JP5038621B2 - Antireflection film and composition for forming antireflection film - Google Patents
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Description
本発明は、低反射性能を有し、かつ優れた滑り性および耐擦傷性を有する反射防止膜、この膜を形成するための組成物、並びにこの膜の形成方法に関する。 The present invention relates to an antireflection film having low reflection performance and excellent slipperiness and scratch resistance, a composition for forming this film, and a method for forming this film.
基材より屈折率の低い被膜を当該基材の表面に形成させると、当該被膜の表面から反射する光の反射率が低下し、いわゆる低反射性能を示すことが知られている。このような低反射性能を示す被膜は、光反射防止膜として種々の基材表面に適用され、例えば、ディスプレイなどの表示材料の外光の映り込み防止などに使用される。 It is known that when a coating having a refractive index lower than that of the base material is formed on the surface of the base material, the reflectance of light reflected from the surface of the coating film is reduced, and so-called low reflection performance is exhibited. Such a film showing low reflection performance is applied to various substrate surfaces as a light reflection preventing film, and is used, for example, for preventing reflection of external light from a display material such as a display.
一般に、反射防止膜は、その膜厚が０．１μｍ前後の薄膜であるため、優れた低反射性能を有していたとしても、十分な耐擦傷性を付与することは困難である。耐擦傷性が不十分であれば、反射防止膜表面に付着した汚れ等を布等で擦って除去した場合、膜に傷が付いたり、膜が剥離することにより、低反射性能の低下や外観の悪化などの問題が生じることになる。このため、低反射性能と耐擦傷性能とを併せ持つ被膜の開発が求められている。 In general, since the antireflection film is a thin film having a film thickness of about 0.1 μm, it is difficult to impart sufficient scratch resistance even if it has excellent low reflection performance. If the scratch resistance is inadequate, when dirt or the like adhering to the surface of the antireflection film is removed by rubbing with a cloth or the like, the film is scratched or the film peels off, resulting in a decrease in low reflection performance or appearance. Problems such as deterioration will occur. For this reason, development of a film having both low reflection performance and scratch resistance performance is required.
反射防止用樹脂として、低屈折率を示すフッ素原子含有ポリマーを利用することが検討されている。例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体等のパーフルオ口重合体は１．４０以下の低屈折率を有する。しかしながら、これらの低屈折率を示すフッ素原子含有ポリマーは、透明性が不十分な上に、有機溶剤に対する溶解性に劣り、さらには熱加工性も悪い。このため、当該ポリマーを基材に薄膜（例えば、０．１〜０．２μｍ程度）の膜厚で塗布することは非常に困難であり、反射防止用樹脂としては不適当である。 The use of a fluorine atom-containing polymer exhibiting a low refractive index as an antireflection resin has been studied. For example, perfluorinated polymers such as polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, and tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer have a low refractive index of 1.40 or less. However, these fluorine-atom-containing polymers exhibiting a low refractive index are not sufficiently transparent, have poor solubility in organic solvents, and have poor heat processability. For this reason, it is very difficult to apply the polymer in a thin film (for example, about 0.1 to 0.2 μm) on the base material, which is inappropriate as an antireflection resin.
そこで熱加工性および有機溶剤に対する溶解性の改良を目的として、テトラフルオロエチレンモノマーと他のモノマーとの共重合体が提案されている。しかしながら、このような共重合体は、屈折率が１．４０以上になるため、反射防止用樹脂としては不適当である。 Accordingly, for the purpose of improving heat processability and solubility in organic solvents, copolymers of tetrafluoroethylene monomer and other monomers have been proposed. However, since such a copolymer has a refractive index of 1.40 or more, it is not suitable as an antireflection resin.
このほかに、高い透明性及び溶剤に対する溶解性を有する非結晶性パーフルオロ樹脂（例えば、「サイトップ」(商品名、旭硝子株式会社製)、「テフロン（登録商標）ＡＦ」(商品名、アメリカ・デュポン社製)等）が開発されている。しかしながら、当該樹脂からなる被膜の表面硬度は低く、耐摩耗性にも劣る。 In addition, non-crystalline perfluoro resins having high transparency and solubility in solvents (for example, “Cytop” (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), “Teflon (registered trademark) AF” (trade name, USA)・ DuPont) etc.) have been developed. However, the surface hardness of the coating made of the resin is low and the wear resistance is also poor.
また、反射防止用樹脂として、フッ素化された芳香族性ポリマー［例えば、側鎖にフルオロアルキル基を有する芳香族性モノマーをモノマー成分とするポリマー（例えば、含フルオロアルキルスチレンを含むモノマー成分の重合体など）など］も提案されている。しかしながら、このような芳香族性ポリマーは、有機溶剤に対する溶解性は改善されているものの、芳香族基が紫外線を吸収するため劣化が進行し、長期安定性(耐候性)に劣る上、芳香族基が高い屈折率を示し、反射防止用樹脂としては不適当である。 In addition, as an antireflection resin, a fluorinated aromatic polymer [for example, a polymer containing an aromatic monomer having a fluoroalkyl group in the side chain as a monomer component (for example, a polymer of a monomer component containing fluoroalkylstyrene). Etc.) have also been proposed. However, such an aromatic polymer has improved solubility in organic solvents, but the aromatic group absorbs ultraviolet rays, so that the deterioration proceeds and the long-term stability (weather resistance) is poor. The group exhibits a high refractive index and is not suitable as an antireflection resin.
また、特開昭６４−１８５７３号公報（特許文献１）、特開平１−１４９８０８号公報（特許文献２）および特開平６−１１５０２３号公報(特許文献３)では、アクリル酸フルオロアルキルエステル重合体やメタアクリル酸フルオロアルキルエステル重合体、その他含フッ素非晶性共重合体等の透明含フッ素共重合体が合成され、低反射コート等への応用が試みられている。しかしながら、これら含フッ素共重合体からなる被膜は、屈折率は低いものの、いずれも硬度が低く、ベンコット摩耗試験により３０往復以内で該被膜に傷が付くため、低反射コート層として、実用上使用するのが困難な状況である。 JP-A-64-18573 (Patent Document 1), JP-A-1-149808 (Patent Document 2) and JP-A-6-11523 (Patent Document 3) disclose a fluoroalkyl ester polymer of acrylic acid. Transparent fluorocopolymers such as methacrylic acid fluoroalkyl ester polymers and other fluorinated amorphous copolymers have been synthesized and applied to low reflection coatings. However, the coatings made of these fluorinated copolymers have a low refractive index, but all have low hardness, and the coatings are scratched within 30 reciprocations by the Bencott abrasion test, so that they are practically used as a low reflection coating layer. It is a difficult situation to do.
また、特開昭６１−８５３４５号公報（特許文献４）、特開昭６０−７８９４０号公報（特許文献５）および日本化学会誌、１９８５、（１０）、１９２４〜１９２８（非特許文献１）では、α−フルオロアクリル酸及びそのフルオロアルキルエステルについて種々検討されており、例えば、α−フルオロアクリル酸フルオライドの製造法、α−フルオロアクリル酸メチルの製造法、α−フルオロアクリル酸−２，２，２−トリフルオロエチルの製造法が報告されている。さらに、特許第３３７４４９５号公報（特許文献６）には、ジ−（α−フルオロアクリル酸)フルオロアルキルエステルと含フッ素重合体とを含有する含フッ素硬化性組成物を重合硬化して得られる反射防止用含フッ素硬化被膜が、鉛筆硬度Ｈ以上の表面硬度と、１．３８８以下の屈折率とを有することが開示されている。しかしながら、これらのα−フルオロアクリル酸及びそのフルオロアルキルエステルは、アクリル酸フルオロアルキルエステルに比べてより低い屈折率を示すが、表面硬度は低く、耐摩耗性に劣る。 Further, in JP-A-61-85345 (Patent Document 4), JP-A-60-78940 (Patent Document 5) and Journal of the Chemical Society of Japan, 1985, (10), 1924-1928 (Non-Patent Document 1) , Α-fluoroacrylic acid and fluoroalkyl esters thereof have been studied in various ways, for example, a method for producing α-fluoroacrylic acid fluoride, a method for producing methyl α-fluoroacrylate, α-fluoroacrylic acid-2,2, A method for producing 2-trifluoroethyl has been reported. Further, Japanese Patent No. 3374495 (Patent Document 6) discloses a reflection obtained by polymerizing and curing a fluorinated curable composition containing di- (α-fluoroacrylic acid) fluoroalkyl ester and a fluorinated polymer. It is disclosed that the fluorine-containing cured coating for prevention has a surface hardness of pencil hardness H or higher and a refractive index of 1.388 or lower. However, these α-fluoroacrylic acids and their fluoroalkyl esters exhibit a lower refractive index than acrylic acid fluoroalkyl esters, but have low surface hardness and poor wear resistance.
また、細孔(ミクロボイド)により被膜を低屈折率化させる方法も種々検討されている。例えば、「シンソリッドフィルムズ（Ｔｈｉｎ ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ）、１２９、１９８５、１」（非特許文献２）では、テトラエトキシシランを原料に用いて、ゾルゲル法により細孔を有するＳｉＯ２薄膜を基体に塗布し、反射防止膜を製造する方法が開示されている。また、特許第２９１３７１５号公報（特許文献７）では、モノアルキルトリアルコキシシランとポリエーテルと有機溶媒とを含む溶液を基体表面に塗布し、モノアルキルトリアルコキシシランの一部または全部を脱水縮合させた塗布膜とし、その後前記ポリエーテルを前記塗布膜から有機溶媒により溶出させて基体に反射防止性を有する膜を形成する方法が提案されている。同様に、特開平１１−６９０２号公報（特許文献８）では、細孔をもうけて低屈折率化をはかっている。また、特開平１１−３８２０１号公報（特許文献９）では、含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子とミクロボイドとを含む低屈折率層を形成している。しかしながら、これらの文献の方法では、細孔により膜の屈折率を低下させた場合、膜の機械強度の急激な低下は避けられず、指紋等の汚れ拭取り性も悪化する。 In addition, various methods for reducing the refractive index of a coating film by pores (microvoids) have been studied. For example, in “Thin Solid Films, 129, 1985, 1” (Non-patent Document 2), tetraethoxysilane is used as a raw material, and a SiO 2 thin film having pores is applied to a substrate by a sol-gel method. A method of manufacturing an antireflection film is disclosed. In Japanese Patent No. 2913715 (Patent Document 7), a solution containing a monoalkyltrialkoxysilane, a polyether and an organic solvent is applied to the surface of a substrate, and a part or all of the monoalkyltrialkoxysilane is dehydrated and condensed. There has been proposed a method of forming a coating film, and then eluting the polyether from the coating film with an organic solvent to form a film having antireflection properties on a substrate. Similarly, in Japanese Patent Laid-Open No. 11-6902 (Patent Document 8), a refractive index is lowered by providing pores. Japanese Patent Laid-Open No. 11-38201 (Patent Document 9) forms a low refractive index layer containing fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer and microvoids. However, in the methods of these documents, when the refractive index of the film is lowered due to the pores, a sharp drop in the mechanical strength of the film is unavoidable, and the wiping property of dirt such as fingerprints also deteriorates.
なお、これらの方法の中で、ゾルゲル法にて架橋して形成された膜は、低屈折率でありながら比較的耐擦傷性に優れている。すなわち、溶媒の乾燥と加熱にともなって、アルコキシシランのような反応性シリル基を加水分解し、そして縮合して架橋することにより形成する膜が、低屈折率でありながら耐擦傷性に優れる。しかしながら、ゾルゲル法では、形成後の膜表面に極性の比較的強い未反応シラノール基が残存し、このシラノール基が滑り性を阻害し、結果として膜の強度が低下する。 Among these methods, a film formed by crosslinking by a sol-gel method has a relatively high scratch resistance while having a low refractive index. That is, a film formed by hydrolyzing a reactive silyl group such as alkoxysilane and condensing and crosslinking with drying and heating of the solvent is excellent in scratch resistance while having a low refractive index. However, in the sol-gel method, unreacted silanol groups having a relatively strong polarity remain on the film surface after the formation, and this silanol group inhibits slipperiness, resulting in a decrease in film strength.
