JP5024287B2 - 光学積層体及び光学積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層が順に形成されてなる光学積層体の断面外観において、上記ハードコート層の断面相(断面模様)が、ハードコート層から帯電防止層を介して光透過性基材中にわたり存在しているか否かを調べて、評価することを特徴とする光学積層体の密着性評価方法に関する。
上記帯電防止層は、帯電防止剤及び熱可塑性樹脂を含む熱乾燥型組成物を用いて形成されていることが好ましい。
上記帯電防止剤が、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ(1,6−ヘプタジイン)、ポリビフェニレン(ポリパラフェニレン)、ポリパラフェニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ(2,5−チエニレン)、ポリフラン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリイソチアナフテン、ポリアセン及びこれらの誘導体の少なくとも1種の導電性高分子であることが好ましい。
上記ハードコート層は、樹脂及び溶剤を含むハードコート層形成用組成物により形成されるものであり、上記溶剤が、帯電防止層の熱可塑性樹脂に対して溶解性を有することが好ましい。
上記光学積層体は、干渉縞が実質的に存在しないことが好ましい。
上記光学積層体は、ハードコート層の上に、防眩層、低屈折率層及び防汚層からなる群より選択される少なくとも1層を形成してなることが好ましい。
上記光学積層体において、ハードコート層、並びに、防眩層、低屈折率層及び防汚層からなる群より選択される少なくとも1層のうち少なくとも1層は、帯電防止性能を有するものであることが好ましい。
上記光学積層体は、好ましくは反射防止用積層体として用いられる。
上記偏光板は、光学積層体に含まれる帯電防止層以外の帯電防止層を少なくとも1層有することが好ましい。
本発明は、光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層が順に形成されてなる光学積層体の製造方法であって、上記帯電防止層が、帯電防止剤及び熱可塑性樹脂を含む熱乾燥型組成物を用いて形成されているものであり、上記ハードコート層は、樹脂及び溶剤を含むハードコート層形成用組成物により形成されるものであり、上記溶剤が、上記帯電防止層の上記熱可塑性樹脂に対して溶解性を有することを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテートが挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ(株)製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましい。
帯電防止層としては特に限定されず、例えば、帯電防止剤及び熱可塑性樹脂を含む熱乾燥型組成物により好適に形成することができる。この場合、必要に応じて溶剤を使用することもできる。熱乾燥型組成物は、加熱により溶剤を乾燥すると、被膜化し、その後、その層の上に加工が可能となる状態になる樹脂組成物であり、公知の熱可塑性塗料等と同様のバインダー、溶剤等を用いて調製することができる。
本発明における「ハードコート層」とは、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。本発明の光学積層体においては、上記ハードコート層は、鉛筆硬度2H以上であることが望ましい。また、上記ハードコート層は、ビッカース硬度は250N/mm以上であることが望ましい。
上記樹脂としては特に限定されず、例えば、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。また、本発明の好ましい態様によれば、電離放射線硬化型樹脂と熱硬化型樹脂とを少なくとも含んでなる樹脂を用いることができる。
具体的には、アセトフェノン系光重合開始剤に対し、ベンゾフェノンまたはチオキサントン光増感剤を用いることが好ましい。
光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物100質量部に対し、0.1〜10質量部であることが好ましい。
また、ハードコート層形成用組成物中において、上記浸透性溶剤は、溶剤全量中10〜100質量%、特に50〜100質量%となることが望ましい。
上記ハードコート層形成用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、防眩性を付与する等の目的に応じて、樹脂、分散剤、界面活性剤、防眩剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。
