくとも，潜像部の集中したドットと比較してドットの消失の程度が大きければ，複写後に背景部と潜像部で濃度差が発生し，複写原稿において隠された潜像が浮かび上がる。

また，地紋では，潜像として隠されている文字や画像をより判別し難くするために，「カモフラージュ」と言う技術が利用される。このカモフラージュ技術は，潜像部や背景部とは濃度が異なる模様を地紋画像全体に配置する方法であり，マクロ的には一見すると潜像部や背景部とは異なる濃度のカモフラージュ模様が目立ち，潜像が更に目立たなくなる効果がある。つまり，カモフラージュ模様のコントラストが大きく，それに比較して潜像部と背景部のコントラストが小さいため，目の錯覚により潜像がより効果的に隠蔽される。さらに，カモフラージュ模様は印刷物に装飾的な印象を与えることができ，意匠性に優れた地紋を作成することができるといった利点もある。尚，一般的にカモフラージュ模様はドットを発生させるか発生させないかの２値で作成されており，カモフラージュ模様に相当する領域で地紋のドットを発生させないことでカモフラージュ模様を形成している。２値のカモフラージュ模様については，特許文献２に記載されている。以上が地紋の概要である。

図１は，地紋の潜像とカモフラージュ模様の例を示す図である。文字「複」の潜像マスクパターン１０は，その拡大図１０Ｘにも示されるとおり，例えば黒い部分が地紋の潜像部ＬＩに対応し白い部分が地紋の背景部ＢＩに対応する。一方，カモフラージュ模様１２は，その拡大図１２Ｘにも示されるとおり，例えば黒い部分ＣＡＭが地紋のドットが形成されない領域になり，白い部分が地紋のドットが形成される領域になる。

図２は，地紋の原本の例を示す図である。地紋１４は，図１の潜像マスクパターン１０に基づいて潜像部ＬＩと背景部ＢＩとが形成されている。潜像部ＬＩは，ドット集中型ディザ法による低網点線数（５３ｌｐｉ）のドットで形成され，背景部ＢＩは，ドット分散型ディザ法による高網点線数（２１２ｌｐｉ）のドットで形成されている。拡大された地紋１４Ｘから明らかなとおり，地紋全体が一定の出力濃度になっているが，潜像部ＬＩのドットは低い網点線数のスクリーンにより形成されているので大きなドットであり，背景部ＢＩのドットは高い網点線数のスクリーンにより形成されているので微少なドットである。

地紋１６は，図１の潜像マスクパターン１０とカモフラージュ模様１２に基づき，潜像部ＬＩと背景部ＢＩとがカモフラージュ模様の黒い部分ＣＡＭの領域を除いて形成されている。拡大された地紋１６Ｘに示されるとおり，地紋全体は一定の出力濃度であり，カモフラージュ模様の領域ＣＡＭにはドットが形成されず，それ以外の領域では，図１と同様に大きなドットからなる潜像部ＬＩと微少なドットからなる背景部ＢＩとが形成されている。カモフラージュ模様のコントラストが大きいため，コントラストが小さい潜像部ＬＩと背景部ＢＩとで形成される潜像（文字「複」）が目立たない。

図２の地紋の原本は，潜像部ＬＩと背景部ＢＩの出力濃度が同じであるので，それにより形成される潜像「複」が隠蔽される。これを原本における潜像の隠蔽性が高いと称する。

図３は，地紋の複写物の例を示す図である。複写物１８は，複写によるスキャニング工程とドット形成工程とを経て形成され，その拡大図１８Ｘに示されるとおり，潜像部ＬＩの大きなドットはほとんど消失していないが，背景部ＢＩの微少なドットはかなり消失している。その結果，複写物１８において，潜像部ＬＩの出力濃度はほとんど低下しないが，背景部ＢＩの出力濃度はかなり低下し，潜像「複」が浮き上がって見える。つまり，複写物における潜像の識別性が高くなっている。

複写物２０もカモフラージュ模様の領域ＣＡＭを除いて，複写物１８と同様である。背景部ＢＩの出力濃度が低下したことでカモフラージュ模様のコントラストが低下し，潜像「複」が浮き上がって見えている。

図４は，図２の原本の拡大図と図３の複写物の拡大図とを更に拡大した図である。（ａ）原本では，潜像部ＬＩは網点線数が低く面積が大きなドット（網点）で構成され，背景部ＢＩは網点線数が高く微少なドットで構成される。そして，カモフラージュ模様の黒い部分ＣＡＭにはいずれのドットも形成されていない。一方，（ｂ）複写物では，潜像部ＬＩの大きなドット（網点）のサイズはそれほど変化していないのに対して，背景部ＢＩの微少なドットはかなりの数が消失ししている。その結果，複写物では，潜像部ＬＩの出力濃度の低下はほとんどなく，背景部ＢＩの出力濃度の低下は大きく，地紋の潜像「複」が顕在化される。
特開２００５−１５１４５６号公報 特開平４−１７０５６９号公報

上記の通り，地紋は，原本における潜像の隠蔽性が高いことと，複写物における潜像の識別性が高いこととが両立することが求められる。そして，カモフラージュ模様を付加すると原本の隠蔽性を向上させ，印刷物に装飾的なイメージを与え意匠性に優れた地紋を提供することができる。さらに，２階調を越える多階調のカモフラージュ模様を利用可能にすることで，カモフラージュ模様の自由度があがり，写真，イラスト，ＣＧ，ロゴなど多岐にわたる画像を利用することができ，ユーザが任意のカモフラージュ模様を採用することができる。多階調のカモフラージュ模様を利用した地紋については，たとえば特願２００８−７８４１にて出願されている。

しかしながら，ユーザによる任意の画像をカモフラージュ模様として利用できるようにすると，採用された画像によっては最適な地紋画像を得られない場合がある。たとえば，カモフラージュ模様の濃淡変化領域が少なく同じ濃度領域が広い場合は，カモフラージュ模様が目立たず，原本における潜像の隠蔽性を高めることができない。この問題は，採用されたカモフラージュ模様が多階調の場合にはとりわけ，さらに２階調の場合にも同様に生じる。

そこで，本発明の目的は，カモフラージュ模様の自由度を高くするとともにカモフラージュ模様を最適化した地紋を生成するプログラム及び装置を提供することにある。

上記の目的を達成するために，本発明の第１の側面によれば，複写時に再現される出力濃度が異なる潜像部と背景部とで構成される地紋画像データを生成する地紋画像生成工程をコンピュータに実行させる地紋画像生成プログラムにおいて，前記地紋画像生成工程は，
第１のカモフラージュ模様データを入力し，当該第１のカモフラージュ模様データに濃淡変化領域がより多い第２のカモフラージュ模様を合成して合成カモフラージュ模様データを生成するカモフラージュ模様合成工程と，
前記合成カモフラージュ模様データの階調値について，前記潜像部に対応する領域では潜像部スクリーンに基づいて潜像部画像データを生成し，前記背景部に対応する領域では背景部スクリーンに基づいて背景部画像データを生成する地紋画像データ生成工程とを有する。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，前記カモフラージュ模様合成工程は，さらに，前記第２のカモフラージュ模様データの階調値をより低い明度に調整して調整された第２のカモフラージュ模様データを生成する調整工程を有し，当該調整された第２のカモフラージュ模様データを前記第１のカモフラージュ模様データに合成する。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，前記調整工程では，さらに前記第２のカモフラージュ模様データの階調値について，当該階調値の明暗コントラストを強調するコントラスト強調処理を行う。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，前記調整工程では，さらに前記第２のカモフラージュ模様データの階調値について，当該第２のカモフラージュ模様のエッジ部分の階調値の明暗コントラストを強調する先鋭化処理を行う。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，さらに，前記調整工程の後に，前記調整された第２のカモフラージュ模様データをメモリに記憶する調整カモフラージュ模様登録工程を有する。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，さらに，前記調整工程の後に，前記調整工程の調整に使用した調整パラメータをメモリに記憶する調整パラメータ登録工程を有する。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，前記カモフラージュ模様合成工程は，さらに，前記合成カモフラージュ模様データの階調値をより低い明度に調整して調整された合成カモフラージュ模様データを生成する調整工程を有し，前記地紋画像データ生成工程では，前記調整された合成カモフラージュ模様データを前記合成カモフラージュ模様データとする。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，前記カモフラージュ模様合成工程は，前記合成カモフラージュ模様の濃度を前記第１のカモフラージュ模様より低くする，または前記合成カモフラージュ模様のコントラストを前記第１のカモフラージュ模様より高める，の少なくともいずれか一方を達成する合成演算を行う。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，前記第２のカモフラージュ模様データは，２階調を越える多階調の画像データである。

上記第１の側面において，好ましい態様によれば，前記カモフラージュ模様合成工程は，さらに，前記第２のカモフラージュ模様を縮小して繰り返し配置した修正第２のカモフラージュ模様データを生成し，当該修正第２のカモフラージュ模様データを前記第１のカモフラージュ模様データに合成する。

上記の目的を達成するために，本発明の第２の側面は，上記第１の側面の地紋画像生成装置である。

以下，図面にしたがって本発明の実施の形態について説明する。但し，本発明の技術的範囲はこれらの実施の形態に限定されず，特許請求の範囲に記載された事項とその均等物まで及ぶものである。

図５は，本実施の形態における地紋画像形成装置を含む印刷システムの構成を示す図である。地紋画像形成装置は，ホストコンピュータ３０にインストールされているプリンタドライバプログラム３２と，潜像部ディザマトリクス３３と，背景部ディザマトリクス３４と，カモフラージュ模様データ３５と，プリンタ４０とで構成される。ホストコンピュータ３０は，ＣＰＵとＲＡＭとアプリケーションプログラム３１とを更に有し，アプリケーションプログラム３１を実行して文字，イメージ，グラフィックスなどからなる画像データ（印刷文書画像データ）を生成する。