そのため、滑り性を向上させる方法として、例えば、特開平１０−１４７７３９号公報（特許文献１０）には、シランカップリングされたフッ素含有共重合体とアルコキシシラン(およびコロイダルシリカ)とを加水分解および縮合反応に供し、反射防止層を形成する方法が開示されている。しかし、この方法で形成される膜では、満足するレベルで滑り性を向上できない。なお、この文献には、さらにスリップ剤を添加することに言及されているが、その材料や配合量などの具体的記述はない。 Therefore, as a method for improving the slipperiness, for example, JP-A-10-147739 (Patent Document 10) discloses hydrolyzing a silane-coupled fluorine-containing copolymer and alkoxysilane (and colloidal silica). A method for forming an antireflection layer by subjecting it to a condensation reaction is disclosed. However, the film formed by this method cannot improve the slipperiness at a satisfactory level. In addition, although this document mentions that a slip agent is further added, there is no specific description of the material, blending amount, and the like.
また、特開平１１−７２６０２号公報（特許文献１１）では、非晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率層への耐磨耗性付与のため、反射防止機能を損なわない程度に、低屈折率層表面に潤滑剤を塗布したり、低屈折率層中に潤滑剤を配合してもよいとされている。同様に、前記特許文献９でも、任意の潤滑剤の添加によって、滑り性を付与し、耐擦傷性を良化することが記載されている。さらに特開平１１−１２６０２号公報（特許文献１２）では、潤滑剤としてフッ素系オイルが例示されている。しかし、滑剤や潤滑剤の添加は、滑り性の付与と同時に架橋の形成を阻害し、形成される膜の強度が低下し、通常はかえって耐擦傷性の低下を招く。このため、滑剤や潤滑剤の添加について、これまであまり積極的に検討がなされていないのが実情である。 In JP-A-11-72602 (Patent Document 11), in order to impart wear resistance to a low refractive index layer made of an amorphous fluoropolymer, the antireflection function is low enough not to be impaired. It is said that a lubricant may be applied to the surface of the refractive index layer, or a lubricant may be blended in the low refractive index layer. Similarly, Patent Document 9 describes that the addition of an arbitrary lubricant imparts slipperiness and improves scratch resistance. Furthermore, JP-A-11-12602 (Patent Document 12) exemplifies fluorine-based oil as a lubricant. However, the addition of a lubricant or a lubricant inhibits the formation of crosslinks at the same time as imparting slipperiness, lowering the strength of the formed film, and usually leads to a decrease in scratch resistance. For this reason, the fact is that the addition of lubricants and lubricants has not been actively studied so far.
滑剤（又は潤滑剤）の添加を積極的に検討した数少ない例として、特開２０００−１７８４６９号公報（特許文献１３）には、活性エネルギー線の照射または加熱により硬化する不飽和基含有フッ素系材料に０．１〜１５重量％のシリコーンオイルを添加する技術が開示されている。しかしながら、この文献の不飽和基含有フッ素系材料では膜強度が満足できるレベルまで達していない。 As one of the few examples in which the addition of a lubricant (or lubricant) has been actively studied, JP 2000-178469 A (Patent Document 13) discloses an unsaturated group-containing fluorine-based material that is cured by irradiation with active energy rays or heating. Discloses a technique of adding 0.1 to 15% by weight of silicone oil. However, the unsaturated group-containing fluorine-based material of this document does not reach a satisfactory level of film strength.
なお、滑り性を向上させる方法として、前記特許文献８および特開平７−７０３４４号公報（特許文献１４）では、低屈折率組成物からなる薄膜層上に潤滑剤層（保護層）を設ける方法が提案されている。しかし、これらの方法では潤滑剤が架橋の形成を阻害することがないため、比較的優れた耐擦傷性を付与できるものの、潤滑剤層を積層する工程が増えるため、生産性が著しく劣る。
従って、本発明の目的は、滑剤又は潤滑剤を含んでいても架橋被膜を形成できる組成物、この組成物を用いて形成した反射防止膜、およびこの反射防止膜の製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a composition capable of forming a crosslinked film even if it contains a lubricant or a lubricant, an antireflection film formed using the composition, and a method for producing the antireflection film. is there.
本発明の他の目的は、単層構造であっても高い機械強度、滑り性及び耐擦傷性を有する反射防止膜を形成可能な組成物、この組成物を用いて形成した反射防止膜、およびこの反射防止膜の製造方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to provide a composition capable of forming an antireflection film having a high mechanical strength, slipperiness and scratch resistance even in a single layer structure, an antireflection film formed using this composition, and An object of the present invention is to provide a method for manufacturing the antireflection film.
本発明の他の目的は、ゾルゲル法により架橋しても、膜強度を低下させることなく、低反射性能（低屈折率）を有し、かつ優れた滑り性、耐擦傷性および機械強度を有する反射防止膜を形成できる組成物、この組成物を用いて形成した反射防止膜、およびこの反射防止膜の製造方法を提供することにある。 Another object of the present invention is to have low reflection performance (low refractive index) without reducing film strength even when crosslinked by a sol-gel method, and has excellent slipperiness, scratch resistance and mechanical strength. An object of the present invention is to provide a composition capable of forming an antireflection film, an antireflection film formed using the composition, and a method for producing the antireflection film.
本発明者は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、アルコキシシラン類などの反応性シリル基を有する架橋性成分と、この架橋性成分を可溶な溶媒と、この溶媒に対して特定の溶解度を示す潤滑剤とを組み合わせ、前記潤滑剤を溶媒に対して実質的に溶解させると、良好な機械強度、滑り性及び耐擦傷性を有する低屈折率反射防止膜を形成できることを見いだし、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventor has found that a crosslinkable component having a reactive silyl group such as alkoxysilanes, a solvent capable of dissolving the crosslinkable component, and a specific solvent solvent. It was found that a low refractive index antireflection film having good mechanical strength, slipperiness and scratch resistance can be formed by combining a lubricant exhibiting solubility and substantially dissolving the lubricant in a solvent. Completed the invention.
すなわち、本発明の反射防止膜形成用組成物は、反応性シリル基を有する架橋性成分と、この架橋性成分を可溶な溶媒と、この溶媒に対する溶解度が０．００１〜１０重量％である潤滑剤とを含む反射防止膜形成用組成物であって、前記溶媒に対して実質的に溶解した割合で潤滑剤を含む。前記架橋性成分は、アルコキシシラン類、例えば、テトラアルコキシシラン類およびビス（トリアルコキシシリル）アルカン類から選択された少なくとも１種で構成してもよい。また、前記潤滑剤は、パラフィン（流動パラフィン、固体パラフィンなど）で構成してもよい。 That is, the composition for forming an antireflection film of the present invention has a crosslinkable component having a reactive silyl group, a solvent soluble in the crosslinkable component, and a solubility in this solvent of 0.001 to 10% by weight. An antireflective film-forming composition containing a lubricant, wherein the lubricant is contained in a proportion substantially dissolved in the solvent. The crosslinkable component may be composed of at least one selected from alkoxysilanes such as tetraalkoxysilanes and bis (trialkoxysilyl) alkanes. The lubricant may be made of paraffin (liquid paraffin, solid paraffin, etc.).
前記組成物において、潤滑剤の割合は、前記架橋性成分１００重量部に対して、例えば、０．５〜１０重量部程度であってもよい。また、前記組成物において、潤滑剤の割合は、溶媒に対する溶解度以下であればよく、例えば、溶媒１００重量部に対して０．０１〜１重量部程度であってもよい。本発明の組成物は、反射防止膜を形成するための組成物として有用であり、通常、このような反射防止膜において、前記架橋性成分が反応（例えば、加水分解）して架橋し（又は架橋性成分が架橋し）、低屈折率組成物を形成可能であってもよい。 In the composition, the ratio of the lubricant may be, for example, about 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the crosslinkable component. Moreover, in the said composition, the ratio of a lubricant should just be below the solubility with respect to a solvent, for example, about 0.01-1 weight part may be sufficient with respect to 100 weight part of solvents. The composition of the present invention is useful as a composition for forming an antireflection film. Usually, in such an antireflection film, the crosslinkable component reacts (for example, is hydrolyzed) to be crosslinked (or The crosslinkable component may be cross-linked) to form a low refractive index composition.
また、本発明には、前記反射防止膜形成用組成物で形成された反射防止膜も含まれる。反射防止膜では、反応性シリル基を有する架橋性成分の反応（例えば、加水分解）により架橋した低屈折率組成物が形成されていてもよく、その平均厚み（均厚み）は、例えば、０．０１〜０．５μｍ程度であってもよい。膜全体に対する潤滑剤の割合は、０．５〜１０重量％程度であってもよい。 The present invention also includes an antireflection film formed from the antireflection film forming composition. In the antireflection film, a low refractive index composition crosslinked by reaction of a crosslinkable component having a reactive silyl group (for example, hydrolysis) may be formed, and the average thickness (uniform thickness) is, for example, 0 It may be about .01 to 0.5 μm. The ratio of the lubricant to the entire film may be about 0.5 to 10% by weight.
前記反射防止膜は、例えば、前記反射防止膜形成用組成物を基材に塗布し、反応性シリル基を有する架橋性成分の反応（例えば、加水分解）により架橋させることにより形成してもよい。 The antireflection film may be formed, for example, by applying the antireflection film-forming composition to a substrate and crosslinking it by a reaction (for example, hydrolysis) of a crosslinkable component having a reactive silyl group. .
本発明の反射防止膜形成用組成物は、滑剤又は潤滑剤を含んでいても架橋被膜を形成でき、前記組成物を用いて形成した反射防止膜は、単層構造であっても、優れた滑り性、耐擦傷性および機械強度を有する反射防止膜を提供することができる。このような反射防止膜は、光反射防止膜として種々の基材表面に適用され、例えば、ディスプレイなどの表示材料の外光の映り込み防止などに有用である。また、本発明の反射防止膜形成用組成物は、ゾルゲル法により架橋しても、従来のように膜強度を低下させることなく、低反射性能（低屈折率）を有し、かつ優れた滑り性、耐擦傷性および機械強度を有する反射防止膜を提供することができる。 The composition for forming an antireflective film of the present invention can form a crosslinked film even when it contains a lubricant or a lubricant, and the antireflective film formed using the composition is excellent even if it has a single-layer structure. An antireflection film having slipperiness, scratch resistance and mechanical strength can be provided. Such an antireflection film is applied to the surface of various substrates as a light antireflection film, and is useful, for example, in preventing reflection of external light from a display material such as a display. In addition, the composition for forming an antireflection film of the present invention has low reflection performance (low refractive index) and excellent slippage without reducing film strength as in the past even when crosslinked by a sol-gel method. It is possible to provide an antireflective film having good properties, scratch resistance and mechanical strength.
本発明の反射防止膜形成用組成物は、下記の反応性シリル基を有する架橋性成分と溶媒と潤滑剤とを含む。 The composition for forming an antireflective film of the present invention comprises the following crosslinkable component having a reactive silyl group, a solvent, and a lubricant.