本発明の基本層構成として、光透過性基材の上に、少なくとも帯電防止層及びハードコート層が順に形成されていれば良い。このため、本発明積層体の光透過性等が損なわれない範囲内で、必要に応じてハードコート層上に他の層(防眩層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等)の1層又は2層以上を適宜形成することができるが、防眩層、低屈折率層及び防汚層からなる群より選択される少なくとも1層が形成されることが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。
防眩層は、例えば透過性基材とハードコート層又は低屈折率層(後記)との間に形成されて良い。防眩層は、樹脂及び防眩剤を含む樹脂組成物から形成されて良い。
30≦Sm≦600
0.05≦Rz≦1.60
0.1≦θa≦2.5
0.3≦R≦20
を全て満たすものが好ましい。
測定手順
1:レーザー顕微鏡観察により平均膜厚を測定した。
2:測定条件は、上記の通りであった。
3:1画面につき凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの層厚を1点ずつ計2点測定し、それを5画面分、計10点測定し、平均値を算出した。
上記レーザー顕微鏡は、各層に屈折率差があることによって非破壊断面観察できる。よって、もし、屈折率差が不明瞭であったり、差が0に近い場合には、防眩層の膜厚は、各層の組成の違いで観察できるSEM及びTEM断面写真観察によっても、同様に5画面を観察し、求めることができる。
低屈折率層は、外部からの光(例えば蛍光灯、自然光等)が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。低屈折率層は、好ましくは、1)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、2)低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、3)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、4)シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれか構成される。これらの低屈折率層は、屈折率1.45以下、特に1.42以下であることが好ましい。また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は30nm〜1μm程度の範囲内から適宜設定すれば良い。上記低屈折率層の厚みは、上記ハードコート層及び低屈折率層と同様に測定することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、ハードコート層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
dA=mλ/(4nA) (I)
(上記式中、nAは低屈折率層の屈折率を表し、mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)を満たすものが好ましい。
120<nAdA<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
防汚層は、光学積層体の最表面に汚れ(指紋、水性又は油性のインキ類、鉛筆等)が付着しにくく、又は付着した場合でも容易に拭取ることができるという役割を担う層である。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良く、特に低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の両側に防汚層が設けることが好ましい。防汚層の形成により、光学積層体(反射防止用積層体)に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。低屈折率層がない場合でも、最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良い。
本発明の光学積層体は、界面が実質的に存在しないことが望ましい。ここで、「界面が(実質的に)存在しない」とは、1)二つの層面が重なり合ってはいるが実際に界面が存在しないこと、及び2)屈折率からみて両者の面に界面が存在していないと判断されることを包含する。