さらに，ホストコンピュータ３０は，ユーザからの要求に応答して，プリンタドライバ３２を実行してカモフラージュ模様付き地紋データ３７を生成する。そして，アプリケーション３１が生成した画像データについて，ユーザから印刷要求を受けると，プリンタドライバ３２はプリンタ装置４０が解釈可能なプリンタ制御言語に基づき，画像データ３６の印刷ジョブデータを生成する。もし，印刷要求に，画像データに対して地紋データを付加することが含まれていた場合には、印刷ジョブデータに地紋データ３７を含めてプリンタ４０のインターフェースＩＦに送信する。

そして，プリンタドライバ３２は，ユーザにより入力された第１のカモフラージュ模様データに，第１のカモフラージュ模様より濃淡変化領域が多い第２のカモフラージュ模様データを合成し，合成カモフラージュ模様データを地紋データに合成してカモフラージュ模様地紋データ３７を生成する。

画像データ３６は，例えば，ページ記述言語で記述されたデータ，プリンタの中間コードに展開されたデータ，または画素に展開したＲＧＢのビットマップデータなど様々な形態をとりうる。また，カモフラージュ模様付き地紋データ３７は，２階調または多階調のカモフラージュ模様の階調データを地紋の入力階調で補正（または変調）した階調データをディザマトリクス３３，３４でスクリーニング処理した画像データである。また，カモフラージュ模様付き地紋データ３７は，プリンタ４０の複数の色材のうち選択された何れかの色の画像データであり，プリンタ４０の色材がＣＭＹＫの４色の場合は，例えばＣＭＫの何れかの色の画像データが好ましい。本実施の形態では，カモフラージュ模様の階調データは，２階調の場合は１ビットのバイナリデータ，多階調（３階調以上）の場合は２ビット以上のバイナリデータである。

一方，プリンタ４０は，画像を生成する印刷エンジン４６と，受信した画像データ３６と地紋データ３７について所定の画像処理を行いさらに印刷エンジン４２の制御を行うコントローラ４１とを有する。コントローラ４１のＣＰＵは，画像形成プログラム４２を実行して，受信した画像データ３６から画素に展開したビットマップデータを生成する。受信した画像データ３６がビットマップデータの形態であればそのビットマップデータがそのまま利用できる。

そして，画像データ３６がＲＧＢの階調値データからなる場合は，色変換ユニット４３がＣＭＹＫの階調値データに色変換する。そして，合成部４４が，色変換された画像データ３６のＣＭＹＫのビットマップデータのうち，地紋の色として選択された色（ＣＭＫのいずれか）のビットマップデータと，地紋データ３７のドットデータとを合成する。たとえば，地紋のドット有り，ドット無しを，各々ビットマップの階調値の濃度最大値，濃度最小値に変換して合成する。またこの合成は，例えば地紋データ３７の画像に画像データ３６の画像を重ねる処理により行われる。さらに，二値化ユニット４５が地紋データ合成後の画像データのＣＭＹＫの階調値データを画素内のドットのデータに変換し，印刷エンジン４６に出力する。その結果，印刷エンジン４６は，アプリケーションプログラムにより生成された印刷対象の画像とプリンタドライバ３２により生成された地紋画像とを合成した画像を生成する。これが地紋の原本である。

図５の実施の形態では，ホストコンピュータ３０のプリンタドライバ３２が地紋データ３７を生成している。ただし，変型例として，プリンタドライバ３２が、コントローラ４１に地紋とカモフラージュ模様を生成させるために、地紋とカモフラージュ模様生成の指定をするプリントジョブデータを生成し，プリンタ４０のコントローラ４１がプリントジョブデータから潜像部ディザマトリクスと背景部ディザマトリクスとを使用してカモフラージュ模様付き地紋データを生成するようにしても良い。地紋生成用のプリントジョブデータは，複写時に消失するもしくは再現される文字やパターンの指定，地紋の濃度の指定、カモフラージュ模様の指定など，カモフラージュ模様付き地紋データ生成するために必要な情報を含むデータである。
［地紋生成手順の概略］
以下，本実施の形態における地紋画像生成装置による地紋生成方法の概略について説明する。この地紋画像生成装置とは，プリンタドライバ３２により地紋画像が生成される場合はホストコンピュータ，画像形成プログラム４２により地紋画像が生成される場合にはプリンタ４０をいう。本実施の形態では，ユーザが任意に選択した第１のカモフラージュ模様に応答して，地紋画像生成装置が，原本における潜像の高い隠蔽性と，優れた意匠性と，複写物における潜像の高い識別性とを満たすように，第１のカモフラージュ模様に濃淡変化領域がより多い第２のカモフラージュ模様を合成し，合成カモフラージュ模様付き地紋画像データを生成する。

図６は，本実施の形態における地紋データの生成手順を示すフローチャート図である。まず，地紋画像生成装置は，潜像マスクパターンデータを生成する（Ｓ１）。潜像マスクパターンデータは，図１に示した文字「複」の潜像マスクパターン１０のデータであり，各画素が潜像部ＬＩか背景部ＢＩかを示すデータ０，１で構成される。そして，地紋画像生成装置は，２階調のまたはカラーもしくは多階調の第１のカモフラージュ模様データを入力し取得する（Ｓ２）。ユーザにより取得された任意の写真データ，イメージデータ，ロゴデータなどのカラー画像データや，ホストコンピュータ３０内のメモリに格納されている複数のカモフラージュ模様データ３５から選択されたデータが，第１のカモフラージュ模様データとなる。

地紋画像生成装置は，ユーザからの地紋の色の選択入力に応答してカモフラージュ模様の色を設定する（Ｓ３）。地紋の色は，プリンタの色材ＣＭＹＫのうち明度が高いＹを除くＣＭＫ（シアンＣ，マゼンタＭ，ブラックＫ）のいずれかに選択される。カラーカモフラージュ模様データが選択されている場合，地紋画像生成装置は，さらに，カラーのカモフラージュ模様データに含まれる複数色（例えばＲＧＢ）の階調値データから，グレイ階調値データを演算して，モノクロの多階調のカモフラージュ模様データを生成する（Ｓ４）。そして，地紋画像生成装置は，ユーザからの登録指令入力に応答してカラーカモフラージュ模様データまたはグレイ階調値からなる多階調カモフラージュ模様データをメモリに記憶して，第１のカモフラージュ模様の登録を行う（Ｓ５）。

地紋画像生成装置は，第１のカモフラージュ模様データの濃淡変化領域が基準値より少ない場合は，それより濃淡変化領域が多いテクスチャ模様データなどの第２のカモフラージュ模様データを，デフォルトで選択しまたはユーザに選択させ，第１のカモフラージュ模様データに合成して合成カモフラージュ模様データを生成する（Ｓ６）。ユーザが独自に取得した第１のカモフラージュ模様の利用を可能にした結果，濃淡変化に乏しい模様が選択される可能性がある。しかし，第１のカモフラージュ模様の濃淡変化が少ない場合は，原本における潜像の高い隠蔽性を達成することができない。そこで，地紋画像生成装置は，ユーザが選択した第１のカモフラージュ模様データに，それより濃淡変化領域が多いテクスチャデータ（第２のカモフラージュ模様データ）を合成して合成カモフラージュ模様データを生成する。これにより，濃淡変化領域が多い合成カモフラージュ模様により原本において潜像を効果的に隠蔽することができる。

なお，多階調のカモフラージュ模様データは，画素毎に例えば８ビットの階調データで構成され，そのカモフラージュ模様は２階調を超える２５６階調を表現することができる。多階調のカモフラージュ模様を採用することで，原本における本来の印刷対象の印刷文書画像の識別性低下を抑制することができ，複写物における潜像の識別性低下も抑制することができる。さらに，多階調の合成カモフラージュ模様を使用することができるので，意匠性に優れた印刷物を作成することができる。

また，２階調のカモフラージュ模様データであっても，多階調のテクスチャ模様データ（第２のカモフラージュ模様データ）を合成することで，合成カモフラージュ模様データは多階調になるので，上記と同様の作用効果を奏することができる。

合成された多階調のカモフラージュ模様データは，画素毎の８ビット（０：黒〜２５５：白）の階調値データであり，２５６階調で表現されるグレイイメージデータである。カモフラージュ模様は，階調値０（黒）に近いほど出力濃度が低く，階調値２５５（白）に近いほど出力濃度が高く構成されている。そして，カモフラージュ模様の階調値Ａ（Ａ＝０〜２５５）に対して出力される地紋の出力濃度ＤＡは，カモフラージュ模様を付加しない場合の地紋の出力濃度Ｄmaxに対して，
ＤＡ＝（Ａ／２５５）×Ｄmax （０≦Ａ≦２５５） （１）
になる。

よって，カモフラージュ模様の階調値が全て白（Ａ＝２５５）では，カモフラージュ模様付き地紋の出力濃度ＤＡは，ＤＡ＝Ｄmaxとなり，カモフラージュ模様を付加しない地紋と同じ出力濃度になる。つまり，図２中の１６の模様ＣＡＭ以外の領域の出力になる。また，カモフラージュ模様の階調値が２５５（白）に近いほど，地紋の出力濃度Ｄmaxの減少量が小さくなる。一方，カモフラージュ模様の階調値が０（黒）に近いほど，地紋の出力濃度Ｄmaxの減少量が大きくなる。そして，カモフラージュ模様の階調値が全て黒（Ａ＝０）では，カモフラージュ模様付き地紋の出力濃度ＤＡは，ＤＡ＝０になり，地紋のドットは形成されない。つまり，図２中の１６の模様ＣＡＭ内の出力になる。

上記の通り，地紋の潜像部と背景部とに多階調の合成カモフラージュ模様が合成されることになり，１ビットからなる２値のカモフラージュ模様データに比較すると，カモフラージュ模様のコントラストを低下させることができる。