（反応性シリル基を有する架橋性成分）
反応性シリル基を有する架橋性成分（反応性シリル基を含有する低屈折率組成物前駆体）とは、前記シリル基が（又は前記シリル基を介して）反応（例えば、加水分解）することにより架橋する成分（前駆体）であればよく、通常、低屈折率組成物を形成することができる成分である。反応性シリル基を有する架橋性成分（以下、単に「架橋性成分」ともいう）としては、分子中に少なくとも１以上の反応性シリル基を有していれば特に限定はなく、例えば、アルコキシシラン類、少なくとも１つ以上の反応性シリル基を含有するフッ素含有ポリマー（又はオリゴマー）、ハロシラン類［例えば、テトラハロシラン（テトラクロロシランなど）およびその縮合物（又は部分縮合物又はオリゴマー）など］、アリールオキシシラン類［例えば、テトラアリールオキシシラン（テトラフェノキシシランなど）およびその縮合物（又は部分縮合物又はオリゴマー）など］などが挙げられる。
(Crosslinkable component having a reactive silyl group)
A crosslinkable component having a reactive silyl group (low refractive index composition precursor containing a reactive silyl group) is a reaction (for example, hydrolysis) of the silyl group (or via the silyl group). Any component (precursor) that can be cross-linked by the above-described method can be used. The crosslinkable component having a reactive silyl group (hereinafter also simply referred to as “crosslinkable component”) is not particularly limited as long as it has at least one reactive silyl group in the molecule. For example, alkoxysilane , Fluorine-containing polymers (or oligomers) containing at least one or more reactive silyl groups, halosilanes [eg tetrahalosilanes (such as tetrachlorosilane) and condensates thereof (or partial condensates or oligomers)], Aryloxysilanes [for example, tetraaryloxysilane (tetraphenoxysilane and the like) and condensates (or partial condensates or oligomers thereof)] and the like.
（アルコキシシラン類）
アルコキシシラン類としては、例えば、テトラアルコキシシラン類（例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテトラＣ１−４アルコキシシラン類など）、トリアルコキシシラン類［例えば、アルキルトリアルコキシシラン類（例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシランなどのＣ１−４アルキルトリＣ１−４アルコキシシラン）、アリールトリアルコキシシラン類（例えば、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのＣ６−１０アリールトリＣ１−４アルコキシシラン）など］、ジアルコキシシラン類［例えば、ジアルキルジアルコキシシラン類（例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジブチルジメトキシシシランなどのジＣ１−４アルキルジＣ１−４アルコキシシランなど）、ジアリールジアルコキシシラン類（例えば、ジフェニルジメトキシシランなどのジＣ６−１０アリールジＣ１−４アルコキシシランなど）など］、複数の反応性シリル基を有するアルコキシシラン類、これらのアルコキシシラン類が縮合（重縮合又は加水分解縮合）したポリアルコキシシラン類（又は縮合物）などが挙げられる。
(Alkoxysilanes)
Examples of the alkoxysilanes include tetraalkoxysilanes (for example, tetra C1-4 alkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane), trialkoxysilanes, and the like. [E.g., alkyltrialkoxysilanes (e.g., C1-4 alkyl such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane) tri C 1-4 alkoxy silane), aryl trialkoxysilanes (e.g., phenyltrimethoxysilane, C 6-10 Arirutori C 1-4 alkoxysilane such as phenyltriethoxysilane), etc.], Alkoxysilanes [e.g., dialkyl dialkoxy silanes (e.g., dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, and di C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane such as dibutyl dimethoxy silane), diaryl dialkoxy silanes ( For example, diC 6-10 aryl di C 1-4 alkoxysilane such as diphenyldimethoxysilane)], alkoxysilanes having a plurality of reactive silyl groups, and condensation (polycondensation or hydrolysis condensation) of these alkoxysilanes ) Polyalkoxysilanes (or condensates).
複数の反応性シリル基を有するアルコキシシラン類としては、例えば、ビス（モノ乃至トリアルコキシシリル）アルカン類｛例えば、ビス（トリアルコキシシリル）アルカン類［例えば、ビス（トリメトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）エタン、１−メチル−１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１−エチル−１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１−プロピル−１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１−イソプロピル−１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、ビス（トリメトキシシリル）プロパン、ビス（トリメトキシシリル）ブタン、ビス（トリメトキシシリル）ペンタン、ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、ビス（トリプロポキシシリル）ヘキサン、ビス（トリブトキシシリル）ヘキサン、ビス（トリメトキシシリル）ヘプタン、ビス（トリメトキシシリル）オクタンなどのビス（トリＣ１−６アルコキシシリル）Ｃ１−２０アルカン、好ましくはビス（トリＣ１−４アルコキシシリル）Ｃ１−１２アルカン、さらに好ましくはビス（トリＣ１−２アルコキシシリル）Ｃ１−８アルカンなど］など｝、これらのビス（モノ乃至トリアルコキシシリル）アルカン類に対応するビス（モノ乃至トリアルコキシシリル）アレーン類（例えば、ビス（モノ乃至トリアルコキシシリル）ベンゼン類）、ビス（モノ乃至トリアルコキシシリルアルキル）アレーン類（例えば、１，４−ビス（トリメトキシシリルエチル）ベンゼン、ビス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］ベンゼンなどのビス（モノ乃至トリアルコキシシリルアルキル）ベンゼン類）、ビス（モノ乃至トリアルコキシシリル）（ポリ）スルフィド類、ビス（モノ乃至トリアルコキシシリルアルキル）（ポリ）スルフィド類（例えば、ビス［３−（トリエトキシシリル）プロピル］テトラスルフィドなど）などが挙げられる。 Examples of alkoxysilanes having a plurality of reactive silyl groups include bis (mono to trialkoxysilyl) alkanes {for example, bis (trialkoxysilyl) alkanes [for example, bis (trimethoxysilyl) ethane, bis ( Triethoxysilyl) ethane, 1-methyl-1,2-bis (trimethoxysilyl) ethane, 1-ethyl-1,2-bis (trimethoxysilyl) ethane, 1-propyl-1,2-bis (trimethoxy) Silyl) ethane, 1-isopropyl-1,2-bis (trimethoxysilyl) ethane, bis (trimethoxysilyl) propane, bis (trimethoxysilyl) butane, bis (trimethoxysilyl) pentane, bis (trimethoxysilyl) Hexane, bis (tripropoxysilyl) hexane, bis (tributoxysilyl) Hexane, bis (trimethoxysilyl) heptane, bis (trimethoxysilyl) bis octane (tri C 1-6 alkoxysilyl) C 1-20 alkane, preferably bis (tri C 1-4 alkoxysilyl) C 1- 12 alkanes, more preferably bis (tri-C 1-2 alkoxysilyl) C 1-8 alkanes, etc.]}, and bis (mono-trialkoxysilyl) arenes corresponding to these bis (mono-trialkoxysilyl) alkanes (For example, bis (mono to trialkoxysilyl) benzenes), bis (mono to trialkoxysilylalkyl) arenes (for example, 1,4-bis (trimethoxysilylethyl) benzene, bis [3- (triethoxy Bis (mono to trialkoxysilyl) such as silyl) propyl] benzene Alkyl) benzenes), bis (mono to trialkoxysilyl) (poly) sulfides, bis (mono to trialkoxysilylalkyl) (poly) sulfides (eg bis [3- (triethoxysilyl) propyl] tetrasulfide) Etc.).
なお、前記アルコキシシラン類には、アルコキシ基やビス（モノ乃至トリアルコキシシリル）アルカン類におけるアルカン骨格などにおいて、置換基［ヒドロキシル基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子など）、カルボキシル基、アミノ基、置換アミノ基（モノ又はジアルキルアミノ基など）、エポキシ基含有基（グリシジル基、グリシジルオキシ基など）、イソシアネート基、炭化水素基（アルキル基、アリール基など）、炭化水素基に対応するエーテル基（例えば、アルコキシ基など）など］を有する（又は置換基が置換した）アルコキシシランも含まれる。代表的な置換基を有するアルコキシシラン類には、例えば、ハロゲン原子（特にフッ素原子）で置換されたビス（モノ乃至トリアルコキシシリル）アルカン類［例えば、ビス（トリエトキシシリル）テトラフルオロエタンなどのビス（トリＣ１−４アルコキシシリル）ハロＣ１−１２アルカンなど］、シランカップリング剤（後述のシランカップリング剤など）などが含まれる。 The alkoxysilanes include an alkoxy group, an alkane skeleton in a bis (mono to trialkoxysilyl) alkane, etc., a substituent [hydroxyl group, halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom), carboxyl group, Corresponds to amino group, substituted amino group (mono or dialkylamino group, etc.), epoxy group-containing group (glycidyl group, glycidyloxy group, etc.), isocyanate group, hydrocarbon group (alkyl group, aryl group, etc.), hydrocarbon group An alkoxysilane having an ether group (for example, an alkoxy group or the like) (or substituted with a substituent) is also included. Representative alkoxysilanes having substituents include, for example, bis (mono to trialkoxysilyl) alkanes substituted with halogen atoms (particularly fluorine atoms) [for example, bis (triethoxysilyl) tetrafluoroethane, etc. Bis (tri C 1-4 alkoxysilyl) halo C 1-12 alkane etc.], silane coupling agents (such as silane coupling agents described later) and the like.
なお、前記ポリアルコキシシラン類（又はオリゴアルコキシシラン類）は、同一又は異なるアルコキシシラン類が、アルコキシシリル基（の一部）において縮合（加水分解縮合又は部分的に縮合）した縮合物（オリゴマー、ポリマー）であればよい。このようなポリアルコキシシラン類の縮合度（又は重合度）は、例えば、２〜１００、好ましくは３〜５０、さらに好ましくは４〜２０（例えば、５〜１０）程度であってもよい。また、ポリアルコキシシラン類の平均分子量は、２００〜１０００００程度の範囲から選択でき、例えば、２００〜２００００、好ましくは３００〜１００００（例えば、４００〜８０００）、さらに好ましくは５００〜５０００（例えば、１０００〜３０００）程度であってもよい。 The polyalkoxysilanes (or oligoalkoxysilanes) are condensates (oligomers) obtained by condensation (hydrolysis condensation or partial condensation) of the same or different alkoxysilanes in (a part of) the alkoxysilyl group. Polymer). The degree of condensation (or degree of polymerization) of such polyalkoxysilanes may be, for example, about 2 to 100, preferably 3 to 50, and more preferably about 4 to 20 (for example, 5 to 10). Moreover, the average molecular weight of polyalkoxysilanes can be selected from the range of about 200 to 100,000, for example, 200 to 20000, preferably 300 to 10000 (for example, 400 to 8000), more preferably 500 to 5000 (for example, 1000). ˜3000).
なお、複数の反応性シリル基を有するアルコキシシラン類およびその縮合物（オリゴマー）としては、特開２００１−１８７８６４号公報に記載のアルコキシシラン類（有機ケイ素化合物）を使用してもよい。 As alkoxysilanes having a plurality of reactive silyl groups and their condensates (oligomers), alkoxysilanes (organosilicon compounds) described in JP-A No. 2001-187864 may be used.
アルコキシシラン類は市販されているものを用いることもでき、市販品としては、例えば、「ＳＳ−１９００」（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製：テトラエトキシシラン)、「ＳＳ−１６７０」（同社製：メチルトリメトキシシラン)、「ＳＳ−１６５０」（同社製：メチルトリエトキシシラン）、「ＳＳ−１８４０」(同社製：フェニルトリメトキシシラン)、「ＳＳ−１６５０」（同社製：メチルトリエトキシシラン）、「ＳＳ−１８４０」（同社製：ｎ−ブチルトリメトキシシラン)、「ＳＳ−１２６０」（同社製：ジメチルジメトキシシラン）、「ＳＳ−１２５０」（同社製：ジメチルジエトキシシラン)、「ＳＳ−１３００」（同社製:ジフェニルジメトキシシラン）などを挙げることができる。 Commercially available alkoxysilanes can also be used. Examples of commercially available products include “SS-1900” (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd .: tetraethoxysilane), “SS-1670” ( Company: Methyltrimethoxysilane), “SS-1650” (manufactured by: methyltriethoxysilane), “SS-1840” (manufactured by: phenyltrimethoxysilane), “SS-1650” (manufactured by: methyltrimethoxysilane) Ethoxysilane), “SS-1840” (manufactured by: n-butyltrimethoxysilane), “SS-1260” (manufactured by: dimethyldimethoxysilane), “SS-1250” (manufactured by: dimethyldiethoxysilane), “SS-1300” (manufactured by the same company: diphenyldimethoxysilane) and the like can be mentioned.
