JP5069987B2 - Liquid crystal substrate processing method - Google Patents
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Description
本発明は、液晶基板を所望の厚さに加工する液晶基板の加工方法に関するものである。 The present invention relates to a liquid crystal substrate processing method for processing a liquid crystal substrate to a desired thickness.
液晶デバイスは、2枚のガラス板の間に液晶が注入され、シール材によって封止された構成となっており、複数の液晶デバイスが短冊状に連接されて構成される液晶基板が切断されることにより個々の液晶デバイスが形成され、各種電子機器に搭載される(例えば特許文献1参照)。 The liquid crystal device has a configuration in which liquid crystal is injected between two glass plates and sealed with a sealing material, and a liquid crystal substrate formed by connecting a plurality of liquid crystal devices in a strip shape is cut. Individual liquid crystal devices are formed and mounted on various electronic devices (for example, see Patent Document 1).
しかし、現状では、液晶デバイスの総厚が1.4mm程と厚いために、このことが、液晶デバイスを搭載した携帯電話機、ビデオカメラ等の各種電子機器の小型化、薄型化、軽量化を阻害する要因となっている。 However, at present, the total thickness of the liquid crystal device is as thick as about 1.4 mm, which prevents the downsizing, thinning, and weight reduction of various electronic devices such as mobile phones and video cameras equipped with the liquid crystal device. Is a factor.
一方、液晶デバイスを構成するガラス板を予め薄く、例えば200μm程に形成しておけば、完成後の液晶デバイスの総厚を0.4mm程度と薄くすることができるが、薄くなったガラス板で液晶基板を形成すると、組み立ての過程でガラス板が破損しやすく、実際には困難である。 On the other hand, if the glass plate constituting the liquid crystal device is thin in advance, for example, about 200 μm, the total thickness of the liquid crystal device after completion can be reduced to about 0.4 mm. When the liquid crystal substrate is formed, the glass plate is easily broken during the assembly process, which is actually difficult.
そこで、本発明が解決しようとする課題は、総厚のより薄い液晶デバイスの製造を可能とすることである。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is to enable the production of a liquid crystal device having a thinner total thickness.
本発明は、第一のガラス板と第二のガラス板との間に液晶が封入された液晶デバイスが分割予定ラインによって区画されて複数形成され短辺と長辺とを有する短冊状の液晶基板を所定の厚さに加工する液晶基板の加工方法に関するもので、液晶基板を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持された液晶基板を研削する回転可能な研削砥石を備えた研削手段と、研削手段のチャックテーブルに対する接近及びチャックテーブルからの離反を制御する研削送り手段と、液晶基板を研磨する回転可能な研磨砥石を備えた研磨手段と、研磨手段のチャックテーブルに対する接近及びチャックテーブルからの離反を制御する研磨送り手段と、チャックテーブルを研削砥石及び研磨砥石の回転軸に対して直交する方向に移動させるチャックテーブル駆動手段とを有する加工装置を用い、チャックテーブルにおいて第一のガラス板が露出すると共に長辺がチャックテーブルの移動方向と平行になるように液晶基板を保持し、研削送り手段による制御によって研削砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に研削砥石を回転させ、チャックテーブル駆動手段による制御の下でチャックテーブルを移動させて研削砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより第一のガラス板の表面を研削する第一の研削工程と、チャックテーブルにおいて第二のガラス板が露出すると共に長辺がチャックテーブルの移動方向と平行になるように液晶基板を保持し、研削送り手段による制御によって研削砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に研削砥石を回転させ、チャックテーブル駆動手段による制御の下でチャックテーブルを移動させて研削砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより第二のガラス板の表面を研削する第二の研削工程と、チャックテーブルにおいて研削済みの第一のガラス板が露出すると共に長辺がチャックテーブルの移動方向と平行になるように液晶基板を保持し、研磨送り手段による制御によって研磨砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に研磨砥石を回転させ、チャックテーブル駆動手段による制御の下でチャックテーブルを移動させて研磨砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより第一のガラス板の表面を研磨する第一の研磨工程と、チャックテーブルにおいて研削済みの第二のガラス板が露出すると共に長辺がチャックテーブルの移動方向と平行になるように液晶基板を保持し、研磨送り手段による制御によって研磨砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に研磨砥石を回転させ、チャックテーブル駆動手段による制御の下でチャックテーブルを移動させて研磨砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより第二のガラス板の表面を研磨する第二の研磨工程とから少なくとも構成される。 The present invention relates to a strip-shaped liquid crystal substrate having a short side and a long side, in which a liquid crystal device in which liquid crystal is sealed between a first glass plate and a second glass plate is partitioned and formed by dividing lines. The present invention relates to a processing method of a liquid crystal substrate that processes a liquid crystal substrate to a predetermined thickness, a grinding table having a chuck table for holding the liquid crystal substrate, a rotatable grinding wheel for grinding the liquid crystal substrate held by the chuck table, and grinding Grinding feed means for controlling the approach of the means to the chuck table and the separation from the chuck table, a polishing means having a rotatable grinding wheel for polishing the liquid crystal substrate, and the approach of the polishing means to the chuck table and the separation from the chuck table And a chuck for moving the chuck table in a direction perpendicular to the grinding wheel and the rotation axis of the polishing wheel A processing apparatus having a table driving means is used to hold the liquid crystal substrate so that the first glass plate is exposed at the chuck table and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table, and grinding is performed under the control of the grinding feed means. The grindstone is positioned at a predetermined cutting position, the grinding wheel is rotated, the chuck table is moved under the control of the chuck table driving means, and the grindstone is operated from one short side to the other short side by creep feed. A first grinding process for grinding the surface of the first glass plate, and holding and grinding the liquid crystal substrate so that the second glass plate is exposed at the chuck table and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table. The grinding wheel is positioned at a predetermined cutting position by the control by the feeding means, and the grinding wheel is rotated to A second grinding step of grinding the surface of the second glass plate by creep feed by moving the chuck table under the control of the rock table driving means and causing the grinding wheel to act from one short side to the other short side; The liquid crystal substrate is held so that the ground first glass plate is exposed on the chuck table and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table, and the polishing grindstone is positioned at a predetermined cutting position by control by the polishing feed means. The polishing wheel is rotated and the chuck table is moved under the control of the chuck table driving means so that the polishing wheel acts from one short side to the other short side, and the surface of the first glass plate is made by creep feed. The first polishing step to polish and the second glass plate ground on the chuck table are exposed and the long side is The liquid crystal substrate is held so as to be parallel to the moving direction of the chuck table, and the polishing grindstone is positioned at a predetermined cutting position by the control of the polishing feed means, and the polishing grindstone is rotated, and the chuck is controlled under the control of the chuck table driving means. It comprises at least a second polishing step in which the table is moved so that the polishing grindstone acts from one short side to the other short side and the surface of the second glass plate is polished by creep feed.
