JP5029773B1 - 反射防止フィルム製造用金型、反射防止フィルム製造用金型の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】均一かつ高精細なモスアイ構造を賦形可能な反射防止フィルム製造用金型、及び、反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】反射防止フィルム製造用金型は、基材部と、ニッケル又は銅により形成された第１中間部と、クロムにより形成された第２中間部と、第３中間部と、アルミニウムにより形成された層であり、複数の微細孔を有する酸化皮膜を有する賦形部とを備えるものとした。この反射防止フィルム製造用金型の製造方法は、第１〜第３中間部形成工程と、アルミニウム層形成工程と、微細孔形成工程とを有し、微細孔形成工程は、陽極酸化工程と、第１エッチング工程と、第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングを行う第２エッチング工程とを備え、これらの工程を順次繰り返すものとした。
【選択図】図１
【解決手段】反射防止フィルム製造用金型は、基材部と、ニッケル又は銅により形成された第１中間部と、クロムにより形成された第２中間部と、第３中間部と、アルミニウムにより形成された層であり、複数の微細孔を有する酸化皮膜を有する賦形部とを備えるものとした。この反射防止フィルム製造用金型の製造方法は、第１〜第３中間部形成工程と、アルミニウム層形成工程と、微細孔形成工程とを有し、微細孔形成工程は、陽極酸化工程と、第１エッチング工程と、第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングを行う第２エッチング工程とを備え、これらの工程を順次繰り返すものとした。
【選択図】図１
Description
本発明は、フラットパネルディスプレイ等に用いられるモスアイ構造を有する反射防止フィルム製造用金型、反射防止フィルム製造用金型の製造方法に関するものである。
近年、パーソナルコンピューター、特に携帯用のパーソナルコンピューターの発達や、家庭用の薄型テレビの普及率も高まりに伴って、フラットパネルディスプレイの需要が増加している。このようなフラットパネルディスプレイとしては、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、さらには有機ＥＬディスプレイ等の種々の表示方式のものが採用されており、表示品質の向上のための開発が様々になされている。
なかでも、ディスプレイ表面等における光の反射防止技術の開発に関しては、各方式のディスプレイにおいて、共通する重要な技術的課題の１つである。
なかでも、ディスプレイ表面等における光の反射防止技術の開発に関しては、各方式のディスプレイにおいて、共通する重要な技術的課題の１つである。
従来、このような反射防止効果を奏する部材として、例えば、低屈折率の物質からなる薄膜を単層で表面に形成することにより、単一波長の光に対して有効な反射防止効果を得るものや、低屈折率物質と高屈折率物質の薄膜を交互に形成した複数層を形成することにより、より広い波長範囲の光に対して反射防止効果を得るものが用いられてきた。
さらに、反射防止効果を奏する技術として、円錐形や四角錐形等の錐形体や円柱形を含む形状で先端が凸状である微細な凸部が配列され、この凸部による凹凸の周期が可視光の波長以下に制御された微細な凹凸パターンを表面に形成することによって反射防止を図る技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。これは、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ ｅｙｅ（蛾の目））構造の原理を利用したものであり、基板に入射した光に対する屈折率を連続的に変化させ、屈折率の不連続界面を消失させることによって光の反射を防止するものである。このようなモスアイ構造を用いた反射防止部材は、広い波長範囲の光の反射を防止できる。
さらに、反射防止効果を奏する技術として、円錐形や四角錐形等の錐形体や円柱形を含む形状で先端が凸状である微細な凸部が配列され、この凸部による凹凸の周期が可視光の波長以下に制御された微細な凹凸パターンを表面に形成することによって反射防止を図る技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。これは、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ ｅｙｅ（蛾の目））構造の原理を利用したものであり、基板に入射した光に対する屈折率を連続的に変化させ、屈折率の不連続界面を消失させることによって光の反射を防止するものである。このようなモスアイ構造を用いた反射防止部材は、広い波長範囲の光の反射を防止できる。
上述のようなモスアイ構造は、一般的に、その微細な凹凸形状を反転させた形状を有するスタンパ（金型、鋳型等）を用いて、その凹凸の型を任意の樹脂層に転写等することによって製造される。
このようなスタンパとしては、アルミニウムの基板に、陽極酸化法によって、モスアイ構造の凹凸形状の凸部を賦形する凹状の微細孔が形成されたものが広く用いられている（例えば、特許文献１参照）。この陽極酸化法は、微細孔が形成される位置をランダムにすることができる点や、大面積にわたって均一な形状を有する微細孔を形成できる点等の利点を有している。
陽極酸化法に用いられる金属基体の材料としては、一般的に、アルミニウムが好適に用いられる。アルミニウムは酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易であるからである。金属基体表面に陽極酸化法を用いて微細孔を形成する場合、微細孔は金属基体表面の状態に大きく依存するため、金属基体表面に高精細な微細孔を大面積にわたって均一に形成するためには、金属基体表面のアルミニウムの純度が高く、緻密で結晶粒が揃っており、かつ、金属基体表面が平滑な鏡面であることが要求される。
このようなスタンパとしては、アルミニウムの基板に、陽極酸化法によって、モスアイ構造の凹凸形状の凸部を賦形する凹状の微細孔が形成されたものが広く用いられている（例えば、特許文献１参照）。この陽極酸化法は、微細孔が形成される位置をランダムにすることができる点や、大面積にわたって均一な形状を有する微細孔を形成できる点等の利点を有している。
陽極酸化法に用いられる金属基体の材料としては、一般的に、アルミニウムが好適に用いられる。アルミニウムは酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易であるからである。金属基体表面に陽極酸化法を用いて微細孔を形成する場合、微細孔は金属基体表面の状態に大きく依存するため、金属基体表面に高精細な微細孔を大面積にわたって均一に形成するためには、金属基体表面のアルミニウムの純度が高く、緻密で結晶粒が揃っており、かつ、金属基体表面が平滑な鏡面であることが要求される。
しかし、一般的に、アルミニウムの金属基体を用いたスタンパでは、基板表面に、表面研磨時の筋状の研削痕（研磨痕）が残りやすく、また、ピットと呼ばれる微細孔よりも大きな穴が生じている場合がある。このような研削痕やピットを残したまま陽極酸化法によって微細孔を形成してスタンパとした場合、研削痕やピットによる凹凸形状を有したまま微細孔が形成されるため、このスタンパによって形成される反射防止フィルムの表面にうねりのような凹凸形状を有する形態となる。また、アルミニウムの基板表面の結晶粒子が不均一であり、異常結晶粒が存在する場合には、陽極酸化が不安定になり、形成される微細孔やこの微細孔による凹凸形状が不均一になり、モスアイ構造が不均一になる。
そして、上述のような反射防止フィルム表面のうねりやモスアイ構造の不均一性等によって、反射防止フィルムを斜め方向から見た場合に、光が一部散乱されて白っぽく観察される等といった反射防止フィルムの性能の低下や、外観不良を生じるという問題があった。また、モスアイ構造が不均一になると、反射防止フィルムの表面に負荷が掛かった場合に、均一な負荷分散ができなくなり、耐擦傷性が低下する等の反射防止フィルムの機械的強度の低下が生じるという問題もあった。
そして、上述のような反射防止フィルム表面のうねりやモスアイ構造の不均一性等によって、反射防止フィルムを斜め方向から見た場合に、光が一部散乱されて白っぽく観察される等といった反射防止フィルムの性能の低下や、外観不良を生じるという問題があった。また、モスアイ構造が不均一になると、反射防止フィルムの表面に負荷が掛かった場合に、均一な負荷分散ができなくなり、耐擦傷性が低下する等の反射防止フィルムの機械的強度の低下が生じるという問題もあった。
本発明の課題は、均一かつ高精細なモスアイ構造を賦形可能な反射防止フィルム製造用金型、及び、反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供することである。
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
請求項１の発明は、可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された凸部によって形成された微細凹凸形状を有する反射防止フィルムの前記微細凹凸形状を賦形する反射防止フィルム製造用金型であって、この反射防止フィルム製造用金型の基材となる基材部（１１０）と、前記基材部上にニッケル又は銅により形成された層状の第１中間部（１３０）と、前記第１中間部上にクロムにより形成された層状の第２中間部（１４０）と、前記第２中間部上に層状に形成された第３中間部（１５０）と、前記第３中間部上にアルミニウムにより形成された層であり、その表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された凹状の複数の微細孔（１２１）を有する酸化皮膜（１２０Ｂ）を有する賦形部（１２０）と、を備え、前記微細孔は、開口部（１２１ａ）から底部（１２１ｂ）に向かってその径が小さくなるテーパー形状を有していること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型（１００）である。
請求項２の発明は、請求項１に記載の反射防止フィルム製造用金型において、前記基材部（１１０）は、アルミニウム合金により形成されていること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型（１００）である。
請求項３の発明は、請求項１又は請求項２に記載の反射防止フィルム製造用金型において、前記第３中間部（１５０）は、酸化ケイ素又は酸化タンタルにより形成されていること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型（１００）である。
請求項４の発明は、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の反射防止フィルム製造用金型において、前記第２中間部（１４０）は、マイクロクラッククロムメッキ法によるクロム層又はマイクロポーラスクロムメッキ法によるクロム層であること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型（１００）である。
請求項１の発明は、可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された凸部によって形成された微細凹凸形状を有する反射防止フィルムの前記微細凹凸形状を賦形する反射防止フィルム製造用金型であって、この反射防止フィルム製造用金型の基材となる基材部（１１０）と、前記基材部上にニッケル又は銅により形成された層状の第１中間部（１３０）と、前記第１中間部上にクロムにより形成された層状の第２中間部（１４０）と、前記第２中間部上に層状に形成された第３中間部（１５０）と、前記第３中間部上にアルミニウムにより形成された層であり、その表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された凹状の複数の微細孔（１２１）を有する酸化皮膜（１２０Ｂ）を有する賦形部（１２０）と、を備え、前記微細孔は、開口部（１２１ａ）から底部（１２１ｂ）に向かってその径が小さくなるテーパー形状を有していること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型（１００）である。
請求項２の発明は、請求項１に記載の反射防止フィルム製造用金型において、前記基材部（１１０）は、アルミニウム合金により形成されていること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型（１００）である。
請求項３の発明は、請求項１又は請求項２に記載の反射防止フィルム製造用金型において、前記第３中間部（１５０）は、酸化ケイ素又は酸化タンタルにより形成されていること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型（１００）である。