（フッ素含有ポリマー）
少なくとも１つ以上の反応性シリル基を含有するフッ素含有ポリマー（又はオリゴマー）としては、反応性シリル基を有するシランカップリング剤で変性されたフッ素含有ポリマーなどが挙げられる。このようなフッ素含有ポリマーとしては、例えば、反応性基（例えば、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基など）を有するフッ素含有ポリマーと、加水分解性シリル基を有するシランカップリング剤とを反応させることにより得られるポリマー（以下、変性フッ素含有共重合体ともいう）などが挙げられる。なお、このようなフッ素含有共重合体は、例えば、特開平１０−１４７７３９号公報などを参照することもできる。
(Fluorine-containing polymer)
Examples of the fluorine-containing polymer (or oligomer) containing at least one reactive silyl group include a fluorine-containing polymer modified with a silane coupling agent having a reactive silyl group. Examples of such a fluorine-containing polymer include a fluorine-containing polymer having a reactive group (for example, a hydroxyl group, an epoxy group, an amino group, a carboxyl group, etc.) and a silane coupling agent having a hydrolyzable silyl group. Examples thereof include polymers obtained by the reaction (hereinafter also referred to as modified fluorine-containing copolymers). For such a fluorine-containing copolymer, reference can be made to, for example, JP-A-10-147739.
前記反応性基を有するフッ素含有ポリマーとしては、例えば、フッ素含有単量体［例えば、フッ化オレフィン（例えば、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンなどのフッ化Ｃ２−１０オレフィン、好ましくはフッ化α−Ｃ２−４オレフィン、特にヘキサフルオロプロピレン）、フッ素含有アクリル系単量体（例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸フッ化アルキルエステル）など］と、反応性基を有する共重合性単量体との共重合体などが挙げられる。 Examples of the fluorine-containing polymer having a reactive group include a fluorine-containing monomer [for example, fluorinated olefin (for example, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, hexafluoropropylene). , Fluorinated C 2-10 olefins such as tetrafluoroethylene, preferably fluorinated α-C 2-4 olefins, especially hexafluoropropylene, fluorine-containing acrylic monomers (eg 2,2,2-trifluoro) Ethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (Perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate and other (meth) acrylic acid fluorinated alkyl esters)] and a copolymer of a copolymerizable monomer having a reactive group.
反応性基を有する共重合性単量体としては、例えば、ヒドロキシル基含有単量体［例えば、ヒドロキシル基含有ビニルエーテル（例えば、ヒドロキシルエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテルなどのヒドロキシＣ２−８アルキル−ビニルエーテル、好ましくはヒドロキシＣ２−４アルキル−ビニルエーテルなど）、ヒドロキシル基含有アリルエーテル（例えば、ヒドロキシルエチルアリルエーテル、グリセロールアリルエーテルなどのモノ又はジヒドロキシＣ２−８アルキル−アリルエーテルなど）、アリルアルコールなど］、エポキシ基含有単量体［例えば、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどのグリシジルエーテル類；クロトン酸グリシジル、（メタ）アクリル酸グリシジルなどのグリシジルエステル類；グリシドキシアルキルビニルジアルコキシシランなどのエポキシ基含有ビニルアルコキシシラン類など］、アミノ基含有単量体［例えば、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレートなどのジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート、アクリルアミド、ビニルピリジン、ビニルカプロラクタムなど］、カルボキシル基含有単量体［例えば、クロトン酸、イタコン酸、α−ビニル酢酸、（メタ）アクリル酸などの不飽和カルボン酸類；フマル酸ビニル、マレイン酸ビニル、コハク酸ビニル、フタル酸ビニルなどの多価カルボン酸ビニルエステル類；フマル酸メチル、マレイン酸エチルなどの多価不飽和カルボン酸モノアルキルエステル類；カルボキシアルキルビニルジアルコキシシランなど］などが挙げられる。 Examples of the copolymerizable monomer having a reactive group include a hydroxyl group-containing monomer [for example, a hydroxyl group-containing vinyl ether (for example, hydroxy C 2-8 alkyl such as hydroxyl ethyl vinyl ether and 3-hydroxypropyl vinyl ether). vinyl ether, preferably a hydroxy C 2-4 alkyl - vinyl ether), a hydroxyl group-containing allyl ethers (e.g., hydroxyethyl allyl ether, mono- or dihydroxy C 2-8 alkyl, such as glycerol allyl ether - allyl ether), allyl alcohol, etc. ], Epoxy group-containing monomers [for example, glycidyl ethers such as vinyl glycidyl ether and allyl glycidyl ether; glycidyl crotonate, glycidyl (meth) acrylate, etc. Diesters; epoxy group-containing vinylalkoxysilanes such as glycidoxyalkylvinyl dialkoxysilane], amino group-containing monomers [for example, dialkyl such as diethylaminopropyl (meth) acrylate and dimethylaminopropyl (meth) acrylate) Aminoalkyl (meth) acrylate, acrylamide, vinylpyridine, vinylcaprolactam, etc.], carboxyl group-containing monomers [eg, unsaturated carboxylic acids such as crotonic acid, itaconic acid, α-vinylacetic acid, (meth) acrylic acid; Polycarboxylic acid vinyl esters such as vinyl acid vinyl, vinyl maleate, vinyl succinate and vinyl phthalate; Polyunsaturated carboxylic acid monoalkyl esters such as methyl fumarate and ethyl maleate; Alkoxysilane etc.].
なお、前記フッ素含有ポリマーは、さらに他の共重合性単量体［例えば、メチルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル類；酢酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル類；エチレンなどのα−オレフィン類；メチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル類などの反応性基を有しない共重合性単量体］を重合成分とする共重合体であってもよい。 In addition, the fluorine-containing polymer may contain other copolymerizable monomers [for example, alkyl vinyl ethers such as methyl vinyl ether; carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate; α-olefins such as ethylene; methyl (meth)]. A copolymer having a polymerizable component as a polymerizable component having no reactive group such as acrylate and (meth) acrylic acid esters such as 2-methoxyethyl (meth) acrylate may be used.
フッ素含有ポリマーは、フッ素含有単量体及び／又は共重合性単量体を、単独で又は２種以上組み合わせて重合成分とするポリマーであってもよい。 The fluorine-containing polymer may be a polymer containing a fluorine-containing monomer and / or a copolymerizable monomer alone or in combination of two or more thereof as a polymerization component.
代表的な反応性基を有するフッ素含有ポリマーとしては、ヒドロキシル基を有するフッ素含有ポリマー（例えば、ヘキサフルオロプロピレン／ヒドロキシアルキルビニルエーテル／アルキルビニルエーテルコポリマー、ヘキサフルオロプロピレン／ヒドロキシアルキルビニルエーテル／パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）／アルキルビニルエーテルコポリマー、ヘキサフルオロプロピレン／ヒドロキシアルキルビニルエーテル／パーフルオロ（アルコキシアルキル）ビニルエーテル／アルキルビニルエーテルコポリマー、ヘキサフルオロプロピレン／ヒドロキシアルキルビニルエーテル／（パーフルオロアルキル）ビニルエーテル／アルキルビニルエーテルコポリマー、ヘキサフルオロプロピレン／ヒドロキシアルキルビニルエーテル／（パーフルオロアルコキシアルキル）ビニルエーテル／アルキルビニルエーテルコポリマーなどが挙げられる。 Typical fluorine-containing polymers having reactive groups include fluorine-containing polymers having hydroxyl groups (eg, hexafluoropropylene / hydroxyalkyl vinyl ether / alkyl vinyl ether copolymer, hexafluoropropylene / hydroxyalkyl vinyl ether / perfluoro (alkyl vinyl ether)). / Alkyl vinyl ether copolymer, hexafluoropropylene / hydroxyalkyl vinyl ether / perfluoro (alkoxyalkyl) vinyl ether / alkyl vinyl ether copolymer, hexafluoropropylene / hydroxyalkyl vinyl ether / (perfluoroalkyl) vinyl ether / alkyl vinyl ether copolymer, hexafluoropropylene / hydroxyalkyl Vinyl ether Etc. (perfluoroalkoxy alkyl) vinyl ether / alkyl vinyl ether copolymers.
前記シランカップリング剤としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物などが含まれる。 Examples of the silane coupling agent include compounds represented by the following general formula (1).
Ｒ２−Ｓｉ（ＯＲ１）ｎ（Ｒ３）ｍ （１）
（式中、Ｒ１およびＲ３は、同一または異なって、それぞれアルキル基、アリール基またはアルコキシアルキル基を示し、Ｒ２は、前記フッ素含有ポリマーの反応性基と反応可能な官能基を含む基を示す。ｎは１〜３の整数、ｍは０〜２の整数、ｎ＋ｍは３を示す。）
上記式（１）において、Ｒ２は、前記フッ素含有ホモ又はコポリマーの反応性基と反応可能な官能基とを有していればよく、通常、官能基を有するアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのＣ１−８アルキル基、好ましくはＣ１−６アルキル基、さらに好ましくはＣ１−４アルキル基）を示す。前記官能基としては、前記反応性基の種類に応じて、例えば、エポキシ基、置換されていてもよいアミノ基、イソシアネート基、メルカプト基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。例えば、前記反応性基がヒドロキシル基であるとき、前記官能基は、エポキシ基、イソシアネート基、カルボキシル基などであってもよい。
R 2 —Si (OR 1 ) n (R 3 ) m (1)
Wherein R 1 and R 3 are the same or different and each represents an alkyl group, an aryl group or an alkoxyalkyl group, and R 2 is a group containing a functional group capable of reacting with the reactive group of the fluorine-containing polymer. N represents an integer of 1 to 3, m represents an integer of 0 to 2, and n + m represents 3.)
In the above formula (1), R 2 only needs to have a functional group capable of reacting with the reactive group of the fluorine-containing homo- or copolymer, and usually an alkyl group having a functional group (for example, a methyl group, A C 1-8 alkyl group such as an ethyl group, a propyl group or a butyl group, preferably a C 1-6 alkyl group, more preferably a C 1-4 alkyl group). Examples of the functional group include an epoxy group, an optionally substituted amino group, an isocyanate group, a mercapto group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and a (meth) acryloyl group, depending on the type of the reactive group. It is done. For example, when the reactive group is a hydroxyl group, the functional group may be an epoxy group, an isocyanate group, a carboxyl group, or the like.