前記研削手段は、第一の研削工程で使用した研削砥石より粒径が小さい砥粒によって構成された研削砥石を備え、第一の研削工程と第一の研磨工程との間で、チャックテーブルにおいて第一の研削工程終了後の第一のガラス板が露出すると共に長辺がチャックテーブルの移動方向と平行になるように液晶基板を保持し、研削送り手段による制御によって研削砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に研削砥石を回転させ、チャックテーブル駆動手段による制御の下でチャックテーブルを移動させて研削砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより第一のガラス板の表面を研削する第三の研削工程を実施し、該研削手段は、第二の研削工程で使用した研削砥石より粒径が小さい砥粒によって構成された研削砥石を備え、第二の研削工程と第二の研磨工程との間で、チャックテーブルにおいて第二の研削工程終了後の第二のガラス板が露出すると共に長辺がチャックテーブルの移動方向と平行になるように液晶基板を保持し、研削送り手段による制御によって研削砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に研削砥石を回転させ、チャックテーブル駆動手段による制御の下でチャックテーブルを移動させて研削砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより第二のガラス板の表面を研削する第四の研削工程を実施するようにしてもよい。また、研削送り手段による制御によって、研削砥石を複数の切り込み位置に段階的に位置させて第一の研削工程を複数回実施し、研削送り手段による制御によって、研削砥石を複数の切り込み位置に段階的に位置させて第二の研削工程を複数回実施するようにしてもよい。更に、研削送り手段による制御によって、研削砥石を複数の切り込み位置に段階的に位置させて第三の研削工程を複数回実施し、研削送り手段による制御によって、研削砥石を複数の切り込み位置に段階的に位置させて第四の研削工程を複数回実施するようにしてもよい。 The grinding means includes a grinding wheel composed of abrasive grains having a particle size smaller than that of the grinding wheel used in the first grinding process, and between the first grinding process and the first polishing process, The liquid crystal substrate is held such that the first glass plate after the first grinding process is exposed and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table, and the grinding wheel is controlled at a predetermined cutting position by control by the grinding feed means. And the grinding wheel is rotated, and the chuck table is moved under the control of the chuck table driving means so that the grinding wheel acts from one short side to the other short side, and creep feed feeds the first glass plate. performing a third grinding step of grinding the surface, the grinding means, the grinding wheel constituted by abrasive particle size than the grinding wheel is less used in the second grinding step And the second glass plate after the second grinding step is exposed at the chuck table and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table between the second grinding step and the second polishing step. In this way, the liquid crystal substrate is held, and the grinding wheel is positioned at a predetermined cutting position by the control of the grinding feed means, and the grinding wheel is rotated, and the chuck table is moved under the control of the chuck table driving means to You may make it implement the 4th grinding process which is made to act from the short side of this to the other short side, and grinds the surface of the 2nd glass plate by creep feed. In addition, the grinding wheel is positioned at a plurality of cutting positions stepwise by the control by the grinding feed means, and the first grinding process is performed a plurality of times. The grinding wheel is controlled at the plurality of cutting positions by the control by the grinding feed means. The second grinding step may be performed a plurality of times. Furthermore, the grinding wheel is positioned at a plurality of cutting positions stepwise by the control by the grinding feed means, and the third grinding process is performed a plurality of times. The grinding wheel is controlled at the plurality of cutting positions by the control by the grinding feed means. The fourth grinding step may be performed a plurality of times.
第一の研削工程の前には、第一のガラス板の分割予定ラインを完全切断すると共に第二のガラス板の仕上がり厚さに相当する深さの切削溝を第二のガラス板に形成する先ダイシング工程が実施されることがある。また、第二のガラス板の第一のガラス板に対面する側に電極が形成されており、第一のガラス板のうち電極に対面する部分を除去して電極を露出させる電極露出工程が含まれることもある。電極露出工程は、第二の研磨工程の後に実施されることが望ましい。 Prior to the first grinding step, the line to be divided of the first glass plate is completely cut and a cutting groove having a depth corresponding to the finished thickness of the second glass plate is formed in the second glass plate. A pre-dicing process may be performed. Moreover, the electrode is formed in the side facing the 1st glass plate of a 2nd glass plate, The electrode exposure process of removing the part which faces an electrode among 1st glass plates and exposing an electrode is included. Sometimes. The electrode exposure process is desirably performed after the second polishing process.
本発明では、短冊状に形成された液晶基板をクリープフィードによって研削して所定の厚さにすると共に研削面を研磨することで、液晶基板に対して水平方向に研削砥石及び研磨砥石を作用させるため、液晶基板に垂直方向の応力が加わりにくく、液晶基板の破損を防止することができる。また、短冊状の液晶基板の短辺から長辺方向にクリープフィードしていくことで、研削砥石及び研磨砥石を大径化することなく研削及び研磨を行うことが可能となる。 In the present invention, the liquid crystal substrate formed in a strip shape is ground by creep feed to have a predetermined thickness and the ground surface is polished, so that the grinding wheel and the polishing wheel are applied to the liquid crystal substrate in the horizontal direction. Therefore, stress in the vertical direction is hardly applied to the liquid crystal substrate, and the liquid crystal substrate can be prevented from being damaged. Further, by performing creep feed from the short side to the long side of the strip-shaped liquid crystal substrate, it is possible to perform grinding and polishing without increasing the diameter of the grinding wheel and the polishing wheel.