請求項４の発明は、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の反射防止フィルム製造用金型において、前記第２中間部（１４０）は、マイクロクラッククロムメッキ法によるクロム層又はマイクロポーラスクロムメッキ法によるクロム層であること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型（１００）である。
請求項５の発明は、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の反射防止フィルム製造用金型の製造方法であって、前記基材部（１１０）上に、前記第１中間部（１３０）としてニッケル層又は銅層を形成する第１中間部形成工程と、前記第１中間部上に、前記第２中間部（１４０）として、クロム層を形成する第２中間部形成工程と、前記第２中間部上に前記第３中間部（１５０）を形成する第３中間部形成工程と、前記第３中間部上にアルミニウム層（１２０Ａ）を形成するアルミニウム層形成工程と、前記微細孔を形成する微細孔形成工程を備え、前記微細孔形成工程は、陽極酸化法によって前記アルミニウム層の表面に複数の微小な孔（ｈ）を有する酸化皮膜（１２０Ｂ）を形成する陽極酸化工程と、記酸化皮膜をエッチングする第１エッチング工程と、前記第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートで前記酸化皮膜をエッチングする第２エッチング工程と、を備え、前記陽極酸化工程、前記第１エッチング工程、前記第２エッチング工程を順次繰り返すことにより、前記アルミニウム層の表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された複数の前記微細孔を有する酸化皮膜を形成すること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法である。
請求項６の発明は、請求項５に記載の反射防止フィルム製造用金型の製造方法において、前記第２中間部形成工程において、前記クロム層（１４０）は、マイクロクラッククロムメッキ法又はマイクロポーラスクロムメッキ法により形成されること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法である。
請求項７の発明は、請求項５又は請求項６に記載の反射防止フィルム製造用金型の製造方法において、前記第１エッチング工程は、前記陽極酸化工程の直後に、前記陽極酸化工程に用いられた電解液中において行われること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法である。
請求項６の発明は、請求項５に記載の反射防止フィルム製造用金型の製造方法において、前記第２中間部形成工程において、前記クロム層（１４０）は、マイクロクラッククロムメッキ法又はマイクロポーラスクロムメッキ法により形成されること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法である。
請求項７の発明は、請求項５又は請求項６に記載の反射防止フィルム製造用金型の製造方法において、前記第１エッチング工程は、前記陽極酸化工程の直後に、前記陽極酸化工程に用いられた電解液中において行われること、を特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法である。
本発明によれば、高精細かつ均一な微細孔を有し、金型全体としての表面の凹凸（うねり）が極力低減され、良好なモスアイ構造を賦形可能な反射防止フィルム製造用金型とすることができる。また、高精細かつ均一な微細孔を有し、金型全体としての表面の凹凸（うねり）が極力低減された反射防止フィルム製造用金型を容易に製造できる。
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、図１を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張している。
また、板、フィルム等の言葉を使用しているが、これらは、一般的な使い方として、厚さの厚い順に、板、シート、フィルムの順で使用されており、本明細書中でもそれに倣って使用している。しかし、このような使い分けには、技術的な意味は無いので、板、シート、フィルムの文言は、適宜置き換えることができるものとする。例えば、反射防止フィルムは、反射防止板としてもよいし、反射防止シートとしてもよい。
さらに、本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値及び材料名等は、実施形態としての一例であり、これに限定されるものではなく、適宜選択して使用してよい。
また、板、フィルム等の言葉を使用しているが、これらは、一般的な使い方として、厚さの厚い順に、板、シート、フィルムの順で使用されており、本明細書中でもそれに倣って使用している。しかし、このような使い分けには、技術的な意味は無いので、板、シート、フィルムの文言は、適宜置き換えることができるものとする。例えば、反射防止フィルムは、反射防止板としてもよいし、反射防止シートとしてもよい。
さらに、本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値及び材料名等は、実施形態としての一例であり、これに限定されるものではなく、適宜選択して使用してよい。
（反射防止フィルム）
まず、モスアイ構造層を備える反射防止フィルムについて説明する。
図３は、モスアイ構造を有する反射防止フィルム１０の一例を説明する図である。図３（ａ）では、反射防止フィルム１０の厚み方向に平行な断面の一部を拡大して示し、図３（ｂ）では、反射防止フィルム１０の厚み方向に平行な断面におけるモスアイ構造層１２をさらに拡大して示している。
反射防止フィルム１０は、基材層１１とモスアイ構造層１２とを備え、この反射防止フィルム１０に入射する光が、モスアイ構造層１２と空気との界面で反射することを防止する作用を有するフィルム状の光学部材である。なお、ここでは、反射防止フィルム１０は、基材層１１及びモスアイ構造層１２を備える例を挙げて説明するが、これに限らず、例えば、必要に応じて各種機能を有する他の層（粘着層や紫外線吸収層等）を積層する形態としてもよいし、基材層１１を備えずモスアイ構造層１２のみで構成してもよい。
まず、モスアイ構造層を備える反射防止フィルムについて説明する。
図３は、モスアイ構造を有する反射防止フィルム１０の一例を説明する図である。図３（ａ）では、反射防止フィルム１０の厚み方向に平行な断面の一部を拡大して示し、図３（ｂ）では、反射防止フィルム１０の厚み方向に平行な断面におけるモスアイ構造層１２をさらに拡大して示している。
反射防止フィルム１０は、基材層１１とモスアイ構造層１２とを備え、この反射防止フィルム１０に入射する光が、モスアイ構造層１２と空気との界面で反射することを防止する作用を有するフィルム状の光学部材である。なお、ここでは、反射防止フィルム１０は、基材層１１及びモスアイ構造層１２を備える例を挙げて説明するが、これに限らず、例えば、必要に応じて各種機能を有する他の層（粘着層や紫外線吸収層等）を積層する形態としてもよいし、基材層１１を備えずモスアイ構造層１２のみで構成してもよい。
基材層１１は、この反射防止フィルム１０の基材（ベース）となる層であり、モスアイ構造層１２を支持する層である。この基材層１１は、光透過性を有する樹脂製のフィルム状の部材が用いられる。また、基材層１１は、その屈折率が後述するモスアイ構造層１２に用いられる樹脂の屈折率と同程度であることが、基材層１１とモスアイ構造層１２との界面に、屈折率の不連続界面が形成され、この不連続界面において光が反射されることにより、本発明の反射防止フィルムの反射防止機能が損なわれることを防止する観点から好ましい。
基材層１１を構成する材料は、例えば、アクリル系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリロニトリル−スチレン、ガラス（セラミックスを含む）等を挙げることができる。
また、必要に応じて、帯電防止剤（導電剤）、屈折率調整剤、レベリング剤、防汚染剤、粘着剤、紫外線・赤外線吸収剤、着色剤等の各種の添加剤を含有していてもよい。
また、必要に応じて、帯電防止剤（導電剤）、屈折率調整剤、レベリング剤、防汚染剤、粘着剤、紫外線・赤外線吸収剤、着色剤等の各種の添加剤を含有していてもよい。
モスアイ構造層１２は、基材層１１の少なくとも片面に一体に形成された層であり、この反射防止フィルム１０に反射防止機能を付与する層である。このモスアイ構造層１２は、その表面に微細な凸部が複数配列されることにより形成された凹凸形状（すなわち、モスアイ構造）を有しており、基材層１１上に形成された基底部１４と、基底部１４上に形成される複数の凸部１３とを有する。
凸部１３は、可視光領域の波長以下の周期で配列されている。この凸部１３は、頂部が凸曲面状であり、図３に示す断面において、頂部側の幅が基底部１４側の幅よりもしだいに小さくなるテーパー形状を有するように形成されている。この凸部１３は、略円錐形状（図３（ｂ）に示す断面において、凸部１３の側面が直線状であり、基材層１１に対してテーパー状に立ち上がる形状）としてもよいし、凸部１３の側面が凸曲線状となる釣鐘形状としてもよい。また、凸部１３の基材層１１の表面に平行な断面（横断面）における断面形状は、円、楕円等の他、多角形形状等としてもよい。
凸部１３は、可視光領域の波長以下の周期で配列されている。この凸部１３は、頂部が凸曲面状であり、図３に示す断面において、頂部側の幅が基底部１４側の幅よりもしだいに小さくなるテーパー形状を有するように形成されている。この凸部１３は、略円錐形状（図３（ｂ）に示す断面において、凸部１３の側面が直線状であり、基材層１１に対してテーパー状に立ち上がる形状）としてもよいし、凸部１３の側面が凸曲線状となる釣鐘形状としてもよい。また、凸部１３の基材層１１の表面に平行な断面（横断面）における断面形状は、円、楕円等の他、多角形形状等としてもよい。
モスアイ構造層１２は、光透過性が高い樹脂により形成され、例えば、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等の電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等により形成される。電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等を挙げることができる。熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチロール樹脂等を挙げることができる。なお、これらの樹脂に、必要に応じて、光開始剤、潤滑剤、消泡剤、版離型剤、帯電防止剤（導電剤）、屈折率調整剤、レベリング剤、防汚染剤、粘着剤、紫外線・赤外線吸収剤、着色剤等の各種の添加剤を添加したものを用いてもよい。
モスアイ構造層１２は、基材層１１に積層形成したものであってもよいし、モスアイ構造層１２及び基材層１１に用いられる樹脂を共押し出し形成したものでもよい。
モスアイ構造層１２は、基材層１１に積層形成したものであってもよいし、モスアイ構造層１２及び基材層１１に用いられる樹脂を共押し出し形成したものでもよい。
このような反射防止フィルム１０は、例えば、熱エンボス法や、射出成形法、キャスティング法、２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒ法）、共押し出し法等によって作製可能であり、モスアイ構造層１２の樹脂の特性や所望する反射防止フィルム１０の層構成や大きさ、光学特性等の各種条件に応じて、適宜製造方法を選択できる。
この反射防止フィルム１０は、凸部１３の配列される周期が、可視光領域の波長以下であり、テーパー形状を有する凸部１３がランダムに複数配列されて凹凸形状を形成しているので、モスアイ構造層１２と空気との界面において、屈折率が連続的に変化することとなり、反射防止効果を奏することができる。
この反射防止フィルム１０は、凸部１３の配列される周期が、可視光領域の波長以下であり、テーパー形状を有する凸部１３がランダムに複数配列されて凹凸形状を形成しているので、モスアイ構造層１２と空気との界面において、屈折率が連続的に変化することとなり、反射防止効果を奏することができる。
以下の実施形態に示す反射防止フィルム製造用金型１００は、このようなモスアイ構造を備える反射防止フィルムのモスアイ構造を賦形するスタンパ（金型）である。なお、本明細書では、一例として、以下に示す実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００は、不図示の２Ｐ法による反射防止フィルムの製造装置に用いる例を挙げて説明するが、これに限らず、例えば、熱エンボス法や、共押し出し成形法、射出成形法、キャスティング法等による製造装置に用いてもよい。
（反射防止フィルム製造用金型の実施形態）