「界面が(実質的に)存在しない」の具体的な基準としては、光学積層体の干渉縞観察による。すなわち、光学積層体の裏面に黒テープを貼り、3波長蛍光灯の照射下で光学積層体の上から目視にて観察する。このとき、干渉縞が確認できる場合は、別途に断面をレーザー顕微鏡により観察すると界面が確認されることから、これを「界面が存在する」と認定する。一方、干渉縞が確認できない場合又は極めて弱い場合は、別途に断面をレーザー顕微鏡により観察すると界面が見られないか又は極めて薄くしか見えない状態となることから、これを「界面が実質的に存在しない」と認定する。なお、レーザー顕微鏡は、各界面からの反射光を読み取り、非破壊的に断面観察できる。これは、各層に屈折率差がある場合のみ、界面として観察されるものであるため、界面が観察されない場合は、屈折率的にも差がない、界面がないと考えることができる。
また、本発明の光学積層体は、反射防止用積層体として好ましく使用することができる。
偏光素子表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面が接するように設けることによって得られた偏光板も本発明の一つである。
上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
より優れた帯電防止性能が必要とされる場合、本発明の光学積層体は、上記帯電防止層以外にも帯電防止性能を有する層を少なくとも1層設けることができる。上記帯電防止性能を有する層としては、上記帯電防止層以外の新たな帯電防止層であってもよいが、他の層に帯電防止性能を付与することが工程を削減できることから好ましい。すなわち、本発明の光学積層体において、ハードコート層、並びに、任意で形成される防眩層、低屈折率層及び防汚層からなる群より選択される少なくとも1層のうち少なくとも1層は、帯電防止性能を有するものであることが好ましい。帯電防止性能は、例えば、上述の帯電防止剤を配合することにより付与することができる。
具体的な例としては、光透過性基材の上に、導電性高分子からなる帯電防止層1を形成し、その上にハードコート層1を6μm形成した光学積層体を作製したあと、同じ光透過性基材の、これら二層を形成した面とは逆の面に、導電性高分子からなる帯電防止層2を形成し、更に、ハードコート層2を前記ハードコート層1より薄い2μmのハードコート層を形成した光学積層体1を作製する。または、光透過性基材の上に、帯電防止層1とハードコート層1を形成するまでは同様に作製し、同じ基材の逆面に、導電性超微粒子であるATOを分散したハードコートインキを、帯電防止層3として積層して、光学積層体2を作製する。光学積層体1の場合は、帯電防止層2を有する面を、光学積層体2の場合は、帯電防止層3の面を、アクリル系粘着剤などで、偏光素子面に貼り合わせる。
最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置とすることもできる。上記画像表示装置は、LCD等の非自発光型画像表示装置であっても、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等の自発光型画像表示装置であってもよい。
ハードコート層形成用組成物1
下記成分を均一に混合分散してハードコート層形成用組成物1を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬製、商品名「PET30」):100質量部
・トルエン:43質量部
・レベリング剤(大日本インキ化学工業製、商品名「MCF−350−5」):2質量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製、商品名「イルガキュア184」):4質量部
下記成分を均一に混合分散してハードコート層形成用組成物2を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬製、商品名「PET30」):100質量部
・メチルエチルケトン:43質量部
・レベリング剤(大日本インキ化学工業製、商品名「MCF−350−5」):2質量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製、商品名「イルガキュア184」):4質量部
下記成分をビーズミルを用い均一に混合分散してハードコート層形成用組成物3を調製した。
・ATO超微粒子(三菱マテリアル社製、平均1次粒径:30nm):7質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート樹脂(日本化薬社製、PET−30):100質量部
・分散剤(味の素ケミカル社製、アジスパーPN−411):1.4質量部
・イソプロピルアルコール:60質量部
・メチルエチルケトン:40質量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製、商品名「イルガキュア184」):4質量部