図1に示す液晶基板1は、第一のガラス板10と第二のガラス板11との間に液晶が封入され液晶の回りがシール部12よってシールされた液晶デバイスDが分割予定ラインSによって区画されて複数形成されたものであり、短辺13a、13bと長辺14とを有する短冊状に形成されている。
In the liquid crystal substrate 1 shown in FIG. 1, a liquid crystal device D in which liquid crystal is sealed between a
液晶基板1は、例えば図2に示す加工装置2において所定の厚さに形成される。この加工装置2は、液晶基板1を保持するチャックテーブル3と、液晶基板1を粗研削する第一の研削手段4と、粗研削された液晶基板1を仕上げ研削する第二の研削手段5と、仕上げ研削された液晶基板1を鏡面加工する研磨手段6とを備えている。なお、第一の研削手段4、第二の研削手段5及び研磨手段6は、それぞれが別個の装置に設けられていてもよい。
The liquid crystal substrate 1 is formed to have a predetermined thickness, for example, in the
チャックテーブル3は、チャックテーブル駆動手段30によって駆動されてX軸方向に移動する構成となっている。このチャックテーブル駆動手段30は、X軸方向の軸心を有するボールネジ300と、ボールネジ300に平行に配設された一対のガイドレール301と、ボールネジ300の一端に連結されボールネジ300を回動させるパルスモータ302と、図示しない内部のナットがボールネジ300に螺合すると共に下部がガイドレール301に摺接しチャックテーブル3に連結されたスライド部303とから構成され、モータ302に駆動されてボールネジ300が正逆両方向に回動するのに伴い、スライド部303がガイドレール301上をX軸の+X方向及び−X方向に摺動し、これに伴いチャックテーブル3も両方向に移動する構成となっている。
The chuck table 3 is driven by the chuck table driving means 30 and moves in the X-axis direction. The chuck table driving means 30 includes a
第一の研削手段4は、Z軸方向(垂直方向)の軸心を有するスピンドル40と、スピンドル40を回転可能に支持するハウジング41と、スピンドル40を回転させるモータ42と、スピンドル40の下端に形成されたホイールマウント43と、ホイールマウント43に固定されるホイール44とから構成され、ホイール44の下面には研削砥石45がリング状に固着されており、モータ42に駆動されてスピンドル40が回転するのに伴い研削砥石45も円軌道を描いて回転する構成となっている。研削砥石45は、比較的粒径の大きい砥粒をボンド剤で固めた構成となっており、例えば、粒径が50μm前後のダイヤモンド砥粒をレジノイドボンドで固定したものを使用することができる。また、研削砥石45の回転軌跡の直径は、液晶基板1の短辺13a、13bよりも長くなっている。
The first grinding means 4 includes a
第二の研削手段5は、研削砥石55以外は第一の研削手段4と同様に構成されるため、研削砥石55以外の部位には第一の研削手段4と同一の符号を付し、その説明は省略することとする。研削砥石55は、第一の研削手段4を構成する研削砥石45よりも粒径が小さい砥粒をボンド剤で固めた構成となっており、例えば、粒径が2μm前後のダイヤモンド砥粒をレジノイドボンドで固定したものを使用することができる。また、研削砥石55の回転軌跡の直径は、液晶基板1の短辺13a、13bよりも長くなっている。
Since the second grinding means 5 is configured in the same manner as the first grinding means 4 except for the
研磨手段6は、研磨砥石65以外は第一の研削手段4及び第二の研削手段5と同様に構成されるため、研削砥石65以外の部位には第一の研削手段4及び第二の研削手段5と同一の符号を付し、その説明は省略することとする。研磨砥石65としては、第二の研削手段5を構成する研削砥石55よりも粒径が小さい砥粒がゴム粒子からなる粒状マトリクス中に分散して結合保持された構成のもの、例えば、粒径が1μm前後の酸化セリウム砥粒をNBR硬質ゴムで固定したものを使用することができる。また、研磨砥石65の回転軌跡の直径は、液晶基板1の短辺13a、13bよりも長くなっている。
Since the
第一の研削手段4は、第一の研削送り手段46によって駆動されてZ軸方向(垂直方向)に移動可能となっている。第一の研削送り手段46は、垂直方向の軸心を有するボールネジ460と、ボールネジ460と平行に配設された一対のガイドレール461と、ボールネジ460の一端に連結されボールネジ460を回動させるパルスモータ462と、内部のナットがボールネジ460に螺合すると共に側部がガイドレール461に摺接し第一の研削手段4を支持する昇降部463とから構成され、パルスモータ462に駆動されてボールネジ460が回動するのに伴い昇降部463がガイドレール461にガイドされて昇降し、第一の研削手段4も昇降する。
The first grinding means 4 is driven by the first grinding feed means 46 and is movable in the Z-axis direction (vertical direction). The first grinding feed means 46 includes a
第二の研削手段5は、第二の研削送り手段56によって駆動されてZ軸方向に移動可能となっている。第二の研削送り手段56は、昇降させる対象が第二の研削手段5である点以外は第一の研削送り手段46と同様に構成されるため、各部位については第一の研削送り手段46と同一の符号を付し、その説明は省略することとする。 The second grinding means 5 is driven by the second grinding feed means 56 and is movable in the Z-axis direction. Since the second grinding feed means 56 is configured in the same manner as the first grinding feed means 46 except that the object to be moved up and down is the second grinding means 5, the first grinding feed means 46 for each part. The same reference numerals are used, and the description thereof is omitted.
研磨手段6は、研磨送り手段66によって駆動されてZ軸方向に移動可能となっている。研磨送り手段66は、昇降させる対象が研磨手段6である点以外は第一の研削送り手段46及び第二の研削送り手段56と同様に構成されるため、第一の研削送り手段46及び第二の研削送り手段56と同一の符号を付し、その説明は省略することとする。 The polishing means 6 is driven by the polishing feed means 66 and can move in the Z-axis direction. The polishing feed means 66 is configured in the same manner as the first grinding feed means 46 and the second grinding feed means 56 except that the object to be moved up and down is the polishing means 6. The same reference numerals as those of the second grinding feed means 56 are attached, and the description thereof is omitted.