図１は、本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００を説明する図である。図１（ａ）は、反射防止フィルム製造用金型の斜視図であり、図１（ｂ）は、反射防止フィルム製造用金型１００の厚み方向に平行な断面の一部を拡大して示した図であり、図１（ｃ）は、図１（ｂ）に示す断面の賦形部１２０の一部をさらに拡大して示した図である。
本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００は、図１（ａ）に示すように、円筒形状（パイプ状）であり、図１（ｂ）に示すように、基材部１１０と、基材部１１０上に形成された第１中間部１３０と、第１中間部１３０の上に形成された第２中間部１４０と、第２中間部１４０上に形成された第３中間部１５０と、第３中間部１５０上に形成された賦形部１２０とを備え、その外周面（賦形部１２０表面）に微細孔１２１が複数形成されている。この反射防止フィルム製造用金型１００は、その中空部分に不図示の軸等が取り付けられ、ロール状のスタンパとして２Ｐ法等に用いられる。
なお、本実施形態では、反射防止フィルム製造用金型１００が、図１（ａ）のように円筒形状（パイプ状）であり、２Ｐ法等に用いられる例を挙げて説明するが、これに限らず、例えば、平板形状や、スリーブ状、フィルム状等としてもよいし、熱エンボス法等、他の製造方法に用いられるものとしてもよい。
図１は、本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００を説明する図である。図１（ａ）は、反射防止フィルム製造用金型の斜視図であり、図１（ｂ）は、反射防止フィルム製造用金型１００の厚み方向に平行な断面の一部を拡大して示した図であり、図１（ｃ）は、図１（ｂ）に示す断面の賦形部１２０の一部をさらに拡大して示した図である。
本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００は、図１（ａ）に示すように、円筒形状（パイプ状）であり、図１（ｂ）に示すように、基材部１１０と、基材部１１０上に形成された第１中間部１３０と、第１中間部１３０の上に形成された第２中間部１４０と、第２中間部１４０上に形成された第３中間部１５０と、第３中間部１５０上に形成された賦形部１２０とを備え、その外周面（賦形部１２０表面）に微細孔１２１が複数形成されている。この反射防止フィルム製造用金型１００は、その中空部分に不図示の軸等が取り付けられ、ロール状のスタンパとして２Ｐ法等に用いられる。
なお、本実施形態では、反射防止フィルム製造用金型１００が、図１（ａ）のように円筒形状（パイプ状）であり、２Ｐ法等に用いられる例を挙げて説明するが、これに限らず、例えば、平板形状や、スリーブ状、フィルム状等としてもよいし、熱エンボス法等、他の製造方法に用いられるものとしてもよい。
基材部１１０は、反射防止フィルム製造用金型１００のベースとなる部材であり、賦形部１２０等を支持し、反射防止フィルム製造用金型１００として用いることができる程度の自己支持性をする部材である。本実施形態の基材部１１０は、パイプ状（円筒形状）であり、その厚みは、３〜５０ｍｍの範囲とすることが好ましい。なお、基材部１１０の形状は、パイプ状に限らず、所望の反射防止フィルム製造用金型１００の形状に合わせて、基材部１１０も、スリーブ状、平板形状、フィルム形状としてよい。
基材部１１０は、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金により形成されている。基材部１１０の材料として使用されるアルミニウム合金は、アルミニウムを９７ｗｔ％以上含有するものであり、特に、アルミニウムを９８ｗｔ％含有するものが好ましい。また、このアルミニウム合金は、アルミニウムを、亜鉛やニッケル等と合金にしたものが好ましく、例えば、マグネシウム、モリブデン、亜鉛、ケイ素と及びこれらの混合物と合金にしたものが好ましい。
基材部１１０は、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金により形成されている。基材部１１０の材料として使用されるアルミニウム合金は、アルミニウムを９７ｗｔ％以上含有するものであり、特に、アルミニウムを９８ｗｔ％含有するものが好ましい。また、このアルミニウム合金は、アルミニウムを、亜鉛やニッケル等と合金にしたものが好ましく、例えば、マグネシウム、モリブデン、亜鉛、ケイ素と及びこれらの混合物と合金にしたものが好ましい。
第１中間部１３０は、基材部１１０上（反射防止フィルム製造用金型１００の厚み方向において基材部１１０と第２中間部１４０との間）に、所定の厚さで設けられている層状の部分である。
第１中間部１３０は、ニッケル又は銅の層（薄膜）であり、メッキ法により形成される。なお、第１中間部１３０は、メッキ法に限らず、例えば、スパッタ法や蒸着法等により形成してもよい。
第１中間部１３０の厚さは、０．５〜１０００μｍの範囲内が好ましく、５〜５００μｍの範囲内がより好ましい。第１中間部１３０の厚さが０．５μｍ未満の場合は、第１中間部１３０としての効果が大幅に低減されてしまう。また、第１中間部１３０の厚さが１０００μｍを超える場合は、第１中間部の内部の剥離が発生し、密着力が弱くなり、金型として樹脂を転写する際に基材部１１０から剥がれてしまう。あるいは、第１中間部１３０の内部で凝集破壊が起きてしまう。従って、第１中間部１３０の厚さは、上述の範囲内とすることが好ましい。
この第１中間部１３０は、後述の第２中間部１４０を形成する下地となる層であり、第１中間部１３０をニッケル又は銅によって形成することにより、第２中間部１４０と基材部１１０との密着性を高めることができる。特に、第１中間部１３０としてニッケルのメッキ層とする場合には、均一電着性に優れ、ピンホール等も少ないことから、基材部１１０の保護性が高いという効果を得られる。また、第１中間部１３０を銅のメッキ層とした場合にも、ニッケル層とした場合と同様の効果が得られる。
第１中間部１３０は、ニッケル又は銅の層（薄膜）であり、メッキ法により形成される。なお、第１中間部１３０は、メッキ法に限らず、例えば、スパッタ法や蒸着法等により形成してもよい。
第１中間部１３０の厚さは、０．５〜１０００μｍの範囲内が好ましく、５〜５００μｍの範囲内がより好ましい。第１中間部１３０の厚さが０．５μｍ未満の場合は、第１中間部１３０としての効果が大幅に低減されてしまう。また、第１中間部１３０の厚さが１０００μｍを超える場合は、第１中間部の内部の剥離が発生し、密着力が弱くなり、金型として樹脂を転写する際に基材部１１０から剥がれてしまう。あるいは、第１中間部１３０の内部で凝集破壊が起きてしまう。従って、第１中間部１３０の厚さは、上述の範囲内とすることが好ましい。
この第１中間部１３０は、後述の第２中間部１４０を形成する下地となる層であり、第１中間部１３０をニッケル又は銅によって形成することにより、第２中間部１４０と基材部１１０との密着性を高めることができる。特に、第１中間部１３０としてニッケルのメッキ層とする場合には、均一電着性に優れ、ピンホール等も少ないことから、基材部１１０の保護性が高いという効果を得られる。また、第１中間部１３０を銅のメッキ層とした場合にも、ニッケル層とした場合と同様の効果が得られる。
第２中間部１４０は、第１中間部１３０上（反射防止フィルム製造用金型１００の厚み方向において第１中間部１３０と第３中間部１５０との間）に、所定の厚さで設けられている層状の部分である。
第２中間部１４０は、クロムの層（薄膜）であり、メッキ法、特に、マイクロクラッククロムメッキ法（例えば、ヒーフ浴）により形成される。なお、第２中間部１４０は、上記メッキ法に限らず、例えば、マイクロポーラスクロムメッキ法により形成してもよい。
第２中間部１４０の厚さは５〜３００μｍの範囲内が好ましく、２０〜６０μｍの範囲内がより好ましい。第２中間部１４０の厚さが５μｍ未満の場合は、研磨処理を行う場合、割れてしまい、はがれる場合がある。また第２中間部１４０の厚さが３００μｍを超える場合、クロムメッキ層内の応力が高くなり、第１中間部１３０から剥がれてしまうという問題がある。
第２中間部１４０は、クロムの層（薄膜）であり、メッキ法、特に、マイクロクラッククロムメッキ法（例えば、ヒーフ浴）により形成される。なお、第２中間部１４０は、上記メッキ法に限らず、例えば、マイクロポーラスクロムメッキ法により形成してもよい。
第２中間部１４０の厚さは５〜３００μｍの範囲内が好ましく、２０〜６０μｍの範囲内がより好ましい。第２中間部１４０の厚さが５μｍ未満の場合は、研磨処理を行う場合、割れてしまい、はがれる場合がある。また第２中間部１４０の厚さが３００μｍを超える場合、クロムメッキ層内の応力が高くなり、第１中間部１３０から剥がれてしまうという問題がある。
この第２中間部１４０を、クロムによって形成することにより、基材部１１０の賦形部１２０が形成される側の面を容易に鏡面化し（表面粗さ０．２Ｓ以下。好ましくは０．１Ｓ以下）、さらにその平滑性を高めることができる。また、硬く、耐磨耗性があり、安価に形成できる。
また、第２中間部１４０のクロム層をマイクロクラッククロムメッキ法又はマイクロポーラスクロムメッキ法により形成することにより、後述の反射防止フィルム製造用金型１００の製造工程の微細孔形成工程等において、第２中間部１４０と基材部１１０との間で生じるガルバニック反応（異種金属電位反応）による腐食電流の分散効果が得られ、ガルバニック反応による腐食を大幅に抑制することができる。
なお、第２中間部１４０のクロム層をマイクロクラッククロムメッキで形成した場合には、その層に、非常に微細なクラック（割れ）が多数分散されて形成されている（クラック数２５０本／ｃｍ以上、好ましくはクラック数１６００本／ｃｍ程度）。また、第２中間部１４０のクロム層をマイクロポーラスクロムメッキで形成した場合には、その層に、非常に微小な孔（マイクロポア）が多数分散されて形成されている（１ｃｍ２辺り２０００〜４０００００個程度）。しかし、このようなクラックや穴は非常に小さく、鏡面化に影響及ぼさない。
また、第２中間部１４０のクロム層をマイクロクラッククロムメッキ法又はマイクロポーラスクロムメッキ法により形成することにより、後述の反射防止フィルム製造用金型１００の製造工程の微細孔形成工程等において、第２中間部１４０と基材部１１０との間で生じるガルバニック反応（異種金属電位反応）による腐食電流の分散効果が得られ、ガルバニック反応による腐食を大幅に抑制することができる。
なお、第２中間部１４０のクロム層をマイクロクラッククロムメッキで形成した場合には、その層に、非常に微細なクラック（割れ）が多数分散されて形成されている（クラック数２５０本／ｃｍ以上、好ましくはクラック数１６００本／ｃｍ程度）。また、第２中間部１４０のクロム層をマイクロポーラスクロムメッキで形成した場合には、その層に、非常に微小な孔（マイクロポア）が多数分散されて形成されている（１ｃｍ２辺り２０００〜４０００００個程度）。しかし、このようなクラックや穴は非常に小さく、鏡面化に影響及ぼさない。
第３中間部１５０は、反射防止フィルム製造用金型１００の厚み方向において、第２中間部１４０と賦形部１２０との間に、所定の厚さで設けられている層状の部分である。
第３中間部１５０は、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５：五酸化タンタル）又は酸化ケイ素（一酸化ケイ素（ＳｉＯ），二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、及びこれらの混合物）の層であり、スパッタ法により形成されている。なお、第３中間部１５０は、上記の酸化タンタルや酸化ケイ素に限らず、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、Ｔｉ３Ｏ５）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２０３）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、ＺｎＯ２）のような金属酸化物、ＴｉＣ、ＳｉＣ、ＢＣ、ＷＣのような炭化物、ＴｉＮ、ＳｉＮ、ＣｒＮ、ＢＮ、ＡＩＮ、ＣＮ、ＺｒＮのような窒化物、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、グラッシーカーボン等により形成してもよいし、蒸着法、メッキ法等によっても形成可能である。
第３中間部１５０は、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５：五酸化タンタル）又は酸化ケイ素（一酸化ケイ素（ＳｉＯ），二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、及びこれらの混合物）の層であり、スパッタ法により形成されている。なお、第３中間部１５０は、上記の酸化タンタルや酸化ケイ素に限らず、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、Ｔｉ３Ｏ５）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２０３）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、ＺｎＯ２）のような金属酸化物、ＴｉＣ、ＳｉＣ、ＢＣ、ＷＣのような炭化物、ＴｉＮ、ＳｉＮ、ＣｒＮ、ＢＮ、ＡＩＮ、ＣＮ、ＺｒＮのような窒化物、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、グラッシーカーボン等により形成してもよいし、蒸着法、メッキ法等によっても形成可能である。