上記の合成カモフラージュ模様を地紋に反映するために，地紋画像生成装置は，潜像部，背景部の入力階調に基づいて補正合成カモフラージュ模様階調データを生成する（Ｓ７）。潜像部，背景部の入力階調は，地紋画像の出力濃度に対応するものであり，デフォルトで決められた階調値，もしくは，ユーザが任意に選択した地紋画像の出力濃度に対応する階調値である。上記式（１）で示したとおり，合成カモフラージュ模様付き地紋画像は，潜像部と背景部とからなる地紋画像が多階調の合成カモフラージュ模様の階調値で変調された画像である。言い換えると，多階調の合成カモフラージュ模様の階調値が地紋画像の入力階調で変調された画像である。

最後に，地紋画像生成装置は，補正合成カモフラージュ模様階調データを，潜像マスクパターンデータに応じて，潜像部ディザマトリクス３３か背景部ディザマトリクス３４かを参照してスクリーニング処理し，カモフラージュ模様付き偽造抑制地紋データ３７を生成する（Ｓ８）。つまり，潜像部に対応する領域では，潜像部ディザマトリクス３３を参照して地紋の画像データを生成し，背景部に対応する領域では，背景部ディザマトリクス３４を参照して地紋の画像データを生成する。

この潜像部，背景部ディザマトリクス３３，３４は，例えば閾値マトリクス，階調変換マトリクスなどであり，いずれも多階調の画像データに変換可能なディザマトリクスである。ディザマトリクス３３，３４は，ドット面積で多階調を表現するＡＭスクリーンでも良いし，ドット密度で多階調を表現するＦＭスクリーンでもよい。ただし，地紋画像の本来の機能として潜像部と背景部とで複写時に再現される出力濃度が異なる必要があるので，それを実現できるスクリーンであることが求められる。例えば，潜像部、背景部ディザマトリクス３３，３４は、各々スクリーン線数が異なる。または，ドット集中型マトリクスとドット分散型マトリクスである。

以下，本実施の形態におけるカモフラージュ模様付き地紋データの生成手順について詳述する。
［潜像部ディザマトリクスと背景部ディザマトリクス］
潜像部は潜像部ディザマトリクス３３を使用して複数の第１のドット（面積が大きいドット）により所定の出力濃度の画像に形成され，一方，背景部は背景部ディザマトリクス３４を使用して複数の第２のドット（微少面積のドット）により所定の出力濃度の画像に形成される。原本における潜像の隠蔽性を高くするために，潜像部と背景部とは同等の出力濃度の画像になることが望ましい。

図７は，地紋の背景部ＢＩと潜像部ＬＩの画像を生成するためのディザマトリクスの入出力特性の例を示す図である。背景部ディザマトリクス３４の入出力特性と，潜像部ディザマトリクスの入出力特性とは，図７に示されるとおり同じである。そして，これらのディザマトリクス３４，３３は，入力階調（０〜２５５）に対して，出力濃度が０〜１２％の特性を有する。前述の図６のスクリーニング処理Ｓ８では，補正合成カモフラージュ模様階調データが入力階調となり，これらのディザマトリクス３４，３３を参照して，上記の出力濃度特性が得られる出力階調データが生成される。補正合成カモフラージュ模様階調データがＩｎ＝２５５の場合は，補正合成カモフラージュ模様の出力濃度は黒べたの１２％の濃度になる。そして，合成カモフラージュ模様の階調値に応じて，補正合成カモフラージュ模様の出力濃度は０〜１２％の範囲内で異なる。

図８は，背景部ディザマトリクス３４を示す図である。この背景部ディザマトリクス３４は，５画素からなる比較的大きい小ドットＤ２−１と，１画素からなる比較的小さい小ドットＤ２−２とで構成され、お互いが安定的に分散配置されたドット分散型ディザマトリクスである。尚，比較的大きい小ドットＤ２−１は，変位ベクトル（−６，６）（６，６）の位置の画素に割り当てられ，スクリーン線数としては７１ｌｐｉとなる。また，小ドットＤ２−２は小ドットＤ２−１の間に安定的な間隔で位置する。小ドットの中に比較的大きい小ドットＤ２−１を生成可能にすることで，背景部に小ドットを安定的に発生させることが可能になる。ただし，小ドットＤ２−１，Ｄ２−２はいずれも後述する潜像部の大ドットＤ１に比較すると面積が小さいので，複写時に消失する程度は潜像部の大ドットＤ１より大きい。

図８において，小ドットが形成される黒またはグレイで表示された要素には閾値１〜２５４が割り当てられ，それ以外の要素には閾値２５５が割り当てられている。そして，スクリーニング処理Ｓ８では，入力階調０〜２５４に対しては，それ以下の閾値の要素に対応する画素にドットが形成されるが，入力階調が２５５の場合は，閾値２５５の要素に対応する画素はドットオフに制御され，閾値２５４以下の要素に対応する画素にドットが形成される。よって，入力階調が２５４または２５５の場合は，図８の黒またはグレイの全ての要素に対応する画素にドットが形成され，出力濃度は１２％になる。

図９は，潜像部ディザマトリクス３３を示す図である。この潜像部ディザマトリクス３３は，大ドットＤ１を生成する低いスクリーン線数（５３ｌｐｉ）のドット集中型ディザマトリクスである。この潜像部ディザマトリクス３３の入力階調値Ｉｎに対する出力濃度特性も，図７に示したとおり，入力階調値Ｉｎ＝０〜２５５に対して，出力濃度が黒ベタの０〜１２％になっている。この特性は図８の背景部ディザマトリクス３４と同じである。さらに，潜像部ディザマトリクス３３により生成される大ドットＤ１の大きさは，最大で２２画素のドットからなる。潜像部の大ドットＤ１は，図８の背景部の小ドットＤ２−１，Ｄ２−２よりも大きいので，背景部と比較すると，地紋画像複写時のドットの消失は少なく濃度変化も少ない。

図９において，大ドットＤ１が形成される要素には閾値１〜２５４が割り当てられ，それ以外の要素には閾値２５５が割り当てられている。そして，スクリーニング処理Ｓ８では，背景部と同様に，入力階調１〜２５４に対してはそれ以下の閾値の要素に対応する画素にドットが形成され，入力階調が２５５の場合は，閾値２５５の要素に対応する画素はドットオフに制御され，閾値２５４以下の要素に対応する画素にドットが形成される。よって，入力階調が２５４または２５５の場合は，図９の黒またはグレイの全ての要素に対応する画素にドットが形成され，出力濃度は１２％になる。
［地紋画像データの生成方法］
以下，本実施の形態における多階調カモフラージュ模様付きの地紋画像データの生成方法について説明する。

図１０は，本実施の形態における地紋画像データの生成方法を示すフローチャート図である。プリンタユーザは，ホストコンピュータ３０のプリンタドライバ３２において，地紋生成メニューを選択し，図１０のフローチャートに従って地紋画像データの生成を実行する。

ユーザが独自に潜像マスクパターンを生成する場合、まず，ユーザは，地紋の文言を入力する（Ｓ１０）。例えば，「複写」「コピー」「社外秘」などの文言であり，この文言が地紋の潜像になる。さらに，４８ポイントなどの地紋文言のサイズを入力し（Ｓ１１），４０度などの地紋文言の角度を入力し（Ｓ１２），地紋効果と配置を選択する（Ｓ１３）。地紋効果とは，文言が白抜きになるか（文言が白，周囲が黒）浮きだしになるか（文言が黒，周囲が白）のいずれかである。白抜きの場合は文言が背景部に周囲が潜像部になり，浮きだしの場合は文言が潜像部に周囲が背景部になる。また，地紋の配置とは，正方配置，斜交配置，反転配置などである。

図１１は，地紋効果の例を示す図である。地紋パターン５０，５１は，文言が「複写」「コピー」で文言が浮きだしになる地紋効果の例である。地紋パターン５２，５３は，同じ文言で文言が白抜きになる地紋効果の例である。いずれも文言の角度が４０度に設定されている。

図１２は，地紋の配置の例を示す図である。いずれも文言が「複写」，角度が４０度，地紋効果が浮きだしである。（ａ）正方配置では，潜像マスクパターンがタイル状に貼り付けられる。（ｂ）斜交配置では，潜像マスクパターンが改行のたびに所定の位相だけずらして配置される。（ｃ）反転配置では，潜像マスクパターンが改行のたびに上下反転して配置される。

工程Ｓ１０〜Ｓ１３によりユーザによる入力または選択が終わると，プリンタドライバ３２は潜像マスクパターンを生成する（Ｓ１４）。潜像マスクパターンの例は，図１４に示したとおり，潜像部領域と背景部領域とを区別可能な１ビットデータからなる。

ユーザがデフォルトの潜像マスクパターンを使用する場合は、Ｓ１０〜Ｓ１４は省略され、ユーザによる潜像マスクパターンの選択がされる。

次に，プリンタドライバ３２は，地紋画像の入力階調値を設定する（Ｓ１６）。図７，図８に示した背景部ディザマトリクス３４，潜像部ディザマトリクス３３を使用する場合は，地紋画像の入力階調値を最大値の「２５５」にすることが望ましい。入力階調Ｉｎ＝２５５にすることで，補正合成カモフラージュ模様階調データが最大階調値２５５の場合に，地紋画像の潜像部と背景部の出力濃度は黒ベタの１２％と最大濃度になり，地紋画像の出力濃度が高いほうが，複写物において地紋画像の識別性が高くなるからである。ただし，ユーザの好みにより，入力階調値が２５５より低い階調値に選択される場合もある。

プリンタドライバ３２は，ユーザの選択要求に応じて，２階調またはカラーもしくは多階調のカモフラージュ模様データを取得する（Ｓ１７）。ホストコンピュータ内のメモリ，または外付けメモリ内にユーザが任意に取得したカモフラージュ模様データが格納されており，ユーザの選択要求に応じて，カモフラージュ模様データを取得する。そして，選択されたカモフラージュ模様データがメモリに記憶され登録される。