代表的な前記シランカップリング剤としては、エポキシ基を有するシランカップリング剤｛例えば、グリシドキシアルキルトリアルコキシシラン類（例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシランなどのグリシドキシＣ２−６アルキル−トリＣ１−４アルコキシシラン）、グリシドキシアルキルトリアリールオキシシラン類（γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシランなど）、グリシドキシアルキルジアルコキシシラン類（例えば、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシランなどのグリシドキシＣ２−６アルキル−Ｃ１−４アルキル−ジＣ１−４アルコキシシラン）、エポキシシクロアルキルアルキルトリアルコキシシラン類[例えば、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシランなどのエポキシシクロアルキルＣ１−６アルキルトリＣ１−４アルコキシシランなど]など｝、アミノ基を有するシランカップリング剤｛例えば、アミノアルキルトリアルコキシシラン類[例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ基が置換されていてもよいアミノＣ２−６アルキルトリＣ１−４アルコキシシランなど]、アミノアルキルジアルコキシシラン類[例えば、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシランなどのアミノ基が置換されていてもよいアミノＣ２−６アルキル−Ｃ１−４アルキル−ジＣ１−４アルコキシシラン]、Ｎ，Ｎ−ビス（γ−トリメトキシシリルプロピル）アミンなど｝、イソシアネート基を有するシランカップリング剤［例えば、トリアルコキシシリルアルキルイソシアネート（例えば、γ−トリメトキシシリルプロピルイソシアネート、γ−トリエトキシシリルプロピルイソシアネートなどのイソシアネートＣ２−６アルキル−トリＣ１−４アルコキシシランなど）など］、メルカプト基を有するシランカップリング剤｛例えば、メルカプトアルキルトリアルコキシシラン類[例えば、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのメルカプトＣ２−６アルキル−トリＣ１−４アルコキシシランなど]、メルカプトアルキルジアルコキシシラン類[例えば、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのメルカプトＣ２−６アルキル−Ｃ１−４アルキル−ジＣ１−４アルコキシシランなど]など｝、（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤｛例えば、（メタ）アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン類[例えば、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどの（メタ）アクリロキシＣ２−６アルキル−トリＣ１−４アルコキシシランなど]、（メタ）アクリロキシアルキルジアルコキシシラン類［例えば、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランなどの（メタ）アクリロキシＣ２−６アルキル−Ｃ１−４アルキル−ジＣ１−４アルコキシシランなど]など｝などが挙げられる。 Typical examples of the silane coupling agent include silane coupling agents having an epoxy group {for example, glycidoxyalkyltrialkoxysilanes (for example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethylsilane). Glycidoxy C 2-6 alkyl-tri C 1-4 alkoxysilane) such as methoxysilane), glycidoxyalkyltriaryloxysilanes (eg, γ-glycidoxypropyltriphenoxysilane), glycidoxyalkyl dialkoxysilanes (For example, glycidoxy C 2-6 alkyl-C 1-4 alkyl-di C 1-4 alkoxy such as γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyldiethoxysilane, glycidoxypropylphenyldimethoxysilane, etc. Silane), Epo Xycycloalkylalkyltrialkoxysilanes [for example, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl Triethoxysilane, epoxycycloalkyl C 1-6 alkyltri C 1-4 alkoxysilane such as δ- (3,4-epoxycyclohexyl) butyltrimethoxysilane, etc.]}, silane coupling agent having an amino group {for example Aminoalkyltrialkoxysilanes [for example, amino C 2-6 alkyltri C 1-4 alkoxysilanes in which the amino group may be substituted, such as γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, etc. Etc.], aminoalkyl Alkoxysilanes [for example, amino groups such as γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane are substituted. Amino C 2-6 alkyl-C 1-4 alkyl-diC 1-4 alkoxysilane], N, N-bis (γ-trimethoxysilylpropyl) amine, etc.}, a silane coupling agent having an isocyanate group [For example, trialkoxysilylalkyl isocyanate (eg, isocyanate C 2-6 alkyl-tri C 1-4 alkoxysilane such as γ-trimethoxysilylpropyl isocyanate, γ-triethoxysilylpropyl isocyanate, etc.), etc.], mercapto group Silane coupling with Agents {e.g., mercaptoalkyl trialkoxysilanes [e.g., .gamma.-mercaptopropyltrimethoxysilane mercapto C 2-6 alkyl, such as - tri C 1-4 alkoxysilane such as, mercaptoalkyl dialkoxysilane [e.g., .gamma. Mercaptopropylmethyldimethoxysilane and the like mercapto C 2-6 alkyl-C 1-4 alkyl-diC 1-4 alkoxysilane etc.], etc.], silane coupling agents having a (meth) acryloyl group {for example, (meth) acrylic Roxyalkyltrialkoxysilanes [for example, (meth) acryloxy C 2-6 alkyl-tri C 1-4 alkoxysilane such as γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane], (meth) acryloxyalkyl dialkoxy Silanes [eg γ- Methacryloxypropyl methyl dimethoxy silane such as (meth) acryloxy C 2-6 alkyl -C 1-4 alkyl - and di C 1-4 alkoxysilane] etc.} and the like.
なお、前記フッ素含有ポリマーは、シランカップリング剤のアルコキシ基を介して、部分的に縮合したポリマーであってもよい。 The fluorine-containing polymer may be a polymer partially condensed through an alkoxy group of a silane coupling agent.
これら架橋性成分は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 These crosslinkable components can be used alone or in combination of two or more.
これらの架橋性成分のうち、テトラアルコキシシラン類［例えば、テトラＣ１−４アルコキシシランおよびその縮合物（オリゴマー）など］、ビス（トリアルコキシシリル）アルカン類［例えば、ビス（トリＣ１−４アルコキシシリル）Ｃ１−１２アルカンおよびその縮合物（オリゴマー）、特に、ビス（トリＣ１−４アルコキシシリル）Ｃ１−１２アルカンの縮合物］などのアルコキシシラン類が好ましい。 Among these crosslinkable components, tetraalkoxysilanes [for example, tetra C1-4 alkoxysilane and condensates thereof (oligomers), etc.], bis (trialkoxysilyl) alkanes [for example, bis ( triC1-4 Alkoxysilanes such as (alkoxysilyl) C 1-12 alkane and its condensate (oligomer), in particular, bis (tri-C 1-4 alkoxysilyl) C 1-12 alkane condensate] are preferred.
特に、架橋性成分は、耐擦傷性や成膜性の観点から、非ポリマー型のアルコキシシラン類（例えば、テトラＣ１−４アルコキシシラン、ビス（トリＣ１−４アルコキシシリル）Ｃ１−１２アルカンなどのモノアルコキシシラン類又はアルコキシシランの単量体）と、ポリアルコキシシラン類（例えば、テトラＣ１−４アルコキシシランの縮合物、ビス（トリＣ１−４アルコキシシリル）Ｃ１−１２アルカンの縮合物など）とで構成してもよい。 In particular, the crosslinkable component is a non-polymer type alkoxysilane (for example, tetra- C1-4 alkoxysilane, bis (tri- C1-4 alkoxysilyl) C1-12 from the viewpoint of scratch resistance and film formability. Monoalkoxysilanes such as alkanes or monomers of alkoxysilanes) and polyalkoxysilanes (for example, condensates of tetra C1-4 alkoxysilanes, bis (tri C1-4 alkoxysilyl) C1-12 alkanes) Or a condensate thereof).
非ポリマー型のアルコキシシラン類と、ポリアルコキシラン類とを組み合わせる場合、これらのアルコキシシラン類の割合は、例えば、前者／後者（重量比）＝３／９７〜９５／５、好ましくは５／９５〜８０／２０、さらに好ましくは１０／９０〜６０／４０（例えば、１５／８５〜５０／５０）程度であってもよい。 When combining non-polymer type alkoxysilanes and polyalkoxylanes, the ratio of these alkoxysilanes is, for example, the former / the latter (weight ratio) = 3/97 to 95/5, preferably 5/95. It may be about -80/20, more preferably 10 / 90-60 / 40 (for example, 15 / 85-50 / 50).
なお、前記組成物における架橋性成分の割合は、反射防止膜形成用組成物（液）の保存安定性と上任意の厚みでの均一な膜形成性能とを考慮して、０．１〜２０重量％（例えば、０．３〜１５重量％）、好ましくは０．５〜１０重量％（例えば、０．７〜８重量％）、さらに好ましくは１〜５重量％程度であってもよい。 The ratio of the crosslinkable component in the composition is 0.1 to 20 in consideration of the storage stability of the antireflection film-forming composition (liquid) and the uniform film-forming performance at an arbitrary thickness. % By weight (for example, 0.3 to 15% by weight), preferably 0.5 to 10% by weight (for example, 0.7 to 8% by weight), more preferably about 1 to 5% by weight.
（溶媒）
反射防止膜形成用組成物に含まれる溶媒は、前記反応性シリル基を有する架橋性成分を可溶な溶媒であれば特に限定はない。
(solvent)
The solvent contained in the composition for forming an antireflection film is not particularly limited as long as it is a solvent that can dissolve the crosslinkable component having a reactive silyl group.
用いる溶媒は、架橋性成分の種類によって適宜選択すればよく、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノールなどの直鎖状または分岐鎖状Ｃ１−４アルコール類など）、ケトン類（例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）などの脂肪族ケトン類、シクロヘキサノンなどの脂環族ケトン類、ジアセトンアルコールなどのジケトン類など）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル類、乳酸エチルなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートなど）、エーテル類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）などが挙げられる。これらの溶媒は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、アルコール類、ＭＥＫやＭＩＢＫなどのケトン類が好ましく、２−プロパノールなどのＣ１−３アルコール類、ＭＩＢＫなどの脂肪族ケトン類がより好ましい。特に、安全性、環境適性と均一塗工性、塗工乾燥速度などを両立する溶媒として、２−プロパノールが好ましい。 The solvent to be used may be appropriately selected depending on the type of the crosslinkable component. For example, alcohols (eg, linear or branched C 1-4 alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, etc.), Ketones (for example, aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone (MIBK), alicyclic ketones such as cyclohexanone, diketones such as diacetone alcohol), esters (for example, ethyl acetate, Examples thereof include acetates such as butyl acetate, ethyl lactate, etc.), cellosolves (eg, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, etc.), ethers (eg, propylene glycol monomethyl ether, etc.), and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Among these, alcohols, ketones such as MEK and MIBK are preferable, and C 1-3 alcohols such as 2-propanol, and aliphatic ketones such as MIBK are more preferable. In particular, 2-propanol is preferable as a solvent that achieves both safety, environmental suitability, uniform coating property, coating drying speed, and the like.
溶媒の添加量は、架橋性成分を実質的に溶解できる量以上であればよく、通常、架橋性成分１重量部に対して、例えば、３０〜１００重量部、好ましくは３５〜７５重量部（例えば、３５〜６５重量部）、さらに好ましくは４０〜６０重量部（例えば、４５〜５５重量部）程度であってもよい。 The amount of the solvent added is not limited as long as it can substantially dissolve the crosslinkable component, and is usually, for example, 30 to 100 parts by weight, preferably 35 to 75 parts by weight with respect to 1 part by weight of the crosslinkable component ( For example, it may be about 35 to 65 parts by weight), more preferably about 40 to 60 parts by weight (for example, 45 to 55 parts by weight).
（潤滑剤）
反射防止膜形成用組成物に含まれる潤滑剤（又は滑剤）は、組成物を構成する溶媒に対する溶解度が０．００１〜１０重量％程度である。本明細書における「溶解度」とは、２５℃での溶液中における潤滑剤の濃度（重量％）を意味する。用いる溶媒に対する潤滑剤の溶解度は、好ましくは０．００５〜８重量％程度、さらに好ましくは０．０１〜５重量％程度である。潤滑剤の溶解度がこの範囲より小さいと、形成される膜の滑り性が向上せず、膜強度が十分でなくなるおそれがある。逆に、この範囲を超えると潤滑剤が架橋性成分同士の架橋を阻害し、膜強度が十分でなくなるおそれがある。
(lubricant)
The lubricant (or lubricant) contained in the composition for forming an antireflection film has a solubility in the solvent constituting the composition of about 0.001 to 10% by weight. “Solubility” in the present specification means the concentration (% by weight) of a lubricant in a solution at 25 ° C. The solubility of the lubricant in the solvent to be used is preferably about 0.005 to 8% by weight, more preferably about 0.01 to 5% by weight. If the solubility of the lubricant is smaller than this range, the slipping property of the formed film is not improved, and the film strength may not be sufficient. On the contrary, if it exceeds this range, the lubricant may inhibit the crosslinking of the crosslinkable components, and the film strength may not be sufficient.