第３中間部１５０の厚さは、５０〜２０００ｎｍの範囲内が好ましく、１００〜１０００ｎｍの範囲内がより好ましい。第３中間部１５０の厚さが５０ｎｍ未満の場合は、第３中間部１５０としてもの効果が大幅に低減されてしまう。第３中間部１５０の厚さが２０００ｎｍを超える場合は、第３中間部１５０の内部で剥離が発生し、密着力が弱くなり、金型として樹脂を転写する際に剥がれてしまう。
この第３中間部１５０を設けることにより、第３中間部１５０が絶縁層の機能を果たし、後述の反射防止フィルム製造用金型１００の製造工程においける微細孔形成工程等において、第２中間部１４０と賦形部１２０との間で生じるガルバニック反応（異種金属電位反応）を大幅に抑制することができる。また、第３中間部１５０を設けることにより、基材部１１０の表面にある径１０〜２０μｍの孔（ピット）や研削（研磨）により生じる研削痕（研磨スジ）等の影響を低減でき、賦形部１２０の微細孔１２１の精度や形状の均一性を向上させ、反射防止フィルム製造用金型１００全体としての表面の凹凸（うねり）を低減することができる。
この第３中間部１５０を設けることにより、第３中間部１５０が絶縁層の機能を果たし、後述の反射防止フィルム製造用金型１００の製造工程においける微細孔形成工程等において、第２中間部１４０と賦形部１２０との間で生じるガルバニック反応（異種金属電位反応）を大幅に抑制することができる。また、第３中間部１５０を設けることにより、基材部１１０の表面にある径１０〜２０μｍの孔（ピット）や研削（研磨）により生じる研削痕（研磨スジ）等の影響を低減でき、賦形部１２０の微細孔１２１の精度や形状の均一性を向上させ、反射防止フィルム製造用金型１００全体としての表面の凹凸（うねり）を低減することができる。
賦形部１２０は、第３中間部１５０上に形成される部分であり、その表面（基材部１１０とは反対側の面）に、反射防止フィルム１０のモスアイ構造（微細凹凸形状）を賦形する微細孔１２１が複数形成されている。
この賦形部１２０は、アルミニウムにより形成された層状の部分である。この賦形部１２０は、その厚み方向において微細孔１２１が形成されている部分は、アルミニウム酸化皮膜となっている。このアルミニウム酸化皮膜は、賦形部１２０（アルミニウム層）の表面が陽極酸化されて形成されている。
賦形部１２０を形成するアルミニウム層は、その表面に所望の微細孔１２１を形成することが可能であれば特に限定されるものではない。本実施形態の賦形部１２０は、スパッタ法により形成されるが、これに限らず、例えば、蒸着法、メッキ法等により形成してもよい。
この賦形部１２０は、アルミニウムにより形成された層状の部分である。この賦形部１２０は、その厚み方向において微細孔１２１が形成されている部分は、アルミニウム酸化皮膜となっている。このアルミニウム酸化皮膜は、賦形部１２０（アルミニウム層）の表面が陽極酸化されて形成されている。
賦形部１２０を形成するアルミニウム層は、その表面に所望の微細孔１２１を形成することが可能であれば特に限定されるものではない。本実施形態の賦形部１２０は、スパッタ法により形成されるが、これに限らず、例えば、蒸着法、メッキ法等により形成してもよい。
賦形部１２０は、所望の微細孔１２１を形成することが可能な十分な厚みを有しており、具体的には、０．２〜２μｍの範囲内であり、０．５〜１μｍの範囲内であることが好ましい。
なお、賦形部１２０の厚みが上記範囲より薄い場合は、所望の形状及び寸法の微細孔１２１を形成することが困難となる可能性がある。また、賦形部１２０の厚みが上記範囲より厚い場合は、アルミニウム層の形成に時間がかかり、製造コストも高くなる。従って、賦形部１２０の厚みは、上記範囲内とすることが好ましい。
なお、賦形部１２０の厚みが上記範囲より薄い場合は、所望の形状及び寸法の微細孔１２１を形成することが困難となる可能性がある。また、賦形部１２０の厚みが上記範囲より厚い場合は、アルミニウム層の形成に時間がかかり、製造コストも高くなる。従って、賦形部１２０の厚みは、上記範囲内とすることが好ましい。
微細孔１２１は、賦形部１２０の表面に複数形成され、可視光領域の波長以下の周期で配列された微細な凹状の有底孔である。微細孔１２１は、図１（ｃ）に示すように、開口部１２１ａと、底部１２１ｂと、側面１２１ｃとを備える。微細孔１２１は、ランダムに配置されてもよいし、所定の方向に配列されていてもよい。
この微細孔１２１の形状は、所望の反射防止機能を有する反射防止フィルム１０のモスアイ構造を賦形可能な形状であれば、特に限定されるものではないが、反射防止フィルムとしての光学的な特性や、製造の際の簡便さを考慮すると、所定の深さのテーパー形状を有することが好ましい。
この微細孔１２１の形状は、所望の反射防止機能を有する反射防止フィルム１０のモスアイ構造を賦形可能な形状であれば、特に限定されるものではないが、反射防止フィルムとしての光学的な特性や、製造の際の簡便さを考慮すると、所定の深さのテーパー形状を有することが好ましい。
微細孔１２１は、図１（ｃ）に示すように、賦形部１２０表面の開口部１２１ａから基材部１１０側の底部１２１ｂへ向かって次第にその開口径が狭まった形状である。
本実施形態の微細孔１２１は、賦形部１２０の厚み方向に平行な断面の断面形状が略釣鐘形状であり、その側面１２１ｃがゆるやかな凸曲面となっており、賦形部１２０の厚み方向から見た微細孔１２１の開口部１２１ａの形状が、略円形状であり、底部１２１ｂが球面状である。
なお、微細孔１２１の賦形部１２０の厚み方向に平行な断面の断面形状は、例えば、略三角形形状としてもよいし、略台形形状としてもよいし、五角形状等の多角形形状としてもよいし、放物線状やカテナリー曲線状等としてもよいし、多角形状や曲線等を適宜組み合わせた形状としてもよい。また、賦形部１２０の厚み方向から見た微細孔１２１の開口部１２１ａの形状は、例えば、楕円形状としてもよいし、多角形形状等としてもよい。さらに、微細孔１２１の底部１２１ｂの形状は、尖端形状であってもよいし、凸曲面状や球形状であってもよい。本実施形態では、微細孔１２１の底部１２１ｂは基材部１１０側に凸となる球面状となっている。このような形状とすることにより、樹脂の入り込みが均一になりやすく、形状のばらつきが少なくなる。
本実施形態の微細孔１２１は、賦形部１２０の厚み方向に平行な断面の断面形状が略釣鐘形状であり、その側面１２１ｃがゆるやかな凸曲面となっており、賦形部１２０の厚み方向から見た微細孔１２１の開口部１２１ａの形状が、略円形状であり、底部１２１ｂが球面状である。
なお、微細孔１２１の賦形部１２０の厚み方向に平行な断面の断面形状は、例えば、略三角形形状としてもよいし、略台形形状としてもよいし、五角形状等の多角形形状としてもよいし、放物線状やカテナリー曲線状等としてもよいし、多角形状や曲線等を適宜組み合わせた形状としてもよい。また、賦形部１２０の厚み方向から見た微細孔１２１の開口部１２１ａの形状は、例えば、楕円形状としてもよいし、多角形形状等としてもよい。さらに、微細孔１２１の底部１２１ｂの形状は、尖端形状であってもよいし、凸曲面状や球形状であってもよい。本実施形態では、微細孔１２１の底部１２１ｂは基材部１１０側に凸となる球面状となっている。このような形状とすることにより、樹脂の入り込みが均一になりやすく、形状のばらつきが少なくなる。
図１（ｃ）に示す断面において、微細孔１２１の開口部１２１ａにおいて、側面１２１ｃが開口部１２１ａに平行な面（図１（ｃ）に破線で示す面Ｓ）に対してなす角度をθとする。なお、本実施形態のように、微細孔１２１の側面１２１ｃが緩やかな凸曲面状となっている場合は、図１（ｃ）に示す断面において、微細孔１２１の開口部１２１ａの外周上の点と、微細孔１２１における側面１２１ｃのテーパー形状の最深部となる点を最短距離となるように選択して結んだ直線がシート面に対してなす角度とする。テーパー形状の最深部とは、その側面１２１ｃと底部１２１ｂとの境界となる点であり、側面１２１ｃの曲率が大きく変化し始める点である。
この角度θは、テーパー角度という。このテーパー角度θの値は、本明細書では、反射防止フィルム製造用金型１００の縦断面（厚み方向に平行な断面）を電子顕微鏡等により観察して任意の１０個の微細孔１２１のテーパー角度を測定した測定値の平均値とする。テーパー角度θは、５０°〜８７°の範囲内であることが好ましく、５５°〜８５°の範囲内であることがより好ましく、５５°〜８２°の範囲内であることがさらに好ましい。
テーパー角度θが上記範囲よりも大きいと、微細孔１２１の側面がシート面に対して垂直に近い形状になり。反射防止フィルム１０を製造する際に、微細孔に樹脂が入り込みにくくなったり、離型の際に微細孔から樹脂が抜けにくくなったりする。一方、テーパー角度θが上記範囲よりも小さいと、この金型により賦形される得られる反射防止フィルム１０のモスアイ構造による反射防止機能が不十分となったりする。従って、テーパー角度θは、上記の範囲とすることが好ましい。
テーパー角度θが上記範囲よりも大きいと、微細孔１２１の側面がシート面に対して垂直に近い形状になり。反射防止フィルム１０を製造する際に、微細孔に樹脂が入り込みにくくなったり、離型の際に微細孔から樹脂が抜けにくくなったりする。一方、テーパー角度θが上記範囲よりも小さいと、この金型により賦形される得られる反射防止フィルム１０のモスアイ構造による反射防止機能が不十分となったりする。従って、テーパー角度θは、上記の範囲とすることが好ましい。
ここで、図１（ｃ）に示すように、微細孔１２１の開口部１２１ａの径をＲ、微細孔１２１の配列ピッチ（周期）をＰ、賦形部１２０の表面における微細孔１２１間の距離（間隔）をｄ、微細孔１２１の深さをＱとする。
微細孔１２１の開口部１２１ａの径Ｒは、５〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５０〜２５０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。径Ｒが５ｎｍ未満の場合、この微細孔１２１によって賦形される反射防止フィルム１０のモスアイ構造において、隣り合う凸部１３（図３（ｂ）参照）の間の寸法が大きくなる傾向を有するため、構造体を形成していない部分が多くなり、反射防止機能が悪くなる。また、径Ｒが５００ｎｍを超える場合、凸部１３の先端が大きくなる傾向を有し、反射防止フィルム１０の反射防止性能が悪くなる。従って、開口部１２１ａの径Ｒは、上記範囲とすることが好ましい。
微細孔１２１の開口部１２１ａの径Ｒは、５〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５０〜２５０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。径Ｒが５ｎｍ未満の場合、この微細孔１２１によって賦形される反射防止フィルム１０のモスアイ構造において、隣り合う凸部１３（図３（ｂ）参照）の間の寸法が大きくなる傾向を有するため、構造体を形成していない部分が多くなり、反射防止機能が悪くなる。また、径Ｒが５００ｎｍを超える場合、凸部１３の先端が大きくなる傾向を有し、反射防止フィルム１０の反射防止性能が悪くなる。従って、開口部１２１ａの径Ｒは、上記範囲とすることが好ましい。
周期Ｐは、この反射防止フィルム製造用金型１００を用いて製造される反射防止フィルム１０のモスアイ構造による反射率の波長依存性、さらには、斜めから観察したときの反射特性に影響を及ぼす。この周期Ｐは、長くなるほど可視光領域の短波長側の光に対する反射率が増加する傾向を有する。また、周期Ｐは、長くなるほど、反射防止フィルムに斜め方向から入射してくる光の反射が大きくなり、ヘイズ（ＨＡＺＥ）が高くなる（白っぽく見える）。一方、周期Ｐが６０ｎｍ未満の場合には、後述する孔形成工程での陽極酸化条件の管理が難しく、孔同士がくっつき、いびつな孔を形成しやすくなる。孔同士がくっつくと、ピッチが大きくなった状態になるため、上記のような可視光領域の短波長側の光に対する反射率が増加する傾向を有し、また、反射フィルムに斜め方向から入射してくる光の反射が大きくなり、ヘイズ（ＨＡＺＥ）が高くなる（白っぽく見える）。
従って、周期Ｐは、６０〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、８０〜３００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
従って、周期Ｐは、６０〜４００ｎｍの範囲内であることが好ましく、８０〜３００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