チャックテーブル3は、バキューム式、冷凍式、静電式等により液晶基板1を保持するもので、液晶基板1に対して横方向の力が加わった場合にも液晶基板1をしっかりと保持する機能を有する。 The chuck table 3 holds the liquid crystal substrate 1 by a vacuum type, a refrigeration type, an electrostatic type or the like, and functions to hold the liquid crystal substrate 1 firmly even when a lateral force is applied to the liquid crystal substrate 1. Have
次に、加工装置2を用いて液晶基板1の第一のガラス板10及び第二のガラス板11を研削及び研磨して所望の厚さに仕上げる方法について説明する。以下では、共に厚さが700μmの第一のガラス板10及び第二のガラス板11について、第一の研削手段4による研削によって500μm除去し、その後、第二の研削手段5による研削によって21μm除去し、最後に研磨手段6によって1μm除去して鏡面仕上げする場合、すなわち、液晶基板1を全体として1044μm薄くする場合を例に挙げて説明する。
Next, a method for grinding and polishing the
液晶基板1は、図3に示すように、最初に、第一のガラス板10が露出した状態で、かつ、長辺14がチャックテーブル3の移動方向であるX軸方向となるようにチャックテーブル3に保持される。そして、図2に示した第一の研削送り手段46が第一の研削手段4を垂直方向に駆動し、図3に示すように、研削砥石45の下面が第一のガラス板10の上面より100μm低い高さを切り込み位置とし、この高さで第一の研削手段4を停止させる。なお、研削砥石45の下面の高さは、例えばチャックテーブル3の表面の高さを基準位置とし、第一の研削送り手段46に備えた図示しない制御部にその基準位置及び液晶基板1の厚さを記憶させておくことで制御することができる。第二の研削手段5及び研磨手段6についても同様である。
As shown in FIG. 3, the liquid crystal substrate 1 is a chuck table in which the
第一の研削手段4においてモータ42によって例えば2000rpm程の回転速度でホイール45を回転させると共に、チャックテーブル駆動手段30による制御の下でチャックテーブル3を例えば5[mm/秒]の速度でスピンドル41の軸心に直交する方向であるX軸方向に移動させ、回転する研削砥石45を第一のガラス板10の第一の短辺13aから接触させて、いわゆるクリープフィードにより液晶基板1の長辺方向に研削して第二の短辺13bまで作用させ、第一のガラス板10を上面10aから100μm除去する。なお、クリープフィードとは、砥石の回転軸に直交する方向に被加工物を送り込むことを意味する。
In the first grinding means 4, the
こうして一度のクリープフィードによって第一のガラス板10が100μm除去されると、次に、チャックテーブル駆動手段30による制御によってチャックテーブル3の+X方向の移動を止めると共に、第一の研削送り手段46による制御の下で第一の研削手段4を100μm下降させる。この状態では、図4に示すように、研削砥石45の下面が第一のガラス板10の研削面10bより100μm低い高さに位置している。そして、この位置を切り込み位置として、チャックテーブル駆動手段30による制御の下でチャックテーブル3を−X方向に移動させ、回転する研削砥石45を第二の短辺13bから接触させて、クリープフィードにより長辺方向に研削して第一の短辺13aまで作用させ、第一のガラス板10を更に100μm除去する。このように、チャックテーブル3を1往復させることで、第一のガラス板10を研削面10bから100μm、図3に示した上面10aから累積で200μm除去することができる。
When 100 μm of the
更に、研削砥石45を100μmずつ下降させて複数の切り込み位置に段階的に位置させると共にチャックテーブル3を1往復半させて同様の研削を行うと、第一のガラス板10が累積で500μm除去され、当初より500μm薄くすることができる(第一の研削工程)。なお、第一の研削工程においては、チャックテーブル3が−X方向に移動する際には第一の研削手段4を上昇させて研削を行わず、チャックテーブル3を+X方向に移動させるときのみ第一の研削手段4を所定の高さに位置させて研削を行うようにしてもよい。
Further, when the grinding
第一の研削工程が終了した後は、チャックテーブル3から液晶基板1を取り外し、表裏を反転させてからチャックテーブル3にて液晶基板1を保持し、第二のガラス板11が露出すると共に長辺14がX軸方向と平行になった状態とする。そして、第一の研削工程と同様の手法により、第一のガラス板10と同じだけ(上記の例では500μm)第二のガラス板11を研削する(第二の研削工程)。
After the first grinding step is finished, the liquid crystal substrate 1 is removed from the chuck table 3 and the front and back are reversed, and then the liquid crystal substrate 1 is held by the chuck table 3 so that the
第一の研削工程が終了した後は、第一の研削送り手段45による制御の下で、図5に示すように、第二の研削手段5における研削砥石55の下面が第一のガラス板10の研削面10cより3μm低い位置を切り込み位置とし、この位置で第二の研削手段4を停止させる。そして、その状態で、モータ42によって例えば2000rpm程の回転速度で研削砥石55を回転させると共に、チャックテーブル駆動手段30による制御の下でチャックテーブル3を+X方向に2[mm/秒]の速度で移動させ、回転する研削砥石55を第一のガラス板10の第一の短辺13aから接触させてクリープフィードにより長辺方向に研削して第二の短辺13bまで作用させ、第一の研削手段4による研削が済んだ第一のガラス板10の研削面10cから3μm除去する。
After the first grinding process is completed, the lower surface of the
次に、チャックテーブル駆動手段30による制御によってチャックテーブル3の+X方向の移動を止めると共に、第二の研削送り手段56による制御の下で第二の研削手段5を3μm下降させ、この位置を切り込み位置とする。この状態では、図6に示すように、研削砥石55の下面が第一のガラス板10の研削面10dより3μm低い高さに位置している。そして、チャックテーブル駆動手段30による制御の下でチャックテーブル3を−X方向に移動させ、回転する研削砥石55を第二の短辺13bから接触させて、クリープフィードにより長辺方向に研削して第一の短辺13aまで作用させ、第一のガラス板10を更に3μm除去する。このように、チャックテーブル3を1往復させることで、第一のガラス板10を、第一の研削手段4による研削終了直後から累積で6μm除去することができる。
Next, the movement of the chuck table 3 in the + X direction is stopped by the control by the chuck table driving means 30, and the second grinding means 5 is lowered by 3 μm under the control by the second grinding feed means 56, and this position is cut. Position. In this state, as shown in FIG. 6, the lower surface of the