潤滑剤は、通常樹脂組成物にて潤滑剤として用いられるもののうち、上記溶解度を満たすものであれば特に限定はなく、例えば、シリコーンオイル（例えば、ポリオルガノシロキサン（例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン等）など）、天然ワックス（例えば、カルナウバワックス、キャンデリラワックス、ホホバ油、ライスワックス、木ろう、蜜ろう、ラノリン、鯨ろう、モンタンワックス等）、石油ワックス（例えば、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス等）、合成ワックス（例えば、ポリエチレンワックス、フィッシャー・トロプシュワックス等）、高級脂肪酸アミド（例えば、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ'−アルキレンビスステアリン酸アミド（例えば、Ｎ，Ｎ'−メチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ'−エチレンビスステアリン酸アミド等）など）、高級脂肪酸エステル（例えば、ステアリン酸メチル、ステアリン酸ブチル、グリセリンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート等）、高級脂肪酸金属塩（例えば、ステアリン酸亜鉛等）、フッ素系潤滑剤（例えば、直鎖型パーフルオロポリエーテル、側鎖型パーフルオロポリエーテル等）およびその誘導体（例えば、アルコール変性パーフルオロポリエーテル、イソシアネート変性パーフルオロポリエーテル等）などを挙げることができる。 The lubricant is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned solubility among those usually used as a lubricant in a resin composition. For example, silicone oil (for example, polyorganosiloxane (for example, polydimethylsiloxane, polydiethyl) is used. Siloxane, polydiphenylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, alkyl-modified polydimethylsiloxane, etc.), natural waxes (eg carnauba wax, candelilla wax, jojoba oil, rice wax, wood wax, beeswax, lanolin, whale wax) , Montan wax, etc.), petroleum wax (eg, paraffin wax, microcrystalline wax, etc.), synthetic wax (eg, polyethylene wax, Fischer-Tropsch wax, etc.), higher fatty acid amide (eg, stearic acid) Amide, oleic acid amide, N, N′-alkylene bis stearic acid amide (for example, N, N′-methylene bis stearic acid amide, N, N′-ethylene bis stearic acid amide, etc.), higher fatty acid esters (for example, , Methyl stearate, butyl stearate, glycerin monostearate, sorbitan monooleate, etc.), higher fatty acid metal salts (eg, zinc stearate), fluorine-based lubricants (eg, linear perfluoropolyether, side) Chain-type perfluoropolyether) and derivatives thereof (for example, alcohol-modified perfluoropolyether, isocyanate-modified perfluoropolyether, etc.).
また、シリコーンオイルは、反応性シリコーンオイルと非反応性シリコーンオイルとに分類され、非反応性シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、フェニルメチルシリコーンオイル、アルキル・アラルキル変性シリコーンオイル、フルオロシリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、脂肪酸エステル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。反応性シリコーンオイルとしては、例えば、メチル水素シリコーンオイル、シラノール基含有シリコーンオイル、アルコキシ基含有シリコーンオイル、フェノール基含有シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、カルボン酸変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。これらシリコーンオイルは単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。また、反応性シリコーンオイルは、必要に応じて他の官能基が導入されていてもよい。 Silicone oils are classified into reactive silicone oils and non-reactive silicone oils. Examples of non-reactive silicone oils include dimethyl silicone oil, phenylmethyl silicone oil, alkyl / aralkyl-modified silicone oil, and fluorosilicone oil. , Polyether-modified silicone oil, fatty acid ester-modified silicone oil, and the like. Examples of reactive silicone oil include methyl hydrogen silicone oil, silanol group-containing silicone oil, alkoxy group-containing silicone oil, phenol group-containing silicone oil, methacryl-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, carboxylic acid-modified silicone oil, and carbinol. Examples include modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, mercapto-modified silicone oil, fluorine-modified silicone oil, and polyether-modified silicone oil. These silicone oils can be used alone or in combination of two or more. The reactive silicone oil may have other functional groups introduced as necessary.
パラフィンとしては、炭素数１０〜３０程度、好ましくは１５〜２５程度、より好ましくは２０〜２５程度のパラフィンを主成分とするパラフィンが挙げられ、例えば、流動パラフィン、固体パラフィン（固形パラフィン）などが挙げられる。固体パラフィンの融点は、例えば、２５〜８０℃、好ましくは３０〜７５℃、さらに好ましくは３５〜７０℃程度であってもよい。これらのパラフィンは単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 Examples of the paraffin include paraffins mainly composed of paraffin having about 10 to 30 carbon atoms, preferably about 15 to 25 carbon atoms, and more preferably about 20 to 25 carbon atoms. Examples thereof include liquid paraffin and solid paraffin (solid paraffin). Can be mentioned. The melting point of the solid paraffin may be, for example, 25 to 80 ° C, preferably 30 to 75 ° C, and more preferably about 35 to 70 ° C. These paraffins can be used alone or in combination of two or more.
潤滑剤としてこれら成分を単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。潤滑剤としては、パラフィン（室温で液体又は固体のパラフィン）が好ましく、特に流動パラフィン、融点４５℃以下（例えば、３０〜４０℃程度）の固体パラフィンが好ましい。 These components can be used alone or in combination of two or more as a lubricant. The lubricant is preferably paraffin (liquid or solid paraffin at room temperature), particularly liquid paraffin and solid paraffin having a melting point of 45 ° C. or lower (for example, about 30 to 40 ° C.).
なお、潤滑剤は、前記組成物において、通常の温度［例えば、室温（１５〜２５℃程度）］下で、前記組成物を用いて塗膜を形成する際（又は塗布時）に、前記溶媒に溶解していればよい。例えば、溶媒（塗布温度）に対する溶解度が０．１重量％である潤滑剤を用いる場合、潤滑剤の添加量は溶媒１００重量部に対して、０．１重量部以下である。この具体例において、溶媒１００重量部に対する潤滑剤の割合が０．１重量部より大きいことは、溶解度を超えることと同一であり、結果として潤滑剤の一部を溶解できない。このような反射防止膜形成用組成物を用いて膜を形成した場合、潤滑剤が均一とならず、膜の滑り性を向上させることができず、膜強度も低下するおそれがある。 The lubricant is used in the composition when the coating film is formed (or applied) with the composition at a normal temperature [for example, room temperature (about 15 to 25 ° C.)]. It only has to be dissolved in For example, when a lubricant having a solubility of 0.1% by weight with respect to the solvent (application temperature) is used, the amount of lubricant added is 0.1 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the solvent. In this specific example, the ratio of the lubricant to 100 parts by weight of the solvent being greater than 0.1 parts by weight is the same as exceeding the solubility, and as a result, a part of the lubricant cannot be dissolved. When a film is formed using such an antireflection film-forming composition, the lubricant is not uniform, the film slipperiness cannot be improved, and the film strength may be reduced.
前記組成物において、潤滑剤の割合は、前記架橋性成分１００重量部に対して、例えば、０．５〜１０重量部程度、好ましくは０．７５〜７．５重量部程度、さらに好ましくは１〜５重量部程度であってもよい。 In the composition, the ratio of the lubricant is, for example, about 0.5 to 10 parts by weight, preferably about 0.75 to 7.5 parts by weight, more preferably 1 to 100 parts by weight of the crosslinkable component. About 5 parts by weight may be used.
また、前記組成物において、前記溶媒に対する潤滑剤の割合は、潤滑剤の溶解度に応じて選択でき、前記溶媒１００重量部に対して、例えば、０．００１〜１０重量部（例えば、０．００２〜８重量部）、好ましくは０．００３〜５重量部（例えば、０．００５〜３重量部）、さらに好ましくは０．００８〜２重量部（例えば、０．０１〜１重量部）、特に０．０１〜０．５重量部（例えば、０．０１５〜０．３重量部）であってもよい。 In the composition, the ratio of the lubricant to the solvent can be selected according to the solubility of the lubricant, and is, for example, 0.001 to 10 parts by weight (for example, 0.002 to 100 parts by weight of the solvent). -8 parts by weight), preferably 0.003-5 parts by weight (eg 0.005-3 parts by weight), more preferably 0.008-2 parts by weight (eg 0.01-1 part by weight), especially 0.01-0.5 weight part (for example, 0.015-0.3 weight part) may be sufficient.
さらに、前記組成物における潤滑剤の割合は、膜（反射防止膜）形成後の固形分換算で、例えば、０．２〜１５重量％、好ましくは０．３〜１２重量％（例えば、０．５〜１０重量％）、さらに好ましくは０．６〜７重量％、特に０．８〜５重量％程度であってもよい。 Furthermore, the ratio of the lubricant in the composition is, for example, 0.2 to 15% by weight, preferably 0.3 to 12% by weight (for example, 0.8%) in terms of solid content after the film (antireflection film) is formed. 5 to 10% by weight), more preferably 0.6 to 7% by weight, and particularly about 0.8 to 5% by weight.
なお、本発明の反射防止膜形成用組成物は、架橋性成分、溶媒および潤滑剤以外に、本発明の目的を阻害しない添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、消泡剤などが挙げられる。これら添加剤は公知のものを用いればよい。 In addition, the composition for antireflection film formation of this invention may contain the additive which does not inhibit the objective of this invention other than a crosslinkable component, a solvent, and a lubrication agent. Examples of such additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, leveling agents, and antifoaming agents. These additives may be known ones.
このような本発明の組成物は、反射防止膜を形成するための組成物として有用であり、通常、前記架橋性成分の反応により架橋し、低屈折率組成物を形成可能である。 Such a composition of the present invention is useful as a composition for forming an antireflection film, and can be crosslinked by reaction of the crosslinkable component to form a low refractive index composition.
（反射防止膜）
本発明の反射防止膜は、前記反射防止膜形成用組成物で形成されており、通常、基材と、この基材に形成された前記組成物とで構成されている。そして、前記組成物は、反射防止膜において、前記のように、通常、前記架橋性成分が反応により架橋した低屈折率組成物を形成している。このような反射防止膜は、例えば、前記反射防止膜形成用組成物を基材に塗布し、乾燥させた後、前記架橋性成分を反応（通常、加水分解反応）により架橋させることにより得ることができる。
(Antireflection film)
The antireflection film of the present invention is formed of the composition for forming an antireflection film, and is usually composed of a base material and the composition formed on the base material. In the antireflection film, the composition usually forms a low refractive index composition in which the crosslinkable component is crosslinked by reaction as described above. Such an antireflection film is obtained, for example, by applying the antireflection film-forming composition to a substrate and drying it, and then crosslinking the crosslinkable component by a reaction (usually a hydrolysis reaction). Can do.
なお、本発明では、前記組成物（又は反射防止塗料）を用いることにより、耐擦傷性の良好な低屈折率の反射防止膜が得られる。すなわち、前記反射防止膜形成用組成物（反射防止用塗料）を基材に塗布すると、乾燥により溶媒が蒸発し、架橋性成分（低屈折率組成物前駆体）および潤滑剤が濃縮されていく。そして、通常、まず潤滑剤の濃度が溶解度を超えるか、もしくは溶解度に近くなるため、潤滑剤が被膜（塗膜）の表面に析出する。そして、架橋性成分同士が架橋され、低屈折率組成物で構成された強固な被膜が形成される。詳細には、形成された被膜において、潤滑剤は被膜（塗膜）の表面に析出して比較的多く偏在するため、十分な滑り性が得られる。また、架橋性成分（低屈折率組成物前駆体）が架橋する時には潤滑剤がすでに被膜表面に析出しているため、潤滑剤によって架橋が阻害されず、その結果、強固な被膜（塗膜）を形成することができ、また潤滑剤の混入による屈折率の上昇も少ない。 In the present invention, a low-refractive index antireflective film having good scratch resistance can be obtained by using the composition (or antireflective coating). That is, when the antireflection film-forming composition (antireflection coating) is applied to a substrate, the solvent is evaporated by drying, and the crosslinkable component (low refractive index composition precursor) and the lubricant are concentrated. . Usually, first, the lubricant concentration exceeds the solubility or becomes close to the solubility, so that the lubricant is deposited on the surface of the coating film (coating film). And a crosslinkable component is bridge | crosslinked and the firm film comprised with the low refractive index composition is formed. Specifically, in the formed film, the lubricant is deposited on the surface of the film (coating film) and is relatively unevenly distributed, so that sufficient slipping property can be obtained. In addition, when the crosslinkable component (low refractive index composition precursor) is crosslinked, the lubricant is already deposited on the surface of the coating, so that crosslinking is not inhibited by the lubricant, resulting in a strong coating (coating film). The refractive index rises little due to the incorporation of the lubricant.