間隔ｄは、この反射防止フィルム製造用金型１００を用いて製造される反射防止フィルムにおいて、モスアイ構造による可視光の全波長領域における反射率に影響を与える。間隔ｄは、大きくなるほど可視光の全波長領域における反射率が増加する傾向を有し、狭くなるほど可視光の全波長領域において反射率が低下する傾向を有する。
従って、間隔ｄは、０〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５〜８０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
従って、間隔ｄは、０〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５〜８０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
深さＱは、この反射防止フィルム製造用金型１００を用いて製造される反射防止フィルムの、モスアイ構造による反射率の波長依存性に影響を及ぼす。深さＱは、深くなるほど反射率を低くなる作用を有し、浅くなるほど長波長側の反射率が増加させる作用を有する。従って、深さＱは、６０〜２０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、１００〜８００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
また、深さＱのばらつきは、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。深さＱのばらつきが上記範囲よりも大きいと、反射防止フィルム製造用金型１００を用いて形成されるモスアイ構造が不均一となり、反射防止フィルム１０の反射防止機能にムラが生じる場合がある。
また、深さＱのばらつきは、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。深さＱのばらつきが上記範囲よりも大きいと、反射防止フィルム製造用金型１００を用いて形成されるモスアイ構造が不均一となり、反射防止フィルム１０の反射防止機能にムラが生じる場合がある。
なお、本明細書において、上述の微細孔１２１の開口部の径Ｒ、周期Ｐ、間隔ｄ、深さＱは、すべての微細孔１２１において均一であることが好ましいが、均一でない場合は、賦形部１２０の厚み方向に平行な断面（縦断面）を電子顕微鏡により観察して微細孔１２１の１０個分（又は１０箇所）の各寸法を測定して算出した平均値とする。また、深さＱのばらつきとは、微細孔１２１の縦断面を電子顕微鏡により観察し、任意の１０個の微細孔１２１の深さを測定し、その測定値の最大値と最小値との差をいう。
さらに、反射防止フィルム製造用金型１００においては、隣接する微細孔１２１の開口部１２１ａの表面（図１（ｃ）に破線で示す平面Ｓ）同士の段差（以下、小さいうねりと称する。）が、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、８０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。この小さいうねりが１５０ｎｍを超えると、この反射防止フィルム製造用金型を用いて形成される反射防止フィルムの表面の傷として目視できるようになり、反射防止機能が不均一になる。
また、反射防止フィルム製造用金型１００においては、１００μｍ以上離れた微細孔１２１の開口部１２１ａの表面同士の段差（以下、大きいうねりと称する。）が、１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。１００μｍ以上離れた２点において、大きいうねりが１０μｍ以下であれば、この反射防止フィルム製造用金型を用いて形成される反射防止フィルムのモスアイ構造による反射防止機能に影響を与えず、かつ、そのような大きなうねりが目視してもわからない（ごまかされる）ためである。
（実施形態の反射防止フィルム製造金型の製造方法）
図２は、本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００の製造方法を説明する図である。
本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００を製造する製造方法は、基材部準備工程と、第１中間部形成工程と、第２中間部形成工程と、第３中間部形成工程と、アルミニウム層形成工程と、微細孔形成工程とを備えている。この微細孔形成工程は、陽極酸化工程と、第１エッチング工程と、第２エッチング工程とを有し、これらの工程を順次繰り返し実施する。以下において、各工程について図２を参照しながら説明する。
図２は、本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００の製造方法を説明する図である。
本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００を製造する製造方法は、基材部準備工程と、第１中間部形成工程と、第２中間部形成工程と、第３中間部形成工程と、アルミニウム層形成工程と、微細孔形成工程とを備えている。この微細孔形成工程は、陽極酸化工程と、第１エッチング工程と、第２エッチング工程とを有し、これらの工程を順次繰り返し実施する。以下において、各工程について図２を参照しながら説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、まず、基材部１１０を用意し、その表面１１０ａ（アルミニウム層が形成される面）を研削（研磨）して鏡面化し、表面１１０ａの平滑性を向上させる基材部準備工程を行う。本実施形態のようなパイプ状の基材部１１０を用いる場合は、所定の厚さで押し出し成形等によって形成されたものを用いることができる。基材部１１０は、その外周面を所定の研削具等によって研削（研磨）する。
次に、図２（ｂ）に示すように、基材部１１０の表面１１０ａに、所定の厚さで第１中間部１３０を形成する第１中間部形成工程を行う。本実施形態の第１中間部１３０は、ニッケル又は銅の層（薄膜）であり、メッキ法により形成される。なお、第１中間部１３０は、前述のように、蒸着法やスパッタ法等により形成してもよい。
次に、図２（ｃ）に示すように、第１中間部１３０の表面１３０ａ（基材部１１０とは反対側の面）に、所定の厚さで第２中間部１４０を形成する第２中間部形成工程を行う。本実施形態の第２中間部１４０は、クロムにより形成される層（薄膜）であり、マイクロクラッククロムメッキ法（例えば、サーフ浴）により形成される。なお、第２中間部１４０は、前述のように、マイクロポーラスクロムメッキ法により、形成してもよい。
このように、第２中間部１４０をクロム層によって形成することにより、第２中間部１４０の表面１４０ａが平滑化、鏡面化される。
次に、図２（ｃ）に示すように、第１中間部１３０の表面１３０ａ（基材部１１０とは反対側の面）に、所定の厚さで第２中間部１４０を形成する第２中間部形成工程を行う。本実施形態の第２中間部１４０は、クロムにより形成される層（薄膜）であり、マイクロクラッククロムメッキ法（例えば、サーフ浴）により形成される。なお、第２中間部１４０は、前述のように、マイクロポーラスクロムメッキ法により、形成してもよい。
このように、第２中間部１４０をクロム層によって形成することにより、第２中間部１４０の表面１４０ａが平滑化、鏡面化される。
次に、図２（ｄ）に示すように、第２中間部１４０の表面１４０ａ（第１中間部１３０とは反対側の面）に、所定の厚さで第３中間部１５０を形成する第３中間部形成工程を行う。本実施形態の第３中間部１５０は、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）の層（薄膜）であり、スパッタ法により形成されるが、これに限らず、例えば、蒸着法やメッキ法等により形成してもよい。なお、第３中間部１５０は、酸化ケイ素の層としてもよい。
次に、図２（ｅ）に示すように、第３中間部１５０の表面１５０ａ（第２中間部１４０とは反対側の面）に、所定の厚さで賦形部１２０となるアルミニウム層１２０Ａを形成するアルミニウム層形成工程を行う。このアルミニウム層１２０Ａは、スパッタ法により形成されるが、これに限らず、例えば、蒸着法やメッキ法等により形成してもよい。
基材部１１０、第１中間部１３０、第２中間部１４０、第３中間部１５０、アルミニウム層１２０Ａが一体に積層されて、金属基体１００Ａとなる。
次に、図２（ｅ）に示すように、第３中間部１５０の表面１５０ａ（第２中間部１４０とは反対側の面）に、所定の厚さで賦形部１２０となるアルミニウム層１２０Ａを形成するアルミニウム層形成工程を行う。このアルミニウム層１２０Ａは、スパッタ法により形成されるが、これに限らず、例えば、蒸着法やメッキ法等により形成してもよい。
基材部１１０、第１中間部１３０、第２中間部１４０、第３中間部１５０、アルミニウム層１２０Ａが一体に積層されて、金属基体１００Ａとなる。
次に、図２（ｆ）〜（ｈ）に示すように、金属基体１００Ａの表面（アルミニウム層１２０Ａの表面１２０ａ）に複数の微細孔１２１を形成し、賦形部１２０を形成する微細孔形成工程を行う。
まず、金属基体１００Ａを所定の電解液中において、アルミニウム層１２０Ａの表面１２０ａを陽極酸化し、図２（ｆ）に示すように、その表面に複数の微小な孔ｈを有するアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂを形成する陽極酸化工程を行う。
この陽極酸化工程では、酸性の電解液が用いられることが好ましい。酸性の電解液を用いることにより、アルミニウム層１２０Ａの表面に微小な孔ｈをランダムな位置に複数形成することができる。酸性の電解液は、例えば、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液及びこれらの混合液等を用いることができる。本実施形態では、シュウ酸水溶液を用いている。
まず、金属基体１００Ａを所定の電解液中において、アルミニウム層１２０Ａの表面１２０ａを陽極酸化し、図２（ｆ）に示すように、その表面に複数の微小な孔ｈを有するアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂを形成する陽極酸化工程を行う。
この陽極酸化工程では、酸性の電解液が用いられることが好ましい。酸性の電解液を用いることにより、アルミニウム層１２０Ａの表面に微小な孔ｈをランダムな位置に複数形成することができる。酸性の電解液は、例えば、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液及びこれらの混合液等を用いることができる。本実施形態では、シュウ酸水溶液を用いている。
電解液の濃度は、０．０１〜１．０ｍｏｌ／Ｌの範囲内が好ましく、より好ましくは、０．０３〜０．５ｍｏｌ／Ｌの範囲内である。また、電解液の温度は、５〜４０℃の範囲内、よりこの好ましくは８〜２５℃の範囲内である。印加電圧は、１５０Ｖ以下、好ましくは１００Ｖ以下である。
この陽極酸化工程において形成される微小な孔ｈの深さや配列態様は、陽極酸化に用いる電解液の液性等に依存する。なお、電解液としては、上述のように、酸性の電解液であることが好ましいが、形成したい微細孔１２１の形状等各種条件によっては、中性の電解液を用いてもよい。
この陽極酸化工程において形成される微小な孔ｈの深さや配列態様は、陽極酸化に用いる電解液の液性等に依存する。なお、電解液としては、上述のように、酸性の電解液であることが好ましいが、形成したい微細孔１２１の形状等各種条件によっては、中性の電解液を用いてもよい。
本工程における陽極酸化時間は、電解液の特性等に応じて適宜設定され、アルミニウム層１２０Ａの表面に所望の形状の複数の微小な孔ｈを有するアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂを形成することができれば特に限定しない。
この陽極酸化工程では、アルミニウム層１２０Ａの表面が酸化されてアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂが形成され、かつ、このアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂに、ポーラス状の略円柱形状の微小な孔ｈが形成される。この孔ｈは、賦形部１２０の微細孔１２１に比べて、その開口部の径や深さ等が小さい。
なお、この陽極酸化工程により形成されるアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂの厚みは、微小な孔ｈを形成することができる程度であれば、特に限定しない。
この陽極酸化工程では、アルミニウム層１２０Ａの表面が酸化されてアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂが形成され、かつ、このアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂに、ポーラス状の略円柱形状の微小な孔ｈが形成される。この孔ｈは、賦形部１２０の微細孔１２１に比べて、その開口部の径や深さ等が小さい。