更に、研削砥石55を3μmずつ下降させて複数の切り込み位置に段階的に位置させると共にチャックテーブル3を3往復させて同様の研削を行うと、第一のガラス板10が第一の研削手段4による研削終了直後から更に21μm除去され、第一の研削手段4による研削前より累積で521μm薄くすることができる(第三の研削工程)。なお、第三の研削工程では、チャックテーブル3が−X方向に移動する際には第二の研削手段5を上昇させて研削を行わず、チャックテーブル3を+X方向に移動させるときのみ第二の研削手段5を所定の高さに位置させて研削を行うようにしてもよい。
Further, when the grinding
第三の研削工程が終了した後は、チャックテーブル3から液晶基板10を取り外し、表裏を反転させてからチャックテーブル3にて液晶基板10を保持し、第二のガラス板11が露出した状態でかつ長辺14がX軸方向と平行になった状態とする。そして、第三の研削工程と同様の手法により、第一のガラス板10と同じだけ第二のガラス板11を研削する(第四の研削工程)。そうすると、第二のガラス板11が、第一の研削手段4による第二の研削工程終了直後から累積で6μm除去される。
After the third grinding step is finished, the
第四の研削工程が終了した後は、図7に示すように、第一のガラス板10の研削面10eが露出した状態でかつ長辺14がX軸方向に平行になった状態で液晶基板10をチャックテーブル3にて保持し、研磨送り手段66による制御の下で、研磨手段6における研磨砥石65が第一のガラス板10の研削面10eより1μm低い高さに位置するようにし、この高さを切り込み位置とする。そして、その状態で、モータ42によって例えば2000rpm程の回転速度で研磨砥石65を回転させると共に、チャックテーブル駆動手段30による制御の下でチャックテーブル3を+X方向に2[mm/秒]の速度で移動させ、回転する研磨砥石65を第一のガラス板10の第一の短辺13aから接触させて、クリープフィードにより長辺方向に研削して第二の短辺13bまで作用させ、第二の研削手段5による研削済みの第一のガラス板10の研削面10eから1μm除去する。そうすると、研削面10eが鏡面仕上げされると共に、第一のガラス板10が累積で522μm除去されて薄型化される(第一の研磨工程)。
After the fourth grinding process is finished, as shown in FIG. 7, the liquid crystal substrate with the
第一の研磨工程が終了した後は、チャックテーブル3から液晶基板10を取り外し、表裏を反転させてからチャックテーブル3にて液晶基板10を保持し、第二のガラス板11の研削面が露出すると共に長辺14がX軸方向と平行になった状態とする。そして、第一の研磨工程と同様の手法により、第一のガラス板10と同じだけ第二のガラス板11を研磨する。そうすると、第二のガラス板11が鏡面仕上げされると共に、第二のガラス板11が累積で522μm除去されて薄型化される(第二の研磨工程)。
After the first polishing step is finished, the
なお、上記の例では、第一の研削工程、第二の研削工程、第三の研削工程及び第四の研削工程における除去量が比較的大きいために数回に分けて段階的に研削を行ったが、除去量が小さい場合は、各工程を1度の研削で済ませることができ、また、除去量に応じて回数を増減することもできる。更に、第一の研削工程及び第二の研削工程のみで正確な研削量を得られる場合は、必ずしも第三の研削工程及び第四の研削工程は必要とされない。 In the above example, the removal amount in the first grinding process, the second grinding process, the third grinding process, and the fourth grinding process is relatively large, so that the grinding is performed in several steps. However, when the removal amount is small, each step can be completed by one grinding, and the number of times can be increased or decreased according to the removal amount. Furthermore, when an accurate grinding amount can be obtained only by the first grinding step and the second grinding step, the third grinding step and the fourth grinding step are not necessarily required.
また、各工程を実施する順序も上記の例には限られない。例えば、第一の研削工程→第三の研削工程→第一の研磨工程→第二の研削工程→第四の研削工程→第二の研磨工程の順に実施した場合は、図2の例のようにチャックテーブル3の移動経路の上方に第一の研削手段4、第二の研削手段5及び研磨手段6が直列に配設されている装置では、チャックテーブル3の同方向への一度のフィードで効率的に研削及び研磨を行うことができると共に、液晶基板1を裏返す回数が1回で済む。また、第一の研削工程→第三の研削工程→第二の研削工程→第四の研削工程→第一の研磨工程→第二の研磨工程の順とし、両面の研削が終了してから研磨を行うようにしてもよい。 Further, the order in which the steps are performed is not limited to the above example. For example, when the first grinding process → the third grinding process → the first polishing process → the second grinding process → the fourth grinding process → the second polishing process is performed in the order shown in FIG. In the apparatus in which the first grinding means 4, the second grinding means 5 and the polishing means 6 are arranged in series above the movement path of the chuck table 3, the chuck table 3 can be fed once in the same direction. Grinding and polishing can be performed efficiently, and the liquid crystal substrate 1 can be turned upside down only once. In addition, the first grinding step, the third grinding step, the second grinding step, the fourth grinding step, the first polishing step, and the second polishing step are performed in this order. May be performed.
