JP5042761B2 - 減圧乾燥方法および減圧乾燥装置 - Google Patents
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Landscapes
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Description
11 蓋部
12 パッキング
13 基部
14 上面
15 センサ
21 支持ピン
22 支持板
25 昇降機構
31 排気口
32 管路
33 ダンパ
34 真空ポンプ
W 基板
Claims (4)
- 基板をチャンバー内に収納し、当該チャンバー内から少量の排気量で排気を行った後、大量の排気量で排気を行うことにより、基板の主面に形成された薄膜から溶剤を減圧乾燥する減圧乾燥方法において、
減圧乾燥処理が適切に実行されるときの、減圧乾燥処理中の複数の時点における前記チャンバー内の圧力値を取得する準備工程と、
基板を前記チャンバー内に搬入する搬入工程と、
前記チャンバー内を排気する排気行程と、
前記排気工程における前記チャンバー内の圧力値を前記複数の時点において測定する測定工程と、
前記準備工程で取得した圧力値と前記測定工程で測定した圧力値とを、各々比較する比較工程と、
前記比較工程で比較した圧力値の差異が設定範囲を超えたときに、処理異常を報知する報知工程と、
を備えたことを特徴とする減圧乾燥方法。 - 請求項1に記載の減圧乾燥方法において、
前記複数の時点は、前記チャンバー内から少量の排気量での排気から大量の排気量での排気に切り換える時点と、前記薄膜から溶剤がほぼ蒸発した時点とを含む減圧乾燥方法。 - 基板の主面に形成された薄膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置において、
基板の周囲を覆うチャンバと、
その主面を上方に向けた基板を水平に支持する支持部材と、
前記チャンバに形成された前記排気口を介して排気を行う排気手段と、
前記排気手段による排気量を少なくとも二段階に制御する排気量制御手段と、
前記チャンバ内の圧力値を測定するセンサと、
減圧乾燥処理が適切に実行されるときの、減圧乾燥処理中の複数の時点における前記チャンバー内の圧力値を記憶する記憶手段と、
異常状態を報知する報知手段と、
前記排気制御手段の制御により、チャンバー内から少量の排気量で排気を行った後、大量の排気量で排気を行ったときに、前記センサにより測定した前記チャンバー内の圧力値を前記複数の時点において取得し、前記記憶手段に記憶した圧力値と前記センサにより測定した圧力値とを各々比較し、これらの圧力値の差異が設定範囲を超えたときに前記報知手段に処理異常を報知させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする減圧乾燥装置。 - 請求項3に記載の減圧乾燥装置において、
前記複数の時点は、前記チャンバー内から少量の排気量での排気から大量の排気量での排気に切り換える時点と、前記薄膜から溶剤がほぼ蒸発した時点とを含む減圧乾燥装置。
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