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)を20.96質量部(日本化薬社製、屈折率1.51)、紫外線硬化型樹脂であるDPHAを8.02質量部(日本化薬社製、屈折率1.51)、アクリル系ポリマーを3.10質量部(三菱レイヨン製、分子量75,000)、光硬化開始剤であるイルガキュア184を1.89質量部(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、光硬化開始剤であるイルガキュア907を0.32質量部(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、透光性第一微粒子としてのスチレンビーズを4.81質量部(綜研化学社製、粒径5.0μm、屈折率1.60)、透光性第二微粒子としてのメラミンビーズを2.89質量部(日本触媒社製、粒径1.8μm、屈折率1.68)、シリコン系レベリング剤10−28を0.013質量部(大日精化(株)製)、トルエンを46.40質量部、及び、シクロヘキサノンを11.60質量部を十分混合して組成物として調整した。この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物1を調製した。
防眩層用組成物
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(屈折率1.51):38質量部
・セルロースアセテートプロピオネート(分子量50,000):0.47質量部
光硬化開始剤
・イルガキュア127(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製):1.98質量部
増感剤
・SpeedcureMBB(LAMBSON Fine Chemicals製):0.33質量部
微粒子
・不定形シリカ(平均粒径1.4μm、シランカップリング剤による表面疎水処理あり):0.20質量部
・不定形シリカ(平均粒径1.9μm、シランカップリング剤による表面疎水処理あり):3.46質量部
・シリコン系レベリング剤:0.072質量部
・トルエン:33質量部
・メチルエチルケトン:34質量部
導電性組成物
・ATO超微粒子(三菱マテリアル社製、平均1次粒径:30nm):2質量部
・分散剤(味の素ケミカル社製、アジスパーPN−411):0.2質量部
・イソプロピルアルコール:4質量部
上記材料の導電性組成物をビーズミルでよく分散させたあと、防眩層組成物と一緒に混合し、この組成物を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物2を調製した。
下記成分を均一に混合分散して帯電防止層形成用組成物1を調製した。
・ATO分散液(日本ペルノックス社製、商品名「ペルトロンC−4456S−7」):25質量部
・バインダー(Sartomar Company製、商品名「SR−238F」):5.5質量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製、商品名「イルガキュア184」):0.59質量部
・メチルイソブチルケトン:59質量部
・シクロヘキサノン:26質量部
帯電防止層形成用組成物2としてポリチオフェン含有熱乾燥型樹脂組成物(出光テクノファイン社製、商品名「ELコート TALP2010」)を用いた。これは、帯電防止剤として、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、熱可塑性樹脂バインダーとしてMMA(メタクリル酸メチル)−BA(アクリル酸ブチル)−2−HEMA(メタクリル酸2−ヒドロキシエチル)共重合体を含む。
帯電防止層形成用組成物3として、ポリチオフェン含有紫外線硬化型樹脂組成物(出光テクノファイン社製、商品名「ELコート UVH515」)を用いた。これは、帯電防止剤として、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、樹脂バインダーとしてアクリル系UV硬化型樹脂を含む。
透明基材(厚み80μm、トリアセチルセルロース樹脂フィルム(富士写真フイルム製、製品名「TF80UL」)を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層用組成物2を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度50℃の熱オーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、塗膜を硬化し、厚み約100nm(乾燥後)の透明な帯電防止層を形成させた。その後、帯電防止層の上にハードコート層形成用組成物1を塗布し、温度70℃の熱オーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が46mjになるように照射して塗膜を硬化させて、厚み10μm(乾燥時)のハードコート層を形成させて、帯電防止光学積層体を作製した。
