JP5043470B2 - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
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Description
9 基板
11 基板保持部
12 基板移動機構
14 塗布ヘッド
15 ヘッド移動機構
19 ガス供給部
19a 第1ガス供給部
19b 第2ガス供給部
91 塗布領域
92 非塗布領域
141 第1ノズル
142 第2ノズル
191 噴出口
S11〜S17,S21〜S24,S31〜S36,S41〜S44 ステップ
Claims (8)
- 基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板に向けて流動性材料を吐出する吐出機構と、
前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動するとともに、前記主走査方向への移動が行われる毎に前記基板を前記吐出機構に対して前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に相対的に移動する移動機構と、
を備え、
前記吐出機構が、
前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第1流動性材料を連続的に吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第1流動性材料を塗布する第1吐出部と、
前記第1吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側に配置され、前記第1吐出部の前記複数の吐出口と共に前記副走査方向に関して等間隔にて配列される吐出口から、前記第1流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第2流動性材料を連続的に吐出することにより、前記基板上の前記塗布領域に前記第2流動性材料を塗布する第2吐出部と、
を備えることを特徴とする塗布装置。 - 請求項1に記載の塗布装置であって、
前記吐出機構において、前記第1吐出部に対する前記第2吐出部の相対位置が固定されていることを特徴とする塗布装置。 - 請求項1または2に記載の塗布装置であって、
前記第2吐出部が、前記副走査方向に関して位置が異なる複数の吐出口から前記第2流動性材料を吐出することを特徴とする塗布装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記吐出機構が、前記第1吐出部に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向前側に配置されて前記第2流動性材料を吐出するもう1つの第2吐出部をさらに備え、
前記第1吐出部による前記第1流動性材料の塗布開始時に、前記もう1つの第2吐出部が前記主走査方向に移動しつつ前記第2流動性材料を吐出することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第2流動性材料が塗布されることを特徴とする塗布装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において前記基板に対して相対的に固定され、前記第1流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料のガスを供給するガス供給部をさらに備えることを特徴とする塗布装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記第1流動性材料が平面表示装置用の画素形成材料を含むことを特徴とする塗布装置。 - 基板に流動性材料を塗布する塗布方法であって、
a)吐出機構から基板に向けて流動性材料を吐出しつつ前記吐出機構を前記基板の主面に平行な主走査方向に前記基板に対して相対的に移動する工程と、
b)前記基板の前記主面に平行かつ前記主走査方向に垂直な副走査方向に前記基板を前記吐出機構に対して相対的に移動する工程と、
c)前記a)工程および前記b)工程を繰り返す工程と、
を備え、
前記a)工程が、
d)前記吐出機構の第1吐出部において前記副走査方向に関して等間隔にて配列された複数の吐出口から、揮発性の溶媒および前記基板上に付与する材料を含む第1流動性材料を連続的に吐出することにより前記基板上の塗布領域に前記第1流動性材料を塗布する工程と、
e)前記d)工程と並行して、または、前記d)工程よりも前に、前記d)工程にて塗布される前記第1流動性材料に対して前記副走査方向における前記基板の相対移動方向後側において、前記第1吐出部の前記複数の吐出口と共に前記副走査方向に関して等間隔にて配列される第2吐出部の吐出口から、前記第1流動性材料の前記溶媒または前記溶媒と同等の揮発性材料である第2流動性材料を連続的に吐出することにより前記塗布領域に前記第2流動性材料を塗布する工程と、
を備えることを特徴とする塗布方法。 - 請求項7に記載の塗布方法であって、
前記a)工程よりも前に、
f)前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記複数の吐出口から前記第1流動性材料を吐出しつつ前記第1吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記基板の前記塗布領域の外側の非塗布領域に前記第1流動性材料を塗布する工程、
または、
g)前記基板の前記副走査方向における相対移動方向前側において、前記第2吐出部から前記第2流動性材料を吐出しつつ前記第2吐出部を前記主走査方向に相対的に移動することにより、前記非塗布領域に前記第2流動性材料を塗布する工程を備えることを特徴とする塗布方法。
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