なお、この陽極酸化工程により形成されるアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂの厚みは、微小な孔ｈを形成することができる程度であれば、特に限定しない。
次に、図２（ｇ）に示すように、陽極酸化工程によって形成されたアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂをエッチングし、孔ｈの開口部にテーパー形状を形成する第１エッチング工程を行う。
アルミニウム酸化皮膜１２０Ｂに形成される孔ｈは、エッチング液により化学的溶解を受けるとき、内部（すなわち、孔ｈの底部側（基材部１１０側））に比べ、外部（すなわち、孔ｈの開口部側）の方が、エッチング液による溶解の影響が大きくなる。これは、孔ｈの内部に浸入したエッチング液の交換速度が外部（孔ｈの開口部近傍）のエッチング液の交換速度よりも遅いためである。この結果、孔ｈの開口部近傍の方が底部よりもエッチングされる量が多くなり、孔ｈは、その開口部側がテーパー状となり、開口部側の径が広く、底部側の径が小さくなる。
アルミニウム酸化皮膜１２０Ｂに形成される孔ｈは、エッチング液により化学的溶解を受けるとき、内部（すなわち、孔ｈの底部側（基材部１１０側））に比べ、外部（すなわち、孔ｈの開口部側）の方が、エッチング液による溶解の影響が大きくなる。これは、孔ｈの内部に浸入したエッチング液の交換速度が外部（孔ｈの開口部近傍）のエッチング液の交換速度よりも遅いためである。この結果、孔ｈの開口部近傍の方が底部よりもエッチングされる量が多くなり、孔ｈは、その開口部側がテーパー状となり、開口部側の径が広く、底部側の径が小さくなる。
本実施形態の第１エッチング工程におけるエッチング方法としては、酸性エッチング法を用いている。しかし、これに限らず、例えば、アルカリエッチング法、電解エッチング法等を用いてもよい。なお、アルカリエッチング法は、光沢や表面粗度等が大きく、エッチング面を一定の状態に維持することが難しく、遊離アルカリ濃度や浴中の溶存金属成分を常に一定範囲に管理すること等が要求されるため、本実施形態では、濃度管理等が行いやすい酸性エッチング法を用いている。
この第１エッチング工程は、前述の陽極酸化工程の直後に、陽極酸化工程で用いられた電解液中で行われる。従って、第１エッチング工程におけるエッチング液は、陽極酸化工程で用いられた電解液である。これにより、第１エッチング工程に用いるエッチング液を別途用意する必要がなく、生産コストを抑え、かつ、容易に孔ｈにテーパー形状を形成できる。なお、取り扱いや管理が容易に行えるという観点等から、このエッチング液（電解液）としては、シュウ酸水溶液を用いることが好ましく、本実施形態では、シュウ酸水溶液を用いている。なお、これに限らず、第１エッチング工程のエッチング液としては、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液、及びこれらの混合液等の酸性電解液を用いてもよい。
陽極酸化工程の直後に、陽極酸化工程で用いられた電解液中で第１エッチング工程を行う時間、すなわち、陽極酸化工程により、複数の微小な孔ｈを有するアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂがアルミニウム層１２０Ａの表面に形成された金属基体１００Ａを、陽極酸化工程で用いられた電解液中にそのまま放置する時間は、例えば、５秒以上であることが好ましく、１０秒以上であることがより好ましく、３０秒以上であることがさらに好ましい。この第１エッチング工程を行う時間は、所望する微細孔１２１のテーパー形状によって、適宜調整可能である。
陽極酸化工程の直後に、陽極酸化工程で用いられた電解液中で第１エッチング工程を行う時間、すなわち、陽極酸化工程により、複数の微小な孔ｈを有するアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂがアルミニウム層１２０Ａの表面に形成された金属基体１００Ａを、陽極酸化工程で用いられた電解液中にそのまま放置する時間は、例えば、５秒以上であることが好ましく、１０秒以上であることがより好ましく、３０秒以上であることがさらに好ましい。この第１エッチング工程を行う時間は、所望する微細孔１２１のテーパー形状によって、適宜調整可能である。
次に、図２（ｈ）に示すように、孔ｈの径を拡大する第２エッチング工程を行う。
この第２エッチング工程では、金属基体１００Ａを、第２エッチング工程用のエッチング液中おいて、アルミニウム酸化皮膜１２０Ｂを第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより、孔ｈの径を均等に広げる。
上述のように、第２エッチング工程は、第１エッチング工程よりもエッチングレートが高いため、エッチング速度が速くなり、孔ｈの底部と開口部といった場所によるエッチング液の交換速度の差が小さくなる。これにより、第２エッチング工程では、エッチングによって、孔ｈの開口部等にテーパー形状が形成されず、第１エッチング工程によって形成されたテーパー形状を有する孔ｈの径を、その孔における場所によらず、全体的に均等に大きくする。
この第２エッチング工程では、金属基体１００Ａを、第２エッチング工程用のエッチング液中おいて、アルミニウム酸化皮膜１２０Ｂを第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより、孔ｈの径を均等に広げる。
上述のように、第２エッチング工程は、第１エッチング工程よりもエッチングレートが高いため、エッチング速度が速くなり、孔ｈの底部と開口部といった場所によるエッチング液の交換速度の差が小さくなる。これにより、第２エッチング工程では、エッチングによって、孔ｈの開口部等にテーパー形状が形成されず、第１エッチング工程によって形成されたテーパー形状を有する孔ｈの径を、その孔における場所によらず、全体的に均等に大きくする。
第２エッチング工程でのエッチングレートは、第１エッチング工程のエッチングレートに対して、１．２倍以上であることが好ましく、１．５倍以上であることがより好ましく、２．０倍以上であることがさらに好ましい。なお、第２エッチング工程でのエッチングレートが第１エッチング工程のエッチングレートの１．２倍未満では、十分に孔ｈの径を拡大させる効果が少なくなり、所望の形状の微細孔１２１が得られない。
第２エッチング工程で用いられるエッチング液としては、取り扱いや管理の面から、リン酸水溶液が好ましい。本実施形態では、リン酸水溶液を用いている。
なお、第２エッチング工程で用いられるエッチング液としては、これに限らず、例えば、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液、クロム酸水溶液、リン酸クロム水溶液等の酸性水溶液、及びこれらの混合液や、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いることができる。
第２エッチング工程で用いられるエッチング液としては、取り扱いや管理の面から、リン酸水溶液が好ましい。本実施形態では、リン酸水溶液を用いている。
なお、第２エッチング工程で用いられるエッチング液としては、これに限らず、例えば、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液、クロム酸水溶液、リン酸クロム水溶液等の酸性水溶液、及びこれらの混合液や、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いることができる。
また、第２エッチング工程でのエッチング液の濃度は、例えば、０．００５〜３．０Ｍの範囲内であることが好ましく、０．０１〜２．０Ｍの範囲内であることがより好ましいが、エッチング液の種類等によって適宜調整してよい。第２エッチング工程のエッチング液の濃度が上記範囲よりも高いと、第２エッチング工程によりアルミニウム酸化皮膜をすべて除去してしまう場合がある。また、第２エッチング工程のエッチング液の濃度が上記範囲よりも低いと、第２エッチング工程のエッチングレートが低下し、十分な孔径拡大処理ができない。
第２エッチング工程でのエッチング時間（第２エッチング工程用のエッチング液に浸す時間）は、例えば、１〜６０分間の範囲内であることが好ましく、２〜３０分間の範囲内であることがより好ましい。
第２エッチング工程のエッチング時間が上記範囲よりも長いと、第２エッチング工程によりアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂを除去してしまい、孔ｈと孔ｈとの間の壁が薄くなって強度が弱くなり、金型とした場合に樹脂が微細孔１２１入り込むと破損してしまう場合がある。一方、第２エッチング工程のエッチング時間が上記範囲よりも短いと、孔ｈの径を十分に拡大することができず、微細孔１２１としての所望の形状が得られない。従って、上記の時間範囲内が好ましい。
なお、この時間は、エッチング液の特性等に応じて適宜調整してよい。
第２エッチング工程のエッチング時間が上記範囲よりも長いと、第２エッチング工程によりアルミニウム酸化皮膜１２０Ｂを除去してしまい、孔ｈと孔ｈとの間の壁が薄くなって強度が弱くなり、金型とした場合に樹脂が微細孔１２１入り込むと破損してしまう場合がある。一方、第２エッチング工程のエッチング時間が上記範囲よりも短いと、孔ｈの径を十分に拡大することができず、微細孔１２１としての所望の形状が得られない。従って、上記の時間範囲内が好ましい。
なお、この時間は、エッチング液の特性等に応じて適宜調整してよい。
微細孔形成工程は、陽極酸化工程（図２（ｆ）参照）と、第１エッチング工程（図２（ｇ）参照）と、第２エッチング工程（図２（ｈ）参照）とを順次繰り返し実施する。これらの工程は、反射防止フィルム製造用金型１００として用いることが可能な程度に均一かつ所望の形状の微細孔１２１ができるまで、複数回繰り返して行われる。なお、この微細孔形成工程は、所望の微細孔１２１が形成されれば、陽極酸化工程で終わってもよく、第１エッチング工程で終わってもよい。
上述の微細孔形成工程を行い、賦形部１２０に所望の微細孔１２１を形成した後、必要に応じて、例えば、離型処理工程、水洗工程、乾燥工程等を行ってもよい。なお、これらの工程については、一般的な反射防止フィルム製造用金型１００を製造する際に用いられる工程と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
これらの工程を行うことにより、図２（ｉ）に示すように、反射防止フィルム製造用金型１００が形成される。
なお、本実施形態のように、基材部１１０が軸を有しないパイプ状である場合には、通常、微細孔層形成工程後に、基材部１１０に軸付けを行う軸付け工程が行われる。なお、軸付け工程については、一般的な方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、基材部１１０の形状がスリーブ状である場合は、通常、微細孔層形成工程後に、嵌合用軸付きロールにスリーブを嵌合する嵌合工程が行われる。嵌合工程に用いられる嵌合方法としては、例えば、圧入方式、焼嵌め方式、冷嵌め方式、圧空交換方式等を用いることができ、特に、圧空交換方式を用いることが好ましい。嵌合方法に関しては、一般的な方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
これらの工程を行うことにより、図２（ｉ）に示すように、反射防止フィルム製造用金型１００が形成される。
なお、本実施形態のように、基材部１１０が軸を有しないパイプ状である場合には、通常、微細孔層形成工程後に、基材部１１０に軸付けを行う軸付け工程が行われる。なお、軸付け工程については、一般的な方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、基材部１１０の形状がスリーブ状である場合は、通常、微細孔層形成工程後に、嵌合用軸付きロールにスリーブを嵌合する嵌合工程が行われる。嵌合工程に用いられる嵌合方法としては、例えば、圧入方式、焼嵌め方式、冷嵌め方式、圧空交換方式等を用いることができ、特に、圧空交換方式を用いることが好ましい。嵌合方法に関しては、一般的な方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
（実施例１）
本実施形態の実施例１として、以下のような反射防止フィルム製造用金型１００を作製した。
基材部１１０として、アルミニウム合金（材質６０６３ 日本軽金属株式会社）製であり、外径３００ｍｍ、内径２８０ｍｍ、厚さ１０ｍｍ、幅１４００ｍｍのパイプ状の部材を作製し、その外周面を研削した。
この基材部１１０の外周面に、厚さ１０μｍのニッケル層をメッキ法により形成して第１中間部１３０とし、第１中間部１３０上に、厚さ５０μｍのクロム層をマイクロクラッククロムメッキ法（クラック数５００本／ｃｍ）により形成し、第２中間部１４０とした。このような第２中間部１４０を形成することにより、その表面は、鏡面化されている（表面粗さ０．１５Ｓ）。