図１３は，カモフラージュ模様の一例とそれを採用した地紋画像の例を示す図である。カモフラージュ模様５４は，複数の矩形領域の組み合わせからなり，各矩形領域の階調値Ａは，図１６に示される通りである。このような多階調のカモフラージュ模様を選択した場合の地紋画像５５が示されている。この地紋画像５５は，前述した式（１）により，地紋画像の出力濃度Ｄmax（例えばＤmax＝４０％）がＡ／２５５倍されている。このように，カモフラージュ模様がより黒い領域（Ａが０に近い領域）では，地紋画像の出力濃度がより低下し，カモフラージュ模様がより白い領域（Ａが２５５に近い領域）では，地紋画像の出力濃度の低下はより少ない。

カモフラージュ模様の階調値Ａは，前述のとおりグレイデータである。カモフラージュ模様がＲＧＢのカラー画像データの場合は，グレイの階調値Ａは以下の式（２）により求められる。

Ａ＝０．３×Ｒ＋０．５９×Ｇ＋０．１１Ｂ （２）
カモフラージュ模様データのグレイ階調値を，黒で「０」，白で「２５５」と定義した結果，カモフラージュ模様データによるカモフラージュ模様画像と，地紋に反映されるカモフラージュ模様画像とは，白黒が反転した画像になる。よって，ユーザが地紋に反映された状態でカモフラージュ模様を選択可能にするために，プリンタドライバ３２は，選択画面において，白黒反転したカモフラージュ模様の画像を表示することが望ましい。白黒反転画像の画像データの階調値Ｋは，以下の式（３）により求められる。

Ｋ＝２５５−Ａ （３）
さらに，プリンタドライバ３２は，ユーザの選択要求に応じて，地紋の色（ブラック，シアン，マゼンタなど）の選択を行う（Ｓ１８）。地紋の色は，単色であることが望ましい。それに伴い，ＣＭＫいずれか単色のカモフラージュ模様データの階調値は，前述のとおりグレイデータの階調値Ａを反転した式（３）の階調値Ｋにする。この理由は，加法混色表示のＲＧＢと減法混色表示のＣＭＹＫとの違いによる。後述する潜像部や背景部の閾値ディザマトリクスの閾値との比較は，この階調値Ｋもしくは補正カモフラージュ模様階調の階調値ついて行われる。

次に，プリンタドライバ３２は，合成カモフラージュ模様の生成を行う（Ｓ１９）。本実施の形態では，ユーザが写真撮影などにより取得した任意の２階調またはカラーもしくは多階調カモフラージュ模様の利用を可能にしている。そのため，それら第１のカモフラージュ模様の濃淡度変化領域が少なすぎる地紋画像と合成するのに適切でない画質の模様も存在する。よって，第１のカモフラージュ模様に，それより濃淡度変化領域が多い第２のカモフラージュ模様を合成する処理が必要になる。調整後のカモフラージュ模様データまたは調整に必要なパラメータのいずれかがメモリに記憶される。調整処理については後に詳述する。

以上のユーザによる入力などＳ１０〜Ｓ１９が終了すると，プリンタドライバ３２は地紋画像生成処理を実行する（Ｓ２０）。地紋画像生成処理は，図１８のフローチャートに従って行われる。

図１４は，本実施の形態における地紋画像生成処理のフローチャート図である。つまり，図１４のフローチャートは，図１０の地紋画像生成処理Ｓ２０に対応している。まず，潜像部及び背景部の入力階調値に基づいて合成カモフラージュ模様データの階調値を補正（または変調）して補正合成カモフラージュ模様データを生成する（Ｓ２１）。この手順は，図６の手順Ｓ７に対応する。

合成カモフラージュ模様のグレイ階調値Ａ（０≦Ａ≦２５５），地紋を構成する潜像部と背景部の入力階調値Ｉｎ（０≦Ｉｎ≦２５５）とする。この工程Ｓ２１では，まず，合成カモフラージュ模様のグレイ階調値Ａを減法混色の階調値Ｋ（＝２５５−Ａ）に変換する。そして，補正合成カモフラージュ模様の階調値Ｋｉは，以下の式（４）により演算される。

Ｋｉ＝（Ｋ／２５５）×Ｉｎ （４）
この演算式は，前述の式（１）に対応している。

図１０の地紋画像の入力階調値を設定する工程Ｓ１６で，潜像部と背景部の入力階調値を，取りうる階調値の最大値（例えば２５５）にすると，補正合成カモフラージュ模様の階調値Ｋｉは，Ｋｉ＝Ｋになる。また，入力階調値を２５５より小さい値に設定すると，それに対応して補正合成カモフラージュ模様の階調値Ｋｉは，式（４）にしたがって低い階調値（低濃度，明るい）になる。いずれにしても，階調値Ｋｉに基づいてディザマトリクス３３，３４を参照して得られる出力階調値は，出力濃度を０〜１２％のいずれかの出力濃度を再生する値になる。

図１４に戻り，補正合成カモフラージュ模様階調データについて，潜像マスクパターンに応じて，潜像部ディザマトリクス３３または背景部ディザマトリクス３４を参照して，カモフラージュ模様付き地紋画像データを生成する（Ｓ２３〜Ｓ３２）。このカモフラージュ模様付き地紋画像データは，画素毎にドット有りまたはドットなしを示す画像データである。

図１５は，図１４の地紋画像生成処理を説明する図である。図１５（Ａ）には，Ａ４の印刷サイズ６０に複数の潜像マスクパターン１０が正方配置された地紋画像が示されている。Ａ４サイズの場合は，横方向に４７２０ドットの画素数，縦方向に６７７６ドットの画素数になる。図１５（Ｂ）は，図１５（Ａ）の左上の潜像マスクパターン１０と，タイル状に配置されたカモフラージュ模様１２との位置関係が示されている。潜像マスクパターン１０は横方向に２０３０ドットの画素数，縦方向に２０３０ドットの画素数を有する正方形のパターンである。それに対して，図１５（Ｃ）に示されるとおり，カモフラージュ模様１２は横方向に２１５ドット，縦方向に２１５ドットの画素数を有する正方形パターンである。

図１５（Ｄ）は，図１５（Ｃ）の左上端部領域を拡大したものである。第１のカモフラージュ模様１２には，後述するとおり４３×４３のサイズのテクスチャ模様が合成される。第１のカモフラージュ模様１２の濃淡変化領域（たとえばエッジ領域）に比較して，第２のカモフラージュ模様であるテクスチャ模様１４の濃淡変化領域はより多くなっている。さらに，図１５（Ｄ）に示されるとおり，潜像部ディザマトリクス３３及び背景部ディザマトリクス３４は，共に，３２×３２のマトリクスであり，左上から順番にタイル状に貼り付けるように画素に対応させる。

そして，プリンタドライバは，補正合成カモフラージュ模様の階調値Ｋｉと，ディザマトリクス３３，３４の閾値とを比較し，図７，８で説明したロジックにしたがって，階調値Ｋｉが閾値以上であれば画素ドットＯＮ，階調値Ｋｉが閾値未満であれば画素ドットＯＦＦにする。比較対象のディザマトリクスは，潜像マスクパターンの黒または白に対応して選択される。

図１４のフローチャートに戻って，地紋画像生成処理を説明する。画素のインデックスｉ，ｊをそれぞれｉ＝０，ｊ＝０に初期化する（Ｓ２３）。そして，画素（ｉ，ｊ）で潜像マスクパターンが黒なら（Ｓ２８のＹＥＳ）潜像部ディザマトリクス３３の対応する画素の閾値と補正合成カモフラージュ模様階調値Ｋｉとが比較され（Ｓ２９），潜像部マスクパターンが黒でないなら（Ｓ２８のＮＯ）正規化背景部ディザマトリクス３４Ｎの対応する画素の閾値と階調値Ｋｉとが比較される（Ｓ３１）。いずれの比較でも階調値Ｋｉが閾値以上の場合は出力画像（ｉ，ｊ）はドットＯＮになり（Ｓ３０），階調値Ｋｉが閾値未満の場合は出力画像（ｉ，ｊ）はドットＯＦＦになる（Ｓ３２）。ただし，図７，８で説明したとおり閾値２５５の要素にはドットは形成されない。

これにより，潜像部では補正合成カモフラージュ模様階調値Ｋｉに対応したサイズの第１のドット（網点）が生成され，背景部では階調値Ｋｉに対応した数の第２のドットが対応した位置の画素に生成される。

上記の処理が完了すると，画素の行方向のインデックスｊがインクリメント（ｊ＝ｊ＋１）され（Ｓ２４），インデックスｊが印刷サイズ幅に達するまで（Ｓ２５）同じ処理が繰り返される。インデックスｊが印刷サイズ幅に達すると（Ｓ２５のＹＥＳ），列方向のインデックスｉがインクリメント（ｉ＝ｉ＋１）され且つ行方向のインデックスｊが０にリセットされ（Ｓ２６），同じ処理が繰り返される。そして，列方向のインデックスｉが印刷サイズ高さに達すると（Ｓ２７のＹＥＳ），１頁の地紋画像生成処理が完了する。このように処理対象画素は左上からラスタスキャン方向に移動し，各画素がドットＯＮかＯＦＦにされる。

以上の処理により，多階調のカモフラージュ模様を反映した地紋画像データが生成される。
［具体例］
本実施の形態における多階調の合成カモフラージュ模様付き地紋画像の生成を，具体例を示して説明する。

図１６は，潜像マスクパターンの一例を示す図である。３２×３２のマトリクス内に潜像マスクパターン１０が形成されている。パターン１０Ａが潜像部，パターン１０Ａ以外が背景部に対応する。よって，潜像マスクパターンのマトリクスデータは，３２×３２マトリクスの各画素に「０」（潜像部）または「１」（背景部）の１ビットを有する。

図１７は，カモフラージュ模様の一例を示す図である。このカモフラージュ模様１２は，３２×３２のマトリクス内の画素が９つのストライプ状の領域１２Ａ〜１２Ｉを有する。各領域１２Ａ〜１２Ｉの階調値Ｋは，図示されるとおりである。つまり，領域１２Ａ，１２Ｅ，１２Ｉが階調値「２５５」の白の領域であり，領域１２Ｂ，１２Ｈが階調値「６４」と最も黒に近い領域である。このカモフラージュ模様は，多階調の合成カモフラージュ模様であるが，説明を簡単にするため第１のカモフラージュ模様と第２のカモフラージュ模様（テクスチャ模様）は示していない。