ハードコート層形成用組成物1に代えてハードコート層形成用組成物2を使用した以外は、実施例1と同様にして帯電防止光学積層体を作製した。得られた積層体の断面を実施例1と同様にして観察したところ、実施例1と同様に、基材層の断面にハードコート層の断面相:つまり、ハードコート層組成分が基材に浸透していると考えられる部分の存在が確認された。(帯電防止層の乾燥後の厚みは100nm)
ハードコート層形成用組成物1に代えて防眩層形成用組成物1を使用し、硬化膜厚を6μmにした以外は、実施例1と同様にして帯電防止光学積層体を作製した。(帯電防止層の乾燥後の厚みは100nm)
透明基材(厚み80μm、トリアセチルセルロース樹脂フィルム(富士写真フイルム製、製品名「TF80UL」)を準備し、フィルムの片面に、帯電防止層形成用組成物1を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度70℃の熱オーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、酸素阻害を防止するため窒素置換を行った後、紫外線を積算光量が98mjになるように照射して塗膜を硬化させて、厚み100nm(乾燥時)の透明な帯電防止層を形成させた。その後、帯電防止層の上にハードコート層形成用組成物1を塗布し、温度70℃の熱オーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が46mjになるように照射して塗膜を硬化させ、厚み10μm(乾燥時)のハードコート層を形成し、帯電防止光学積層体を作製した。得られた積層体の断面を実施例1と同様にして観察した結果を図2に示す。図2では、各層の断面相が層構成どおりの順で存在していることが確認された。すなわち、基材の断面相には、当該相以外の断面相は認められなかった。また、超微粒子分散タイプの帯電防止組成物を使用しているため、ヘイズが高く、全光線透過率も低く、更に、ポリチオフェンと同じ膜厚(100nm)では、飽和帯電圧も悪く、所望の光学積層体が得られなかった。
帯電防止層形成用組成物1に代えて帯電防止層形成用組成物3を使用し、硬化膜を約100nmで形成し、ハードコート層形成用組成物2を用いた以外は比較例1と同様にして積層体を作製した。得られた積層体の断面を実施例1と同様にして観察したところ、図2と同様の断面であった。すなわち、バインダーが紫外線硬化型であるため、基材の断面相にハードコート層の断面相の存在が確認できず、密着性が不良であった。(帯電防止層の乾燥後の厚みは100nm)
帯電防止層形成組成物3を使用し、ハードコート層形成用組成物1を使用した以外は比較例2と同様にして積層体を作製した。得られた積層体の断面を実施例1と同様にして観察したところ、図2と同様の断面であった。すなわち、バインダーが紫外線硬化型であるため、基材の断面相にハードコート層の断面相の存在が確認できず、密着性が不良であった。(帯電防止層の乾燥後の厚みは100nm)
ハードコート層形成用組成物1に代えて防眩層形成用組成物1を使用し、硬化膜厚を6μmとした以外は比較例1と同様にして積層体を作製した。その結果、帯電防止組成物以外は実施例3と同様な防眩性ハードコートを使用しているため、同等の性能が得られるはずであるが、超微粒子分散タイプの帯電防止組成物を使用しているため、ヘイズが高く、全光線透過率も低く、所望の光学積層体が得られなかった。(帯電防止層の乾燥後の厚みは100nm)
ハードコート層形成用組成物1に代えてハードコート層形成用組成物3を使用した以外は、実施例1と同様にして帯電防止光学積層体を作製した。得られた積層体の断面を実施例1と同様にして観察したところ、実施例1と同様に、基材層の断面にハードコート層の断面相:つまり、ハードコート層組成分が基材に浸透していると考えられる部分の存在が確認された。(帯電防止層の乾燥後の厚みは100nm)
ハードコート層形成用組成物1に代えて防眩層形成用組成物2を使用した以外は、実施例1と同様にして帯電防止光学積層体を作製した。得られた積層体の断面を実施例1と同様にして観察したところ、実施例1と同様に、基材層の断面相にハードコート層の断面相:つまり、ハードコート層組成分が基材に浸透していると考えられる部分の存在が確認された。(帯電防止層の乾燥後の厚みは100nm)
実施例及び比較例で得られた光学積層体について、下記の評価試験をそれぞれ行った。
その結果を表1に示す。
透明基材(厚み80μm、トリアセチルセルロース樹脂フィルム(富士写真フイルム社製、製品名「TF80UL」)を準備し、フィルムの片面に、帯電防止用組成物2を巻線型のコーティングロッドを用いて塗布し、温度50℃の熱オーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、塗膜を硬化し、厚み約100nm(乾燥後)の透明な帯電防止層を形成させた。その後、帯電防止層の上にハードコート層形成用組成物1を塗布し、温度70℃の熱オーブン中で30秒間保持し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、その後、紫外線を積算光量が46mJ/m2になるように照射し、塗膜を硬化させ、厚み10μm(乾燥時)のハードコート層を形成させて、帯電防止光学積層体を作製した。