なお、架橋性成分の架橋（加水分解縮合）は、前記組成物に加えて、縮合反応を促進するための触媒［水、酸触媒（例えば、硫酸などのルイス酸）］の存在下で行ってもよい。このような触媒は、塗布前の前記組成物に添加してもよく、塗布後の塗膜に対して適用してもよい。 Crosslinking (hydrolytic condensation) of the crosslinkable component is performed in the presence of a catalyst [water, acid catalyst (for example, Lewis acid such as sulfuric acid)] for promoting the condensation reaction in addition to the composition. Also good. Such a catalyst may be added to the composition before coating, or may be applied to the coating film after coating.
本発明の反射防止膜形成用組成物（反射防止塗料）を塗布又は塗工する基材としては、用途に応じて適宜選択でき、例えば、光透過性樹脂［例えば、セルロースエステル系樹脂（トリアセチルセルロース、セルロールアセテートブチレートなど）、ポリエステル系樹脂（ポリエチレンテレフタレートなど）、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂（例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのメタクリル酸メチルを主成分とする樹脂）、スチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体など）など］で形成されたフィルム（透光性フィルム）、ガラスなどが挙げられる。なお、基材（又は基材フィルム）は、ハードコート処理されていてもよい。また、ハードコート処理に形成されたハードコート層は、平滑であってもよく、表面に微小な凹凸を設けたアンチグレア層であってもよい。ハードコート処理は、例えば、光重合性化合物［例えば、多官能（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル系化合物］を、基材フィルムに塗布して、紫外線などの光を照射して硬化させて行うことができる。 The substrate on which the composition for forming an antireflection film (antireflection coating) of the present invention is applied or applied can be appropriately selected depending on the application. For example, a light-transmitting resin [for example, a cellulose ester resin (triacetyl) Cellulose, cellulose acetate butyrate, etc.), polyester resin (polyethylene terephthalate, etc.), polycarbonate resin, acrylic resin (for example, resin mainly composed of methyl methacrylate such as polymethyl methacrylate), styrene resin (polystyrene) Styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, etc.)] and the like. In addition, the base material (or base film) may be hard-coated. Further, the hard coat layer formed by the hard coat treatment may be smooth or an anti-glare layer having minute irregularities on the surface. The hard coat treatment is performed by, for example, applying a photopolymerizable compound [for example, (meth) acrylic compound such as polyfunctional (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate), etc. to a base film. It can be carried out by irradiation with light such as ultraviolet rays.
なお、前記組成物と基材との密着性を強化するため、基材には、表面処理（例えば、アミノシランカップリング剤、エポキシシランカップリング剤などのカップリング剤による表面処理；アミノ基、エポキシ基などの官能基を有するシリコーンプライマーによる表面処理；コロナ放電処理、紫外線処理などの活性エネルギー線処理など）を施してもよい。 In order to enhance the adhesion between the composition and the substrate, the substrate is subjected to a surface treatment (for example, a surface treatment with a coupling agent such as an aminosilane coupling agent or an epoxysilane coupling agent; an amino group, an epoxy Surface treatment with a silicone primer having a functional group such as a group; active energy ray treatment such as corona discharge treatment or ultraviolet treatment).
反射防止膜の平均厚み（均厚み）は、用途に応じて、例えば、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍ（例えば、０．０２〜０．３μｍ程度）、さらに好ましくは０．０５〜０．２μｍ程度であってもよい。また、本発明の反射防止膜は、本発明の効果が発揮できる限り、単層であっても、複数の層が積層してもよく、積層する場合、各層の厚みは上記範囲内で調整すればよい。 The average thickness (average thickness) of the antireflection film is, for example, 0.01 to 1 μm, preferably 0.01 to 0.5 μm (for example, about 0.02 to 0.3 μm), more preferably, depending on the application. It may be about 0.05 to 0.2 μm. In addition, the antireflection film of the present invention may be a single layer or a plurality of layers as long as the effects of the present invention can be exhibited. In the case of stacking, the thickness of each layer is adjusted within the above range. That's fine.
本発明の反射防止膜の屈折率は、基材の種類にもよるが、良好な反射防止効果を発揮するという観点から、例えば、１．４５以下（例えば、１．２５〜１．４４程度）、好ましくは１．４２以下（例えば、１．３０〜１．４１）、さらに好ましくは１．４０以下（例えば、１．３７〜１．３９）程度であってもよい。 The refractive index of the antireflection film of the present invention depends on the type of substrate, but is, for example, 1.45 or less (for example, about 1.25 to 1.44) from the viewpoint of exhibiting a good antireflection effect. , Preferably 1.42 or less (for example, 1.30 to 1.41), more preferably about 1.40 or less (for example, 1.37 to 1.39).
前記組成物の塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、ディップコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、コンマコート法、ワイヤーバーコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、フローコート法、スピンコート法などが採用できる。 The application method of the composition is not particularly limited, for example, dip coating method, roll coating method, spray coating method, gravure coating method, comma coating method, wire bar coating method, air knife coating method, curtain coating method, A flow coat method, a spin coat method, etc. can be adopted.
反射防止膜形成用組成物の塗布後、被膜（塗膜）には、通常、溶媒を除去するため、室温（１５〜２５℃程度）又は加温下で乾燥処理を施してもよい。 After application of the composition for forming an antireflective film, the coating film (coating film) may usually be subjected to a drying treatment at room temperature (about 15 to 25 ° C.) or under heating in order to remove the solvent.
塗膜を構成する架橋性成分の架橋は、通常、加熱下で行ってもよく、加熱温度は、通常、８０〜２５０℃程度、好ましくは１００〜２００℃程度、さらに好ましくは１２０℃〜１８０℃程度であってもよい。また、加熱時間は、架橋性成分の種類などに応じて適宜調整できる。 Crosslinking of the crosslinkable component constituting the coating film may be usually carried out under heating, and the heating temperature is usually about 80 to 250 ° C, preferably about 100 to 200 ° C, more preferably 120 ° C to 180 ° C. It may be a degree. The heating time can be adjusted as appropriate according to the type of the crosslinkable component.
本発明は、光反射防止膜として種々の基材表面に有効に適用できる。例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）などの方式のディスプレイなどの表示材料、光学レンズ、光学フィルム、めがねレンズ、光ファイバーのクラッド材料、導光板などの光学部品、防音板、看板、標識などの建築材料、水槽、自動車計器カバー、太陽電池カバー、ショーウィンドウガラスなどの表面に外光の映り込み防止などを目的として利用できる。 The present invention can be effectively applied to various substrate surfaces as a light reflection preventing film. For example, display materials such as liquid crystal display (LCD), cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), and other display materials, optical lenses, optical films, eyeglass lenses, optical fibers, etc. It can be used for the purpose of preventing reflection of external light on the surface of clad materials, optical parts such as light guide plates, soundproof plates, signboards, signs and other building materials, water tanks, automobile instrument covers, solar cell covers, show window glass, etc. .
以下に、実施例、参考例および比較例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples, Reference Examples, and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
なお、表１中、ＩＰＡは２−プロパノール（イソプロピルアルコール）を、ＭＩＢＫはメチルイソブチルケトンを示す。 In Table 1, IPA represents 2-propanol (isopropyl alcohol), and MIBK represents methyl isobutyl ketone.
参考例１
酢酸プロピオン酸セルロース（イーストマンケミカル社製ＣＡＰ４８２−２０）４．０重量部と、反応性オリゴマー（ダイセルＵＣＢ製サイクロマーＰ）８．３重量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）１９．７重量部と、反応開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、「イルガキュア１８４」）１．２５重量部とを混合溶媒（メチルエチルケトン／ブタノール＝７．５／２．５（重量比））６８重量部に溶解し、透明で均一な溶液を作製した。この溶液をワイヤーコー夕―＃５０で８０μｍ厚のトリアセチルセルロースフィルム（富士写真フイルム（株）製、「ＴＤ８０」）上に塗布し、室温にて５分間、さらに８０℃のオーブンで２分間乾燥することにより、相分離による微細な凹凸をコート表面に形成した。この膜にメタルハライドランプからの紫外線を約３０秒間照射し、膜を硬化させ、ハードコート性の防眩フィルム（基材フィルムＡ）を作製した。
Reference example 1
4.0 parts by weight of cellulose acetate propionate (CAP482-20 manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.), 8.3 parts by weight of reactive oligomer (Cyclomer P manufactured by Daicel UCB), and 19.7 dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 68 parts by weight of a mixed solvent (methyl ethyl ketone / butanol = 7.5 / 2.5 (weight ratio)) of 1.25 parts by weight of a reaction initiator (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 68 A transparent and uniform solution was prepared by dissolving in parts by weight. This solution is applied on a 80 μm thick triacetylcellulose film (“TD80” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with Wirecoat- # 50 and dried at room temperature for 5 minutes and further in an oven at 80 ° C. for 2 minutes. As a result, fine irregularities due to phase separation were formed on the coat surface. This film was irradiated with ultraviolet rays from a metal halide lamp for about 30 seconds to cure the film, and a hard coat antiglare film (base film A) was produced.
参考例２
特開２００１−１８７８６４号公報の実施例５と同様にして、ビス（トリエトキシシリル）エタン加水分解オリゴマー（ポリエチレン換算の平均分子量１５００）を調製した。
Reference example 2
Bis (triethoxysilyl) ethane hydrolyzed oligomer (average molecular weight 1500 in terms of polyethylene) was prepared in the same manner as in Example 5 of JP-A-2001-187864.
比較例１
架橋性成分としての、参考例２で調製したビス（トリエトキシシリル）エタン加水分解オリゴマー１．４重量部およびテトラエトキシシラン０．６重量部を、溶媒としての２−プロパノール９４重量部に溶解し、この溶液に触媒としての水２．９９重量部および硫酸０．１重量部を投入して塗料Ｂを作製した。
Comparative Example 1
As a crosslinkable component, 1.4 parts by weight of the bis (triethoxysilyl) ethane hydrolyzed oligomer prepared in Reference Example 2 and 0.6 parts by weight of tetraethoxysilane were dissolved in 94 parts by weight of 2-propanol as a solvent. Into this solution, 2.99 parts by weight of water as a catalyst and 0.1 part by weight of sulfuric acid were added to prepare paint B.
基材フィルムＡ上に、塗料Ｂをワイヤーバーコーター(６番)を用いて塗布し、室温にて乾燥した後、１４０℃のオーブン中に２分間入れて加熱することにより、加水分解（縮合）を進行させ、反射防止膜Ｂ（膜厚：０．１２μｍ）を作製した。 The coating material B is applied onto the base film A using a wire bar coater (No. 6), dried at room temperature, and then heated in a 140 ° C. oven for 2 minutes for hydrolysis (condensation). The antireflection film B (film thickness: 0.12 μm) was produced.
比較例２
架橋性成分としての、参考例２で調製したビス（トリエトキシシリル）エタン加水分解オリゴマー１．４重量部、ビス(トリエトキシシリル)テトラフルオロエタン０．３重量部およびテトラエトキシシラン０．３重量部を、溶媒としての２−プロパノール９４重量部に溶解し、触媒としての水２．９９重量部および硫酸０．０１重量部を投入して塗料Ｃを作製した。
Comparative Example 2
1.4 parts by weight of bis (triethoxysilyl) ethane hydrolyzed oligomer prepared in Reference Example 2, 0.3 parts by weight of bis (triethoxysilyl) tetrafluoroethane and 0.3 parts by weight of tetraethoxysilane as crosslinkable components A paint C was prepared by dissolving 2.99 parts by weight of 2-propanol as a solvent and adding 2.99 parts by weight of water and 0.01 part by weight of sulfuric acid as a catalyst.
基材フィルムＡ上に、塗料Ｃをワイヤーバーコーター（６番）を用いて塗布し、室温にて乾燥した後、１４０℃のオーブン中に２分間入れ加熱することにより、加水分解(縮合)を進行させ、反射防止膜Ｃ（膜厚：０．２μｍ）を作製した。 The coating material C is applied onto the base film A using a wire bar coater (No. 6), dried at room temperature, and then heated in a 140 ° C. oven for 2 minutes to effect hydrolysis (condensation). The antireflection film C (film thickness: 0.2 μm) was produced by proceeding.