図１８は，補正合成カモフラージュ模様階調値の一例を示す図である。この補正合成カモフラージュ模様階調値データ１２０は，前述の式（４）により求められる。この例では，地紋画像の入力階調値Ｉｎ＝２５５に基づいて，図１７の合成カモフラージュ模様階調値を補正して得られた階調値データである。図１８中には，潜像マスクパターン１０Ａをグレイで示し，カモフラージュ模様の領域１２Ａ〜１２Ｉが破線で区分して示されている。図１７に示したカモフラージュ模様の階調値Ｋに対して，補正合成カモフラージュ模様の階調値Ｋｉが図２４中に示されている。地紋画像の入力階調値Ｉｎ＝２５５であるので，補正合成カモフラージュ模様の階調値Ｋｉは，合成カモフラージュ模様Ｋと一致する。

図１９は，カモフラージュ模様付き地紋画像の一例を示す図である。これは，図１８に示した補正合成カモフラージュ模様の階調値Ｋｉについて，図７，図８の潜像部ディザマトリクス３３と背景部ディザマトリクス３４を参照してスクリーン処理した結果得られた地紋画像１６である。図中，カモフラージュ模様の領域１２Ａ〜１２Ｉが一点鎖線で示され，潜像マスクパターン１０Ａが破線で示されている。

潜像マスクパターン１０Ａ内においては，領域１２Ｅでは補正階調Ｋｉ＝２５５に対する第１のドットＤ１が，領域１２Ｄ，１２Ｃ，１２Ｆ，１２Ｇでも補正階調Ｋｉ＝１９２，１２８に対する第１のドットＤ１が形成されている。潜像マスクパターン１０Ａの外側においては，領域１２Ａでは補正階調Ｋｉ＝１７０に対する第２のドットＤ２が全ての変位ベクトル上に形成され，それ以外の領域１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｆ，１２Ｇ，１２Ｈでも，それぞれ補正階調Ｋｉ＝６４，１２８，１９２，１９２，１２８，６４に対する第２のドットＤ２が形成されている。

図１９の地紋画像に示されるとおり，多階調の合成カモフラージュ模様を採用することにより，地紋画像にカモフラージュ模様の階調値に対応した密度またはサイズのドットが形成されている。

図２０は，２階調のカモフラージュ模様の場合の地紋画像の一例を示す。２階調のカモフラージュ模様では，ドット有りの領域１２Ａ，１２Ｅ，１２Ｉと，ドットなしの領域１２Ｘ，１２Ｙしか存在していない。つまり，中間階調の領域１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｆ，１２Ｇ，１２Ｈは存在しない。よって，領域１２Ｘ，１２Ｙでは，ドットが全く形成されていない。
［任意のカモフラージュ模様の最適化］
本実施の形態では，ユーザが写真撮影やコンピュータグラフィックスにより任意に取得した２階調またはカラーもしくは多階調のカモフラージュ模様を登録可能にし，それを地紋に合成可能にする。プリンタにこのようなカモフラージュ模様機能を搭載することで，カモフラージュ模様の自由度が上がりユーザの利便性が高くなる。

ただし，カモフラージュ模様の自由度を高くすることに伴って，地紋画像に適さない模様の登録を要求されることがあり，任意のカモフラージュ模様データを受け入れ可能にするために所定の処理が求められる。以下，任意のカモフラージュ模様を受け入れ可能にした場合の予想される問題点について説明する。

図２１は，任意のカモフラージュ模様を採用したときの不適切な地紋画像を示す図である。文字「複写」からなる潜像マスクパターン１１０に対して，カモフラージュ模様１１２が採用されたとする。このカモフラージュ模様１１２は，文字「ＥＰＳＯＮ」のロゴが分散して配置された多階調模様であるが，文字「ＥＰＳＯＮ」の間に濃淡変化がない広い領域を有する。つまり，カモフラージュ模様１１２は，濃淡変化領域が小さいまたは狭い模様である。そのため，原本のカモフラージュ模様付き地紋画像１１６は，カモフラージュ模様が目立たず，潜像「複写」の隠蔽性を高める効果を発揮できていない。ただし，複写物のカモフラージュ模様付き地紋画像１２０は，潜像「複写」の識別性は十分に出ている。

そこで，本実施の形態では，ユーザにより選択された第１のカモフラージュ模様の濃淡変化領域が小さい場合は，それより濃淡変化領域が大きい第２のカモフラージュ模様を第１のカモフラージュ模様に合成する。第２のカモフラージュ模様は，たとえば，２階調を越える多階調のテクスチャ模様などが適切である。したがって，本実施の形態では，複数のテクスチャ模様データがホストコンピュータのメモリ内にあらかじめ格納されており，第１のカモフラージュ模様の濃淡変化領域が少ない場合は，プリンタドライバ３２において，ユーザにテクスチャ模様を選択させまたは自動的にテクスチャ模様を選択し，第１のカモフラージュ模様に合成する。

第２のカモフラージュ模様であるテクスチャ模様は，多階調の模様データであり，その結果合成されたカモフラージュ模様は多階調になる。よって，第１のカモフラージュ模様が２階調の画像データであっても，合成されたカモフラージュ模様は多階調の画像データになるので，カモフラージュ模様付き地紋画像の原本において，本来の印刷画像の識別性低下を抑制することができる。

第２に，本実施の形態では，第２のカモフラージュ模様をユーザが任意に選択可能にしてもよい。その場合は，任意に選択された第２のカモフラージュ模様をより適切な模様にするために，プリンタドライバ３２が，明るさを低下させる処理，コントラストを向上させる処理，エッジ部分のコントラストを向上させる先鋭化処理などの調整処理を行う。このように第２のカモフラージュ模様を調整することで，合成カモフラージュ模様をより適切な模様にすることができる。調整された第２のカモフラージュ模様データや調整パラメータは，メモリに保存可能にされる。

第３に，第１，第２のカモフラージュ模様を合成する際は，ユーザはプリンタドライバにて予め登録された合成方法から適宜選択することができ，選択された合成方法によって合成されたカモフラージュ模様をプレビュー画面で確認できる。第１のカモフラージュ模様に多階調のテクスチャ模様などの第２のカモフラージュ模様を合成する際は，第１のカモフラージュ模様に，テクスチャ模様をタイル状に被うように合成する。これにより，合成カモフラージュ模様の濃淡変化領域が多くなり，原本における潜像の隠蔽性を高めることができる。

第４に，上記の第２のカモフラージュ模様の調整処理に変えて，または加えて，第２のカモフラージュ模様を縮小し，縮小した第２のカモフラージュ模様をタイル状に繰り返してより濃淡変化領域が多いテクスチャ模様を生成し，それを第２のカモフラージュ模様として使用してもよい。

図２２は，図１０の地紋生成工程での合成カモフラージュ模様の生成工程Ｓ１９のフローチャート図である。まず，プリンタドライバは，ユーザからの指示に応答して，ユーザによる任意の第１のカモフラージュ模様データを入力する（Ｓ４０）。たとえば，図２１に示されたカモフラージュ模様１１２のデータである。そして，プリンタドライバは，入力した第１のカモフラージュ模様データの濃淡変化領域の割合が基準値より多いか否か判断する（Ｓ４１）。たとえば，第１のカモフラージュ模様データのヒストグラムを取得し，特定の狭い濃度領域に多くの画素が集中しているなどを基準にして，濃淡変化領域の割合が基準値よりい多いか否かを判定する。濃淡変化領域の割合が多い場合は，その第１のカモフラージュ模様データがそのまま登録される。または，その第１のカモフラージュ模様データの明度を低下する処理や，コントラストの向上処理，エッジ部分のコントラストを向上する先鋭化処理などの調整を行って登録してもよい。

ユーザの第１のカモフラージュ模様データの濃淡変化領域の割合が基準値に達していない場合は（Ｓ４１のＹＥＳ），プリンタドライバは，ユーザに第２のカモフラージュ模様を合成すべきことを推奨してユーザに問い合わせる（Ｓ４２）。ユーザが推奨に合意した場合（Ｓ４２のＹＥＳ），プリンタドライバは，第２のカモフラージュ模様データを自動的に選択するか，またはユーザによる選択指示に応答して選択された第２のカモフラージュ模様データを入力する（Ｓ４３）。

第２のカモフラージュ模様データとしては，たとえば，あらかじめメモリに登録されているテクスチャデータから選択される。あらかじめメモリに登録されているテクスチャデータは，カモフラージュ模様として十分な濃淡変化領域を有する。しかし，第２のカモフラージュ模様データが，ユーザにより任意に取得された模様データの場合，十分な濃淡変化領域を有しない場合がある。そこで，プリンタドライバは，第２のカモフラージュ模様データとしてユーザにより任意に取得された模様データが選択された場合は，その模様データのヒストグラムを取得して，濃淡変化領域の割合が基準値を越えているか否かを判定する（Ｓ４４）。そして，基準値に達していない場合は（Ｓ４４のＮＯ），その第２のカモフラージュ模様データの調整を行う（Ｓ４５）。具体的な調整方法については後で詳述する。

この第２のカモフラージュ模様の調整工程に代えて，第２のカモフラージュ模様を縮小して濃淡変化領域の割合を増加し，その縮小した第２のカモフラージュ模様をタイル状に繰り返して調整された第２のカモフラージュ模様を生成してもよい。

最後に，プリンタドライバは，オリジナルのカモフラージュ模様データ（第１のカモフラージュ模様データ）に第２のカモフラージュ模様データを合成する（Ｓ４６）。この合成方法は，たとえば，プリンタドライバが，ユーザにあらかじめ登録されている複数の合成方法から選択させる，もしくは，推奨する合成方法にする。

