JP5053929B2 - 分割露光方法および分割露光装置 - Google Patents
分割露光方法および分割露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5053929B2 JP5053929B2 JP2008136994A JP2008136994A JP5053929B2 JP 5053929 B2 JP5053929 B2 JP 5053929B2 JP 2008136994 A JP2008136994 A JP 2008136994A JP 2008136994 A JP2008136994 A JP 2008136994A JP 5053929 B2 JP5053929 B2 JP 5053929B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- photomask
- division
- exposure
- alignment mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 352
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 26
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 19
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 claims description 7
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 12
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
感光層が形成された基板の露光面を複数の基板分割領域に区分し、パターンが描かれたフォトマスクのパターン面を前記基板分割領域のそれぞれに対応するようにして複数のフォトマスク分割領域に区分し、前記フォトマスク分割領域を通して光を照射することによって、前記基板分割領域ごとに前記フォトマスク分割領域に描かれたパターンを転写する分割露光方法において、
前記基板を該基板の互いに対向する第一の対の辺と同じ方向に延びる第一の軸線回りに湾曲させたときに、その湾曲量に関わらずに位置が不変である前記露光面上の第一の線分、および/または、前記基板を該基板の互いに対向する第二の対の辺と同じ方向に延びる第二の軸線回りに湾曲させたときに、その湾曲量に関わらずに位置が不変である前記露光面上の第二の線分によって、前記基板分割領域は画定されており、
前記露光面上の前記第一の線分および/もしくは前記第二の線分上の位置、ならびに、該位置に対応する前記パターン面上の位置には、複数の第一の基板位置合わせマークならびに複数の第一のフォトマスク位置合わせマークがそれぞれ設けられており、
前記基板分割領域の各々における複数位置、ならびに、該複数位置に対応する前記フォトマスク分割領域の各々における複数位置には、第二の基板位置合わせマークならびに第二のフォトマスク位置合わせマークがそれぞれ設けられており、
前記露光方法は、
(1)前記フォトマスクの前記パターン面が前記基板の前記露光面を覆うようにして、該フォトマスクを前記基板に対向させて配置する段階と、
(2)前記第一の基板位置合わせマークと前記第一のフォトマスク位置合わせマークを利用して、前記フォトマスクおよび/または前記基板をXYθ方向に相対移動させることにより、前記フォトマスクの全体領域と前記基板の全体領域とを位置合わせする段階と、
(3)前記フォトマスクと前記基板とを均一に接触させる段階と、
(4)前記フォトマスクと前記基板とを接触させたまま、前記第二の基板位置合わせマークと前記第二のフォトマスク位置合わせマークとを利用して、前記基板分割領域ごとに前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせし且つ露光する段階と、
を含み、
前記基板分割領域ごとに位置合わせし且つ露光する前記段階が、
i)前記基板および前記フォトマスクを、前記第一の軸線回りおよび/または前記第二の軸線回りに湾曲させることにより、前記フォトマスクに描かれたパターン寸法を実質的に変化させ、前記第二の基板位置合わせマークと前記第二のフォトマスク位置合わせマークを利用して、一つの前記基板分割領域とこれに対応する一つの前記フォトマスク分割領域とを位置合わせする段階と、
ii)前記一つのフォトマスク分割領域を通して前記一つの基板分割領域に光を照射することにより、前記一つのフォトマスク分割領域に描かれたパターンを前記一つの基板分割領域上に転写する段階と、
iii)前記フォトマスクと前記基板とを接触させたまま、前記段階i)および前記段階ii)を他の前記基板分割領域のそれぞれについて行う段階と、
を含んでいる、
分割露光方法が提供される。
前記第二の基板位置合わせマークと前記第二のフォトマスク位置合わせマークとを利用して、前記基板分割領域ごとに前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせする前記段階は、
前記基板と前記フォトマスクとを均一に接触させた状態で、それぞれの基板分割領域ごとに、前記第二の基板位置合わせマークおよび前記第二のフォトマスク位置合わせマークを前記マーク検出手段によって検出し、検出したデータを基に、前記第二の基板位置合わせマークおよび前記第二のフォトマスク位置合わせマーク間のずれ量を演算し、この演算結果に従って前記第一の軸線回りの湾曲量および/または前記第二の軸線回りの湾曲量を決定し、該決定された湾曲量だけ前記基板および前記フォトマスクを湾曲させることによって行うことができる。