液晶基板1は短冊状に形成されているため、研削砥石45、55及び研磨砥石65の回転軌跡の直径を液晶基板1の短辺13a、13bよりも長くしておくことで、チャックテーブル3の一度のフィードで一方のガラス板を一度に研削または研磨することができ、効率的である。
Since the liquid crystal substrate 1 is formed in a strip shape, the diameters of the rotation trajectories of the grinding
また、液晶基板1に対して研削砥石45、55及び研磨砥石65を水平方向に作用させるため、垂直方向の応力が加わりにくく、薄いガラス板が破損しない。
Further, since the grinding
こうして液晶基板1が所定の厚さに形成された後は、例えば図8に示す電極露出装置7を用い、第一のガラス板10の一部を切削して完全に除去することにより、電極を露出させる。
After the liquid crystal substrate 1 is thus formed to a predetermined thickness, for example, by using the electrode exposure device 7 shown in FIG. 8, a part of the
この電極露出装置7は、液晶基板1を保持するチャックテーブル70と、チャックテーブル70に保持された液晶基板1を切削する切削手段71と、切削手段71をY軸方向に移動させると共に回転させる切削駆動手段72とを備えている。なお、図示の例におけるチャックテーブル70は、図2に示した加工装置2のチャックテーブル3を兼ねている。
The electrode exposing device 7 includes a chuck table 70 that holds the liquid crystal substrate 1, a cutting means 71 that cuts the liquid crystal substrate 1 held on the chuck table 70, and a cutting that moves and rotates the cutting means 71 in the Y-axis direction. Drive means 72. Note that the chuck table 70 in the illustrated example also serves as the chuck table 3 of the
切削手段71は、Y軸方向の軸心を有するスピンドル710と、スピンドル710を回転可能に支持するハウジング711と、スピンドル710の一方の先端部に装着された切削ブレード712と、スピンドル710の他方の端部に装着されスピンドル710及び切削ブレード712を回転させるモータ713とから構成される。
The cutting means 71 includes a
切削駆動手段72は、切削手段71をY軸方向に移動させるY軸駆動手段73と、切削手段71をZ軸方向に移動させるZ軸駆動手段74と、切削手段71を水平方向に回転させる回転駆動手段75とから構成される。 The cutting drive means 72 is a Y-axis drive means 73 that moves the cutting means 71 in the Y-axis direction, a Z-axis drive means 74 that moves the cutting means 71 in the Z-axis direction, and a rotation that rotates the cutting means 71 in the horizontal direction. And driving means 75.
Y軸駆動手段73は、Y軸方向の軸心を有するボールネジ730と、ボールネジ730と平行に配設されたガイドレール731と、ボールネジ730を回動させるパルスモータ732と、内部のナットがボールネジ730に螺合すると共に下部が摺接する移動板733とから構成され、パルスモータ732によって駆動されてボールネジ730が回動するのに伴い移動板733がガイドレール731にガイドされてY軸方向に移動する構成となっている。
The Y-
Z軸駆動手段74は、Z軸方向(垂直方向)の軸心を有するボールネジ740と、ボールネジ740と平行に配設されたガイドレール741と、ボールネジ740を回動させるパルスモータ742と、内部のナットがボールネジ740に螺合すると共に側部がガイドレール741に摺接しハウジング711を支持する昇降部743とから構成され、パルスモータ742に駆動されてボールネジ740が回動するのに伴い昇降部743がガイドレール741にガイドされて昇降し、切削手段71も昇降する構成となっている。
The Z-axis driving means 74 includes a
回転駆動手段75は、図示しないモータによって駆動され移動板733に対して回転可能に配設された回転板750によって構成され、回転板750の回転に伴いZ軸駆動手段74及び切削手段71が水平方向に回転する構成となっている。
The rotation driving means 75 is constituted by a
チャックテーブル70に保持され所望の厚さに形成された液晶基板1の電極を露出させる際には、まず、切削手段71を構成する切削ブレード712がY軸駆動手段73によって駆動されて切削手段71がY軸方向に移動することにより所定の切削位置まで移動する。そして、切削ブレード712が高速回転すると共に切削手段71がZ軸駆動手段74によって駆動されて下降し、チャックテーブル70が+X方向に移動すると共に高速回転する切削ブレード712が第一のガラス板10に対して所定量切り込むことにより、第一のガラス板10が完全切断され、図9に示すように、第二のガラス板11のうち第一のガラス板10に対面する側に形成されている電極15が露出する(電極露出工程)。
When exposing the electrodes of the liquid crystal substrate 1 held on the chuck table 70 and formed to a desired thickness, first, the
液晶基板1に形成された分割予定ラインSを切削して個々の液晶デバイスDに分割する際には、例えば電極露出装置7を用いることができる。最初に、図8に示した切削手段71を90度回転させて、切削ブレード712の面方向を分割予定ラインSと平行にする。そして、チャックテーブル70をX軸方向に移動させることにより切削しようとする分割予定ラインSと切削ブレード712とのX軸方向の位置とを位置合わせし、切削ブレード712が高速回転しながら切削手段71がZ軸駆動手段74によって駆動されて下降すると共にY軸駆動手段73によって駆動されてY軸方向に移動し、高速回転する切削ブレード712が第一のガラス板10から第二のガラス板11にかけて1本の分割予定ラインS1を完全切断する。
When cutting the division line S formed on the liquid crystal substrate 1 and dividing it into individual liquid crystal devices D, for example, an electrode exposing device 7 can be used. First, the cutting means 71 shown in FIG. 8 is rotated by 90 degrees so that the surface direction of the
また、隣り合う分割予定ラインの間隔だけチャックテーブル3を+X方向にインデックス送りしながら同様の切削を行い、すべての分割予定ラインS1、S2、・・・・Snを完全切断すると、個々の液晶デバイスDに分割される(分割工程)。 Further, when the same cutting is performed while the chuck table 3 is indexed in the + X direction by an interval between adjacent division lines, and all the division lines S1, S2,. Divided into D (dividing step).