図２３は，第２のカモフラージュ模様のうちあらかじめ登録されているテクスチャの例を示す図である。図中，（ａ）レンガ調テクスチャ，（ｂ）カンバス調テクスチャ，（ｃ）砂利調テクスチャ，（ｄ）麻布調テクスチャ，（ｅ）タイル調テクスチャが示されている。これらのテクスチャ模様はいずれも狭い領域内で階調値が頻繁に変化する多階調模様であり，濃淡変化領域が多い模様である。いずれのテクスチャデータも，たとえば，４３×４３ドットの比較的小さいテクスチャ画像を生成するデータである。

図２４は，地紋画像生成処理を説明する図である。図２４は，図１５に対応する図であり，図２４（Ｃ）と（Ｄ）に第１のカモフラージュ模様１２と第２のカモフラージュ模様であるテクスチャ模様１３との関係が示されている。この例では，第１のカモフラージュ模様データ１２は，２１５×２１５ドットの比較的大きな模様データであるのに対して，第２のカモフラージュ模様であるテクスチャ模様１３は，４３×４３ドットの比較的小さい模様データである。そして，テクスチャ模様１３は，第１のカモフラージュ模様１２に対してタイル状に繰り返し並べるようにして合成される。

図２５は，合成されたカモフラージュ模様の例を示す図である。図中，３つの合成方法，（ａ）乗算，（ｂ）オーバーレイ，（ｃ）ハードライトによる合成カモフラージュ模様が示されている。これらの３つの合成方法に対応する演算式は以下の通りである。

ここで，Ｃａｍは第１のカモフラージュ模様の階調値，Ｔｅｘはテクスチャ模様の階調値であり，Ｃａｍ’は合成後の階調値を示している。そして，これらの階調値はいずれもグレイ値であり，０≦Ｃａｍ’，Ｃａｍ，Ｔｅｘ≦２５５である。また，ｘ，ｙは各模様のｘ座標，ｙ座標である。

第１の合成方法の（ａ）乗算は，式（５）に示されるとおり，第１のカモフラージュ模様の階調値Ｃａｍとテクスチャ模様の階調値Ｔｅｘとを単純に乗算し，０〜２５５に正規化したものである。図２５（ａ）で示されるとおり，乗算により合成された模様は全体的に暗くなる。

第２の合成方法の（ｂ）オーバーレイは，式（６）に示されるとおり，第１のカモフラージュ模様の階調値Ｃａｍが「１２８」以上の場合（明るい場合）は，階調値ＣａｍとＴｅｘの加算値からそれらの乗算値を減じ，第１のカモフラージュ模様の階調値Ｃａｍが「１２８」未満の場合（暗い場合）は，階調値ＣａｍとＴｅｘの乗算値にする。したがって，（ｂ）オーバーレイにより合成された模様は，第１のカモフラージュ模様の明るい部分が強調され，暗い部分はより暗くなり，図２５（ｂ）に示されるとおり，第１のカモフラージュ模様のコントラストが上がり目立つようになる。

第３の合成方法の（ｃ）ハードライトは，式（７）に示されるとおり，テクスチャ模様の階調値Ｔｅｘが「１２８」以上の場合（明るい場合）は，階調値ＣａｍとＴｅｘの加算値からそれらの乗算値を減じ，テクスチャ模様の階調値Ｔｅｘが「１２８」未満の場合（暗い場合）は，階調値ＣａｍとＴｅｘの乗算値にする。したがって，（ｃ）ハードライトにより合成された模様は，テクスチャ模様の明るい部分が強調され，暗い部分はより暗くなり，図２５（ｃ）に示されるとおり，テクスチャ模様のコントラストが上がり目立つようになる。

図２６は，プリンタドライバによる地紋生成工程（図１０）におけるユーザインターフェース画面例を示す図である。この画面２５０は，地紋画像プレビュー領域２５１，地紋の文言設定領域２５２，そのファイル設定領域２５３，入力階調値設定領域２５４，地紋の色設定領域２５５，カモフラージュ模様追加ボタン２５６，ＯＫボタン２５７とを有する。カモフラージュ模様追加ボタン２５６がクリックされると，次のカモフラージュ模様を設定する画面に移る。

図２７は，プリンタドライバによる合成カモフラージュ模様の生成工程Ｓ１９のユーザインターフェース画面例を示す図である。この画面１３０は，第１のカモフラージュ模様を選択する領域１３２と，選択した第１のカモフラージュ模様のプレビュー領域１３３と，第２のカモフラージュ模様としてテクスチャ模様を選択する領域１３４と，合成方法を選択する領域１３５と，合成カモフラージュ模様のプレビュー領域１３６と，テクスチャ模様の調整ボタン１３７とを有する。ユーザは，選択した第１のカモフラージュ模様をプレビュー領域１３３で確認し，選択したテクスチャ模様と合成方法をプレビュー領域１３６で確認することができる。図２７の例では，ロゴ「ＥＰＳＯＮ」のカモフラージュ模様が選択され，テクスチャ模様としてレンガ調テクスチャが選択され，合成方法としてオーバーレイが選択されている。

図２８は，図２７の例により合成されたカモフラージュ模様を使用して形成された地紋画像を示す図である。原本の地紋画像２１６は，潜像の「複写」の文字に，合成されたカモフラージュ模様が背景模様として加えられている。合成カモフラージュ模様は，第１のカモフラージュ模様にテクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）を合成したことで濃淡変化領域が増加し，潜像「複写」のパターンを隠蔽する効果が上がっている。また，合成カモフラージュ模様は多階調の模様となり，そのコントラストが２階調の模様に比べると下がり，本来印刷される画像の識別性が損なわれない。また，合成カモフラージュ模様は，低階調領域（暗い領域）がより低階調（暗く）なっているので，地紋画像の複写物２２０では，潜像「複写」の潜像部のドットがより残り，背景部のドットが消失して，複写物の潜像の識別性が向上している。図２７は，図２１と比較すると，原本の隠蔽性が上がり，複写物の識別性も高いままとなっている。
［任意のテクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）］
本実施の形態では，第２のカモフラージュ模様であるテクスチャ模様を，あらかじめ登録された複数のテクスチャ模様から選択することに加えて，ユーザによる任意の模様を登録可能にする。これにより，合成カモフラージュ模様の見栄えの自由度や地紋原本における潜像の隠蔽性の効果を高めることができる。ただし，ユーザによる任意のテクスチャ模様を登録可能にしたことに伴い，本実施の形態では，プリンタドライバがテクスチャ模様または合成カモフラージュ模様の調整機能を有する。

テクスチャ模様は，２階調を越える多階調画像またはカラー画像である。そして，ユーザにより任意に取得されたテクスチャ模様は，カラー画像の場合は，前述の式（２）によりグレイ値（輝度の値）の画像に変換される。このグレイ画像を，地紋の色（ＣＭＫのいずれか）と同じ単色の地紋画像テクスチャ模様とする。

地紋に合成されるカモフラージュ模様は，適度に明度が低い（濃度が高い）ことが望まれる。理由は，合成カモフラージュ模様の明度が高い（濃度が低い）と，地紋原本の明度も高く（濃度が低く）なり，潜像部における網点ドットのサイズが小さくなり，複写時のドット再現性が低下して，複写物における潜像の識別性が低下するからである。さらに，明度を低くするだけでは，合成カモフラージュ模様の明度差が少なくなりコントラストが低下し，地紋画像において合成カモフラージュ模様が目立たなくなる。目立たなくなると，地紋原本における意匠性を損なうとともに，地紋原本の潜像の隠蔽性を高めることができなくなる。そこで，合成カモフラージュ模様のコントラストを高めることが必要になる。

合成カモフラージュ模様の明度を低下させコントラストを高めるためには，テクスチャ模様の明度を低下させコントラストを高めるか，合成カモフラージュ模様の明度を低下させコントラストを高めるかである。以下，テクスチャ模様を例にして，明度の低下とコントラストを構える調整処理について説明する。

プリンタドライバは，グレイ画像の多階調テクスチャ模様を，最適な合成カモフラージュ模様になるように，上記の調整機能を有する。このテクスチャ模様の調整機能は，（１）テクスチャ模様の明度が基準値より高い場合に明度を低下させる機能と，（２）テクスチャ模様の全体のコントラストを高める機能と，（３）テクスチャ模様のエッジ部分のコントラストを高める機能（または先鋭化機能，アンシャープ機能）とを有する。これらの調整機能はユーザによる調整パラメータの指定により選択される。

図２９は，明度の低下と全体のコントラストを高める機能を説明する図である。上記の（１）の機能と（２）の機能の説明である。第１のテクスチャ模様の調整方法は，上記の（１）の明度低下処理と，（２）の全体のコントラスト向上処理とからなる。すなわち，テクスチャ模様の調整として，以下の式（９）によりコントラスト補正を行い，さらに式（８）により明度低下補正を行う。

図２９（ａ）は，式（８）の明度低下補正テーブルを示し，図２９（ｂ）は，式（９）のコントラスト補正テーブルを示す。いずれも，横軸が入力グレイ階調値Gray（前述のグレイ階調値Ａと等価），縦軸が変換後の出力グレイ階調値Grayである。上記の式（９）において，グレイ階調値Grayに対して，コントラストパラメータＣ（０≦Ｃ≦５０）により定義されるコントラスト指数ｆａ，変曲点ｘ１，ｘ２に基づき，高いグレイ階調値はより高く，低いグレイ階調値はより低く補正される。コントラストパラメータＣ＝５０では最も強くコントラスト補正が行われ，コントラストパラメータＣが大きいほどより強くコントラストが補正される。また，コントラストパラメータＣ＝０では，入力と出力とがリニアな関係になり，コントラスト補正は行われない。式（９）によれば，入力グレイ階調値Grayが０〜ｘ１では３次曲線により階調値変換が行われ，グレイ階調値Grayがｘ１〜ｘ２では傾きｆａの一次直線により階調値変換が行われ，グレイ階調値Grayがｘ２〜２５５では３次曲線により階調値変換が行われる。