実施例１
塗料Ｂ１００重量部に、２−プロパノールに対する溶解度が２重量％の流動パラフィン(Ａｌｄｒｉｃｈ製試薬)を０．０８重量部投入し２０分間攪拌して塗料Ｄを作製した。なお、流動パラフィンの塗料中の濃度は０．０８重量％であり、溶解度以下である。
Example 1
0.08 parts by weight of liquid paraffin (Aldrich reagent) having a solubility in 2-propanol of 2% by weight was added to 100 parts by weight of paint B, and stirred for 20 minutes to prepare paint D. In addition, the density | concentration in the coating material of a liquid paraffin is 0.08 weight%, and is below solubility.
塗料Ｄを用いた他は、比較例２と同様にして、反射防止膜Ｄ（膜厚：０．１２μｍ）を作製した。 An antireflection film D (film thickness: 0.12 μm) was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the paint D was used.
実施例２
塗料Ｃ１００重量部に、２−プロパノールに対する溶解度が２重量％の流動パラフィン(Ａｌｄｒｉｃｈ製試薬)を０．０８重量部投入し２０分間攪拌して塗料Ｅを作製した。なお、流動パラフィンの塗料中の濃度は０．０８重量％であり、溶解度以下である。
Example 2
0.08 parts by weight of liquid paraffin (Aldrich reagent) having a solubility in 2-propanol of 2% by weight was added to 100 parts by weight of paint C, and stirred for 20 minutes to prepare paint E. In addition, the density | concentration in the coating material of a liquid paraffin is 0.08 weight%, and is below solubility.
塗料Ｅを用いた他は、比較例２と同様にして、反射防止膜Ｅ（膜厚：０．０９μｍ）を作製した。 An antireflection film E (film thickness: 0.09 μm) was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that the paint E was used.
実施例３
塗料Ｂ１００重量部に、２−プロパノールに対する溶解度が８重量％の流動パラフィン（関東化学製試薬）を０．０８重量部投入し２０分間攪拌して塗料Ｆを作製した。なお、流動パラフィンの塗料中の濃度は０．０８重量％であり、溶解度以下である。
Example 3
0.08 parts by weight of liquid paraffin (reagent manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) having a solubility in 2-propanol of 8% by weight was added to 100 parts by weight of Paint B, and stirred for 20 minutes to prepare Paint F. In addition, the density | concentration in the coating material of a liquid paraffin is 0.08 weight%, and is below solubility.
塗料Ｆを用いた他は、比較例２と同様にして、反射防止膜Ｆ（膜厚：０．２０μｍ）を作製した。 An antireflection film F (film thickness: 0.20 μm) was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the paint F was used.
比較例３
塗料Ｂ１００重量部に、２−プロパノールに対する溶解度が約３５重量％の流動パラフィン(出光石油化学製Ｓ−３２)を０．０８重量部投入し２０分間攪拌して塗料Ｇを作製した。なお、流動パラフィンの塗料中の濃度は０．０８重量％であり、溶解度以下である。
Comparative Example 3
0.08 parts by weight of liquid paraffin (S-32 manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.) having a solubility in 2-propanol of about 35% by weight was added to 100 parts by weight of Paint B, and stirred for 20 minutes to prepare Paint G. In addition, the density | concentration in the coating material of a liquid paraffin is 0.08 weight%, and is below solubility.
塗料Ｇを用いた他は、比較例２と同様にして、反射防止膜Ｇ（膜厚：０．１０μｍ）を作製した。 An antireflection film G (film thickness: 0.10 μm) was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that the paint G was used.
比較例４
２−プロパノールに対する溶解度が２０重量％の流動パラフィン(出光石油化学製、Ｓ−１０)を用いた他は、比較例３と同様にして塗料Ｈを作製した。
Comparative Example 4
A coating material H was prepared in the same manner as in Comparative Example 3, except that liquid paraffin having a solubility in 2-propanol of 20% by weight (manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd., S-10) was used.
塗料Ｈを用いた他は、比較例２と同様にして、反射防止膜Ｈ（膜厚：０．１０μｍ）を作製した。 An antireflection film H (film thickness: 0.10 μm) was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the paint H was used.
比較例５
架橋性成分としての、参考例２で調製したビス（トリエトキシシリル）エタン加水分解オリゴマー１．４重量部およびテトラエトキシシラン０．６重量部を、溶媒としてのメチルイソブチルケトン９４重量部に溶解し、触媒としての水２．９９重量部および硫酸０．０１重量部を投入した。これに、メチルイソブチルケトンに対する溶解度が約１００重量％のシリコーンオイル(ＧＥ東芝シリコーン製、「ＴＳＥ３０６２（Ａ）」)を０．０８重量部投入し２０分間攪拌して塗料Ｉを作製した。なお、シリコーンオイルの塗料中の濃度は０．０８重量％であり、溶解度以下である。
Comparative Example 5
As a crosslinkable component, 1.4 parts by weight of the bis (triethoxysilyl) ethane hydrolysis oligomer prepared in Reference Example 2 and 0.6 parts by weight of tetraethoxysilane were dissolved in 94 parts by weight of methyl isobutyl ketone as a solvent. Then, 2.99 parts by weight of water as a catalyst and 0.01 parts by weight of sulfuric acid were added. To this, 0.08 part by weight of a silicone oil having a solubility in methyl isobutyl ketone of about 100% by weight (manufactured by GE Toshiba Silicone, “TSE3062 (A)”) was added and stirred for 20 minutes to prepare Paint I. In addition, the density | concentration in the coating material of silicone oil is 0.08 weight%, and is below solubility.
塗料Ｉを用いた他は、比較例２と同様にして、反射防止膜Ｉ（膜厚：０．１３μｍ）を作製した。 An antireflection film I (film thickness: 0.13 μm) was prepared in the same manner as in Comparative Example 2 except that the paint I was used.
実施例４
塗料Ｂ１００重量部に、２−プロパノールに対する溶解度が０．０３重量％のパラフィン(関東化学（株）製、Ｓｔａｎｄａｒｄ ｎ−ｐａｒａｆｆｉｎ Ｃ２１−Ｃ２５)を０．０２重量部投入し２０分間攪拌して塗料Ｊを作製した。なお、パラフィンの塗料中の濃度は０．０２重量％であり、溶解度以下である。
Example 4
To 100 parts by weight of paint B, 0.02 part by weight of paraffin having a solubility in 2-propanol of 0.03% by weight (Standard n-paraffin C21-C25, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was added and stirred for 20 minutes. Was made. In addition, the density | concentration in the coating material of paraffin is 0.02 weight%, and is below solubility.
塗料Ｊを用いた他は、比較例２と同様にして、反射防止膜Ｊ（膜厚：０．１０μｍ）を作製した。 An antireflection film J (film thickness: 0.10 μm) was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the paint J was used.
比較例６
パラフィンの投入量が０．０８重量部であった他は、実施例４と同様にして塗料Ｋを作製し、さらに、反射防止膜Ｋを作製した。ただし、反射防止膜Ｋは均一な塗膜にはならなかった。
Comparative Example 6
A coating material K was produced in the same manner as in Example 4 except that the amount of paraffin added was 0.08 parts by weight, and an antireflection film K was further produced. However, the antireflection film K did not become a uniform coating film.
実施例５
架橋性成分としての、参考例２で調製したビス（トリエトキシシリル）エタン加水分解オリゴマー１．４重量部およびテトラエトキシシラン０．６重量部を、溶媒としてのメチルイソブチルケトン９４重量部に溶解し、触媒としての水２．９９重量部、硫酸０．０１重量部を投入した。
Example 5
As a crosslinkable component, 1.4 parts by weight of the bis (triethoxysilyl) ethane hydrolysis oligomer prepared in Reference Example 2 and 0.6 parts by weight of tetraethoxysilane were dissolved in 94 parts by weight of methyl isobutyl ketone as a solvent. Then, 2.99 parts by weight of water as a catalyst and 0.01 parts by weight of sulfuric acid were added.
これに、メチルイソブチルケトンに対する溶解度が３重量％の固体パラフィン(関東化学製、融点４２〜４４℃)を０．０４重量部投入し２０分間攪拌して塗料Ｌを作製した。なお、シリコーンオイルの塗料中の濃度は０．０４重量％であり、溶解度以下である。 To this, 0.04 part by weight of solid paraffin (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., melting point: 42 to 44 ° C.) having a solubility in methyl isobutyl ketone of 3% by weight was added and stirred for 20 minutes to prepare paint L. In addition, the density | concentration in the coating material of silicone oil is 0.04 weight%, and is below solubility.
塗料Ｌを用いた他は、比較例２と同様にして、反射防止膜Ｌ（膜厚：０．１２μｍ）を作製した。 An antireflection film L (film thickness: 0.12 μm) was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the paint L was used.
（スチールウールを用いた耐擦傷性の評価）
実施例１〜５および比較例１〜６の反射防止膜上に、２５０ｇ／ｃｍ２の荷重をかけて＃００００のスチールウールを１０往復させ、傷のつき方から耐擦傷性を以下のように評価した。
(Evaluation of scratch resistance using steel wool)
On the antireflection films of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 6, a steel wool of # 0000 was reciprocated 10 times by applying a load of 250 g / cm 2 , and the scratch resistance was determined as follows. evaluated.
◎:傷が目立たない(ついていない)
○:傷が目立たない(ほとんどついていない)
×:傷が目立つ
××:傷が極めて多く、よく目立つ。
◎: scratches are not noticeable (not attached)
○: Scratches are inconspicuous (almost not attached)
×: Scratches are conspicuous XX: Scratches are extremely large and well conspicuous.
結果を表１に示す。 The results are shown in Table 1.
表１から明らかなように、比較例１では潤滑剤を使用していないので耐擦傷性が悪い。また、比較例２では、架橋性成分の一部にフッ素置換した有機ケイ素化合物を用いたが、滑り性が若干向上したものの膜の強度が低下したため、結果として耐擦傷性は改善されなかった。 As is clear from Table 1, in Comparative Example 1, since no lubricant is used, the scratch resistance is poor. In Comparative Example 2, a fluorine-substituted organosilicon compound was used as a part of the crosslinkable component. However, although the slipperiness was slightly improved, the strength of the film was lowered, and as a result, the scratch resistance was not improved.
これに対して、実施例１〜３では、溶解度が０．００１〜１０重量％である潤滑剤を、溶解度よりも少ない量で、しかも膜固形分に対して０．５〜１０重量％の割合で用いることにより、滑り性が向上し、耐擦傷性が優れている。また、実施例１および２は、実施例３より潤滑剤の溶解度が低いため、潤滑剤が溶媒の乾燥時に効率的に膜表面に析出して偏在したため、実施例３より耐擦傷性に優れていると考えられる。実施例４および５も、実施例１〜３と同様の理由により耐擦傷性に優れていると考えられる。 On the other hand, in Examples 1 to 3, the lubricant having a solubility of 0.001 to 10% by weight in an amount less than the solubility and a ratio of 0.5 to 10% by weight with respect to the film solid content When used in, the slipperiness is improved and the scratch resistance is excellent. In addition, since the solubility of the lubricant in Examples 1 and 2 is lower than that in Example 3, the lubricant was effectively deposited and unevenly distributed on the film surface when the solvent was dried. It is thought that there is. Examples 4 and 5 are also considered to be excellent in scratch resistance for the same reason as in Examples 1-3.
一方で、比較例３〜５は、潤滑剤の溶解度が高いため、潤滑剤が膜表面に析出せず耐擦傷性が低下すると考えられる。比較例６は、潤滑剤の割合が溶解度以上であったため、均一な薄膜が形成されず耐擦傷性が悪化した。 On the other hand, in Comparative Examples 3 to 5, the solubility of the lubricant is high, so the lubricant does not precipitate on the film surface, and the scratch resistance is considered to be reduced. In Comparative Example 6, since the ratio of the lubricant was equal to or higher than the solubility, a uniform thin film was not formed and the scratch resistance was deteriorated.
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