感光層が形成された基板の露光面を複数の基板分割領域に区分し、パターンが描かれたフォトマスクのパターン面を前記基板分割領域のそれぞれに対応するようにして複数のフォトマスク分割領域に区分し、前記フォトマスク分割領域を通して光を照射することによって、前記基板分割領域ごとに前記フォトマスク分割領域に描かれたパターンを転写する分割露光方法に用いられる分割露光装置であって、
前記露光面と反対側の前記基板の面全体にわたって前記基板を固定支持するための基板支持部材にして、自身が湾曲することによって前記基板を湾曲させることができる基板支持部材と、
前記パターン面が前記露光面に対向するように前記フォトマスクを支持するためのフォトマスク支持部材と、
前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせするために前記基板支持部材および前記フォトマスク支持部材の少なくとも一方を移動させる第一の移動手段と、
前記フォトマスクと前記基板とを互いに接触および離反させるために前記基板支持部材および前記フォトマスク支持部材の少なくとも一方を移動させる第二の移動手段と、
前記基板が、該基板の互いに対向する第一の対の辺と同じ方向に延びる第一の軸線回りに所望量湾曲するよう、前記基板支持部材の、互いに対向する第一の対の側縁部に作用して該基板支持部材を湾曲させるための第一の変形機構と、
前記基板が、該基板の互いに対向する第二の対の辺と同じ方向に延びる第二の軸線回りに所望量湾曲するよう、前記基板支持部材の、互いに対向する第二の対の側縁部に作用して該基板支持部材を湾曲させるための第二の変形機構と、
を備え、
前記第一の変形機構は、前記第一の軸線回りの前記基板の湾曲量に関わらずに位置が不変である第一の線分を前記露光面上に画定するように前記基板支持部材を湾曲するようになされており、
前記第二の変形機構は、前記第二の軸線回りの前記基板の湾曲量に関わらずに位置が不変である第二の線分を前記露光面上に画定するように前記基板支持部材を湾曲するようになされており、
前記第一および第二の変形機構の作動を制御する制御手段にして、前記第一の線分及び前記第二の線分によって区分される複数の前記基板分割領域に対応する複数のフォトマスク分割領域ごとに、前記パターンを所望の寸法に実質変化させるよう前記基板支持部材の湾曲を制御、ひいては前記基板の湾曲を制御する制御手段と、
それぞれの前記基板分割領域毎に、前記フォトマスク分割領域を通して前記露光面に光を照射するための光照射手段と、
をさらに備えている、分割露光装置も提供される。
Claims (8)
- 感光層が形成された基板の露光面を複数の基板分割領域に区分し、パターンが描かれたフォトマスクのパターン面を前記基板分割領域のそれぞれに対応するようにして複数のフォトマスク分割領域に区分し、前記フォトマスク分割領域を通して光を照射することによって、前記基板分割領域ごとに前記フォトマスク分割領域に描かれたパターンを転写する分割露光方法において、
前記基板を該基板の互いに対向する第一の対の辺と同じ方向に延びる第一の軸線回りに湾曲させたときに、その湾曲量に関わらずに位置が不変である前記露光面上の第一の線分、および/または、前記基板を該基板の互いに対向する第二の対の辺と同じ方向に延びる第二の軸線回りに湾曲させたときに、その湾曲量に関わらずに位置が不変である前記露光面上の第二の線分によって、前記基板分割領域は画定されており、
前記露光面上の前記第一の線分および/もしくは前記第二の線分上の位置、ならびに、該位置に対応する前記パターン面上の位置には、複数の第一の基板位置合わせマークならびに複数の第一のフォトマスク位置合わせマークがそれぞれ設けられており、
前記基板分割領域の各々における複数位置、ならびに、該複数位置に対応する前記フォトマスク分割領域の各々における複数位置には、第二の基板位置合わせマークならびに第二のフォトマスク位置合わせマークがそれぞれ設けられており、
前記露光方法は、
(1)前記フォトマスクの前記パターン面が前記基板の前記露光面を覆うようにして、該フォトマスクを前記基板に対向させて配置する段階と、
(2)前記第一の基板位置合わせマークと前記第一のフォトマスク位置合わせマークを利用して、前記フォトマスクおよび/または前記基板をXYθ方向に相対移動させることにより、前記フォトマスクの全体領域と前記基板の全体領域とを位置合わせする段階と、
(3)前記フォトマスクと前記基板とを均一に接触させる段階と、
(4)前記フォトマスクと前記基板とを接触させたまま、前記第二の基板位置合わせマークと前記第二のフォトマスク位置合わせマークとを利用して、前記基板分割領域ごとに前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせし且つ露光する段階と、
を含み、
前記基板分割領域ごとに位置合わせし且つ露光する前記段階が、
i)前記基板および前記フォトマスクを、前記第一の軸線回りおよび/または前記第二の軸線回りに湾曲させることにより、前記フォトマスクに描かれたパターン寸法を実質的に変化させ、前記第二の基板位置合わせマークと前記第二のフォトマスク位置合わせマークを利用して、一つの前記基板分割領域とこれに対応する一つの前記フォトマスク分割領域とを位置合わせする段階と、
ii)前記一つのフォトマスク分割領域を通して前記一つの基板分割領域に光を照射することにより、前記一つのフォトマスク分割領域に描かれたパターンを前記一つの基板分割領域上に転写する段階と、
iii)前記フォトマスクと前記基板とを接触させたまま、前記段階i)および前記段階ii)を他の前記基板分割領域のそれぞれについて行う段階と、