式（９）によりコントラスト調整された階調値Gray_Cが，式（８）により明度低下調整され，コントラスト調整と明度調整された階調値Gray_Vが求められる。明度パラメータＶ＝１００の時は明度低下補正されず，明度パラメータＶが小さいほど明度がより低く補正され，明度パラメータＶ＝４０で４０％に明度が補正される。

図２９（ｃ）は，コントラストパラメータＣと明度パラメータＶとをある値に設定した場合の，コントラスト補正と明度低下補正を同時に行う合成階調変換テーブルを示す。図中，Ｃ＝１０，Ｖ＝８０の場合の変換テーブルと，Ｃ＝３０，Ｖ＝５５の場合の変換テーブルとが示されている。Ｃ＝０にすることでコントラスト補正なしに，Ｖ＝０にすることで明度低下補正なしに，それぞれ設定することができる。

図３０は，全体のコントラスト補正と明度補正を行ったテクスチャ模様と，合成カモフラージュ模様とそれを使用した地紋画像とを示す図である。この例では，調整されたテクスチャ模様３３０は，レンガ調テクスチャ模様データを，図２９（ｃ）のＣ＝３０，Ｖ＝５５の合成階調変換テーブルで階調変換して調整したものである。このテクスチャ模様３３０は，全体に明度が低く補正され，全体のコントラストが強められている。その結果，合成カモフラージュ模様３３２が，図２１の第１のカモフラージュ模様１１２と調整されたテクスチャ模様３３０とをオーバーレイにより合成して生成されている。この合成カモフラージュ模様３３２も，明度が低く，コントラストが強くなっている。

この合成カモフラージュ模様３３２のグレイ階調値Gray_Vを階調値Ｋ（＝２５５−Gray_V）に反転し，階調値Ｋを地紋画像の入力階調値Ｉｎ＝２５５で補正（Ｋｉ＝（Ｋ／２５５）×Ｉｎ）し，補正した階調値Ｋｉを図８，９の背景部，潜像部ディザマトリクス３４，３３の閾値と比較して原本の地紋画像３１６を生成している。

地紋原本３１６は，合成カモフラージュ模様３３２のコントラストが強められているので，全体に暗くても識別性があり，地紋原本３１６における潜像の隠蔽性が高められており，意匠性も優れている。さらに，合成カモフラージュ模様３３２の明度が全体的に低く補正されているので，地紋原本において潜像部により大きなドットが形成される。そのため，複写時の濃度変化が潜像部と背景部とでより大きく異なり，地紋複写物３２０での潜像「複写」の識別性が高くなっている。

次に，テクスチャ模様の第２の調整方法では，上記の（１）明度低下の処理と，（３）テクスチャ模様のエッジ部分のコントラストを高める処理（または先鋭化機能，アンシャープ機能）とを行う。

図３１は，テクスチャ模様のエッジ部分のコントラストを高める機能を説明する図である。上記の（３）の機能を説明する図である。第１の調整方法において，テクスチャ模様全体のコントラスト補正は，処理は簡単ではあるが，一様なコントラスト補正により明るい領域と暗い領域とで階調数が少なくなり，逆にコントラストを損なってしまう領域が発生する。そこで，第２の調整方法では，（３）の機能により画像の特徴部分であるエッジ部分の明暗コントラストを強調することで，カモフラージュ模様をより適切に調整することができる。

すなわち，人間の目は，画像の明度が大きく変化するエッジ部分に対して感度が高く，明度の変化が平坦な部分に対しては感度が低い特性を持っている。そこで，多階調のテクスチャ模様についてエッジ部分のコントラストを強調すると，人間の目には地紋原本の合成カモフラージュ模様のコントラストが高く見えて地紋原本における潜像の隠蔽性を高めることができる。さらに，テクスチャ模様のエッジ部分を強調することは，テクスチャ模様の特徴をより忠実に再現することになるので，意匠性向上にもつながる。

具体的には，グレイのテクスチャ模様のある注目画素について，注目画素が周囲の領域に対してどの程度異なっているかを検出し，その差分を強調することで，エッジ領域を強調，すなわち先鋭化する。この先鋭化の演算式は，以下のとおりである。

式（１０）によれば，図３１（ａ）に示したとおり，明度低下補正を行った階調値Gray_Vについて，注目画素Gray_V(i,j)の階調値と，その周囲の７×７の画素の階調値の平均meanとの差分を求め，それを強調パラメータSTRENGTHに従って強調（乗算）し，元の階調値Gray_V(i,j)に加算する。また，上記の式（１１）は平均値を求める式である。これらの演算により，図３１（ｂ）に示したとおり，エッジ部分において，エッジ両側の低い階調値の画素はより低い階調値に，高い階調値の画素はより高い階調値に変換され，エッジの明暗コントラストが強調される。図３１（ｂ）の横軸は画像のｘ，ｙ方向を，縦軸は画像の明度をそれぞれ示している。

上記の演算式において，周囲の領域の大きさを示すパラメータAREAを大きくすることで，エッジの周りの領域をぼかすことができ，強調パラメータSTRENGTHを大きくしなくても自然に先鋭化を実現できる。なお，地紋画像形成で使用されるスクリーン線数は比較的低いので解像度が低く，パラメータAREAを大きくしてエッジの周囲の領域がぼけたとしても地紋画像の画質低下にはならない。

なお，上記の先鋭化処理は，アンシャープ処理とも称されている。例えば，「おはなし カラー画像処理」ＣＱ出版社，洪博哲著には，アンシャープマスキングについて詳述されている。

図３２は，エッジ部分のコントラスト強調（先鋭化）と明度補正を行ったテクスチャ模様，合成カモフラージュ模様とそれを使用した地紋画像とを示す図である。この例では，レンガ調テクスチャ模様を，図２９のＶ＝６０，Ｃ＝０の合成階調変換テーブルで明度低下処理を行い，式（１０）で先鋭化処理を行って，調整されたテクスチャ網用４３０を生成している。そして，図２１のカモフラージュ模様１１２と合成した合成カモフラージュ模様４３２を生成し，カモフラージュ模様付き地紋画像４１６とその複写地紋画像４２０とを生成している。すなわち，テクスチャ模様データは，グレイ階調値Grayに変換され，Ｃ＝０，Ｖ＝６０の合成階調変換テーブルで階調値変換され（Gray_V），ＡＲＥＡ＝２５，ＳＴＲＥＮＧＴＨ＝２で先鋭化処理（エッジ部分のコントラスト強調処理）され，調整されたテクスチャ模様４３０が生成されている。このテクスチャ模様４３０は，全体に明度が低く補正され，且つエッジ部分のみコントラストが強められている。

テクスチャ模様４３０と第１のカモフラージュ模様とがオーバーレイにより合成され，合成カモフラージュ模様４３２のグレイ階調値Gray_Vを階調値Ｋ（＝２５５−Gray_V）に反転し，階調値Ｋを地紋画像の入力階調値Ｉｎ＝２５５で補正（Ｋｉ＝（Gray_V／２５５）×Ｉｎ）し，補正した階調値Ｋｉを図８，９の背景部，潜像部ディザマトリクス３４，３３の閾値と比較して原本の地紋画像４１６を生成している。

図３２の地紋原本４１６では，図３０と比較すると低階調領域および高階調領域での階調のつぶれ（階調数の低下）がなく意匠性が優れており，テクスチャ模様のエッジ部分が強調されているので地紋原本４１６の潜像の隠蔽性が向上している。さらに，明度を低下させているので，地紋の複写物４２０では潜像の識別性が高くなっている。よって，総合的には，図３２は，図３０よりも優れた地紋画質を提供することができる。

上記の，（１）明度低下補正に加えて，（２）全体のコントラストを強調する補正，または（３）エッジ部分のコントラストを強調する補正のいずれかを選択することが望ましい。たとえば，多階調のテクスチャ模様と第１のカモフラージュ模様とを合成した際に先鋭化処理によりコントラストが強すぎて第１のカモフラージュ模様原本の忠実性が損なわれる場合は，（２）全体のコントラスト補正を採用するのがよい。逆に第１のカモフラージュ模様原本の忠実性が損なわれない場合は，（３）先鋭化処理を採用するのがよい。
［テクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）の調整工程］
テクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）の調整は，ユーザによりテクスチャ模様を登録する際に自動的に行ってもよく，ユーザにより手動で行っても良い。そして，いずれの場合でも，テクスチャ模様の登録時だけでなく，登録後いつでもユーザにより調整可能にしておけば，地紋画質をユーザの好みに応じて調整することができ，ユーザの利便性が上がる。

図３３は，図２２のテクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）の自動調整工程のフローチャート図である。テクスチャ模様を登録する際に，プリンタドライバは，図３２の自動調整工程を実行する。まず，ユーザの指定に応答して，プリンタドライバは，テクスチャ模様データ（第２のカモフラージュ模様データ）を入力する（Ｓ５０）。テクスチャ模様データは，２階調を越える多階調の画像データかカラー画像データのいずれかである。テクスチャ模様データがカラーデータの場合は（Ｓ５１），プリンタドライバは，テクスチャ模様データをグレイデータに変換し（Ｓ５２），それをメモリに保存する（Ｓ５３）。

そして，プリンタドライバは，保存したグレイデータが明るいか否かを，グレイデータの平均階調値が高い（たとえば最大階調値の２５％以上）か否かを判定し（Ｓ５４），高ければ（明るければ）Ｖ＝４０，Ｃ＝０に設定し（Ｓ５５），低ければ（暗ければ）Ｖ＝１００，Ｃ＝０に設定し（Ｓ５６），合成変換テーブルにしたがってグレイデータを階調値変換する。Ｖ＝４０，Ｃ＝０に設定した場合は，明度低下処理が行われ全体のコントラスト補正は行われず，Ｖ＝１００，Ｃ＝０に設定した場合は，明度低下処理も全体のコントラスト補正も行われない。