また、同様にして、トリアセチルセルロース樹脂フィルムの片面に、帯電防止層組成物2を塗布、乾燥させ、さらに、形成した帯電防止層上に透明粘着材(例えば、日立化成工業(株))のDA−1000など両面に保護フィルムのついた光学フィルム用のアクリル系粘着剤など)を貼り合わせ、帯電防止層塗布体を形成した。
上記帯電防止光学積層体を、40℃の水酸化カリウム水溶液(濃度2mol/L)中に5分間浸漬してケン化処理を行い、純水で洗浄後、70℃で5分間乾燥させた。また、上記帯電防止塗布体を、同様にしてケン化処理を行い、乾燥させた。ケン化処理した上記2枚のトリアセチルセルロース樹脂フィルム面に、7%のポリビニルアルコール系水溶液からなる接着剤を塗布した後、ポリビニルアルコール系偏光フィルムを挟み込む形で張り合わせ、偏光板1を作製した。
偏光板1
ハードコート層/AS層/TAC/接着層/偏光素子/接着層/TAC/AS層/透明粘着材/保護フィルム(透明粘着材についているもの)
偏光板2
保護フィルム(透明粘着材についているもの)/透明粘着材/AS層/TAC/接着層/偏光素子/接着層/TAC
参考例1と同様に、偏光板1を作製した。次に、参考例1と同様にして、帯電防止層塗布体を形成した後、得られた帯電防止層塗布体と、未処理のトリアセチルセルロース樹脂フィルムをケン化処理した後、7%のポリビニルアルコール系水溶液からなる接着剤を塗布し、ポリビニルアルコール系偏光フィルムを挟み込む形で張り合わせ、偏光板2を作製した。
最後に、保護フィルムをはがした透明粘着材にて、偏光板1と偏光板2を、液晶セルを挟みこむ形で張り合わせ、液晶表示装置1を作製した。液晶層を乱すことなく、良好な液晶表示装置が得られた。
(ハードコート層/AS層/TAC/接着層/偏光素子/接着層/TAC/透明粘着材/保護フィルム(透明粘着材についているもの))
帯電防止層塗布体に帯電防止層を形成しなかったこと以外は、参考例1と同様にして偏光板3を形成した。
(ハードコート層/TAC/接着層/偏光素子/接着層/TAC/AS層/ハードコート層/透明粘着材/保護フィルム(透明粘着材についているもの))
画像表示装置観察側にくるTAC表面に、帯電防止層を形成しなかったこと以外は参考例1と同様にして光学積層体を作製した。
偏光素子を挟持するもう片方のTACに、参考例1の帯電防止光学積層体と同様にしてAS層、及び、ハードコート層を形成し、帯電防止光学積層体とした。但し、参考例1とは異なり、ハードコート層の膜厚(乾燥時)を1.5μmとした。このようにハードコート層を薄くすることで、LCDパネルへの帯電防止性能が向上できてよい。これ以外については、参考例1と同様にして偏光板4を形成した。
偏光板3
ハードコート層/AS層/TAC/接着層/偏光素子/接着層/TAC/透明粘着材/保護フィルム(透明粘着材についているもの)
偏光板5
保護フィルム(透明粘着材についているもの)/透明粘着材/TAC/接着層/偏光素子/接着層/TAC
参考例3と同様に、偏光板3を作製した。次に、透明粘着材を貼り合わせたトリアセチルセルロース樹脂フィルムと未処理トリアセチルセルロース樹脂フィルムをケン化処理した後、7%のポリビニルアルコール系水溶液からなる接着剤を塗布し、ポリビニルアルコール系偏光フィルムを挟み込む形で張り合わせ、偏光板5を作製した。
最後に、保護フィルムをはがした透明粘着材にて、偏光板3と偏光板5を、液晶セルを挟みこむ形で張り合わせ、液晶表示装置2を作製した。参考例2記載のAS層を3層有する液晶表示装置1に比較して、AS層が1層である場合は、帯電圧の防止性能が低下していることが分かり、AS層が多いほうが、より優れた帯電防止性能が得られることがわかった。
偏光板1〜4に対し、ポリエステル布にて20往復摩擦を行い、摩擦した面に、煙草灰を近づけた際の表面状態を観察した。観察の結果を元に、塵埃付着防止性(帯電防止性)を下記基準にて評価した。
評価○:煙草灰の付着がなく、塵埃付着防止効果が十分
評価×:煙草灰付着があり、塵埃付着防止効果が不十分
その結果を表2に示す。
Claims (1)
- 光透過性基材の上に、帯電防止層及びハードコート層が順に形成されてなる光学積層体の断面外観において、前記ハードコート層の断面相(断面模様)が、ハードコート層から帯電防止層を介して光透過性基材中にわたり存在しているか否かを調べて、評価することを特徴とする光学積層体の密着性評価方法。
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