そして、第２中間部１４０の上に、厚さ約５００ｎｍの酸化タンタル層をスパッタ法により形成して第３中間部１５０とし、さらのこの第３中間部１５０（酸化タンタル層）上に、厚さ約１μｍのアルミニウム層をスパッタ法により形成し、金属基体１００Ａとした。
そして、この金属基体１００Ａのアルミニウム層１２０Ａの表面に上述の微細孔形成工程を行い、複数の微細孔１２１を形成した。
本実施形態の実施例１として、以下のような反射防止フィルム製造用金型１００を作製した。
基材部１１０として、アルミニウム合金（材質６０６３ 日本軽金属株式会社）製であり、外径３００ｍｍ、内径２８０ｍｍ、厚さ１０ｍｍ、幅１４００ｍｍのパイプ状の部材を作製し、その外周面を研削した。
この基材部１１０の外周面に、厚さ１０μｍのニッケル層をメッキ法により形成して第１中間部１３０とし、第１中間部１３０上に、厚さ５０μｍのクロム層をマイクロクラッククロムメッキ法（クラック数５００本／ｃｍ）により形成し、第２中間部１４０とした。このような第２中間部１４０を形成することにより、その表面は、鏡面化されている（表面粗さ０．１５Ｓ）。
そして、第２中間部１４０の上に、厚さ約５００ｎｍの酸化タンタル層をスパッタ法により形成して第３中間部１５０とし、さらのこの第３中間部１５０（酸化タンタル層）上に、厚さ約１μｍのアルミニウム層をスパッタ法により形成し、金属基体１００Ａとした。
そして、この金属基体１００Ａのアルミニウム層１２０Ａの表面に上述の微細孔形成工程を行い、複数の微細孔１２１を形成した。
微細孔１２１は、その深さＱ＝３４０ｎｍ、周期Ｐ＝１３０ｎｍ、間隔ｄ＝５ｎｍ、テーパー角度θ＝８０°であり、図１（ｂ）に示すような略釣鐘形状であった。
また、反射防止フィルム製造用金型２００における小さいうねりは、２０〜８０ｎｍであり、大きなうねりは、約１０００ｎｍであった。
この実施例１の反射防止フィルム製造用金型１００には、不図示の水冷可能な軸が取りつけられ、この金型を用いて、２Ｐ法により、ＴＡＣフィルムの基材層１１上に、紫外線硬化型樹脂（アクリレート及び光開始剤）によりモスアイ構造層１２を形成し、反射防止フィルム１０を作製した。作製された反射防止フィルム１０は、良好な反射防止機能を有し、斜め方向から見た場合にも光の散乱により局所的に白く見える部分が低減され、良好な反射防止効果が得られた。また、作製された反射防止フィルム１０は、表面の耐擦傷性も良好であった。
また、反射防止フィルム製造用金型２００における小さいうねりは、２０〜８０ｎｍであり、大きなうねりは、約１０００ｎｍであった。
この実施例１の反射防止フィルム製造用金型１００には、不図示の水冷可能な軸が取りつけられ、この金型を用いて、２Ｐ法により、ＴＡＣフィルムの基材層１１上に、紫外線硬化型樹脂（アクリレート及び光開始剤）によりモスアイ構造層１２を形成し、反射防止フィルム１０を作製した。作製された反射防止フィルム１０は、良好な反射防止機能を有し、斜め方向から見た場合にも光の散乱により局所的に白く見える部分が低減され、良好な反射防止効果が得られた。また、作製された反射防止フィルム１０は、表面の耐擦傷性も良好であった。
（実施例２）
本実施形態の実施例２として、以下のような反射防止フィルム製造用金型１００を作製した。
基材部１１０として、アルミニウム合金（材質５０５６ 日本軽金属株式会社）製であり、外径３００ｍｍ、内径２８０ｍｍ、厚さ１０ｍｍ、幅１４００ｍｍのパイプ状の部材を作製し、その外周面を研削した。
この基材部１１０の外周面に、厚さ１０μｍの銅層をメッキ法により形成し、第１中間部１３０とし、第１中間部１３０上に、厚さ３０μｍのクロム層をマイクロクラッククロムメッキ法（クラック数１６００本／ｃｍ）により形成し、第２中間部１４０とした。このような第２中間部１４０を形成することにより、その表面は、鏡面化されている（表面粗さ０．１０Ｓ）。
そして、第２中間部１４０の上に、厚さ約１０００ｎｍの二酸化ケイ素層をスパッタ法により形成して第３中間部１５０とし、さらのこの第３中間部１５０（二酸化ケイ素層）上に、厚さ約１μｍのアルミニウム層をスパッタ法により形成し、金属基体１００Ａとした。
そして、この金属基体１００Ａのアルミニウム層１２０Ａの表面に上述の微細孔形成工程を行い、複数の微細孔１２１を形成した。
本実施形態の実施例２として、以下のような反射防止フィルム製造用金型１００を作製した。
基材部１１０として、アルミニウム合金（材質５０５６ 日本軽金属株式会社）製であり、外径３００ｍｍ、内径２８０ｍｍ、厚さ１０ｍｍ、幅１４００ｍｍのパイプ状の部材を作製し、その外周面を研削した。
この基材部１１０の外周面に、厚さ１０μｍの銅層をメッキ法により形成し、第１中間部１３０とし、第１中間部１３０上に、厚さ３０μｍのクロム層をマイクロクラッククロムメッキ法（クラック数１６００本／ｃｍ）により形成し、第２中間部１４０とした。このような第２中間部１４０を形成することにより、その表面は、鏡面化されている（表面粗さ０．１０Ｓ）。
そして、第２中間部１４０の上に、厚さ約１０００ｎｍの二酸化ケイ素層をスパッタ法により形成して第３中間部１５０とし、さらのこの第３中間部１５０（二酸化ケイ素層）上に、厚さ約１μｍのアルミニウム層をスパッタ法により形成し、金属基体１００Ａとした。
そして、この金属基体１００Ａのアルミニウム層１２０Ａの表面に上述の微細孔形成工程を行い、複数の微細孔１２１を形成した。
微細孔１２１は、その深さＱ＝２２０ｎｍ、周期Ｐ＝１１０ｎｍ、間隔ｄ＝５ｎｍ、テーパー角度θ＝７７°であり、図１（ｂ）に示すような略釣鐘形状とした。
また、反射防止フィルム製造用金型１００表面の小さいうねりは、１０〜５０ｎｍであり、大きなうねりは、約１００ｎｍであった。
この実施例２の反射防止フィルム製造用金型１００には、不図示の水冷可能な軸が取りつけられ、この金型を用いて、２Ｐ法により、ＴＡＣフィルムの基材層１１上に、紫外線硬化型樹脂（アクリレート及び光開始剤）によりモスアイ構造層１２を形成し、反射防止フィルム１０を作製した。作製された反射防止フィルム１０は、良好な反射防止機能を有し、斜め方向から見た場合にも光の散乱により局所的に白く見える部分が低減され、良好な反射防止効果が得られた。また、作製された反射防止フィルム１０は、表面の耐擦傷性も良好であった。
また、反射防止フィルム製造用金型１００表面の小さいうねりは、１０〜５０ｎｍであり、大きなうねりは、約１００ｎｍであった。
この実施例２の反射防止フィルム製造用金型１００には、不図示の水冷可能な軸が取りつけられ、この金型を用いて、２Ｐ法により、ＴＡＣフィルムの基材層１１上に、紫外線硬化型樹脂（アクリレート及び光開始剤）によりモスアイ構造層１２を形成し、反射防止フィルム１０を作製した。作製された反射防止フィルム１０は、良好な反射防止機能を有し、斜め方向から見た場合にも光の散乱により局所的に白く見える部分が低減され、良好な反射防止効果が得られた。また、作製された反射防止フィルム１０は、表面の耐擦傷性も良好であった。
本実施形態によれば、以下のような効果が得られる。
従来の反射防止フィルム製造用金型のように、アルミニウム製の基材部の表面に陽極酸化によって微細孔を形成する場合、陽極酸化を行うために純度の高いアルミニウムを用いて基材部を形成する必要がある。そのため、基材部は、その硬度が低く、基材部表面に研削による筋状の研削痕（２００μｍピッチ程度で発生する１μｍ以下の凹凸）や、ピット（穴：径１０〜２０μｍ程度）等が生じており、平滑性が低い。このような研削痕やピットを有したまま作製された反射防止フィルム製造用金型を用いて反射防止フィルムのモスアイ構造を賦形すると、反射防止フィルムを斜めから見た場合に、光が拡散されて白く見える部分が生じるという外観不良を生じる。これは、研削痕やピットのために、金型の表面にうねりや凹部等が生じ、金型全体としての平滑性や微細孔の形状の均一性が低下し、形成される反射防止フィルムの表面にうねりが生じたり、モスアイ構造の表面の高さが不均一になったり、モスアイ構造の凸部の形状が不均一になったりすることに起因している。
従来の反射防止フィルム製造用金型のように、アルミニウム製の基材部の表面に陽極酸化によって微細孔を形成する場合、陽極酸化を行うために純度の高いアルミニウムを用いて基材部を形成する必要がある。そのため、基材部は、その硬度が低く、基材部表面に研削による筋状の研削痕（２００μｍピッチ程度で発生する１μｍ以下の凹凸）や、ピット（穴：径１０〜２０μｍ程度）等が生じており、平滑性が低い。このような研削痕やピットを有したまま作製された反射防止フィルム製造用金型を用いて反射防止フィルムのモスアイ構造を賦形すると、反射防止フィルムを斜めから見た場合に、光が拡散されて白く見える部分が生じるという外観不良を生じる。これは、研削痕やピットのために、金型の表面にうねりや凹部等が生じ、金型全体としての平滑性や微細孔の形状の均一性が低下し、形成される反射防止フィルムの表面にうねりが生じたり、モスアイ構造の表面の高さが不均一になったり、モスアイ構造の凸部の形状が不均一になったりすることに起因している。
また、基材部表面の異常結晶粒によっても、微細孔の形状が不均一になり、結果として、反射防止フィルムのモスアイ構造の凸部の形状が不均一になる。特に、周方向に分割された成形型を用いて押し出し成形する等によりパイプ状に基材部を成形する場合には、基材部表面にウェルドライン（継ぎ目）が生じる。このウェルドラインは異常結晶粒が生じやすく、これが、微細孔の不均一性を生じ、結果として、前述のような反射防止フィルムの外観不良や反射防止機能の低下に繋がるという問題がある。
さらに、反射防止フィルムのモスアイ構造が不均一になると、反射防止フィルムの表面に負荷が掛かった場合に、均一な負荷分散ができなくなり、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下する等の機械的強度が低下するという問題もあった。
さらに、反射防止フィルムのモスアイ構造が不均一になると、反射防止フィルムの表面に負荷が掛かった場合に、均一な負荷分散ができなくなり、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下する等の機械的強度が低下するという問題もあった。
しかし、本実施形態によれば、基材部１１０がアルミニウム合金製であるので、アルミニウム製の基材部に比べて、硬質であり、研削痕が生じにくく、研削が容易である。また、第２中間部１４０をクロムのメッキ層とすることにより、アルミニウム層１２０Ａ（賦形部１２０）を形成する下地となる表面が、より高精度な研削等の作業を行うことなく、容易に平滑化、鏡面化できる。さらに、基材部１１０と賦形部１２０との間に、第１〜第３中間部１３０，１４０，１５０を備えるので、基材部１１０表面の研削痕やピット等の凹凸の影響を大幅に低減できる。従って、反射防止フィルム製造用金型１００全体としての表面のうねりが改善され、その平滑性を向上させることができる。さらに、基材部１１０は、アルミニウム合金製であるので、例えば、ニッケル等により基材部１１０を形成した場合に比べて、軽量化できる。
また、第２中間部１４０として、クロム層を備えているので、基材部１１０を保護し、耐磨耗性等を向上させることができる。さらに、第１中間部１３０として、ニッケル又は銅のメッキ層を備えているので、基材部と第２中間部１４０（クロム層）との密着性をさらに向上させ、安定化させることができる。
また、第２中間部１４０として、クロム層を備えているので、基材部１１０を保護し、耐磨耗性等を向上させることができる。さらに、第１中間部１３０として、ニッケル又は銅のメッキ層を備えているので、基材部と第２中間部１４０（クロム層）との密着性をさらに向上させ、安定化させることができる。
本実施形態では、第２中間部１４０が非アルミニウム系金属（アルミニウムを主成分としない金属）により形成されている。従って、仮に、第３中間部１５０を設けない場合には、第２中間部１４０上に賦形部１２０が形成され、異種金属が接触する形態となり、微細孔形成工程において電解液やエッチング液中においてガルバニック反応（異種金属電位反応）が生じる。このガルバニック反応により腐食が生じ、アルミニウム層（賦形部）が剥離したり、変色したりするという問題が生じる。また、ガルバニック反応により、水素や酸素等のガスが発生し、アルミニウム層にピンホールやムラが発生し、形成される微細孔の形状が不均一になるという問題がある。
しかし、本実施形態によれば、第３中間部１５０を備えているので、この第３中間部１５０が絶縁層の機能を果たし、ガルバニック反応を大幅に抑制することができ、賦形部１２０の剥離や変色等を大幅に低減でき、かつ、反射防止フィルム製造用金型を安定して製造できる。
しかし、本実施形態によれば、第３中間部１５０を備えているので、この第３中間部１５０が絶縁層の機能を果たし、ガルバニック反応を大幅に抑制することができ、賦形部１２０の剥離や変色等を大幅に低減でき、かつ、反射防止フィルム製造用金型を安定して製造できる。