次に、液晶基板1のすべての分割予定ラインに液晶デバイスDの仕上がり厚さに相当する深さの切削溝を形成した後に第一のガラス板10及び第二のガラス板11を研削及び研磨して所定厚さの液晶デバイスとする、いわゆる先ダイシングの手法について説明する。
Next, after forming a cutting groove having a depth corresponding to the finished thickness of the liquid crystal device D in all the division lines of the liquid crystal substrate 1, the
先ダイシングの手法を用いる場合は、図10に示すように、最初にすべての分割予定ラインSに切削溝Gを形成する。切削溝の形成には、例えば図8に示した電極露出装置7を用いることができる。以下では、具体的な装置の制御等に関して上記の例と同様に行われる点については詳細な説明は省略することとする。 When using the tip dicing method, as shown in FIG. 10, first, the cutting grooves G are formed in all the division lines S. For example, the electrode exposure device 7 shown in FIG. 8 can be used to form the cutting groove. In the following, detailed description of points that are performed in the same manner as in the above example regarding the control of a specific device and the like will be omitted.
最初に、高速回転する切削ブレード712を第一のガラス板10側から分割予定ラインS1に切り込ませ、Z軸駆動手段74による制御により、図10に示すように、第二のガラス板11に形成された切削溝Gの深さがデバイスDを構成する第二のガラス板の仕上がり厚さと等しくなるまで切削を行う。このような切削を、チャックテーブル3をインデックス送りしながらすべての分割予定ラインSについて行う(先ダイシング工程)。
First, the
次に、第一のガラス板10及び第二のガラス板11の研削及び研磨を行う。具体的には、加工の途中で薄くなったガラス板が割れるのを防止するために、第一の研削工程→第三の研削工程→第一の研磨工程の後に、第二の研削工程→第四の研削工程→第二の研磨工程を行うことが好ましい。第二の研削工程、第四の研削工程及び第二の研磨工程では、研削及び研磨が行われた第一のガラス板にテープを貼ることが好ましい。
Next, the
そして、第一のガラス板10及び第二のガラス板11を所定の厚さとし、図11に示すように、第二の研磨工程において第二のガラス板11から切削溝Gが露出すると、切削溝Gによって図12に示す個々の液晶デバイスDに分割される。
And when the
1:液晶基板
10:第一のガラス板 11:第二のガラス板 12:シール部
13a、13b:短辺 14:長辺 15:電極
D:液晶デバイス S:分割予定ライン
2:加工装置
3:チャックテーブル
30:チャックテーブル駆動手段
300:ボールネジ 301:ガイドレール 302:パルスモータ
303:スライド部
4:第一の研削手段 5:第二の研削手段 6:研磨手段
40:スピンドル 41:ハウジング 42:モータ 43:ホイールマウント
44:ホイール 45、55:研削砥石 65:研磨砥石
46:第一の研削送り手段 56:第二の研削送り手段 66:研磨送り手段
460:ボールネジ 461:ガイドレール 462:パルスモータ 463:昇降部
7:電極露出装置
70:チャックテーブル
71:切削手段
710:スピンドル 711:ハウジング 712:切削ブレード 713:モータ
72:切削駆動手段
73:Y軸駆動手段
730:ボールネジ 731:ガイドレール 732:パルスモータ 733:移動板
74:Z軸駆動手段
740:ボールネジ 741:ガイドレール 742:パルスモータ 743:昇降部
75:回転駆動手段 750:回転板
1: liquid crystal substrate 10: first glass plate 11: second glass plate 12: seal
Claims (7)
液晶基板を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された液晶基板を研削する回転可能な研削砥石を備えた研削手段と、該研削手段の該チャックテーブルに対する接近及び該チャックテーブルからの離反を制御する研削送り手段と、該液晶基板を研磨する回転可能な研磨砥石を備えた研磨手段と、該研磨手段の該チャックテーブルに対する接近及び該チャックテーブルからの離反を制御する研磨送り手段と、該チャックテーブルを該研削砥石及び該研磨砥石の回転軸に対して直交する方向に移動させるチャックテーブル駆動手段とを有する加工装置を用い、
該チャックテーブルにおいて該第一のガラス板が露出すると共に該長辺が該チャックテーブルの移動方向と平行になるように該液晶基板を保持し、該研削送り手段による制御によって該研削砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に該研削砥石を回転させ、該チャックテーブル駆動手段による制御の下で該チャックテーブルを移動させて該研削砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより該第一のガラス板の表面を研削する第一の研削工程と、
該チャックテーブルにおいて該第二のガラス板が露出すると共に該長辺が該チャックテーブルの移動方向と平行になるように該液晶基板を保持し、該研削送り手段による制御によって該研削砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に該研削砥石を回転させ、該チャックテーブル駆動手段による制御の下で該チャックテーブルを移動させて該研削砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより該第二のガラス板の表面を研削する第二の研削工程と、
該チャックテーブルにおいて研削済みの第一のガラス板が露出すると共に該長辺が該チャックテーブルの移動方向と平行になるように該液晶基板を保持し、該研磨送り手段による制御によって該研磨砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に該研磨砥石を回転させ、該チャックテーブル駆動手段による制御の下で該チャックテーブルを移動させて該研磨砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより該第一のガラス板の表面を研磨する第一の研磨工程と、
該チャックテーブルにおいて研削済みの該第二のガラス板が露出すると共に該長辺が該チャックテーブルの移動方向と平行になるように該液晶基板を保持し、該研磨送り手段による制御によって該研磨砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に該研磨砥石を回転させ、該チャックテーブル駆動手段による制御の下で該チャックテーブルを移動させて該研磨砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより該第二のガラス板の表面を研磨する第二の研磨工程と
から少なくとも構成される液晶基板の加工方法。 A liquid crystal device in which liquid crystal is sealed between a first glass plate and a second glass plate is partitioned by a planned dividing line, and a strip-shaped liquid crystal substrate having a short side and a long side is formed to a predetermined thickness. A processing method of a liquid crystal substrate to be processed,
A chuck table for holding a liquid crystal substrate, a grinding means having a rotatable grinding wheel for grinding the liquid crystal substrate held by the chuck table, and approaching and separating the grinding means from the chuck table. Grinding feed means for controlling, polishing means comprising a rotatable grinding wheel for polishing the liquid crystal substrate, polishing feed means for controlling the approach of the polishing means to the chuck table and the separation from the chuck table, and Using a processing apparatus having a chuck table driving means for moving the chuck table in a direction perpendicular to the rotation axis of the grinding wheel and the grinding wheel,
The liquid crystal substrate is held such that the first glass plate is exposed at the chuck table and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table, and the grinding wheel is controlled by the grinding feed means. The grinding wheel is rotated while the grinding wheel is rotated, and the chuck table is moved under the control of the chuck table driving means so that the grinding wheel acts from one short side to the other short side by creep feed. A first grinding step of grinding the surface of the first glass plate;
The liquid crystal substrate is held so that the second glass plate is exposed at the chuck table and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table, and the grinding wheel is controlled by the grinding feed means. The grinding wheel is rotated while the grinding wheel is rotated, and the chuck table is moved under the control of the chuck table driving means so that the grinding wheel acts from one short side to the other short side by creep feed. A second grinding step of grinding the surface of the second glass plate;
The liquid crystal substrate is held so that the ground first glass plate is exposed at the chuck table and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table, and the polishing grindstone is controlled by the polishing feed means. Creep by positioning the grinding wheel at a predetermined cutting position and rotating the grinding wheel and moving the chuck table under the control of the chuck table driving means so that the grinding wheel acts from one short side to the other short side. A first polishing step of polishing the surface of the first glass plate by feed;
Holding the liquid crystal substrate so that the ground second glass plate is exposed on the chuck table and the long side is parallel to the moving direction of the chuck table, and the polishing grindstone is controlled by the polishing feed means. Is positioned at a predetermined cutting position, and the polishing wheel is rotated, and the chuck table is moved under the control of the chuck table driving means to cause the polishing wheel to act from one short side to the other short side. A liquid crystal substrate processing method comprising at least a second polishing step of polishing the surface of the second glass plate by creep feed.