を含んでいる、
分割露光方法。 - 請求項1に記載の分割露光方法において、
前記第一の基板位置合わせマークのそれぞれは、前記第一の線分または前記第二の線分を挟むようにして配置された2つのマーク要素によって構成されていることを特徴とする、
分割露光方法。 - 請求項2に記載の分割露光方法において、
前記マーク要素が前記第二の基板位置合わせマークの一部を兼ねていることを特徴とする、
分割露光方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の分割露光方法において、
前記フォトマスクの全体領域と前記基板の全体領域とを前記第一の基板位置合わせマークおよび前記第一のフォトマスク位置合わせマークを利用して位置合わせする前記段階は、前記第一の基板位置合わせマークおよび前記第一のフォトマスク位置合わせマークをマーク検出手段によって検出し、検出したデータを基に、前記第一の基板位置合わせマークおよび前記第一のフォトマスク位置合わせマーク間のずれ量を演算し、この演算結果に従って、前記基板および前記フォトマスクの少なくとも一方を他方に対して移動させることによって行われ、
前記第二の基板位置合わせマークと前記第二のフォトマスク位置合わせマークとを利用して、前記基板分割領域ごとに前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせする前記段階は、
前記基板と前記フォトマスクとを均一に接触させた状態で、それぞれの基板分割領域ごとに、前記第二の基板位置合わせマークおよび前記第二のフォトマスク位置合わせマークを前記マーク検出手段によって検出し、検出したデータを基に、前記第二の基板位置合わせマークおよび前記第二のフォトマスク位置合わせマーク間のずれ量を演算し、この演算結果に従って前記第一の軸線回りの湾曲量および/または前記第二の軸線回りの湾曲量を決定し、該決定された湾曲量だけ前記基板および前記フォトマスクを湾曲させることによって行われることを特徴とする、
露光方法。 - 請求項4に記載の分割露光方法において、
前記マーク検出手段がCCDカメラであることを特徴とする、
露光方法。 - 感光層が形成された基板の露光面を複数の基板分割領域に区分し、パターンが描かれたフォトマスクのパターン面を前記基板分割領域のそれぞれに対応するようにして複数のフォトマスク分割領域に区分し、前記フォトマスク分割領域を通して光を照射することによって、前記基板分割領域ごとに前記フォトマスク分割領域に描かれたパターンを転写する分割露光方法に用いられる分割露光装置であって、
前記露光面と反対側の前記基板の面全体にわたって前記基板を固定支持するための基板支持部材にして、自身が湾曲することによって前記基板を湾曲させることができる基板支持部材と、
前記パターン面が前記露光面に対向するように前記フォトマスクを支持するためのフォトマスク支持部材と、
前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせするために前記基板支持部材および前記フォトマスク支持部材の少なくとも一方を移動させる第一の移動手段と、
前記フォトマスクと前記基板とを互いに接触および離反させるために前記基板支持部材および前記フォトマスク支持部材の少なくとも一方を移動させる第二の移動手段と、
前記基板が、該基板の互いに対向する第一の対の辺と同じ方向に延びる第一の軸線回りに所望量湾曲するよう、前記基板支持部材の、互いに対向する第一の対の側縁部に作用して該基板支持部材を湾曲させるための第一の変形機構と、
前記基板が、該基板の互いに対向する第二の対の辺と同じ方向に延びる第二の軸線回りに所望量湾曲するよう、前記基板支持部材の、互いに対向する第二の対の側縁部に作用して該基板支持部材を湾曲させるための第二の変形機構と、
を備え、
前記第一の変形機構は、前記第一の軸線回りの前記基板の湾曲量に関わらずに位置が不変である第一の線分を前記露光面上に画定するように前記基板支持部材を湾曲するようになされており、
前記第二の変形機構は、前記第二の軸線回りの前記基板の湾曲量に関わらずに位置が不変である第二の線分を前記露光面上に画定するように前記基板支持部材を湾曲するようになされており、
前記第一および第二の変形機構の作動を制御する制御手段にして、前記第一の線分及び前記第二の線分によって区分される複数の前記基板分割領域に対応する複数のフォトマスク分割領域ごとに、前記パターンを所望の寸法に実質変化させるよう前記基板支持部材の湾曲を制御、ひいては前記基板の湾曲を制御する制御手段と、
それぞれの前記基板分割領域毎に、前記フォトマスク分割領域を通して前記露光面に光を照射するための光照射手段と、
をさらに備えている、分割露光装置。 - 請求項6に記載の分割露光装置において、
前記光照射手段が、露光する前記基板分割領域以外の部分を遮光する遮光手段を有する、
分割露光装置。 - 請求項6または7に記載の分割露光装置において、
前記光照射手段は複数の半導体発光素子を有し、前記光照射手段は、前記複数の半導体発光素子のうち、露光すべき前記基板分割領域に対応した半導体発光素子のみを選択発光できる機能を有する、
分割露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008136994A JP5053929B2 (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 分割露光方法および分割露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008136994A JP5053929B2 (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 分割露光方法および分割露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009283857A JP2009283857A (ja) | 2009-12-03 |