また、本実施形態では、第２中間部１４０として、マイクロクラッククロムメッキ法により形成されたクロム層を備えているので、ガルバニック反応による基材部１１０の腐食を大幅に抑制できる。これは、以下のような理由による。第２中間部１４０をマイクロクラッククロムメッキ法により形成されたクロム層とすることにより、第２中間部１４０には、微小なクラック（割れ）が多数分散して形成された形態となる（例えば、クラック数５００〜１６００本／ｃｍ）。そのため、ガルバニック反応（異種金属電位反応）により生じる腐食電流が分散され、ガルバニック反応自体は生じているが、この反応による基材部１１０の腐食等が抑制される。従って、ガルバニック反応に起因した腐食による第１中間部１３０及び第２中間部１４０の局所的な剥離（ひいては、賦形部１２０等の剥離）を抑制することができ、かつ、反射防止フィルム製造用金型を安定して製造できる。
その上、第１〜第３中間部１３０，１４０，１５０を備えているので、アルミニウム層１２０Ａのスパッタのムラ等によるボイド（深い孔）を大幅に抑制でき、このボイドによる微細孔１２１の不均一性を改善し、反射防止フィルムの外観不良や反射防止性能の低下を大幅に改善できる。
また、第１〜第３中間部１３０，１４０，１５０を設けることで、研削痕（研磨すじ）や、ピット、スパッタのムラ等によるボイド（深い孔）の抑制が可能となり、微細孔１２１の形状の均一性を向上させ、金型全体としての表面の凹凸（うねり）を低減することができる。これにより、例えば、反射防止フィルムの法線方向に対して３０度をなす斜め方向等から反射防止フィルムを見た場合等に、部分的に白く見えるという外観不良を改善し、反射防止フィルムの性能を向上させることができる。また、モスアイ構造の均一性が向上することで、反射防止フィルムの表面に負荷が掛かった場合に、均一な負荷分散ができるようになり、反射防止フィルムの耐擦傷性等の機械的強度が安定する。
また、第１〜第３中間部１３０，１４０，１５０を設けることで、研削痕（研磨すじ）や、ピット、スパッタのムラ等によるボイド（深い孔）の抑制が可能となり、微細孔１２１の形状の均一性を向上させ、金型全体としての表面の凹凸（うねり）を低減することができる。これにより、例えば、反射防止フィルムの法線方向に対して３０度をなす斜め方向等から反射防止フィルムを見た場合等に、部分的に白く見えるという外観不良を改善し、反射防止フィルムの性能を向上させることができる。また、モスアイ構造の均一性が向上することで、反射防止フィルムの表面に負荷が掛かった場合に、均一な負荷分散ができるようになり、反射防止フィルムの耐擦傷性等の機械的強度が安定する。
また、基材部１１０の表面を研削する場合に用いられた研削油の一部が浮き出し（ブリード）、アルミニウム層（賦形部）の剥離を生じさせる場合があるが、本実施形態によれば、第３中間部１５０を設けているので、そのような研削油の浮き出しによる賦形部１２０の部分的な剥離等を低減することができ、基材部１１０と賦形部１２０との密着性を高めることができる。特に、第３中間部１５０は、酸化ケイ素あるいは酸化タンタルにより形成されているので、研削油の浮き出しに対する腐食性がなく、また、酸化物であるために、金属との腐食反応が起きないため、密着性が安定する。また、酸化ケイ素や酸化タンタルは、比較的入手がしやすく、加工も容易であるため、このような第３中間部１５０を設けることにより、生産性にも品質にも優れたものとすることができる。
さらに、本実施形態によれば、微細孔形成工程により微細孔１２１を形成するので、テーパー形状を有する微細孔１２１を高精度で均一に、かつ、容易に作製できる。従って、高精細かつ形状が均一な反射防止フィルム製造用金型を容易に製造できる。
さらに、本実施形態によれば、微細孔形成工程により微細孔１２１を形成するので、テーパー形状を有する微細孔１２１を高精度で均一に、かつ、容易に作製できる。従って、高精細かつ形状が均一な反射防止フィルム製造用金型を容易に製造できる。
よって、本実施形態によれば、反射防止フィルム製造用金型１００に形成される微細孔１２１の形状の均一性や精度を向上させ、かつ、反射防止フィルム製造用金型１００全体としての表面のうねり（凹凸）を低減でき、賦形部１２０と基材部１１０との密着性も高めることができ、良好な反射防止フィルム製造用金型とすることができる。また、このような良好な反射防止フィルム製造用金型１００を容易かつ安価に、安定して作製することができる。そして、本実施形態の反射防止フィルム製造用金型１００によれば、モスアイ構造が高精細であり、均一性が高く、斜めから見た場合に部分的に白く見える等の外観不良や反射防止機能の低下が大幅に改善された良好な反射防止フィルムを製造できる。
（変形形態）
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
（１）本実施形態において、基材部１１０は、パイプ状である例を示したが、これに限らず、例えば、スリーブ状（厚さ約３００μｍ以下）や平板状等としてもよい。スリーブ状とした場合には、厚みが薄いため、パイプ状やロール状（円柱形状）のものに比べて軽量であり、取扱いが容易となる。
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の範囲内である。
（１）本実施形態において、基材部１１０は、パイプ状である例を示したが、これに限らず、例えば、スリーブ状（厚さ約３００μｍ以下）や平板状等としてもよい。スリーブ状とした場合には、厚みが薄いため、パイプ状やロール状（円柱形状）のものに比べて軽量であり、取扱いが容易となる。
（２）本実施形態において、微細孔１２１の底部１２１ｂは、基材部１１０側に凸となる球面状である例を示したが、これに限らず、例えば、平面形状であってもよいし、一部尖っている形状や、うねり等がある形状としてもよい。また、底部１２１ｂの最深部は、微細孔１２１の開口部１２１ａから見てその中心にある必要はなく、中心からずれていても性能には変化はない。なお、モスアイ構造の凸部１３としては、その頂部が平面状ではない方が反射防止効果の観点から好ましいため、微細孔１２１の底部１２１ｂを平面状とする場合には、凸部１３の頂部が平面状とならなうように、微細孔１２１への樹脂の充填率を適宜調整することが好ましい。
（３）本実施形態において、反射防止フィルム製造用金型１００は、基材部１１０の第１中間部１３０とは反対側に樹脂製の支持基体等を配置してもよい。また、反射防止フィルム製造用金型１００の賦形部１２０は、その微細孔１２１が形成された凹凸形状の表面に、離型層等を設けてもよい。
（４）各実施形態において、陽極酸化工程、第１エッチング工程、第２エッチング工程の各工程の前後には洗浄工程を入れてもよい。洗浄工程を入れることで、付着した異物の除去、エッチング反応の収束も可能となり、品質を安定化させることができる。
なお、本実施形態及び変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。また、本発明は以上説明した実施形態や変形形態によって限定されることはない。
１０ 反射フィルム
１１ 基材層
１２ モスアイ構造層
１００ 反射防止フィルム製造用金型
１１０ 基材部
１２０ 賦形部
１２１ 微細孔
１３０ 第１中間部
１４０ 第２中間部
１５０ 第３中間部
１１ 基材層
１２ モスアイ構造層
１００ 反射防止フィルム製造用金型
１１０ 基材部
１２０ 賦形部
１２１ 微細孔
１３０ 第１中間部
１４０ 第２中間部
１５０ 第３中間部
Claims (7)
- 可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された凸部によって形成された微細凹凸形状を有する反射防止フィルムの前記微細凹凸形状を賦形する反射防止フィルム製造用金型であって、
この反射防止フィルム製造用金型の基材となる基材部と、
前記基材部上にニッケル又は銅により形成された層状の第１中間部と、
前記第１中間部上にクロムにより形成された層状の第２中間部と、
前記第２中間部上に層状に形成された第３中間部と、
前記第３中間部上にアルミニウムにより形成された層であり、その表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された凹状の複数の微細孔を有する酸化皮膜を有する賦形部と、
を備え、
前記微細孔は、開口部から底部に向かってその径が小さくなるテーパー形状を有していること、
を特徴とする反射防止フィルム製造用金型。 - 請求項１に記載の反射防止フィルム製造用金型において、
前記基材部は、アルミニウム合金により形成されていること、
を特徴とする反射防止フィルム製造用金型。 - 請求項１又は請求項２に記載の反射防止フィルム製造用金型において、
前記第３中間部は、酸化ケイ素又は酸化タンタルにより形成されていること、
を特徴とする反射防止フィルム製造用金型。 - 請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の反射防止フィルム製造用金型において、
前記第２中間部は、マイクロクラッククロムメッキ法によるクロム層又はマイクロポーラスクロムメッキ法によるクロム層であること、
を特徴とする反射防止フィルム製造用金型。 - 請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の反射防止フィルム製造用金型の製造方法であって、
前記基材部上に、前記第１中間部としてニッケル層又は銅層を形成する第１中間部形成工程と、
前記第１中間部上に、前記第２中間部としてクロム層を形成する第２中間部形成工程と、
前記第２中間部上に前記第３中間部を形成する第３中間部形成工程と、
前記第３中間部上にアルミニウム層を形成するアルミニウム層形成工程と、
前記微細孔を形成する微細孔形成工程を備え、
前記微細孔形成工程は、
陽極酸化法によって前記アルミニウム層の表面に複数の微小な孔を有する酸化皮膜を形成する陽極酸化工程と、
前記酸化皮膜をエッチングする第１エッチング工程と、
前記第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートで前記酸化皮膜をエッチングする第２エッチング工程と、
を備え、前記陽極酸化工程、前記第１エッチング工程、前記第２エッチング工程を順次繰り返すことにより、前記アルミニウム層の表面に可視光領域の光の波長よりも短い周期で配列された複数の前記微細孔を有する酸化皮膜を形成すること、
を特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法。 - 請求項５に記載の反射防止フィルム製造用金型の製造方法において、
前記第２中間部形成工程において、前記クロム層は、マイクロクラッククロムメッキ法又はマイクロポーラスクロムメッキ法により形成されること、
を特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法。 - 請求項５又は請求項６に記載の反射防止フィルム製造用金型の製造方法において、
前記第１エッチング工程は、前記陽極酸化工程の直後に、前記陽極酸化工程に用いられた電解液中において行われること、
を特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP5029773B1 true JP5029773B1 (ja) | 2012-09-19 |
| JP2013040392A JP2013040392A (ja) | 2013-02-28 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011179220A Expired - Fee Related JP5029773B1 (ja) | 2011-08-18 | 2011-08-18 | 反射防止フィルム製造用金型、反射防止フィルム製造用金型の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5029773B1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104911668A (zh) * | 2015-06-18 | 2015-09-16 | 华南理工大学 | 一种制备纳米锥形孔阳极氧化铝模板的方法 |
| CN113774436A (zh) * | 2021-09-26 | 2021-12-10 | 香港科技大学深圳研究院 | 一种镍模具及其制备方法和应用、减反射膜及其制备方法和应用 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63187415A (ja) * | 1987-01-29 | 1988-08-03 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JP5511313B2 (ja) * | 2008-11-07 | 2014-06-04 | キヤノン株式会社 | 光学素子成形用金型、光学素子成形用金型の製造方法、光学素子、および光学素子の製造方法 |
-
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| CN113774436A (zh) * | 2021-09-26 | 2021-12-10 | 香港科技大学深圳研究院 | 一种镍模具及其制备方法和应用、减反射膜及其制备方法和应用 |
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