前記第一の研削工程と前記第一の研磨工程との間で、該チャックテーブルにおいて該第一の研削工程終了後の第一のガラス板が露出すると共に前記長辺が該チャックテーブルの移動方向と平行になるように液晶基板を保持し、該研削送り手段による制御によって該研削砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に該研削砥石を回転させ、該チャックテーブル駆動手段による制御の下で該チャックテーブルを移動させて該研削砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより該第一のガラス板の表面を研削する第三の研削工程を実施し、
該研削手段は、前記第二の研削工程で使用した研削砥石より粒径が小さい砥粒によって構成された研削砥石を備え、
前記第二の研削工程と前記第二の研磨工程との間で、該チャックテーブルにおいて該第二の研削工程終了後の該第二のガラス板が露出すると共に該長辺が該チャックテーブルの移動方向と平行になるように該液晶基板を保持し、該研削送り手段による制御によって該研削砥石を所定の切り込み位置に位置させると共に該研削砥石を回転させ、該チャックテーブル駆動手段による制御の下で該チャックテーブルを移動させて該研削砥石を一方の短辺から他方の短辺まで作用させてクリープフィードにより該第二のガラス板の表面を研削する第四の研削工程を実施する
請求項1に記載の液晶基板の研削方法。 The grinding means includes a grinding wheel composed of abrasive grains having a particle size smaller than that of the grinding wheel used in the first grinding step,
Between the first grinding step and the first polishing step, the first glass plate after the completion of the first grinding step is exposed in the chuck table, and the long side is the moving direction of the chuck table. The liquid crystal substrate is held so as to be parallel with the grinding wheel, and the grinding wheel is positioned at a predetermined cutting position by the control by the grinding feed means, and the grinding wheel is rotated, and the chuck is controlled by the chuck table driving means. Performing a third grinding step of grinding the surface of the first glass plate by creep feed by moving the table and causing the grinding wheel to act from one short side to the other short side;
The grinding means comprises a grinding wheel constructed in accordance with the abrasive particle size than the grinding wheel is less used in the second grinding step,
Between the second grinding step and the second polishing step, the second glass plate after the second grinding step is exposed at the chuck table and the long side is moved by the chuck table. The liquid crystal substrate is held so as to be parallel to the direction, and the grinding wheel is positioned at a predetermined cutting position by the control by the grinding feed means, and the grinding wheel is rotated and controlled under the control by the chuck table driving means. 2. The fourth grinding step of moving the chuck table and causing the grinding wheel to act from one short side to the other short side to grind the surface of the second glass plate by creep feed is performed. A method for grinding a liquid crystal substrate as described.
前記研削送り手段による制御によって、前記研削砥石を複数の切り込み位置に段階的に位置させて前記第二の研削工程を複数回実施する
請求項2に記載の液晶基板の加工方法。 By the control by the grinding feed means, the grinding wheel is positioned stepwise at a plurality of cutting positions, and the first grinding step is performed a plurality of times.
By the control by the grinding feed means, the grinding wheel is positioned stepwise at a plurality of cutting positions and the second grinding step is performed a plurality of times.
The processing method of the liquid crystal substrate of Claim 2 .
前記研削送り手段による制御によって、前記研削砥石を複数の切り込み位置に段階的に位置させて前記第四の研削工程を複数回実施する
請求項2または3に記載の液晶基板の加工方法。 By the control by the grinding feed means, the grinding wheel is positioned stepwise at a plurality of cutting positions, and the third grinding step is performed a plurality of times.
4. The liquid crystal substrate processing method according to claim 2, wherein the fourth grinding step is performed a plurality of times by stepwise positioning the grinding wheel at a plurality of cutting positions under the control of the grinding feed unit. 5.
請求項1、2、3または4に記載の液晶基板の加工方法。 Prior to the first grinding step, the second glass plate is provided with a cutting groove having a depth corresponding to the finished thickness of the second glass plate while completely cutting the division line of the first glass plate. The method for processing a liquid crystal substrate according to claim 1, wherein the first dicing step is performed.
請求項1乃至5のいずれかに記載の液晶基板の加工方法。 An electrode is formed on the side of the second glass plate facing the first glass plate, and an electrode exposing the electrode by removing a portion of the first glass plate facing the electrode. The method for processing a liquid crystal substrate according to claim 1, wherein a process is included.
請求項6に記載の液晶基板の加工方法。 The liquid crystal substrate processing method according to claim 6, wherein the electrode exposing step is performed after the second polishing step.
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