次に，プリンタドライバは，ＡＲＥＡ＝２０，ＳＴＲＥＮＧＴＨ＝２に設定し（Ｓ５８），階調変換されたグレイデータを先鋭化処理する（Ｓ５９）。これにより，明度が適切な低いレベルにあるグレイ画像のエッジ部分のコントラストが強調される。最後に，プリンタドライバは，上記Ｖ，Ｃ，ＡＲＥＡ，ＳＴＲＥＮＧＴＨの調整パラメータを保存するか，もしくは調整されたテクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）データをメモリに保存する（Ｓ６０）。

以上の通り，テクスチャ模様の自動調整工程では，明度低下処理と先鋭化処理とをあらかじめ設定した調整パラメータにしたがって行う。

なお，合成カモフラージュ模様について自動調整を行う場合は，合成カモフラージュ模様が人物を含むなどの自然画像の場合は，明度低下処理と全体のコントラスト向上処理とを行い，グラフィック画像の場合は，明度低下処理と先鋭化処理とを行うのが望ましい。

図３４は，図２２のテクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）のマニュアル調整工程のインターフェース画面の図である。図３４のインターフェース画面は，図２７のインターフェース画面のさらに下位の画面であり，図２７の「テクスチャ模様の調整」ボタン１３７をクリックするとこの画面に遷移する。

テクスチャ模様のマニュアル調整画面１５０は，テクスチャ模様データを選択する領域１５２と，選択したテクスチャ模様のプレビュー領域１５３と，明度パラメータＶとコントラストパラメータＣとを設定する領域１５４と，先鋭化処理のパラメータであるＡＲＥＡ（範囲）とＳＴＲＥＮＧＴＨ（強度）を設定する領域１５５と，調整されたテクスチャ模様のプレビュー領域１５６とを有する。ユーザは，領域１５２でテクスチャ模様を選択し，プレビュー領域１５３，１５６を見ながら，領域１５４，１５５で調整パラメータを適宜選択し決定することができる。そして，「ＯＫ」ボタンをクリックすることで，調整パラメータが保存される。

以上のテクスチャ模様の調整工程が終わると，第１のカモフラージュ模様との合成模様が図２６の領域１３６に表示される。さらに，図示しない地紋設定画面において，合成カモフラージュ模様が反映された地紋画像が表示される。テクスチャ模様または合成カモフラージュ模様は，明度とコントラストが調整されているので，ユーザが任意に取得した第１のカモフラージュ模様と第２のカモフラージュ模様（テクスチャ模様）であっても，地紋の原本のカモフラージュ模様による意匠性を高め，地紋の原本の隠蔽性を高め，地紋の原本の本来の印刷画像の認識性の低下を抑制し，地紋の複写物の識別性を高めることができる。

地紋の潜像とカモフラージュ模様の例を示す図である。 地紋の原本の例を示す図である。 地紋の複写物の例を示す図である。 図２の原本の拡大図と図３の複写物の拡大図とを更に拡大した図である。 本実施の形態における地紋画像形成装置を含む印刷システムの構成を示す図である。 本実施の形態における地紋データの生成手順を示すフローチャート図である。 地紋の背景部ＢＩと潜像部ＬＩの画像を生成するためのディザマトリクスの入出力特性の例を示す図である。 背景部ディザマトリクス３４を示す図である。 潜像部ディザマトリクス３３を示す図である。 本実施の形態における地紋画像データの生成方法を示すフローチャート図である。 地紋効果の例を示す図である。 地紋の配置の例を示す図である。 カモフラージュ模様の一例とそれを採用した地紋画像の例を示す図である。 本実施の形態における地紋画像生成処理のフローチャート図である。 図１４の地紋画像生成処理を説明する図である。 潜像マスクパターンの一例を示す図である。 カモフラージュ模様の一例を示す図である。 補正合成カモフラージュ模様階調値の一例を示す図である。 カモフラージュ模様付き地紋画像の一例を示す図である。 ２階調のカモフラージュ模様の場合の地紋画像の一例を示す。 任意のカモフラージュ模様を採用したときの不適切な地紋画像を示す図である。 図１０の地紋生成工程での合成カモフラージュ模様の生成工程のフローチャート図である。 第２のカモフラージュ模様のうちあらかじめ登録されているテクスチャの例を示す図である。 地紋画像生成処理を説明する図である。 合成されたカモフラージュ模様の例を示す図である。 プリンタドライバによる地紋生成工程（図１０）におけるユーザインターフェース画面例を示す図である。 プリンタドライバによる合成カモフラージュ模様の生成工程Ｓ１９のユーザインターフェース画面例を示す図である。 図２７の例により合成されたカモフラージュ模様を使用して形成された地紋画像を示す図である。 明度の低下と全体のコントラストを高める機能を説明する図である。 全体のコントラスト補正と明度補正を行ったテクスチャ模様と，合成カモフラージュ模様とそれを使用した地紋画像とを示す図である。 テクスチャ模様のエッジ部分のコントラストを高める機能を説明する図である。 エッジ部分のコントラスト強調（先鋭化）と明度補正を行ったテクスチャ模様，合成カモフラージュ模様とそれを使用した地紋画像とを示す図である。 図２２のテクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）の自動調整工程のフローチャート図である。 図２２のテクスチャ模様（第２のカモフラージュ模様）のマニュアル調整工程のインターフェース画面の図である。

符号の説明

１６：原本 ２０：複写物
ＬＩ：潜像部 ＢＩ：背景部
１６Ｘ：原本の拡大画像 ２０Ｘ：複写物の拡大画像
３３：潜像部ディザマトリクス ３４：背景部ディザマトリクス

Claims (12)

1. 複写時に再現される出力濃度が異なる潜像部と背景部とで構成される地紋画像データを生成する地紋画像生成工程をコンピュータに実行させる地紋画像生成プログラムにおいて，
   前記地紋画像生成工程は，
   第１のカモフラージュ模様データを入力し，当該第１のカモフラージュ模様データに濃淡変化領域が前記第１のカモフラージュ模様データより多い第２のカモフラージュ模様データを合成して合成カモフラージュ模様データを生成するカモフラージュ模様合成工程と，
   前記合成カモフラージュ模様データの階調値について，前記潜像部に対応する領域では潜像部スクリーンに基づいて潜像部画像データを生成し，前記背景部に対応する領域では背景部スクリーンに基づいて背景部画像データを生成する地紋画像データ生成工程とを有することを特徴とするコンピュータ読み取り可能な地紋画像生成プログラム。
2. 請求項１において，
   前記カモフラージュ模様合成工程は，さらに，前記第２のカモフラージュ模様データの階調値を調整前より低い明度に調整して調整された第２のカモフラージュ模様データを生成する調整工程を有し，当該調整された第２のカモフラージュ模様データを前記第１のカモフラージュ模様データに合成することを特徴とする地紋画像生成プログラム。
3. 請求項２において，
   前記調整工程では，さらに前記第２のカモフラージュ模様データの階調値について，当該階調値の明暗コントラストを強調するコントラスト強調処理を行うことを特徴とする地紋画像生成プログラム。
4. 請求項２において，
   前記調整工程では，さらに前記第２のカモフラージュ模様データの階調値について，当該第２のカモフラージュ模様のエッジ部分の階調値の明暗コントラストを強調する先鋭化処理を行うことを特徴とする地紋画像生成プログラム。
5. 請求項２，３，４のいずれかにおいて，
   さらに，前記調整工程の後に，前記調整された第２のカモフラージュ模様データをメモリに記憶する調整カモフラージュ模様登録工程を有することを特徴とする地紋画像生成プログラム。
6. 請求項２，３，４のいずれかにおいて，
   さらに，前記調整工程の後に，前記調整工程の調整に使用した調整パラメータをメモリに記憶する調整パラメータ登録工程を有することを特徴とする地紋画像生成プログラム。
7. 請求項１において，
   前記カモフラージュ模様合成工程は，さらに，前記合成カモフラージュ模様データの階調値を調整前より低い明度に調整して調整された合成カモフラージュ模様データを生成する調整工程を有し，
   前記地紋画像データ生成工程では，前記調整された合成カモフラージュ模様データを前記合成カモフラージュ模様データとすることを特徴とする地紋画像生成プログラム。
8. 請求項１において，
   前記カモフラージュ模様合成工程は，前記合成カモフラージュ模様の濃度を前記第１のカモフラージュ模様より低くする，または前記合成カモフラージュ模様のコントラストを前記第１のカモフラージュ模様より高める，の少なくともいずれか一方を達成する合成演算を行うことを特徴とする地紋画像生成プログラム。
9. 請求項１において，
   前記第２のカモフラージュ模様データは，２階調を越える多階調の画像データであることを特徴とする地紋画像生成プログラム。
10. 請求項１において，
    前記カモフラージュ模様合成工程は，さらに，前記第２のカモフラージュ模様を縮小して繰り返し配置した修正第２のカモフラージュ模様データを生成し，当該修正第２のカモフラージュ模様データを前記第１のカモフラージュ模様データに合成することを特徴とする地紋画像生成プログラム。
11. 複写時に再現される出力濃度が異なる潜像部と背景部とで構成される地紋画像データを生成する地紋画像生成装置において，
    第１のカモフラージュ模様データを入力し，当該第１の多階調カモフラージュ模様データに濃淡変化領域が前記第１のカモフラージュ模様データより多い第２のカモフラージュ模様データを合成して合成カモフラージュ模様データを生成するカモフラージュ模様合成手段と，
    前記合成カモフラージュ模様データの階調値について，前記潜像部に対応する領域では潜像部スクリーンに基づいて潜像部画像データを生成し，前記背景部に対応する領域では背景部スクリーンに基づいて背景部画像データを生成する地紋画像データ生成手段とを有することを特徴とする地紋画像生成装置。
12. 請求項１１において，
    前記カモフラージュ模様合成手段は，さらに，前記第２のカモフラージュ模様データの階調値を調整前より低い明度に調整して調整された第２のカモフラージュ模様データを生成し，当該調整された第２のカモフラージュ模様データを前記第１のカモフラージュ模様データに合成することを特徴とする地紋画像生成装置。