JP5053929B2 true JP5053929B2 (ja) | 2012-10-24 |
Family
ID=41453965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008136994A Active JP5053929B2 (ja) | 2008-05-26 | 2008-05-26 | 分割露光方法および分割露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5053929B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5811007B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2015-11-11 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置の製造方法及びレチクル |
US11040482B2 (en) * | 2017-02-28 | 2021-06-22 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Transfer method, transfer apparatus, and mold |
-
2008
- 2008-05-26 JP JP2008136994A patent/JP5053929B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009283857A (ja) | 2009-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5117672B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP5104107B2 (ja) | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 | |
TWI430048B (zh) | Exposure method and exposure device | |
KR102333949B1 (ko) | 묘화 장치 | |
JP6863980B2 (ja) | 高解像度電子パターニングのためのスティッチレス直接イメージング | |
JP2006338014A (ja) | 基板チャック平坦度維持手段を備える露光装置 | |
KR101205521B1 (ko) | 포토마스크 및 그것을 사용한 노광 방법 | |
JP5053929B2 (ja) | 分割露光方法および分割露光装置 | |
JP5424803B2 (ja) | 露光装置 | |
KR101435123B1 (ko) | 노광방법 및 노광장치 | |
CN111487849A (zh) | 曝光机的对位***及其对位方法 | |
CN116710848A (zh) | 用于制造大面积显示器用精细金属掩模的多个光掩模对准装置及对准方法 | |
JP2000250227A (ja) | 露光装置 | |
CN116724683A (zh) | 大面积显示器用精细金属掩模及其制造方法 | |
JP4390512B2 (ja) | 露光方法及びその方法で用いられる基板のアライメント方法 | |
JP5499398B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP4561291B2 (ja) | 露光方法 | |
JP2007311374A (ja) | 基板ホルダ、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
KR20020069101A (ko) | 노광장치 | |
JP5630864B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6762640B1 (ja) | 露光装置 | |
JP7041201B2 (ja) | 露光方法 | |
KR102182378B1 (ko) | 정밀 얼라인이 가능한 롤투롤 인쇄 유닛 및 이를 이용한 롤투롤 인쇄 방법 | |
JP4775076B2 (ja) | 露光方法及び装置 | |
JP2008268578A (ja) | 分割露光装置及び分割露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110203 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120627 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120726 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5053929 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150803 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |